JP2004526331A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004526331A5 JP2004526331A5 JP2002589833A JP2002589833A JP2004526331A5 JP 2004526331 A5 JP2004526331 A5 JP 2004526331A5 JP 2002589833 A JP2002589833 A JP 2002589833A JP 2002589833 A JP2002589833 A JP 2002589833A JP 2004526331 A5 JP2004526331 A5 JP 2004526331A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- lenses
- crystal direction
- objective
- lens axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 16
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 3
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L Calcium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 1
Claims (10)
- 多数のレンズ(L601〜L630、L801〜L817)、少なくとも1つのフッ化物結晶からのレンズ(1)を持つ対物レンズ(611、711)、特にマイクロリソグラフィ用投射照明装置(81)向けの投射対物レンズであって、
少なくとも1つのレンズ(1)が、{100}結晶平面またはフッ化物結晶のそれと等価な結晶平面にほぼ垂直であるレンズ軸(EA)を持つ(100)レンズであることを特徴とする対物レンズ(611、711)。 - それぞれがほぼ主結晶方向に向いているレンズ軸を持つ、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有していて、
それぞれが方位角αR、開口角θRおよび互いに直交する2つの直線偏光状態における光路差ΔOPLを示す光線を含む光線束が像平面(O’)の像点に入射する対物レンズ(611、711)、特にマイクロリソグラフィ用投射照明装置向けの投射対物レンズであって、レンズ軸が同一の主結晶方向に向いていて、レンズ軸の周りに相互に捻れた状態で配置されているのではないレンズと比較して、方位角αRおよび開口角θRの関数としての光線束の光路差分布ΔOPL(αR、θR)が大幅に低い値を示すように、レンズがレンズ軸の周りに捻れた状態で配置されていることを特徴とする対物レンズ(611、711)。 - それぞれほぼ主結晶方向を向いたレンズ軸を持つ、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有する対物レンズ(611、711)、特にマイクロリソグラフィ用投射照明装置向けの投射対物レンズの製造方法であって、
レンズ軸が同一の主結晶方向に向いていて、レンズ軸の周りに相互に捻れた状態で配置されているのではないレンズに比較して、光線束の光路差分布ΔOPL(αR、θR)が大幅に低い値を示すように、レンズがレンズ軸の周りに捻れた状態で配置されており、それぞれ方位角αR、開口角θRおよび互いに直交する2つの直線偏光状態における像平面での光路差ΔOPLを示す光線を含む光線束について、レンズにおける光路差分布ΔOPL(αR、θR)を測定することを特徴とする方法。 - 結晶方位が相互に捻れた位置関係の結晶素材、好ましくはフッ化物結晶、特にフッ化カルシウムから成る複数の平板が、光学的に継目なく接合され、特に圧着され、引き続き一様な未加工材として成形加工され、研磨されることを特徴とするレンズ製造方法。
- 立方晶系、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有し、
2つのレンズの各レンズは、<111>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに60゜回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。 - 立方晶系、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有し、
2つのレンズの各レンズは、<111>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、フッ化物結晶の真性複屈折の効果を補償するために2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに相対的に回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。 - 立方晶系、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有し、
2つのレンズの各レンズは、<100>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに45゜回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。 - 立方晶系、フッ化物結晶から成る少なくとも2つのレンズを有し、
2つのレンズの各レンズは、<100>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、フッ化物結晶の真性複屈折の効果を補償するために2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに相対的に回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。 - 立方晶系、フッ化物結晶からなる少なくとも2つのレンズを有し、
2つのレンズの各レンズは、<111>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに60゜回転させられて配置されており
さらに、立方晶系、フッ化物結晶からなる少なくとも他の2つのレンズを有し、
他の2つのレンズの各レンズは、<100>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに45゜回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。 - 立方晶系、フッ化物結晶からなる少なくとも2つのレンズを有し、
2つのレンズの各レンズは、<111>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、
さらに、立方晶系、フッ化物結晶からなる少なくとも他の2つのレンズを有し、
他の2つのレンズの各レンズは、レンズ軸が<100>結晶方向またはそれと等価な主結晶方向を向いたレンズ軸を有し、
フッ化物結晶の真性複屈折の効果を補償するために2つのレンズがレンズ軸の周りで互いに相対的に回転させられて配置されていることを特徴とする対物レンズ。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10123725A DE10123725A1 (de) | 2001-05-15 | 2001-05-15 | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren |
DE2001123727 DE10123727A1 (de) | 2001-05-15 | 2001-05-15 | Optisches Element, Projektionsobjektiv und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit Fluoridkristall-Linsen |
DE2001125487 DE10125487A1 (de) | 2001-05-23 | 2001-05-23 | Optisches Element, Projektionsobjektiv und Mikrolithographic-Projektionsbelichtungsanlage mit Fluoridkristall-Linsen |
