JP2008046641A5 - - Google Patents
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- マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
光軸(OA)を有しており、マスクのイメージを投影するために用いられ、当該マスクは対物面において、イメージ面内に位置付けされる感光性コーティング上に位置付けされ、
当該投影対物レンズは以下のものを有しており:すなわち、
・少なくとも1つのレンズ(143、255、360、470)を有しており、当該レンズは少なくとも1つの湾曲されたレンズ表面を有しており、固有複屈折材料から成る少なくとも4つのレンズ部材(143a〜143d、255a〜255d、360a〜360d、470a〜470d)から組み立てられており、当該レンズ部材は、前記光軸(OA)に沿って相互に隣接して連続するように配列されており;
・前記4つのレンズ部材は2組のレンズ部材から成り、ここで当該2つの組は相互に異なる結晶カットを有しており、各組のレンズ部材は同じ結晶カットを有しており、相互に相対的に光軸(OA)を中心とした回転オフセットを伴って配置されており、
前記4つのレンズ部材のうちの2つは結晶(111)カットを有しており、前記4つのレンズ部材のうちの他の2つは結晶(100)カットを有しており、
前記レンズ部材のうちの3つは凸状表面を有しており、当該凸状表面は前記レンズ部材のうちの隣接するレンズ部材の凹状表面に面している、ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ。 - 前記4つのレンズ部材は、前記2種類の結晶カットが交互の順序となるよう連続している、請求項1記載の投影対物レンズ。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
光軸(OA)を有しており、マスクのイメージを投影するために用いられ、当該マスクは対物面において、イメージ面内に位置付けされる感光性コーティング上に位置付けされ、
当該投影対物レンズは以下のものを有しており:すなわち、
・少なくとも1つのレンズ(580)を有しており、当該レンズは固有複屈折材料から成る少なくとも4つのレンズ部材(580a〜580d)から組み立てられており、当該レンズ部材は、前記光軸(OA)に沿って相互に隣接して連続するように配列されており;・当該4つのレンズ部材(580a〜580d)のうちの少なくとも1つに対しては、前記光軸(OA)は前記レンズ部材(580a〜580d)の結晶方位に対して平行であり、当該結晶方位は結晶(100)方位、結晶(110)方位および結晶(111)方位並びに結晶(100)、(110)または(111)方位に相当する各結晶方位とは異なる、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ。 - 前記4つのレンズ部材(580a〜580d)のうちの全てに対して、前記光軸(OA)は前記各レンズ部材の結晶方位に対して平行であり、当該結晶方位は、結晶(100)方位、結晶(110)方位および結晶(111)方位並びに結晶(100)、(110)または(111)方位に相当する各結晶方位とは異なる、請求項3記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材のうちの少なくとも2つは、湾曲された境界によって相互に分けられている、請求項1から4までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材の連続する全てのレンズ部材は、湾曲された境界によって相互に分けられている、請求項1から5までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記1つまたは複数の境界はそれぞれ前記光軸(OA)に関して回転対称である、請求項5または6記載の投影対物レンズ。
- 相互に向かい合っており、前記レンズ部材のうちの隣接するレンズ部材に属している少なくとも2つの表面は曲率半径を有しており、当該曲率半径の絶対値の差は、前記曲率半径のより大きいものの10%より少なく、有利には3%より少なく、より有利には1%より少ない、請求項1から7までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 相互に向かい合っており、前記レンズ部材のうちの隣接するレンズ部材に属している少なくとも2つの表面は同じ絶対値の曲率半径を有している、請求項1から8までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 相互に向かい合っており、前記レンズ部材のうちの隣接するレンズ部材に属している少なくとも2つの表面は、前記表面のうちの1つの表面の各点で、前記表面に対する通常の方向において2ミリメータ(mm)を下回る距離、有利には1ミリメートル(mm)を下回る距離、さらに有利には0.5ミリメートル(mm)を下回る距離を有している、請求項1から9までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材のうちの少なくとも2つは光軸(OA)に対して回転対称に配置されている、請求項1から10までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材のうちの全ては光軸(OA)に対して回転対称に配置されている、請求項1から11までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材のうちの少なくとも2つは少なくとも1つの球面レンズ表面を有している、請求項1から12までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材の各々は少なくとも1つの球面レンズ表面を有している、請求項1から13までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材のうちの少なくとも2つは少なくとも1つの非球面レンズ表面を有している、請求項1から14までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材の少なくとも2つは光学的にシームレスに結合されている、請求項1から15までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材の全ては光学的にシームレスに結合されている、請求項1から16までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材の少なくとも2つは、相互にギャップによって分けられている、請求項1から16までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記ギャップは液体によって満たされている、請求項18記載の投影対物レンズ。
- 前記液体は、隣接するレンズ部材の材料の屈折率から僅か30%、殊に僅か20%、特に10%だけ異なる屈折率を有している、請求項19記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ(143、255、360、470、580)は、前記対物面の側に面している凸状湾曲レンズ表面(43、55、60、70、80)を有している、請求項1から20までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ(143、255、360、470、580)はプレーナ凸レンズである、請求項1から21までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ(143、255、360、470、580)は、投影対物レンズ(100)のイメージ面の側への最後の位置にある、請求項1から22までのいずれか1項記載の投影対物レンズ。
- 前記レンズ部材は、ガーネットを含むグループから選択された材料から成り、殊にルテチウムアルミニウムガーネット(Lu3Al5O12)およびイットリウムアルミニウムガーネット(Y3Al5O12)、フッ化リチウムバリウム(LiBaF3)およびスピネル、殊にマグネシウムスピネル(MgAl2O4)から成る、請求項1から23までのいずれか1項に記載された投影対物レンズ。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
