JP2008519433A5 - - Google Patents

Claims (67)

1. 投影光学系であって、光軸に沿って、
   凹球面ミラーと、
   前記ミラーに位置すると共に前記光軸の中心に配置され、前記投影光学系の開口数（ＮＡ）を決定する開口絞りと、
   前記ミラーに隣接すると共に前記ミラーから間隔を空けて配置された正の屈折力を有する正のレンズ群と、
   第１及び第２の平面をそれぞれ有する第１及び第２のプリズムと、
   を含み、
   前記第２の平面が前記光軸の両側で前記正のレンズに隣接して配置され、前記第１の平面が対物面及び像面にそれぞれ隣接して配置され、
   前記投影光学系が等倍率を有し、２以上の紫外線波長に２以上の共通焦点を有すると共に可視波長に別の共通焦点を有する投影光学系。
2. 請求項１において、３つの紫外線波長に３つの共通焦点を有する投影光学系。
3. 請求項１において、４つの紫外線波長に４つの共通焦点を有する投影光学系。
4. 請求項１において、前記紫外線波長がｇ，ｈ，ｉ波長を含む露光バンド内にある投影光学系。
5. 請求項２において、前記可視波長が５００ｎｍ〜７００ｎｍの可視アライメントバンド内にある投影光学系。
6. 請求項１において、前記正のレンズ群が、前記ミラーに向かって順に正のレンズと負レンズとからなる投影光学系。
7. 請求項６において、前記正のレンズが前記ミラーに面する凸面を有する平凸レンズであり、前記負のレンズが前記ミラーに面する凸面を有するメニスカスレンズである投影光学系。
8. 請求項７において、前記平凸レンズエレメントが融解石英、石英ガラス、ガラス種４５８６７８のいずれかで形成されている投影光学系。
9. 請求項７において、前記負のメニスカスレンズエレメントがガラス種５４８４５８及び５３２４９０のいずれかで形成されている投影光学系。
10. 請求項１において、前記正のレンズ群が、前記ミラーに向かって順に、正のレンズと第１及び第２の負のメニスカスレンズとからなる投影光学系。
11. 請求項１０において、前記第１及び第２の負のメニスカスレンズがエアスペースによって分離されている投影光学系。
12. 請求項１において、前記ミラーが非球面を有する投影光学系。
13. 請求項１において、前記第１及び第２のプリズムが、６０３６０６，５５７５８７，５８９６１３，５４０５９７を含むガラス種から選択されるガラス種でそれぞれ形成されている投影光学系。
14. 請求項１において、０．１６〜０．４の開口数を有する投影光学系。
15. 請求項１において、可変開口数を有する投影光学系。
16. 請求項７において、０．２０〜０．４０の開口数を有する投影光学系。
17. 請求項１において、前記正のレンズ群が、前記ミラーに向かって順に、前記ミラーに面する凸面を有する平凸レンズと、前記ミラーに面する凸面を有する負のメニスカスレンズと、前記ミラーに面する凸面を有する正のメニスカスレンズと、からなる投影光学系。
18. 請求項１７において、前記露光バンドがｇ，ｈ，ｉ波長を含む投影光学系。
19. 請求項１７において、前記ミラーが非球面を有する投影光学系。
20. 請求項１７において、前記主レンズ群において隣接面が接触している投影光学系。
21. 請求項１７において、前記第１及び第２のプリズムがガラス種５５７５８７で形成されている投影光学系。
22. 請求項１７において、前記平凸レンズが融解石英、石英ガラス、ガラス種４５８６７８のいずれかで形成されている投影光学系。
23. 請求項１７において、前記負のメニスカスレンズエレメントがガラス種５４８４５８で形成されている投影光学系。
24. 請求項２３において、前記正のメニスカスレンズエレメントがガラス種５６７４２８で形成されている投影光学系。
25. 請求項１７において、０．２〜０．４の開口数を有する投影光学系。
26. 請求項１において、前記正のレンズ群が、前記ミラーに向かって順に、前記ミラーに面する凸面を有する平凸レンズと、前記ミラーに面する凸面を有する第１の負のメニスカスレンズと、前記ミラーに面する凸面を有する第２の負のメニスカスレンズと、からなる投影光学系。
27. 請求項２６において、前記ミラーが非球面を有する投影光学系。
28. 請求項２６において、前記レンズ群において隣接面が接触している投影光学系。
29. 請求項２６において、前記第１及び第２のプリズムが６０３６０６，５５７５８７，５８９６１３，５４０５９７を含むガラス種群から選択されるガラス種でそれぞれ形成されている投影光学系。
30. 請求項２６において、前記平凸レンズエレメントが融解石英、石英ガラス、ガラス種４５８６７８、ガラス種４６４６５８のいずれかで形成されている投影光学系。
31. 請求項３０において、前記第１の負のメニスカスレンズエレメントがガラス種５３２４９０及びガラス種５４８４５８のいずれかで形成されている投影光学系。
32. 請求項３１において、前記第２の負のメニスカスレンズエレメントがガラス種５８１０８及びガラス種５８１０９のいずれかで形成されている投影光学系。
33. 請求項２６において、０．１６〜０．４０の開口数を有する投影光学系。
34. 請求項１において、前記正のレンズ群が、前記ミラーに向かって順に、前記ミラーに面する凸面を有する平凸レンズと、前記ミラーに面する凸面を有する第１の負のメニスカスレンズと、前記ミラーに面する凸面を有し、前記第１の負のメニスカスレンズから間隔を空けて設けられた第２の負のメニスカスレンズと、からなる投影光学系。
35. 請求項３４において、少なくとも１つのレンズエレメントが非球面を有する投影光学系。
36. 請求項３４において、前記ミラーが非球面を有する投影光学系。
37. 請求項３４において、前記レンズ群の一対の隣接面が接触している投影光学系。
38. 請求項３４において、前記第１及び第２のプリズムがガラス種５８９６１３で形成されている投影光学系。
39. 請求項３４において、前記平凸レンズエレメントが融解石英、石英ガラス、ガラス種４５８６７８、ガラス種４６４６５８のいずれかで形成されている投影光学系。
40. 請求項３４において、前記第１の負のメニスカスエレメントがガラス種５４８４５８で形成されている投影光学系。
