JP3031375B2 - レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置 - Google Patents
レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置Info
- Publication number
- JP3031375B2 JP3031375B2 JP11113413A JP11341399A JP3031375B2 JP 3031375 B2 JP3031375 B2 JP 3031375B2 JP 11113413 A JP11113413 A JP 11113413A JP 11341399 A JP11341399 A JP 11341399A JP 3031375 B2 JP3031375 B2 JP 3031375B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- lens barrel
- optical
- lens
- deformed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0037—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration with diffracting elements
- G02B27/0043—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration with diffracting elements in projection exposure systems, e.g. microlithographic systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
- G02B27/4222—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant in projection exposure systems, e.g. photolithographic systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4272—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path
- G02B27/4277—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path being separated by an air space
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
により変形する光学素子を有するレンズ鏡筒及びそれを
用いた投影露光装置に関し、例えば光学素子としてバイ
ナリ型の回折光学素子を有するレンズ鏡筒及びこのレン
ズ鏡筒を有する投影露光装置に関する。
々と提案されている。回折光学素子としては、例えばフ
レネルゾーンプレート、キノフォーム、バイナリオプテ
ィックス、ホログラム等が知られている。
面に変換する光学素子として用いられている。この回折
光学素子は屈折型レンズにはない特長を持っている。例
えば、屈折型レンズと逆の分散を有すること、厚みを薄
くできるので、光学系がコンパクトになること等の特長
を持っている。
形状にすると、その作製に半導体素子の製造技術が適用
可能となり、微細なピッチも比較的容易に実現すること
ができる。この為、ブレーズド形状を階段形状で近似し
たバイナリ型の回折光学素子に関する研究が最近盛んに
進められている。
をレンズ鏡筒中の所定の場所に位置決めする手法として
は、従来より玉押し、投げ込み等がある。
を行なった鏡筒構造の概略図である。同図において、8
は投影光学系を構成するレンズ、9はレンズ8を保持す
る鏡筒、10は鏡筒9に設けられ、レンズ設置部aにレ
ンズ8を突き当てて固定するための押え環である。
して所定の同軸度で研削されており、その外径寸法は所
定の精度で計測されている。
に応じ、レンズ8を嵌合させたときに所定のクリアラン
スになるよう切削されている。
え環10の外周部に設けられた雄ネジ部を、鏡筒9の内
径に設けられた雌ネジ部90にねじ込んで、レンズ8を
鏡筒9に設けられたレンズ設置部aに突き当てて固定す
ることによって行なっている。
ンズ鏡筒では、レンズがレンズ設置部aに押し付けられ
ることによりレンズ表面形状が押え環10及びレンズ設
置部aの形状に倣って変形し光学特性が変化するという
問題点があった。
筒内壁に接着することによりレンズに加わる押圧力を減
らすこともできるが、光軸と重力方向が一致する場合に
はレンズの自重変形によりレンズ設置部aの形状に倣っ
てレンズがある方向へある量だけ変形することがある。
以上の高精度に加工することが難しいこと、レンズ設置
部の形状は鏡筒毎に異なり、そこに当接するレンズがど
のように変形するかを事前に推定することができないの
で、微小変形が問題となる光学系では、組立後に光学性
能を評価した上で、所定のレンズの姿勢もしくは位置調
整によって面変形による諸収差を補正する必要があり、
組立調整工数を増大させていた。
で保持する場合、前述の変形量が大きくなり、光学素子
の姿勢もしくは位置調整を行なっても所望の光学性能が
得られない場合もある。
であり、改良されたレンズ鏡筒及び投影露光装置を提供
することを目的とする。
鏡筒は、自重及び/又は支持で光通過面が変形する光学
素子,及び該光学素子を支持する複数の凸部を有し、該
複数の凸部は、該光学素子の光通過面が、光軸を含む平
面に関して対称に変形するように、配置していることを
特徴としている。
りその表面が変形する光学素子と、該光学素子を支持す
る支持手段とを有するレンズ鏡筒において、該支持手段
は実質的に該自重のみで該光学素子の表面が光軸を含む
少なくとも1つの平面に関して対称に変形するように支