DE2001127320 DE10127320A1 (de) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | Objektiv mit Fluorid-Kristall-Linsen |
DE2002110782 DE10210782A1 (de) | 2002-03-12 | 2002-03-12 | Objektiv mit Kristall-Linsen |
PCT/EP2002/005050 WO2002093209A2 (de) | 2001-05-15 | 2002-05-08 | Objektiv mit fluorid-kristall-linsen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004526331A JP2004526331A (ja) | 2004-08-26 |
JP2004526331A5 true JP2004526331A5 (ja) | 2005-12-22 |
Family
ID=27512416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002589833A Pending JP2004526331A (ja) | 2001-05-15 | 2002-05-08 | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US7145720B2 (ja) |
EP (1) | EP1390783A2 (ja) |
JP (1) | JP2004526331A (ja) |
KR (1) | KR20040015251A (ja) |
TW (1) | TW591242B (ja) |
WO (1) | WO2002093209A2 (ja) |
Families Citing this family (79)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100857931B1 (ko) * | 2000-10-10 | 2008-09-09 | 가부시키가이샤 니콘 | 결상성능의 평가방법 |
US7239447B2 (en) * | 2001-05-15 | 2007-07-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Objective with crystal lenses |
JP2004526331A (ja) * | 2001-05-15 | 2004-08-26 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
DE10210782A1 (de) * | 2002-03-12 | 2003-10-09 | Zeiss Carl Smt Ag | Objektiv mit Kristall-Linsen |
AU2002257270A1 (en) * | 2001-05-16 | 2002-11-25 | Corning Incorporated | Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials |
US6683710B2 (en) | 2001-06-01 | 2004-01-27 | Optical Research Associates | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
EP1780570A3 (en) * | 2001-06-01 | 2008-01-02 | ASML Netherlands B.V. | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
US6831731B2 (en) | 2001-06-28 | 2004-12-14 | Nikon Corporation | Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system |
US6775063B2 (en) | 2001-07-10 | 2004-08-10 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus having the optical system |
US6788389B2 (en) | 2001-07-10 | 2004-09-07 | Nikon Corporation | Production method of projection optical system |
US6844915B2 (en) | 2001-08-01 | 2005-01-18 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus provided with the optical system |
US6995908B2 (en) | 2001-10-30 | 2006-02-07 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing aberration in optical systems |
US6844972B2 (en) | 2001-10-30 | 2005-01-18 | Mcguire, Jr. James P. | Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements |
US6970232B2 (en) | 2001-10-30 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems |
US7453641B2 (en) | 2001-10-30 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in optical systems |
JP4333078B2 (ja) | 2002-04-26 | 2009-09-16 | 株式会社ニコン | 投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置および該投影光学系を用いた露光方法並びにデバイス製造方法 |
US7292388B2 (en) | 2002-05-08 | 2007-11-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Lens made of a crystalline material |
CN1327294C (zh) * | 2002-05-08 | 2007-07-18 | 卡尔蔡司Smt股份公司 | 用晶体材料制造透镜 |
JP2004045692A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-02-12 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
US7072102B2 (en) * | 2002-08-22 | 2006-07-04 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing polarization aberration in optical systems |
AU2002364974A1 (en) | 2002-09-03 | 2004-03-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Objective with birefringent lenses |
AU2003298405A1 (en) | 2002-09-03 | 2004-03-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Optimization method for an objective with fluoride crystal lenses and objective with fluoride crystal lenses |
EP3226073A3 (en) | 2003-04-09 | 2017-10-11 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus, and method for fabricating device |
EP1614007A1 (en) | 2003-04-17 | 2006-01-11 | Carl Zeiss SMT AG | Optical system, method of altering retardances therein and photolithography tool |