光軸(OA)を有しており、マスクのイメージを投影するために用いられ、当該マスクは対物面において、イメージ面内に位置付けされる感光性コーティング上に位置付けされ、
当該投影対物レンズは以下のものを有しており:すなわち、
・少なくとも1つのレンズを有しており、当該レンズはルテチウムアルミニウムガーネット(Lu3Al5O12)の少なくとも4つのレンズ部材(143a〜143d、255a〜255d、360a〜360d、470a〜470d)から成り、当該レンズ部材は、前記光軸に沿って相互に連続するように配列されており;
・当該4つのレンズ部材のうちの2つは結晶(111)カットを有しており、前記光軸(OA)を中心に回転オフセットを伴って相互に相対的に配列されており;
・当該4つのレンズ部材のうちの他の2つは結晶(100)カットを有しており、前記光軸を中心に回転オフセットを伴って相互に相対的に配列されている、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ。 - 前記4つのレンズ部材は前記光軸(OA)に沿って、相互に隣接して連続している、請求項25記載の投影対物レンズ。
- 前記4つのレンズ部材は、自身の結晶カットに関して交互の順序で相互に連続している、請求項25または26記載の投影対物レンズ。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
少なくとも1つのレンズを有しており、当該レンズは少なくとも2つのレンズ部材から組み立てられており、当該レンズ部材はルテチウムアルミニウムガーネット(Lu3Al5O12)から成り、
前記レンズ部材は同じ結晶カットを有しており、光軸(OA)を中心とした回転オフセットを伴って相互に相対的に配置されている、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ。 - マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
少なくとも1つのレンズを有しており、当該レンズは少なくとも4つのレンズ部材から組み立てられており、当該レンズ部材はルテチウムアルミニウムガーネット(Lu3Al5O12)から成る、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ。 - マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
少なくとも1つのレンズを有しており、当該レンズは少なくとも2つのレンズ部材から組み立てられており、当該レンズ部材はフッ化リチウムバリウム(LiBaF3)から成り、
前記レンズ部材は同じ結晶カットを有しており、光軸(OA)を中心とした回転オフセットを伴って相互に相対的に配置されている、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ。 - 前記少なくとも1つのレンズは少なくとも4つのレンズ部材から組み立てられており、当該レンズ部材はフッ化リチウムバリウム(LiBaF3)から成り、
前記4つのレンズ部材のうちの2つは結晶(111)カットを有しており、光軸(OA)を中心とした回転オフセットを伴って相互に相対的に配置されており、
前記4つのレンズ部材のうちの他の2つは結晶(100)カットを有しており、光軸を中心とした回転オフセットを伴って相互に相対的に配置されている、
請求項30記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ。 - 殊に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ用のレンズであって、
・当該レンズ(143、255)はルテチウムアルミニウムガーネット(Lu3Al5O12)から成る少なくとも4つのレンズ部材(143a〜143d、255a〜255d)から組み立てられており、当該レンズ部材は光軸に沿って相互に連続するように配置されており;
・前記4つのレンズ部材のうちの2つは結晶(111)カットを有しており、光軸を中心とした回転オフセットを伴って相互に相対的に配置されており;
・前記4つのレンズ部材のうちの他の2つは結晶(100)カットを有しており、光軸を中心とした回転オフセットを伴って相互に相対的に配置されている、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ用のレンズ。 - 前記4つのレンズ部材は、前記光軸(OA)に沿って相互に隣接して連続している、請求項32記載のレンズ
- 前記4つのレンズ部材は、自身の結晶カットに関して交互の順序で相互に連続している、請求項32または33記載の投影対物レンズ。
- 殊に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ用のレンズであって、
前記レンズは、ルテチウムアルミニウムガーネット(Lu3Al5O12)から成る少なくとも4つのレンズ部材から組み立てられている、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ用のレンズ。 - 殊に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ用のレンズであって、
・当該レンズ(580)はレンズ軸に対して回転対称であり、固有複屈折材料の少なくとも4つのレンズ部材(580a〜580d)から組み立てられており、当該レンズ部材は光軸(OA)に沿って相互に隣接して連続して配列されており;
・前記4つのレンズ部材(580a〜580d)のうちの少なくとも1つに対しては、レンズ軸は各レンズ部材の結晶方位に対して平行であり、当該結晶方位は、結晶(100)方位、結晶(110)方位および結晶(111)方位並びに結晶(100)、(110)または(111)方位に相当する各結晶方位とは異なっている、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ用のレンズ。 - 前記4つのレンズ部材(580a〜580d)のうちの全てに対して、レンズ軸は各レンズ部材の結晶方位に対して平行であり、当該結晶方位は、結晶(100)方位、結晶(110)方位および結晶(111)方位並びに結晶(100)、(110)および(111)方位に相当する各結晶方位とは異なっている、請求項36記載のレンズ。
- 照明装置および投影対物レンズを伴うマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
当該投影対物レンズは請求項1〜31のうちのいずれか1項に従って構成されている、ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置。 - マイクロ構造化コンポーネントのマイクロリソグラフィによる製造方法であって、
・感光性材料製のコーティングによって少なくとも部分的に被覆された基板(606)を設けるステップと;
・イメージが形成されるべき構造を有するマスク(604)を設けるステップと;
・請求項38記載の投影露光装置(600)を設けるステップと;
・前記投影露光装置(600)を用いて、前記コーティングの領域上に、前記マスク(604)の少なくとも一部分を投影するステップを含む、
ことを特徴とする製造方法。 - 請求項39記載の方法により製造されるマイクロ構造コンポーネント。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US82242706P | 2006-08-15 | 2006-08-15 | |
DE102006038398A DE102006038398A1 (de) | 2006-08-15 | 2006-08-15 | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
US60/822427 | 2006-08-15 | ||
