JP2004526331A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2004526331A5
JP2004526331A5 JP2002589833A JP2002589833A JP2004526331A5 JP 2004526331 A5 JP2004526331 A5 JP 2004526331A5 JP 2002589833 A JP2002589833 A JP 2002589833A JP 2002589833 A JP2002589833 A JP 2002589833A JP 2004526331 A5 JP2004526331 A5 JP 2004526331A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
lenses
crystal direction
objective
lens axis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002589833A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004526331A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE10123725A external-priority patent/DE10123725A1/de
Priority claimed from DE2001123727 external-priority patent/DE10123727A1/de
Priority claimed from DE2001125487 external-priority patent/DE10125487A1/de
Priority claimed from DE2001127320 external-priority patent/DE10127320A1/de
Priority claimed from DE2002110782 external-priority patent/DE10210782A1/de
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/EP2002/005050 external-priority patent/WO2002093209A2/de
Publication of JP2004526331A publication Critical patent/JP2004526331A/ja
Publication of JP2004526331A5 publication Critical patent/JP2004526331A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Claims (10)

  1. 多数のレンズ(L601〜L630、L801〜L817)、少なくとも1つのフッ化物結晶からのレンズ(1)を持つ対物レンズ(611、711)、特にマイクロリソグラフィ用投射照明装置(81)向けの投射対物レンズであって、
    少なくとも1つのレンズ(1)が、{100}結晶平面またはフッ化物結晶のそれと等価な結晶平面にほぼ垂直であるレンズ軸(EA)を持つ(100)レンズであることを特徴とする対物レンズ(611、711)。
  2. それぞれがほぼ主結晶方向に向いているレンズ軸を持つ、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有していて、
    それぞれが方位角αR、開口角θRおよび互いに直交する2つの直線偏光状態における光路差ΔOPLを示す光線を含む光線束が像平面(O’)の像点に入射する対物レンズ(611、711)、特にマイクロリソグラフィ用投射照明装置向けの投射対物レンズであって、レンズ軸が同一の主結晶方向に向いていて、レンズ軸の周りに相互に捻れた状態で配置されているのではないレンズと比較して、方位角αRおよび開口角θRの関数としての光線束の光路差分布ΔOPL(αR、θR)が大幅に低い値を示すように、レンズがレンズ軸の周りに捻れた状態で配置されていることを特徴とする対物レンズ(611、711)。
  3. それぞれほぼ主結晶方向を向いたレンズ軸を持つ、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有する対物レンズ(611、711)、特にマイクロリソグラフィ用投射照明装置向けの投射対物レンズの製造方法であって、
    レンズ軸が同一の主結晶方向に向いていて、レンズ軸の周りに相互に捻れた状態で配置されているのではないレンズに比較して、光線束の光路差分布ΔOPL(αR、θR)が大幅に低い値を示すように、レンズがレンズ軸の周りに捻れた状態で配置されており、それぞれ方位角αR、開口角θRおよび互いに直交する2つの直線偏光状態における像平面での光路差ΔOPLを示す光線を含む光線束について、レンズにおける光路差分布ΔOPL(αR、θR)を測定することを特徴とする方法。
  4. 結晶方位が相互に捻れた位置関係の結晶素材、好ましくはフッ化物結晶、特にフッ化カルシウムから成る複数の平板が、光学的に継目なく接合され、特に圧着され、引き続き一様な未加工材として成形加工され、研磨されることを特徴とするレンズ製造方法。
  5. 立方晶系、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有し、
    2つのレンズの各レンズは、<111>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに60゜回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。
  6. 立方晶系、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有し、
    2つのレンズの各レンズは、<111>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、フッ化物結晶の真性複屈折の効果を補償するために2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに相対的に回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。
  7. 立方晶系、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有し、
    2つのレンズの各レンズは、<100>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに45゜回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。
  8. 立方晶系、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有し、
    2つのレンズの各レンズは、<100>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、フッ化物結晶の真性複屈折の効果を補償するために2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに相対的に回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。
  9. 立方晶系、フッ化物結晶からなる少なくとも2つのレンズを有し、
    2つのレンズの各レンズは、<111>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに60゜回転させられて配置されており
    さらに、立方晶系、フッ化物結晶からなる少なくとも他の2つのレンズを有し、