DE10324206A1 (de) * | 2003-05-28 | 2004-12-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage |
DE10324477A1 (de) | 2003-05-30 | 2004-12-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
DE10324468B4 (de) * | 2003-05-30 | 2006-11-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsobjektiv hierfür sowie darin enthaltenes optisches Element |
DE10328938A1 (de) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Korrektureinrichtung zur Kompensation von Störungen der Polarisationsverteilung sowie Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie |
DE10329793A1 (de) | 2003-07-01 | 2005-01-27 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
US8149381B2 (en) | 2003-08-26 | 2012-04-03 | Nikon Corporation | Optical element and exposure apparatus |
TWI536121B (zh) | 2003-08-26 | 2016-06-01 | 尼康股份有限公司 | Exposure apparatus and exposure method |
EP2261740B1 (en) | 2003-08-29 | 2014-07-09 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus |
US6954256B2 (en) | 2003-08-29 | 2005-10-11 | Asml Netherlands B.V. | Gradient immersion lithography |
TWI457712B (zh) | 2003-10-28 | 2014-10-21 | 尼康股份有限公司 | 照明光學裝置、投影曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法 |
TWI519819B (zh) | 2003-11-20 | 2016-02-01 | 尼康股份有限公司 | 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法 |
DE10355725A1 (de) | 2003-11-28 | 2005-06-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System sowie Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauteile |
US7385764B2 (en) | 2003-12-15 | 2008-06-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Objectives as a microlithography projection objective with at least one liquid lens |
US7466489B2 (en) * | 2003-12-15 | 2008-12-16 | Susanne Beder | Projection objective having a high aperture and a planar end surface |
WO2005106589A1 (en) * | 2004-05-04 | 2005-11-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithographic projection exposure apparatus and immersion liquid therefore |
WO2005059645A2 (en) | 2003-12-19 | 2005-06-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithography projection objective with crystal elements |
US7460206B2 (en) * | 2003-12-19 | 2008-12-02 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection objective for immersion lithography |
US7239450B2 (en) | 2004-11-22 | 2007-07-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus |
US7463422B2 (en) | 2004-01-14 | 2008-12-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure apparatus |
US8270077B2 (en) | 2004-01-16 | 2012-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Polarization-modulating optical element |
KR101099913B1 (ko) | 2004-01-16 | 2011-12-29 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 편광변조 광학소자 |
US20070019179A1 (en) | 2004-01-16 | 2007-01-25 | Damian Fiolka | Polarization-modulating optical element |
TWI395068B (zh) | 2004-01-27 | 2013-05-01 | 尼康股份有限公司 | 光學系統、曝光裝置以及曝光方法 |
TWI494972B (zh) | 2004-02-06 | 2015-08-01 | 尼康股份有限公司 | 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法 |
CN100592210C (zh) | 2004-02-13 | 2010-02-24 | 卡尔蔡司Smt股份公司 | 微平版印刷投影曝光装置的投影物镜 |
JP2007522508A (ja) * | 2004-02-13 | 2007-08-09 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | マイクロリソグラフィック投影露光装置のための投影対物レンズ |
EP1586946A3 (en) * | 2004-04-14 | 2007-01-17 | Carl Zeiss SMT AG | Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus |
EP1598681A3 (de) | 2004-05-17 | 2006-03-01 | Carl Zeiss SMT AG | Optische Komponente mit gekrümmter Oberfläche und Mehrlagenbeschichtung |
US7324280B2 (en) | 2004-05-25 | 2008-01-29 | Asml Holding N.V. | Apparatus for providing a pattern of polarization |
KR101199076B1 (ko) * | 2004-06-04 | 2012-11-07 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 강도 변동이 보상된 투사 시스템 및 이를 위한 보상 요소 |