DE102006038398.2 | 2006-08-15 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008046641A JP2008046641A (ja) | 2008-02-28 |
JP2008046641A5 true JP2008046641A5 (ja) | 2010-09-30 |
JP5317156B2 JP5317156B2 (ja) | 2013-10-16 |
Family
ID=38954802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007211846A Expired - Fee Related JP5317156B2 (ja) | 2006-08-15 | 2007-08-15 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7679831B2 (ja) |
EP (1) | EP1890193B1 (ja) |
JP (1) | JP5317156B2 (ja) |
KR (1) | KR101388297B1 (ja) |
CN (1) | CN101126907B (ja) |
AT (1) | ATE486302T1 (ja) |
DE (2) | DE102006038398A1 (ja) |
TW (1) | TWI425245B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008087827A1 (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Nikon Corporation | 結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2008216498A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009031603A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009086038A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
CN111302297A (zh) * | 2020-02-17 | 2020-06-19 | 福建晶安光电有限公司 | 图形化镥铝石榴石晶片结构及其制备方法、包括该结构的发光装置封装件和投影仪 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2699706A (en) * | 1949-11-08 | 1955-01-18 | Boone Philip | Ornamental object having birefringent and polarizing layers |
JPH1020197A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Nikon Corp | 反射屈折光学系及びその調整方法 |
KR100894303B1 (ko) * | 2000-04-25 | 2009-04-24 | 에이에스엠엘 유에스, 인크. | 조사 편광 제어부를 구비한 광학 축소 시스템 |
DE10040998A1 (de) | 2000-08-22 | 2002-03-14 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage |
JP2004526331A (ja) * | 2001-05-15 | 2004-08-26 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
US6683710B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-01-27 | Optical Research Associates | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
US6775063B2 (en) * | 2001-07-10 | 2004-08-10 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus having the optical system |
DE10133841A1 (de) * | 2001-07-18 | 2003-02-06 | Zeiss Carl | Objektiv mit Kristall-Linsen |
US6844972B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-01-18 | Mcguire, Jr. James P. | Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements |
US7072102B2 (en) * | 2002-08-22 | 2006-07-04 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing polarization aberration in optical systems |
US7239450B2 (en) * | 2004-11-22 | 2007-07-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus |
WO2006089919A1 (en) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical system, in particular objective or illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus |
DE102006013560A1 (de) * | 2005-04-19 | 2006-10-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102006025044A1 (de) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildungssystem, insbesondere Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
-
2006
- 2006-08-15 DE DE102006038398A patent/DE102006038398A1/de not_active Ceased
-
2007
- 2007-08-10 AT AT07114145T patent/ATE486302T1/de not_active IP Right Cessation
- 2007-08-10 EP EP07114145A patent/EP1890193B1/en not_active Not-in-force
- 2007-08-10 DE DE602007010060T patent/DE602007010060D1/de active Active
- 2007-08-14 TW TW096129912A patent/TWI425245B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-08-14 CN CN200710152722.9A patent/CN101126907B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-15 US US11/838,995 patent/US7679831B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-15 JP JP2007211846A patent/JP5317156B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-16 KR KR1020070082272A patent/KR101388297B1/ko active IP Right Grant
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