    他の2つのレンズの各レンズは、<100>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに45゜回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。
  10. 立方晶系、フッ化物結晶からなる少なくとも2つのレンズを有し、
    2つのレンズの各レンズは、<111>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、
    さらに、立方晶系、フッ化物結晶からなる少なくとも他の2つのレンズを有し、
    他の2つのレンズの各レンズは、レンズ軸が<100>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、
    フッ化物結晶の真性複屈折の効果を補償するために2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに相対的に回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。
JP2002589833A 2001-05-15 2002-05-08 フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ Pending JP2004526331A (ja)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10123725A DE10123725A1 (de) 2001-05-15 2001-05-15 Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren
DE2001123727 DE10123727A1 (de) 2001-05-15 2001-05-15 Optisches Element, Projektionsobjektiv und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit Fluoridkristall-Linsen
DE2001125487 DE10125487A1 (de) 2001-05-23 2001-05-23 Optisches Element, Projektionsobjektiv und Mikrolithographic-Projektionsbelichtungsanlage mit Fluoridkristall-Linsen
DE2001127320 DE10127320A1 (de) 2001-06-06 2001-06-06 Objektiv mit Fluorid-Kristall-Linsen
DE2002110782 DE10210782A1 (de) 2002-03-12 2002-03-12 Objektiv mit Kristall-Linsen
PCT/EP2002/005050 WO2002093209A2 (de) 2001-05-15 2002-05-08 Objektiv mit fluorid-kristall-linsen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004526331A JP2004526331A (ja) 2004-08-26
JP2004526331A5 true JP2004526331A5 (ja) 2005-12-22

Family

ID=27512416

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002589833A Pending JP2004526331A (ja) 2001-05-15 2002-05-08 フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ

Country Status (6)

Country Link
US (4) US7145720B2 (ja)
EP (1) EP1390783A2 (ja)
JP (1) JP2004526331A (ja)
KR (1) KR20040015251A (ja)
TW (1) TW591242B (ja)
WO (1) WO2002093209A2 (ja)

Families Citing this family (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100857931B1 (ko) * 2000-10-10 2008-09-09 가부시키가이샤 니콘 결상성능의 평가방법
US7239447B2 (en) * 2001-05-15 2007-07-03 Carl Zeiss Smt Ag Objective with crystal lenses
JP2004526331A (ja) * 2001-05-15 2004-08-26 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ
DE10210782A1 (de) * 2002-03-12 2003-10-09 Zeiss Carl Smt Ag Objektiv mit Kristall-Linsen
AU2002257270A1 (en) * 2001-05-16 2002-11-25 Corning Incorporated Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials
US6683710B2 (en) 2001-06-01 2004-01-27 Optical Research Associates Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
EP1780570A3 (en) * 2001-06-01 2008-01-02 ASML Netherlands B.V. Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
US6831731B2 (en) 2001-06-28 2004-12-14 Nikon Corporation Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system
US6775063B2 (en) 2001-07-10 2004-08-10 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus having the optical system
US6788389B2 (en) 2001-07-10 2004-09-07 Nikon Corporation Production method of projection optical system
US6844915B2 (en) 2001-08-01 2005-01-18 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus provided with the optical system
US6995908B2 (en) 2001-10-30 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing aberration in optical systems
US6844972B2 (en) 2001-10-30 2005-01-18 Mcguire, Jr. James P. Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements
US6970232B2 (en) 2001-10-30 2005-11-29 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems
US7453641B2 (en) 2001-10-30 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in optical systems