持することを特徴としている。
支持によりその表面が変形する光学素子と、該光学素子
を支持する支持手段とを有するレンズ鏡筒において、該
支持手段は実質的に該自重及び支持のみで該光学素子の
表面が光軸を含む少なくとも1つの平面に関して対称に
変形するように支持することを特徴としている。
明において、前記光学素子が一対有り、該一対の光学素
子は、互いにその変形による光学特性の変動を補正し合
うことを特徴としている。
明において、前記光学素子の変形による光学特性の変動
を補正するレンズを有することを特徴としている。
て、前記光学素子の表面は該光学素子の自重により変形
することを特徴としている。
て、前記複数の凸部は前記光学素子を実質的に点接触し
ていることを特徴としている。
て、前記複数の凸部の光軸方向位置は互いに同じである
ことを特徴としている。
て、前記複数の凸部の数は2,3,4,5,6,7,8
または9であることを特徴としている。
発明において、前記光学素子の外周部の複数の箇所が、
接着剤により、前記レンズ鏡筒の内壁に接着しているこ
とを特徴としている。
発明において、前記光学素子はレンズまたはミラーであ
ることを特徴としている。
発明において、前記光学素子は回折光学素子であること
を特徴としている。
発明において、自重によって光通過面が実質的に変形し
ない光学素子を複数個有し、該複数個の光学素子は、レ
ンズ及び/又はミラーを有することを特徴としている。
て、前記複数の凸部は半球形状またはピン形状を有する
ことを特徴としている。
て、前記複数の凸部は、前記光透過面が、光軸を含む第
1平面と該光軸を含み該第1平面と直交する第2平面と
に関して、対称に変形するように、配置していることを
特徴としている。
いて、前記複数の凸部の光軸方向位置は互いに同じであ
ることを特徴としている。
いて、前記複数の凸部の数は2,3,4,5,6,7,
8または9であることを特徴としている。
及び/又はミラーを含む複数の光学素子、自重及び/又
は支持で光通過面が変形する少なくとも1つの光学素
子,及び該光学素子を支持する2,3または4個の凸部
とを有し、該複数の凸部は、光軸方向位置が互いに同じ
で、それぞれ該光学素子と実質的に点接触し、該光学素
子の光透過面が、光軸を含む第1平面と該光軸を含み該
第1平面と直交する第2平面とに関して対称に変形する
ように、配置していることを特徴としている。
いて、前記支持した前記光学素子の表面は該光学素子の
自重のみで変形することを特徴としている。
いて、前記少なくとも1つの光学素子はレンズ又はミラ
ーであることを特徴としている。
項1から20のいずれか1項のレンズ鏡筒を有してお
り、該レンズ鏡筒が前記変形する光学素子を含む投影光
学系を有し、該投影光学系により、マスクのパターンを
被露光基板上に投影することを特徴としている。
請求項21の投影露光装置と回路パターンを有するマス
クと被露光基板とを用いてデバイスを製造することを特
徴としている。
6を用いて説明する。図1は本発明の実施形態1にかか
るレンズ鏡筒の一部分の構成を表す要部概略図である。
重力方向は、光軸方向と一致し、図中の−Z方向であ
る。1(1a,1b)は光学系を構成する屈折レンズ、
2および3はガラス基板表面にブレーズド状の回折格子
パターンを同心円状に形成した回折光学素子であり、後
述する球状の凸部材6を介して鏡筒4の支持部材4a,
4bに支持している。
1aと、回折光学素子2および屈折レンズ1bと回折格
子3を、光軸に沿って所定の間隔で接着剤5により所定
部位に固定することで位置決めしている支持部材4a,
4bを、ネジ(不図示)により所定の互いの光軸が一致
するように締結されて構成されている。
子2の位置決めを行なう機構の詳細図である。また、回
折光学素子3の位置決めを行なう機構も同様の機構を用
いている。6は光軸と直交する平面にある支持部材4a
上の光軸に直交する軸(第1の直交軸)L2上の光軸か
ら等距離の位置に設けた球状の凸部材で、XZ平面に関
して対称な位置にある2つの凸部材6の頂部が光軸に直
交する同一平面内(即ち光軸方向同一位置)に配置さ
れ、これらの頂部が素子3に実質的に点接触する球状の
凸部材6の代わりに、端部に微小平面部を有するピン状
の凸部部材を用いても良い。その場合、2つの微小平面
部がそれぞれ前記の光軸に直交する同一平面内(即ち光
軸方向同一位置)に配置される。
平面部でのみ、直接に支持部材4aと接触しており、接
着部5は回折光学素子2の周辺部のうち凸部材6の近傍
のみであるので、回折光学素子2が、軸L2まわりに回
転することはなく、かつ接着部5以外の周辺部は拘束無
く自重変形することができるようになっている。この場
合の変形後の光学素子2の光入出射面(光通過面)の面
形状は、XZ平面に関して対称であり、変形後の光学素
子3の光入出射面の面形状はYZ平面に関して対称であ
る。
状が加工品毎に異なるため、そこに当接するレンズがど
のように変形するかを事前に推定することができないの
に対し、本実施例による前述の保持方法を用いれば、回
折光学素子2は図3に示すように軸L2及びそれに直交
する軸(第2の直交軸)L2′(即ちXZ平面とYZ平
面)それぞれに対してはほぼ対称に自重で変形する。素
子2の各点のたわみ量は有限要素法等により光学系設計
時に精度よく算出することができる。
折光学素子の変形具合を有限要素法で計算した結果を描
いた絵である。
を実験的に計測することで回折光学素子の変形具合を求
めても良い。実験による方法でも十分に再現性を得るこ
とができる。
まわりの回折光学素子2の回転を拘束することにより、
その姿勢を決めているが、図5に示すように、一方の凸
部材6の代りに凸部材6′を支持部材4a上の軸L2近
傍の2箇所に設けることによって回折光学素子2の姿勢
を決めるようにしても良い。
軸L2′に対称に変形するように、2つの凸部材6′を
近距離に、そして軸L2から等距離配置するとともに、
凸部材6および2つの凸部材6′の頂部を光軸に直交す
る同一平面内(光軸方向同一位置)にそれぞれ配置して
いる。