DE102004028470A1 (de) * | 2004-06-11 | 2005-12-29 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | Augen-, insbesondere Retinaschutzvorrichtung und optisches Element mit einer Freiformfläche für einen Beleuchtungsstrahlengang, sowie Verwendung eines optischen Elements mit Freiformfläche |
US7423727B2 (en) * | 2005-01-25 | 2008-09-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR20070105976A (ko) * | 2005-02-25 | 2007-10-31 | 칼 짜이스 에스엠티 아게 | 광학시스템, 특히 마이크로리소그래픽 투사노출장치용대물렌즈 또는 조명장치 |
DE102006013560A1 (de) * | 2005-04-19 | 2006-10-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
US20060238735A1 (en) * | 2005-04-22 | 2006-10-26 | Vladimir Kamenov | Optical system of a projection exposure apparatus |
DE102006025044A1 (de) | 2005-08-10 | 2007-02-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildungssystem, insbesondere Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
ATE511124T1 (de) * | 2005-08-10 | 2011-06-15 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Abbildungssystem, insbesondere projektionsobjektiv einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage |
JP2009508170A (ja) | 2005-09-14 | 2009-02-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | マイクロリソグラフィ露光システムの光学システム |
TWI545352B (zh) * | 2006-02-17 | 2016-08-11 | 卡爾蔡司Smt有限公司 | 用於微影投射曝光設備之照明系統 |
JP5036732B2 (ja) * | 2006-02-17 | 2012-09-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム用の光結合器 |
JP4872679B2 (ja) * | 2006-02-24 | 2012-02-08 | 日立化成工業株式会社 | フッ化物結晶の熱処理方法、フッ化物結晶の判別方法及びフッ化物結晶の加工方法 |
DE102006038398A1 (de) * | 2006-08-15 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
JP2008216498A (ja) | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2008110501A1 (de) * | 2007-03-13 | 2008-09-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage |
DE102007055063A1 (de) * | 2007-11-16 | 2009-05-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102008054682A1 (de) | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Linse, insbesondere für ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102008054683A1 (de) | 2008-03-13 | 2009-09-17 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum Manipulieren der Abbildungseigenschaften eines optischen Systems |
US8284815B2 (en) * | 2008-10-21 | 2012-10-09 | Cymer, Inc. | Very high power laser chamber optical improvements |
RU2482522C2 (ru) * | 2011-06-16 | 2013-05-20 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский и технологический институт оптического материаловедения Всероссийского научного центра "Государственный оптический институт им С.И. Вавилова" (ОАО "НИТИОМ ВНЦ "ГОИ им. С.И. Вавилова") | Плоская линза из лейкосапфира и способ ее получения |
DE102012200368A1 (de) | 2012-01-12 | 2013-07-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102012212852A1 (de) | 2012-07-23 | 2013-09-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102012213553A1 (de) | 2012-08-01 | 2013-08-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102012216532A1 (de) | 2012-09-17 | 2013-09-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102012218125A1 (de) | 2012-10-04 | 2013-11-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Axikonsystem, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102013108321B3 (de) * | 2013-08-02 | 2014-10-23 | Leibniz-Institut für Analytische Wissenschaften-ISAS-e.V. | Fresnelsches-Parallelepiped |
Family Cites Families (80)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1332410A (en) * | 1919-03-22 | 1920-03-02 | Oscero W Potts | Lens and method of making the same |
US2934993A (en) * | 1955-11-18 | 1960-05-03 | Benjamin J Chromy | Device for optical examination of gem materials |
US2934933A (en) | 1957-07-03 | 1960-05-03 | Didier Werke Ag | Bonded-wall structure for coke-oven chambers and the like |