JP4333078B2 (ja) 2002-04-26 2009-09-16 株式会社ニコン 投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置および該投影光学系を用いた露光方法並びにデバイス製造方法
US7292388B2 (en) 2002-05-08 2007-11-06 Carl Zeiss Smt Ag Lens made of a crystalline material
CN1327294C (zh) * 2002-05-08 2007-07-18 卡尔蔡司Smt股份公司 用晶体材料制造透镜
JP2004045692A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Canon Inc 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
US7072102B2 (en) * 2002-08-22 2006-07-04 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing polarization aberration in optical systems
AU2002364974A1 (en) 2002-09-03 2004-03-29 Carl Zeiss Smt Ag Objective with birefringent lenses
AU2003298405A1 (en) 2002-09-03 2004-03-29 Carl Zeiss Smt Ag Optimization method for an objective with fluoride crystal lenses and objective with fluoride crystal lenses
EP3226073A3 (en) 2003-04-09 2017-10-11 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and method for fabricating device
EP1614007A1 (en) 2003-04-17 2006-01-11 Carl Zeiss SMT AG Optical system, method of altering retardances therein and photolithography tool
DE10324206A1 (de) * 2003-05-28 2004-12-23 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage
DE10324477A1 (de) 2003-05-30 2004-12-30 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE10324468B4 (de) * 2003-05-30 2006-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsobjektiv hierfür sowie darin enthaltenes optisches Element
DE10328938A1 (de) * 2003-06-27 2005-01-20 Carl Zeiss Smt Ag Korrektureinrichtung zur Kompensation von Störungen der Polarisationsverteilung sowie Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie
DE10329793A1 (de) 2003-07-01 2005-01-27 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US8149381B2 (en) 2003-08-26 2012-04-03 Nikon Corporation Optical element and exposure apparatus
TWI536121B (zh) 2003-08-26 2016-06-01 尼康股份有限公司 Exposure apparatus and exposure method
EP2261740B1 (en) 2003-08-29 2014-07-09 ASML Netherlands BV Lithographic apparatus
US6954256B2 (en) 2003-08-29 2005-10-11 Asml Netherlands B.V. Gradient immersion lithography
TWI457712B (zh) 2003-10-28 2014-10-21 尼康股份有限公司 照明光學裝置、投影曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
TWI519819B (zh) 2003-11-20 2016-02-01 尼康股份有限公司 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法
DE10355725A1 (de) 2003-11-28 2005-06-30 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System sowie Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauteile
US7385764B2 (en) 2003-12-15 2008-06-10 Carl Zeiss Smt Ag Objectives as a microlithography projection objective with at least one liquid lens
US7466489B2 (en) * 2003-12-15 2008-12-16 Susanne Beder Projection objective having a high aperture and a planar end surface
WO2005106589A1 (en) * 2004-05-04 2005-11-10 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic projection exposure apparatus and immersion liquid therefore
WO2005059645A2 (en) 2003-12-19 2005-06-30 Carl Zeiss Smt Ag Microlithography projection objective with crystal elements
US7460206B2 (en) * 2003-12-19 2008-12-02 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective for immersion lithography
US7239450B2 (en) 2004-11-22 2007-07-03 Carl Zeiss Smt Ag Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus
US7463422B2 (en) 2004-01-14 2008-12-09 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure apparatus
US8270077B2 (en) 2004-01-16 2012-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarization-modulating optical element