2および3を前記の方法によって保持した際に、各素子
の変形によって生じる非点収差、縦横倍率差等の収差を
算出して当該収差を補正するために、それぞれの変形の
基準軸である軸L2、軸L3が互いに直交するように、
回折光学素子2および3がそれぞれの支持部材4a,4
b上に配置されることを示す説明図である。
が他方の回折光学素子の変形によって生じる光学特性の
変化を補正する補正光学素子となっている。これとは別
に、一方の光学素子として変形しない又は変形するアナ
モルフィックレンズを用いることもできる。
設計仕様が決まった時点で、その変形具合および変形に
よって生じる光学系の収差を精度よく推定することがで
き、実際に光学系を組立てる以前に収差を補正するため
の補正光学系を設計することができ、組立工数を確実に
減らすことができる。
差補正が困難である場合にもそれを予測することがで
き、回折光学素子の厚みを変えるなどして補正可能な変
形量になるよう、加工、組立前に光学設計にフィードバ
ックすることもできるので、製品の歩留まりの向上にも
効果がある。
持部材)のおさえによる変形がそれ自身やそれを含む光
学系全体の光学特性に与える影響が比較的大きい薄肉の
回折光学素子に適用した場合を示したが、当然変形する
屈折レンズ、変形する反射ミラーなどの光学素子の保持
をする場合も同様に本実施形態の手法を適用することが
できる。また、変形する光学素子以外の光学素子も、レ
ンズに限らず、ミラー又はレンズとミラーなどの場合が
あり得る。従って、本願でレンズ鏡筒というのは必ずし
もレンズを有するものではない。
を用いて説明する。図7は本発明の実施形態2にかかる
レンズ鏡筒の構成を表す要部概略図である。図7におい
て、先の図1の実施形態1と同一の符号は同一の部材を
表す。重力方向は光軸方向と一致し、図中の−Z方向で
ある。
回折光学素子で、ガラス基板表面にブレーズド状の回折
格子パターンが形成されている。
形した状態での焦点位置を示しており、図中の破線は回
折光学素子の輪帯回折格子パターンの境界である。この
場合、回折光学素子2の輪帯回折格子パターンが光軸に
対して同心円状に配置されており、隣り合う輪帯回折格
子パターンとの間隔(以下、回折格子パターンのピッチ
と記す)は円周方向に一定であるため、回折光学素子2
が自重変形した状態では、図中の光軸と軸L2を含む面
内の焦点位置P2と、それに直交する面内の焦点位置P
2′とが一致しない。
7の焦点位置を示した図である。同図に示すように回折
光学素子7が鏡筒4内で自重変形した状態の時、光軸と
軸L7を含む面内の焦点位置と、それに直交する面内の
焦点位置とが点P7において一致するように、回折格子
パターンのピッチが、変形の対称軸L7方向には狭く、
それと垂直方向には広くなるように設計している。
せて変形による収差を補正していたのに対して、本実施
形態2では、回折光学素子7が自重変形した状態で所望
の光学特性が得られるように、回折光学素子7の変形前
の回折格子パターンのピッチを場所により変えてピッチ
分布を最適化した設計を行ない、これによって補正光学
系を設けることなく変形後の状態で素子7から所望の光
学性能を得られ、従って光学系をコンパクトにすること
ができるようにしている。
少なくなると、透過率の向上及びフレアの低減などにも
効果がある。
数や位置は、本実施形態において実施した構成に限定す
る必要はない。例えば回折光学素子を支持する箇所は2
点に限られず、図10(A),(B)に示すように3点
もしくは4点もしくは5,6,7,8,9のいずれかの
数の点で回折光学素子を保持してもよいが、いずれの場
合も同図に破線で示したように、それぞれの変形の方向
および変形量に応じて場所によりピッチを変えた多重の
輪帯回折格子パターンを製作する必要がある。
(光軸を含む平面で切った時の断面形状)を複数段の階
段形状で近似したバイナリ型の回折光学素子を用いる場
合には、その製作に半導体製造用の露光装置を用いて原
版のパターンをガラス基板上に転写する方法が提案され
ているが、その際、不図示の原版のパターンは、前述の
場所によりピッチを変えた回折格子パターンがガラス基
板上転写できるように製作することが、当然必要とな
る。
状の原版のパターンを、圧電素子などを用いて原版もし
くはガラス基板のうち少なくとも一方を面内変形させて
露光転写を行なうことによっても、同様の効果を得るこ
とができる。
する。
学系の構成を表す概略図である。図11において、先の
実施例と同一の符号は同一の部材を表す。重力方向は光
軸と一致し、図中の-Z方向である。
持方法を、光軸まわりに回転対称な面形状をもつ通常の
球面レンズ8に適用している。
部材に支持された球面レンズ8は球状部材を結ぶ線を対
称に自重変形してXZ平面及びYZ平面に関して対称な
非球面形状を形成する。従って、例えば、球面レンズ8
を保持する際に生じる非点収差、縦横倍率差等の収差を
予め計算して光学設計を行なうことで、非球面レンズを
用いた光学系と同様の性能を達成できる。
するための補正光学系として、本実施例のレンズ8(非
球面レンズ)を適用することも可能である。
チの2箇所に限定されず、3箇所、4箇所に配置してレ
ンズを保持することも可能である。また、非球面レンズ
に対して、上記保持法を適用しても良い。
製造用の投影露光装置に適用した実施例であるところの
実施形態3の要部概略図である。同図においては、照明
系ERからの露光光で照明されたレチクル(第1物体)
Rに設けた回路パターンを投影光学系TLによってウエ
ハ(感光基板)W面上に投影している。ここで投影光学
系TLは前記実施形態1や2や3の変形する素子BOを
有したレンズ鏡筒を有している。そして回路パターン像
で露光されたウエハWに対して公知の現像とエッチング
等の処理を行なって半導体デバイスを製造している。
及び投影露光装置を達成することができる。
詳細図
断面図
より計算した計算結果の説明図
部材を3箇所に配置したときの説明図
す概略図
と自重変形した状態での焦点位置を示した概略図
と自重変形した状態での焦点位置を示した概略図