US2943993A (en) | 1957-08-07 | 1960-07-05 | Exxon Research Engineering Co | Split return of solids to coker |
JPS5418160U (ja) * | 1977-04-14 | 1979-02-06 | ||
JPS5949508A (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-22 | Sony Corp | 複屈折板の製造方法 |
JPH0652708B2 (ja) | 1984-11-01 | 1994-07-06 | 株式会社ニコン | 投影光学装置 |
US5042922A (en) * | 1986-05-20 | 1991-08-27 | Hughes Aircraft Company | Method for improvidng the spatial resolution in an integrated adaptive optics apparatus |
US4993823A (en) * | 1989-06-29 | 1991-02-19 | Eastman Kodak Company | Method for correction of distortions of an imaging device |
RU2093866C1 (ru) * | 1990-03-15 | 1997-10-20 | Фиала Вернер | Бифокальная внутриглазная линза |
JP2894808B2 (ja) * | 1990-07-09 | 1999-05-24 | 旭光学工業株式会社 | 偏光を有する光学系 |
DE4022904C2 (de) | 1990-07-16 | 2001-05-23 | Siemens Ag | Verfahren zum Anbringen einer die Orientierung des Kristallgitters einer Kristallscheibe angebenden Markierung |
EP0480616B1 (en) | 1990-10-08 | 1997-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus with an aberration compensation device of a projection lens |
JPH0527200A (ja) | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Fujitsu Ltd | 偏波カプラ |
US5677757A (en) | 1994-03-29 | 1997-10-14 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US5625453A (en) | 1993-10-26 | 1997-04-29 | Canon Kabushiki Kaisha | System and method for detecting the relative positional deviation between diffraction gratings and for measuring the width of a line constituting a diffraction grating |
JP3368091B2 (ja) | 1994-04-22 | 2003-01-20 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP3534363B2 (ja) * | 1995-07-31 | 2004-06-07 | パイオニア株式会社 | 結晶レンズ及びこれを用いた光ピックアップ光学系 |
DE19535392A1 (de) | 1995-09-23 | 1997-03-27 | Zeiss Carl Fa | Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit |
JP3623032B2 (ja) * | 1995-12-15 | 2005-02-23 | フジノン佐野株式会社 | 複屈折板およびこれを用いた光学系 |
DE19637563A1 (de) | 1996-09-14 | 1998-03-19 | Zeiss Carl Fa | Doppelbrechende Planplattenanordnung und DUV-Viertelwellenplatte |
DE19704936A1 (de) * | 1997-02-10 | 1998-08-13 | Zeiss Carl Fa | Optisches Glied und Herstellverfahren |
JP3413067B2 (ja) | 1997-07-29 | 2003-06-03 | キヤノン株式会社 | 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置 |
US6829041B2 (en) | 1997-07-29 | 2004-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus having the same |
JP3849996B2 (ja) | 1997-09-30 | 2006-11-22 | 三井化学株式会社 | 単結晶光学素子の製造方法 |
DE19807120A1 (de) * | 1998-02-20 | 1999-08-26 | Zeiss Carl Fa | Optisches System mit Polarisationskompensator |
US6201634B1 (en) * | 1998-03-12 | 2001-03-13 | Nikon Corporation | Optical element made from fluoride single crystal, method for manufacturing optical element, method for calculating birefringence of optical element and method for determining direction of minimum birefringence of optical element |
JP3856265B2 (ja) | 1998-03-12 | 2006-12-13 | 株式会社ニコン | 光学素子の製造方法、光学素子の複屈折算出方法及び複屈折判定方法 |
JP3031375B2 (ja) * | 1998-04-23 | 2000-04-10 | キヤノン株式会社 | レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置 |
KR100269244B1 (ko) | 1998-05-28 | 2000-12-01 | 정선종 | 복굴절 물질로 만들어진 투과형 광학부품을 사용한 리소그래피장비용 광학계의 초점심도 확장 방법 및 장치 |
DE19824030A1 (de) | 1998-05-29 | 1999-12-02 | Zeiss Carl Fa | Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit adaptivem Spiegel und Projektionsbelichtungsverfahren |
JP2000086394A (ja) | 1998-09-17 | 2000-03-28 | Natl Space Development Agency Of Japan | 氷の結晶成長方向制御方法および氷の結晶成長実験装置 |
US6368763B2 (en) * | 1998-11-23 | 2002-04-09 | U.S. Philips Corporation | Method of detecting aberrations of an optical imaging system |
US6248486B1 (en) * | 1998-11-23 | 2001-06-19 | U.S. Philips Corporation | Method of detecting aberrations of an optical imaging system |
DE19942281A1 (de) * | 1999-05-14 | 2000-11-16 | Zeiss Carl Fa | Projektionsobjektiv |