KR101099913B1 (ko) 2004-01-16 2011-12-29 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 편광변조 광학소자
US20070019179A1 (en) 2004-01-16 2007-01-25 Damian Fiolka Polarization-modulating optical element
TWI395068B (zh) 2004-01-27 2013-05-01 尼康股份有限公司 光學系統、曝光裝置以及曝光方法
TWI494972B (zh) 2004-02-06 2015-08-01 尼康股份有限公司 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法
CN100592210C (zh) 2004-02-13 2010-02-24 卡尔蔡司Smt股份公司 微平版印刷投影曝光装置的投影物镜
JP2007522508A (ja) * 2004-02-13 2007-08-09 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー マイクロリソグラフィック投影露光装置のための投影対物レンズ
EP1586946A3 (en) * 2004-04-14 2007-01-17 Carl Zeiss SMT AG Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
EP1598681A3 (de) 2004-05-17 2006-03-01 Carl Zeiss SMT AG Optische Komponente mit gekrümmter Oberfläche und Mehrlagenbeschichtung
US7324280B2 (en) 2004-05-25 2008-01-29 Asml Holding N.V. Apparatus for providing a pattern of polarization
KR101199076B1 (ko) * 2004-06-04 2012-11-07 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 강도 변동이 보상된 투사 시스템 및 이를 위한 보상 요소
DE102004028470A1 (de) * 2004-06-11 2005-12-29 Leica Microsystems (Schweiz) Ag Augen-, insbesondere Retinaschutzvorrichtung und optisches Element mit einer Freiformfläche für einen Beleuchtungsstrahlengang, sowie Verwendung eines optischen Elements mit Freiformfläche
US7423727B2 (en) * 2005-01-25 2008-09-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR20070105976A (ko) * 2005-02-25 2007-10-31 칼 짜이스 에스엠티 아게 광학시스템, 특히 마이크로리소그래픽 투사노출장치용대물렌즈 또는 조명장치
DE102006013560A1 (de) * 2005-04-19 2006-10-26 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zu dessen Herstellung
US20060238735A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Vladimir Kamenov Optical system of a projection exposure apparatus
DE102006025044A1 (de) 2005-08-10 2007-02-15 Carl Zeiss Smt Ag Abbildungssystem, insbesondere Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
ATE511124T1 (de) * 2005-08-10 2011-06-15 Zeiss Carl Smt Gmbh Abbildungssystem, insbesondere projektionsobjektiv einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
JP2009508170A (ja) 2005-09-14 2009-02-26 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー マイクロリソグラフィ露光システムの光学システム
TWI545352B (zh) * 2006-02-17 2016-08-11 卡爾蔡司Smt有限公司 用於微影投射曝光設備之照明系統
JP5036732B2 (ja) * 2006-02-17 2012-09-26 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム用の光結合器
JP4872679B2 (ja) * 2006-02-24 2012-02-08 日立化成工業株式会社 フッ化物結晶の熱処理方法、フッ化物結晶の判別方法及びフッ化物結晶の加工方法
DE102006038398A1 (de) * 2006-08-15 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2008216498A (ja) 2007-03-01 2008-09-18 Canon Inc 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
WO2008110501A1 (de) * 2007-03-13 2008-09-18 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE102007055063A1 (de) * 2007-11-16 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102008054682A1 (de) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Linse, insbesondere für ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102008054683A1 (de) 2008-03-13 2009-09-17 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum Manipulieren der Abbildungseigenschaften eines optischen Systems
US8284815B2 (en) * 2008-10-21 2012-10-09 Cymer, Inc. Very high power laser chamber optical improvements
RU2482522C2 (ru) * 2011-06-16 2013-05-20 Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский и технологический институт оптического материаловедения Всероссийского научного центра "Государственный оптический институт им С.И. Вавилова" (ОАО "НИТИОМ ВНЦ "ГОИ им. С.И. Вавилова") Плоская линза из лейкосапфира и способ ее получения