部材を3箇所と4箇所に配置した説明図
Claims (22)
- 【請求項1】 自重及び/又は支持で光通過面が変形す
る光学素子,及び該光学素子を支持する複数の凸部を有
し、該複数の凸部は、該光学素子の光通過面が、光軸を
含む平面に関して対称に変形するように、配置している
ことを特徴とするレンズ鏡筒。 - 【請求項2】 自重によりその表面が変形する光学素子
と、該光学素子を支持する支持手段とを有するレンズ鏡
筒において、該支持手段は実質的に該自重のみで該光学
素子の表面が光軸を含む少なくとも1つの平面に関して
対称に変形するように支持することを特徴とするレンズ
鏡筒。 - 【請求項3】 自重及び支持によりその表面が変形する
光学素子と、該光学素子を支持する支持手段とを有する
レンズ鏡筒において、該支持手段は実質的に該自重及び
支持のみで該光学素子の表面が光軸を含む少なくとも1
つの平面に関して対称に変形するように支持することを
特徴とするレンズ鏡筒。 - 【請求項4】 前記光学素子が一対有り、該一対の光学
素子は、互いにその変形による光学特性の変動を補正し
合うことを特徴とする請求項1,2又は3のレンズ鏡
筒。 - 【請求項5】 前記光学素子の変形による光学特性の変
動を補正するレンズを有することを特徴とする請求項
1,2又は3のレンズ鏡筒。 - 【請求項6】 前記光学素子の表面は該光学素子の自重
により変形することを特徴とする請求項1のレンズ鏡
筒。 - 【請求項7】 前記複数の凸部は前記光学素子を実質的
に点接触していることを特徴とする請求項1のレンズ鏡
筒。 - 【請求項8】 前記複数の凸部の光軸方向位置は互いに
同じであることを特徴とする請求項1のレンズ鏡筒。 - 【請求項9】 前記複数の凸部の数は2,3,4,5,
6,7,8または9であることを特徴とする請求項1の
レンズ鏡筒。 - 【請求項10】 前記光学素子の外周部の複数の箇所
が、接着剤により、前記レンズ鏡筒の内壁に接着してい
ることを特徴とする請求項1,2又は3のレンズ鏡筒。 - 【請求項11】 前記光学素子はレンズまたはミラーで
あることを特徴とする請求項1,2又は3のレンズ鏡
筒。 - 【請求項12】 前記光学素子は回折光学素子であるこ
とを特徴とする請求項1,2又は3のレンズ鏡筒。 - 【請求項13】 自重によって光通過面が実質的に変形
しない光学素子を複数個有し、該複数個の光学素子は、
レンズ及び/又はミラーを有することを特徴とする請求
項1,2又は3のレンズ鏡筒。 - 【請求項14】 前記複数の凸部は半球形状またはピン
形状を有することを特徴とする請求項1のレンズ鏡筒。 - 【請求項15】 前記複数の凸部は、前記光透過面が、
光軸を含む第1平面と該光軸を含み該第1平面と直交す
る第2平面とに関して、対称に変形するように、配置し
ていることを特徴とする請求項1のレンズ鏡筒。 - 【請求項16】 前記複数の凸部の光軸方向位置は互い
に同じであることを特徴とする請求項15のレンズ鏡
筒。 - 【請求項17】 前記複数の凸部の数は2,3,4,
5,6,7,8または9であることを特徴とする請求項
16のレンズ鏡筒。 - 【請求項18】 レンズ及び/又はミラーを含む複数の
光学素子、自重及び/又は支持で光通過面が変形する少
なくとも1つの光学素子,及び該光学素子を支持する
2,3または4個の凸部とを有し、該複数の凸部は、光
軸方向位置が互いに同じで、それぞれ該光学素子と実質
的に点接触し、該光学素子の光透過面が、光軸を含む第
1平面と該光軸を含み該第1平面と直交する第2平面と
に関して対称に変形するように、配置していることを特
徴とするレンズ鏡筒。 - 【請求項19】 前記支持した前記光学素子の表面は該
光学素子の自重のみで変形することを特徴とする請求項
18のレンズ鏡筒。 - 【請求項20】 前記少なくとも1つの光学素子はレン
ズ又はミラーであることを特徴とする請求項18のレン
ズ鏡筒。 - 【請求項21】 請求項1から20のいずれか1項のレ
ンズ鏡筒を有しており、該レンズ鏡筒が前記変形する光
学素子を含む投影光学系を有し、該投影光学系により、
マスクのパターンを被露光基板上に投影することを特徴
とする投影露光装置。 - 【請求項22】 請求項21の投影露光装置と回路パタ
ーンを有するマスクと被露光基板とを用いてデバイスを
製造することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11113413A JP3031375B2 (ja) | 1998-04-23 | 1999-04-21 | レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置 |
US09/296,563 US6285512B1 (en) | 1998-04-23 | 1999-04-22 | Lens barrel having deformed optical element, and projection including same |
DE69918592T DE69918592T3 (de) | 1998-04-23 | 1999-04-23 | Linsenfassung und Projektor mit Ausrichtanordnung |
EP99108057A EP0952490B2 (en) | 1998-04-23 | 1999-04-23 | Lens barrel and projection aligner |
US09/902,597 US6563652B2 (en) | 1998-04-23 | 2001-07-12 | Lens barrel and projection aligner |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-129523 | 1998-04-23 | ||
JP12952398 | 1998-04-23 | ||