DE19859634A1 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-29 | Zeiss Carl Fa | Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie |
DE60042186D1 (de) | 1999-01-06 | 2009-06-25 | Nikon Corp | Onssystems |
JP2000331927A (ja) * | 1999-03-12 | 2000-11-30 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置 |
EP1224497A4 (en) * | 1999-06-25 | 2003-08-27 | Corning Inc | LENS ELEMENTS FOR VUV MICROLITHOGRAPHY OF DOUBLE BREAKAGE-MINIMIZING FLUORIDE CRYSTALS AND BLANKS THEREFOR |
DE19929403A1 (de) * | 1999-06-26 | 2000-12-28 | Zeiss Carl Fa | Objektiv, insbesondere Objektiv für eine Halbleiter-Lithographie-Projektionsbelichtungsanlage und Herstellungverfahren |
US6421131B1 (en) | 1999-07-02 | 2002-07-16 | Cambridge Research & Instrumentation Inc. | Birefringent interferometer |
EP1139138A4 (en) | 1999-09-29 | 2006-03-08 | Nikon Corp | PROJECTION EXPOSURE PROCESS, DEVICE AND OPTICAL PROJECTION SYSTEM |
JP2001108801A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Tsuguo Fukuda | 真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材 |
US6324003B1 (en) * | 1999-12-23 | 2001-11-27 | Silicon Valley Group, Inc. | Calcium fluoride (CaF2) stress plate and method of making the same |
EP1242843B1 (de) * | 1999-12-29 | 2006-03-22 | Carl Zeiss SMT AG | Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen |
DE10000193B4 (de) | 2000-01-05 | 2007-05-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System |
JP2004526331A (ja) * | 2001-05-15 | 2004-08-26 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
US7239447B2 (en) | 2001-05-15 | 2007-07-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Objective with crystal lenses |
DE10123725A1 (de) * | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren |
AU2002257270A1 (en) * | 2001-05-16 | 2002-11-25 | Corning Incorporated | Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials |
JP2003050349A (ja) * | 2001-05-30 | 2003-02-21 | Nikon Corp | 光学系および該光学系を備えた露光装置 |
US6683710B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-01-27 | Optical Research Associates | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
US20030011893A1 (en) * | 2001-06-20 | 2003-01-16 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus equipped with the optical system |
JP3639807B2 (ja) | 2001-06-27 | 2005-04-20 | キヤノン株式会社 | 光学素子及び製造方法 |
US6831731B2 (en) * | 2001-06-28 | 2004-12-14 | Nikon Corporation | Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system |
JPWO2003003429A1 (ja) | 2001-06-28 | 2004-10-21 | 株式会社ニコン | 投影光学系、露光装置および方法 |
WO2003006367A1 (en) * | 2001-07-09 | 2003-01-23 | The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce | Minimizing spatial-dispersion-induced birefringence |
TW571344B (en) | 2001-07-10 | 2004-01-11 | Nikon Corp | Manufacturing method for projection optic system |
US6775063B2 (en) * | 2001-07-10 | 2004-08-10 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus having the optical system |
US6788389B2 (en) * | 2001-07-10 | 2004-09-07 | Nikon Corporation | Production method of projection optical system |
US6994747B2 (en) * | 2001-07-17 | 2006-02-07 | Nikon Corporation | Method for producing optical member |
US6785051B2 (en) * | 2001-07-18 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Intrinsic birefringence compensation for below 200 nanometer wavelength optical lithography components with cubic crystalline structures |
US6844915B2 (en) | 2001-08-01 | 2005-01-18 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus provided with the optical system |
US6646778B2 (en) * | 2001-08-01 | 2003-11-11 | Silicon Light Machines | Grating light valve with encapsulated dampening gas |
FR2828933A1 (fr) * | 2001-08-27 | 2003-02-28 | Corning Inc | Procede de determination de la qualite optique d'un monocristal de fluorure et element optique |