DE102012200368A1 (de) 2012-01-12 2013-07-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012212852A1 (de) 2012-07-23 2013-09-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012213553A1 (de) 2012-08-01 2013-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012216532A1 (de) 2012-09-17 2013-09-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012218125A1 (de) 2012-10-04 2013-11-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Axikonsystem, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102013108321B3 (de) * 2013-08-02 2014-10-23 Leibniz-Institut für Analytische Wissenschaften-ISAS-e.V. Fresnelsches-Parallelepiped

Family Cites Families (80)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1332410A (en) * 1919-03-22 1920-03-02 Oscero W Potts Lens and method of making the same
US2934993A (en) * 1955-11-18 1960-05-03 Benjamin J Chromy Device for optical examination of gem materials
US2934933A (en) 1957-07-03 1960-05-03 Didier Werke Ag Bonded-wall structure for coke-oven chambers and the like
US2943993A (en) 1957-08-07 1960-07-05 Exxon Research Engineering Co Split return of solids to coker
JPS5418160U (ja) * 1977-04-14 1979-02-06
JPS5949508A (ja) * 1982-09-14 1984-03-22 Sony Corp 複屈折板の製造方法
JPH0652708B2 (ja) 1984-11-01 1994-07-06 株式会社ニコン 投影光学装置
US5042922A (en) * 1986-05-20 1991-08-27 Hughes Aircraft Company Method for improvidng the spatial resolution in an integrated adaptive optics apparatus
US4993823A (en) * 1989-06-29 1991-02-19 Eastman Kodak Company Method for correction of distortions of an imaging device
RU2093866C1 (ru) * 1990-03-15 1997-10-20 Фиала Вернер Бифокальная внутриглазная линза
JP2894808B2 (ja) * 1990-07-09 1999-05-24 旭光学工業株式会社 偏光を有する光学系
DE4022904C2 (de) 1990-07-16 2001-05-23 Siemens Ag Verfahren zum Anbringen einer die Orientierung des Kristallgitters einer Kristallscheibe angebenden Markierung
EP0480616B1 (en) 1990-10-08 1997-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus with an aberration compensation device of a projection lens
JPH0527200A (ja) 1991-07-18 1993-02-05 Fujitsu Ltd 偏波カプラ
US5677757A (en) 1994-03-29 1997-10-14 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US5625453A (en) 1993-10-26 1997-04-29 Canon Kabushiki Kaisha System and method for detecting the relative positional deviation between diffraction gratings and for measuring the width of a line constituting a diffraction grating
JP3368091B2 (ja) 1994-04-22 2003-01-20 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
JP3534363B2 (ja) * 1995-07-31 2004-06-07 パイオニア株式会社 結晶レンズ及びこれを用いた光ピックアップ光学系
DE19535392A1 (de) 1995-09-23 1997-03-27 Zeiss Carl Fa Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit
JP3623032B2 (ja) * 1995-12-15 2005-02-23 フジノン佐野株式会社 複屈折板およびこれを用いた光学系
DE19637563A1 (de) 1996-09-14 1998-03-19 Zeiss Carl Fa Doppelbrechende Planplattenanordnung und DUV-Viertelwellenplatte
DE19704936A1 (de) * 1997-02-10 1998-08-13 Zeiss Carl Fa Optisches Glied und Herstellverfahren
JP3413067B2 (ja) 1997-07-29 2003-06-03 キヤノン株式会社 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置
US6829041B2 (en) 1997-07-29 2004-12-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus having the same
JP3849996B2 (ja) 1997-09-30 2006-11-22 三井化学株式会社 単結晶光学素子の製造方法
DE19807120A1 (de) * 1998-02-20 1999-08-26 Zeiss Carl Fa Optisches System mit Polarisationskompensator
US6201634B1 (en) * 1998-03-12 2001-03-13 Nikon Corporation Optical element made from fluoride single crystal, method for manufacturing optical element, method for calculating birefringence of optical element and method for determining direction of minimum birefringence of optical element