JP11113413A JP3031375B2 (ja) | 1998-04-23 | 1999-04-21 | レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000009980A JP2000009980A (ja) | 2000-01-14 |
JP3031375B2 true JP3031375B2 (ja) | 2000-04-10 |
Family
ID=26452400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11113413A Expired - Fee Related JP3031375B2 (ja) | 1998-04-23 | 1999-04-21 | レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6285512B1 (ja) |
EP (1) | EP0952490B2 (ja) |
JP (1) | JP3031375B2 (ja) |
DE (1) | DE69918592T3 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030051421A (ko) * | 2000-03-31 | 2003-06-25 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학 부재의 유지 방법 및 장치, 광학 장치, 노광 장치 및디바이스 제조 방법 |
JP2001343582A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-14 | Nikon Corp | 投影光学系、当該投影光学系を備えた露光装置、及び当該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法 |
JP2002090606A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-27 | Olympus Optical Co Ltd | 光学機器 |
WO2002039491A1 (fr) * | 2000-11-10 | 2002-05-16 | Nikon Corporation | Dispositif optique, dispositif d'exposition et leurs procedes de fabrication |
US20020089758A1 (en) * | 2001-01-05 | 2002-07-11 | Nikon Corporation | Optical component thickness adjustment method, optical component, and position adjustment method for optical component |
US7239447B2 (en) * | 2001-05-15 | 2007-07-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Objective with crystal lenses |
DE10123725A1 (de) * | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren |
JP2004526331A (ja) * | 2001-05-15 | 2004-08-26 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
DE10162796B4 (de) * | 2001-12-20 | 2007-10-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie photolithographisches Fertigungsverfahren |
WO2003090265A1 (fr) * | 2002-04-22 | 2003-10-30 | Nikon Corporation | Appareil de support, appareil optique, appareil d'exposition a la lumiere et procede de production d'un dispositif |
US20050209237A1 (en) * | 2002-04-30 | 2005-09-22 | Brazzell Romulus K | Method for decreasing capillary permeability in the retina |
FR2861470B1 (fr) * | 2003-10-24 | 2006-02-10 | Optogone Sa | Systeme optique a composants optiques en espace libre maintenus au moyens d'une ceinture |
US7581305B2 (en) | 2004-04-12 | 2009-09-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of manufacturing an optical component |
JP4013928B2 (ja) * | 2004-07-15 | 2007-11-28 | セイコーエプソン株式会社 | 照明装置、非球面レンズの設計方法、非球面レンズ及びプロジェクタ |
DE102005019716A1 (de) * | 2005-04-28 | 2006-11-02 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System mit einem optischen Element |