TW554412B (en) | 2001-09-07 | 2003-09-21 | Nikon Corp | Optical system, projection optical system, exposure device having the projection optical system, and method for manufacturing micro device using the exposure device |
EP1451619A4 (en) | 2001-10-30 | 2007-10-03 | Asml Netherlands Bv | STRUCTURES AND METHOD FOR REDUCING BERRATION IN OPTICAL SYSTEMS |
US7453641B2 (en) * | 2001-10-30 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in optical systems |
US6995908B2 (en) * | 2001-10-30 | 2006-02-07 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing aberration in optical systems |
US6970232B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems |
US6844972B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-01-18 | Mcguire, Jr. James P. | Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements |
JP2003161882A (ja) | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
JP3741208B2 (ja) * | 2001-11-29 | 2006-02-01 | 株式会社ニコン | 光リソグラフィー用光学部材及びその評価方法 |
DE10162796B4 (de) | 2001-12-20 | 2007-10-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie photolithographisches Fertigungsverfahren |
US7075721B2 (en) * | 2002-03-06 | 2006-07-11 | Corning Incorporated | Compensator for radially symmetric birefringence |
JP2003309059A (ja) * | 2002-04-17 | 2003-10-31 | Nikon Corp | 投影光学系、その製造方法、露光装置および露光方法 |
US7251029B2 (en) * | 2002-07-01 | 2007-07-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Birefringence measurement apparatus, strain remover, polarimeter and exposure apparatus |
US7072102B2 (en) | 2002-08-22 | 2006-07-04 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing polarization aberration in optical systems |
JP4078161B2 (ja) * | 2002-09-12 | 2008-04-23 | キヤノン株式会社 | 蛍石とその製造方法 |
JP4455024B2 (ja) * | 2002-12-13 | 2010-04-21 | キヤノン株式会社 | 複屈折測定装置 |
-
2002
- 2002-05-08 JP JP2002589833A patent/JP2004526331A/ja active Pending
- 2002-05-08 KR KR10-2003-7015260A patent/KR20040015251A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-05-08 WO PCT/EP2002/005050 patent/WO2002093209A2/de active Application Filing
- 2002-05-08 EP EP02738037A patent/EP1390783A2/de not_active Withdrawn
- 2002-05-09 TW TW091109726A patent/TW591242B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-02-12 US US10/367,989 patent/US7145720B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-04-01 US US10/817,527 patent/US7180667B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-01-05 US US11/029,788 patent/US7126765B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-03-29 US US11/392,027 patent/US7382536B2/en not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004526331A5 (ja) | ||
JP2004535603A (ja) | 結晶レンズを備えた対物レンズにおける複屈折の補正 | |
JP2007529762A5 (ja) | ||
KR101511815B1 (ko) | 편광기 | |
ATE414927T1 (de) | Kompensation der doppelbrechung in kubisch kristallinen projektionslinsen und optischen systemen | |
JP2006276466A5 (ja) | ||
JP2016519327A5 (ja) | ||
KR101522146B1 (ko) | 광학 시스템, 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 조명 시스템 또는 투영 대물렌즈 | |
JP2007527549A5 (ja) | ||
RU2011118441A (ru) | Устройство управления направлением луча и светоизлучающее устройство | |
JP2004525527A5 (ja) | ||
US20080088816A1 (en) | Microlithograph system | |
KR20080043835A (ko) | 마이크로리소그래피용 노광 시스템의 광학 시스템 | |
US20030112510A1 (en) | Polarized light beam splitter assembly including embedded wire grid polarizer | |
JP4880915B2 (ja) | マイクロリソグラフィ用投影露光装置の光学システム | |
JP2008532273A5 (ja) | ||
JP2006308890A5 (ja) | ||
JP5566501B2 (ja) | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | |
WO2023048086A1 (ja) | 波長板、光学系、および表示装置 | |
JP3521666B2 (ja) | 偏光分離素子およびこれを用いた投写型表示装置 | |
JP2008046641A5 (ja) | ||
JPH01265206A (ja) | 偏光素子 | |
JP2007093964A (ja) | 偏光変換素子 | |
JP2007065151A5 (ja) | ||
JP2008020892A5 (ja) |