41. 請求項３４において、前記第２の負のメニスカスレンズがガラス種５８１０８及び５８１０９のいずれかで形成されている投影光学系。
42. 請求項３４において、０．２〜０．４の開口数を有する投影光学系。
43. 請求項２６において、前記露光バンド内に少なくとも４つの共通焦点を有する投影光学系。
44. 請求項４３において、可視波長に第５の共通焦点を有する投影光学系。
45. 請求項４３において、少なくとも１つのレンズエレメントが非球面を有する投影光学系。
46. 請求項４３において、前記ミラーが非球面を有する投影光学系。
47. 請求項４３において、前記レンズ群の一対の隣接面が接触している投影光学系。
48. 請求項４３において、前記第１及び第２のプリズムがガラス種６０３６０６で形成されている投影光学系。
49. 請求項４３において、前記平凸レンズが融解石英、石英ガラス、ガラス種４５８６７８のいずれかで形成されている投影光学系。
50. 請求項４３において、前記第１及び第２の負のメニスカスエレメントの一方が５４８４５８，５３２４９０，５８１４０８，５６７４２８を含むガラス種群から選択されるガラス種で形成されている投影光学系。
51. 請求項４３において、０．１６〜０．１８の開口数と、少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍの正方形の露光フィールドサイズ及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍの矩形の露光フィールドサイズの１つと、を有する投影光学系。
52. 請求項４３において、前記ミラーの半径の約０．０６７倍のフィールド半径を有する露光フィールドを有する投影光学系。
53. 請求項１に記載の投影光学系と、
    対物面でマスクを支持することができるマスクステージと、
    ｇ線、ｈ線、ｉ線の波長の少なくとも１つで前記マスクを照明する照明系と、
    像面でウェハを可動的に支持することができるウェハステージと、
    を含む投影リソグラフィー装置。
54. 請求項５３において、０．１６〜０．１８の開口数と、少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍの正方形の露光フィールドサイズ及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍの矩形の露光フィールドサイズの１つと、を有する投影リソグラフィー装置。
55. 請求項５３において、前記ミラーの半径の約０．０６７倍のフィールド半径を有する露光フィールドを有する投影リソグラフィー装置。
56. 請求項１７に記載の投影光学系と、対物面でマスクを支持することができるマスクステージと、ｇ線、ｈ線、ｉ線の波長の少なくとも１つで前記マスクを照明する照明系と、像面でウェハを可動的に支持することができるウェハステージと、を含む投影リソグラフィー装置。
57. 請求項５６において、０．１６〜０．１８の開口数と、少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍの正方形の露光フィールドサイズ及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍの矩形の露光フィールドサイズの１つと、を有する投影リソグラフィー装置。
58. 請求項５６において、前記ミラーの半径の約０．０６７倍のフィールド半径を有する露光フィールドを有する投影リソグラフィー装置。
59. 請求項２６に記載の投影光学系と、
    対物面でマスクを支持することができるマスクステージと、
    ｇ線、ｈ線、ｉ線の波長の少なくとも１つで前記マスクを照明する照明系と、
    像面でウェハを可動的に支持することができるウェハステージと、
    を含む投影リソグラフィー装置。
60. 請求項５９において、０．１６〜０．１８の開口数と、少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍの正方形の露光フィールドサイズ及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍの矩形の露光フィールドサイズの１つと、を有する投影リソグラフィー装置。
61. 請求項５９において、前記ミラーの半径の約０．０６７倍のフィールド半径を有する露光フィールドを有する投影リソグラフィー装置。
62. 請求項３４に記載の投影光学系と、
    対物面でマスクを支持することができるマスクステージと、
    ｇ線、ｈ線、ｉ線の波長の少なくとも１つで前記マスクを照明する照明系と、
    像面でウェハを可動的に支持することができるウェハステージと、
    を含む投影リソグラフィー装置。
63. 請求項６２において、０．１６〜０．１８の開口数と、少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍの正方形の露光フィールドサイズ及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍの矩形の露光フィールドサイズの１つと、を有する投影リソグラフィー装置。
64. 請求項６２において、前記ミラーの半径の約０．０６７倍のフィールド半径を有する露光フィールドを有する投影リソグラフィー装置。
65. 請求項４３に記載の投影光学系と、
    対物面でマスクを支持することができるマスクステージと、
    ｇ線、ｈ線、ｉ線の波長の少なくとも１つで前記マスクを照明する照明系と、
    像面でウェハを可動的に支持することができるウェハステージと、
    を含む投影リソグラフィー装置。
66. 請求項６５において、０．１６〜０．１８の開口数と、少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍの正方形の露光フィールドサイズ及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍの矩形の露光フィールドサイズの１つと、を有する投影リソグラフィー装置。
67. 請求項６５において、前記ミラーの半径の約０．０６７倍のフィールド半径を有する露光フィールドを有する投影リソグラフィー装置。