JP3856265B2 (ja) 1998-03-12 2006-12-13 株式会社ニコン 光学素子の製造方法、光学素子の複屈折算出方法及び複屈折判定方法
JP3031375B2 (ja) * 1998-04-23 2000-04-10 キヤノン株式会社 レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置
KR100269244B1 (ko) 1998-05-28 2000-12-01 정선종 복굴절 물질로 만들어진 투과형 광학부품을 사용한 리소그래피장비용 광학계의 초점심도 확장 방법 및 장치
DE19824030A1 (de) 1998-05-29 1999-12-02 Zeiss Carl Fa Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit adaptivem Spiegel und Projektionsbelichtungsverfahren
JP2000086394A (ja) 1998-09-17 2000-03-28 Natl Space Development Agency Of Japan 氷の結晶成長方向制御方法および氷の結晶成長実験装置
US6368763B2 (en) * 1998-11-23 2002-04-09 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6248486B1 (en) * 1998-11-23 2001-06-19 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
DE19942281A1 (de) * 1999-05-14 2000-11-16 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
DE19859634A1 (de) * 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
DE60042186D1 (de) 1999-01-06 2009-06-25 Nikon Corp Onssystems
JP2000331927A (ja) * 1999-03-12 2000-11-30 Canon Inc 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置
EP1224497A4 (en) * 1999-06-25 2003-08-27 Corning Inc LENS ELEMENTS FOR VUV MICROLITHOGRAPHY OF DOUBLE BREAKAGE-MINIMIZING FLUORIDE CRYSTALS AND BLANKS THEREFOR
DE19929403A1 (de) * 1999-06-26 2000-12-28 Zeiss Carl Fa Objektiv, insbesondere Objektiv für eine Halbleiter-Lithographie-Projektionsbelichtungsanlage und Herstellungverfahren
US6421131B1 (en) 1999-07-02 2002-07-16 Cambridge Research & Instrumentation Inc. Birefringent interferometer
EP1139138A4 (en) 1999-09-29 2006-03-08 Nikon Corp PROJECTION EXPOSURE PROCESS, DEVICE AND OPTICAL PROJECTION SYSTEM
JP2001108801A (ja) * 1999-10-08 2001-04-20 Tsuguo Fukuda 真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材
US6324003B1 (en) * 1999-12-23 2001-11-27 Silicon Valley Group, Inc. Calcium fluoride (CaF2) stress plate and method of making the same
EP1242843B1 (de) * 1999-12-29 2006-03-22 Carl Zeiss SMT AG Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen
DE10000193B4 (de) 2000-01-05 2007-05-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
JP2004526331A (ja) * 2001-05-15 2004-08-26 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ
US7239447B2 (en) 2001-05-15 2007-07-03 Carl Zeiss Smt Ag Objective with crystal lenses
DE10123725A1 (de) * 2001-05-15 2002-11-21 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren
AU2002257270A1 (en) * 2001-05-16 2002-11-25 Corning Incorporated Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials
JP2003050349A (ja) * 2001-05-30 2003-02-21 Nikon Corp 光学系および該光学系を備えた露光装置
US6683710B2 (en) * 2001-06-01 2004-01-27 Optical Research Associates Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
US20030011893A1 (en) * 2001-06-20 2003-01-16 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus equipped with the optical system
JP3639807B2 (ja) 2001-06-27 2005-04-20 キヤノン株式会社 光学素子及び製造方法
US6831731B2 (en) * 2001-06-28 2004-12-14 Nikon Corporation Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system
JPWO2003003429A1 (ja) 2001-06-28 2004-10-21 株式会社ニコン 投影光学系、露光装置および方法
WO2003006367A1 (en) * 2001-07-09 2003-01-23 The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce Minimizing spatial-dispersion-induced birefringence
TW571344B (en) 2001-07-10 2004-01-11 Nikon Corp Manufacturing method for projection optic system
US6775063B2 (en) * 2001-07-10 2004-08-10 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus having the optical system