US8710461B2 (en) * | 2011-09-12 | 2014-04-29 | Mapper Lithography Ip B.V. | Assembly for providing an aligned stack of two or more modules and a lithography system or a microscopy system comprising such an assembly |
US9254538B2 (en) * | 2013-04-16 | 2016-02-09 | Corning Incorporated | Method of minimizing stacking element distortions in optical assemblies |
DE102015106184B4 (de) * | 2015-04-22 | 2021-09-02 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren zur Formgebung und/oder Formkorrektur mindestens eines optischen Elements |
CN118604972A (zh) | 2017-02-06 | 2024-09-06 | 光宝电子(广州)有限公司 | 光学组件的组装方法、光学组件及相机模块 |
JP7178932B2 (ja) | 2019-03-12 | 2022-11-28 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品製造方法 |
JP7324936B2 (ja) * | 2020-03-31 | 2023-08-10 | 株式会社フジクラ | 光演算装置、及び、光演算装置の製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4043644A (en) | 1976-07-15 | 1977-08-23 | Humphrey Instruments, Inc. | Elastically compensated off-axis mirror |
JPS60170812A (ja) | 1984-02-15 | 1985-09-04 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子の保持装置 |
JPS61278141A (ja) | 1985-05-31 | 1986-12-09 | Canon Inc | 投影倍率調整方法 |
US5428482A (en) * | 1991-11-04 | 1995-06-27 | General Signal Corporation | Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly |
JPH0817719A (ja) | 1994-06-30 | 1996-01-19 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
US5557469A (en) | 1994-10-28 | 1996-09-17 | Ultratech Stepper, Inc. | Beamsplitter in single fold optical system and optical variable magnification method and system |
US5774274A (en) * | 1995-05-12 | 1998-06-30 | Schachar; Ronald A. | Variable focus lens by small changes of the equatorial lens diameter |
DE19623418C2 (de) | 1996-06-12 | 2001-04-19 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Selbstzentrierende Halterung für mindestens eine Linsenbaugruppe |
JPH10133150A (ja) | 1996-10-29 | 1998-05-22 | Canon Inc | 回折光学装置及びこれを用いた露光装置 |
JP3037163B2 (ja) | 1996-11-26 | 2000-04-24 | キヤノン株式会社 | 光学素子支持装置、光学機器及びステッパー |
JPH10186196A (ja) | 1996-12-20 | 1998-07-14 | Canon Inc | 光学素子支持装置およびこれを備えた光学機器、露光装置 |
JP3703251B2 (ja) | 1997-04-30 | 2005-10-05 | キヤノン株式会社 | 回折光学素子を有した光学系 |
JPH10256142A (ja) | 1997-03-07 | 1998-09-25 | Canon Inc | 投影露光装置、その組立方法及びその調整方法並びにそれを用いたデバイス製造方法 |
-
1999
- 1999-04-21 JP JP11113413A patent/JP3031375B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-22 US US09/296,563 patent/US6285512B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-23 EP EP99108057A patent/EP0952490B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-23 DE DE69918592T patent/DE69918592T3/de not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-07-12 US US09/902,597 patent/US6563652B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6563652B2 (en) | 2003-05-13 |