US6788389B2 (en) * 2001-07-10 2004-09-07 Nikon Corporation Production method of projection optical system
US6994747B2 (en) * 2001-07-17 2006-02-07 Nikon Corporation Method for producing optical member
US6785051B2 (en) * 2001-07-18 2004-08-31 Corning Incorporated Intrinsic birefringence compensation for below 200 nanometer wavelength optical lithography components with cubic crystalline structures
US6844915B2 (en) 2001-08-01 2005-01-18 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus provided with the optical system
US6646778B2 (en) * 2001-08-01 2003-11-11 Silicon Light Machines Grating light valve with encapsulated dampening gas
FR2828933A1 (fr) * 2001-08-27 2003-02-28 Corning Inc Procede de determination de la qualite optique d'un monocristal de fluorure et element optique
TW554412B (en) 2001-09-07 2003-09-21 Nikon Corp Optical system, projection optical system, exposure device having the projection optical system, and method for manufacturing micro device using the exposure device
EP1451619A4 (en) 2001-10-30 2007-10-03 Asml Netherlands Bv STRUCTURES AND METHOD FOR REDUCING BERRATION IN OPTICAL SYSTEMS
US7453641B2 (en) * 2001-10-30 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in optical systems
US6995908B2 (en) * 2001-10-30 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing aberration in optical systems
US6970232B2 (en) * 2001-10-30 2005-11-29 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems
US6844972B2 (en) * 2001-10-30 2005-01-18 Mcguire, Jr. James P. Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements
JP2003161882A (ja) 2001-11-29 2003-06-06 Nikon Corp 投影光学系、露光装置および露光方法
JP3741208B2 (ja) * 2001-11-29 2006-02-01 株式会社ニコン 光リソグラフィー用光学部材及びその評価方法
DE10162796B4 (de) 2001-12-20 2007-10-31 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie photolithographisches Fertigungsverfahren
US7075721B2 (en) * 2002-03-06 2006-07-11 Corning Incorporated Compensator for radially symmetric birefringence
JP2003309059A (ja) * 2002-04-17 2003-10-31 Nikon Corp 投影光学系、その製造方法、露光装置および露光方法
US7251029B2 (en) * 2002-07-01 2007-07-31 Canon Kabushiki Kaisha Birefringence measurement apparatus, strain remover, polarimeter and exposure apparatus
US7072102B2 (en) 2002-08-22 2006-07-04 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing polarization aberration in optical systems
JP4078161B2 (ja) * 2002-09-12 2008-04-23 キヤノン株式会社 蛍石とその製造方法
JP4455024B2 (ja) * 2002-12-13 2010-04-21 キヤノン株式会社 複屈折測定装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004526331A5 (ja)
JP2004535603A (ja) 結晶レンズを備えた対物レンズにおける複屈折の補正
JP2007529762A5 (ja)
KR101511815B1 (ko) 편광기
ATE414927T1 (de) Kompensation der doppelbrechung in kubisch kristallinen projektionslinsen und optischen systemen
JP2006276466A5 (ja)
JP2016519327A5 (ja)
KR101522146B1 (ko) 광학 시스템, 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 조명 시스템 또는 투영 대물렌즈
JP2007527549A5 (ja)
RU2011118441A (ru) Устройство управления направлением луча и светоизлучающее устройство
JP2004525527A5 (ja)
US20080088816A1 (en) Microlithograph system
KR20080043835A (ko) 마이크로리소그래피용 노광 시스템의 광학 시스템
US20030112510A1 (en) Polarized light beam splitter assembly including embedded wire grid polarizer
JP4880915B2 (ja) マイクロリソグラフィ用投影露光装置の光学システム
JP2008532273A5 (ja)
JP2006308890A5 (ja)
JP5566501B2 (ja) 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系
WO2023048086A1 (ja) 波長板、光学系、および表示装置
JP3521666B2 (ja) 偏光分離素子およびこれを用いた投写型表示装置
JP2008046641A5 (ja)
JPH01265206A (ja) 偏光素子
JP2007093964A (ja) 偏光変換素子
JP2007065151A5 (ja)
JP2008020892A5 (ja)