DE69918592T2 (de) | 2005-07-28 |
EP0952490B2 (en) | 2011-03-02 |
DE69918592T3 (de) | 2011-07-28 |
JP2000009980A (ja) | 2000-01-14 |
US20010038497A1 (en) | 2001-11-08 |
EP0952490B1 (en) | 2004-07-14 |
US6285512B1 (en) | 2001-09-04 |
DE69918592D1 (de) | 2004-08-19 |
EP0952490A2 (en) | 1999-10-27 |
EP0952490A3 (en) | 1999-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3031375B2 (ja) | レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置 | |
US7878665B2 (en) | Holding apparatus for holding optical element above a base, exposure apparatus including the holding apparatus, and device manufacturing method using the exposure apparatus | |
US6867848B2 (en) | Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device | |
US7345834B2 (en) | Optical element holding system, barrel, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
KR101946596B1 (ko) | 결상 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
US20090244509A1 (en) | Optical system with an exchangeable, manipulable correction arrangement for reducing image aberrations | |
US20070097354A1 (en) | Support mechanism, exposure apparatus having the same, and aberration reducing method | |
US20210255554A1 (en) | Module for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography with a semi-active spacer, and method for using the semi-active spacer | |
JPH0533368B2 (ja) | ||
US7760452B2 (en) | Driving apparatus, optical system, exposure apparatus and device fabrication method | |
US20240159988A1 (en) | Support for an optical element | |
US8508870B2 (en) | Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
US20030179470A1 (en) | Correction member, retainer, exposure apparatus, and device fabrication method | |
US7085080B2 (en) | Low-deformation support device of an optical element | |
JP5201979B2 (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP2004078209A (ja) | 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JPS6235620A (ja) | 光学倍率補正装置 | |
US20110065051A1 (en) | Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP2004070192A (ja) | 光学要素の支持手段、該光学要素の支持手段による光学系、光学系の調整方法、露光装置、露光方法、デバイス製造方法 | |
JP7332415B2 (ja) | 投影光学系、走査露光装置および物品製造方法 | |
JP2024524956A (ja) | マウント装置、リソグラフィ装置、及びマウント装置を製造する方法 | |
JPH10301026A (ja) | 回折光学素子を有した光学系 | |
KR20140123556A (ko) | 반사 결상 광학계, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2005189248A (ja) | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 | |
JP2009258461A (ja) | 結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080210 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210 Year of fee payment: 14 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |