DE10324206A1 - Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

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DE10324206A1
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
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Abstract

Eine insbesondere für die Mikro-Lithographie ausgeführte Projektionsbelichtungsanlage weist eine Projektionsoptik auf, die mindestens ein doppelbrechendes optisches Element umfaßt. Mit der Projektionsoptik wird ein Projektionsstrahlenbündel von einer Objektebene in eine Bildebene abgebildet. Die optischen Komponenten der Projektionsoptik sind derart zueinander angeordnet und/oder eingerichtet, daß sich für die jedem Feldpunkt zugeordneten Abbildungsstrahlen durch die gemeinsame optische Wirkung (1) der optischen Elemente ein von Null verschiedener näherungsweiser konstanter Betrag der Doppelbrechung über den Bündelquerschnitt des Projektionslichtbündels ergibt. Dies stellt eine einfacher zu realisierende Optimierungsvorschrift als eine Kompensation der Doppelbrechung auf Null dar.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
  • Eine derartige Projektionsbelichtungsanlage ist aus der EP 1 063 684 A1 bekannt. Dort wird zur Verringerung störender Abbildungseinflüsse der doppelbrechenden optischen Elemente die Projektionsoptik derart ausgelegt, daß der Betrag der doppelbrechenden Gesamtwirkung der Projektionsoptik über den gesamten Querschnitt hinweg annähernd Null ist. Eine derartige Optimierungsvorschrift ist sehr stringent und kann nur bei ausgewählten Objektivdesigns erreicht werden.
  • Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Projektionsbelichtungsanlage der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, daß der unerwünschte Einfluß doppelbrechender Elemente auf die Abbildungseigenschaften der Projektionsoptik in leichter umsetzbarer Weise reduziert ist.
  • Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine Projektionsbelichtungsanlage mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.
  • Es wurde erkannt, daß es zur Verbesserung von durch doppelbrechende Eigenschaften der optischen Elemente der Projektionsoptik beeinträchtigten Abbildungseigenschaften ausreicht, die Projektionsoptik so auszulegen, daß sie für alle Abbildungsstrahlrichtungen einen von Null verschiedenen näherungsweise konstanten Betrag der Doppel brechung aufweist. Wie optische Rechnungen gezeigt haben, führt schon eine derartige Auslegung der Projektionsoptik zu einer deutlichen Verbesserung ihrer Abbildungseigenschaften, insbesondere zu einer Kontrastverbesserung. Eine von Null verschiedene näherungsweise konstante Doppelbrechung läßt sich jedoch, da nur auf einen im Prinzip beliebigen konstanten Wert der Doppelbrechung kompensiert werden muß, vergleichsweise einfach erreichen. Eine derartige Kompensation ist daher auch für Projektionsoptiken zugänglich, bei denen eine Kompensierung auf Null nicht möglich wäre.
  • Ein optisches Elemente gemäß Anspruch 2 läßt sich relativ einfach herstellen und präzise an vorgegebene doppelbrechende Eigenschaften anpassen.
  • Neben einer Politur des optischen Elements, also einem Materialabtrag, läßt sich eine Beeinflussung der Doppelbrechung auch durch eine Beschichtung gemäß Anspruch 3 erreichen. Hierdurch lassen sich z. B. großflächigere bzw. symmetrische Dickenvariationen einfacher realisieren als durch einen Materialabtrag.
  • Ein optisches Element gemäß Anspruch 4 läßt sich präzise an vorgegebene Doppelbrechungs-Anforderungen anpassen.
  • Vorgaben für die einzustellende Doppelbrechungsverteilung, die eine Symmetrie aufweisen, die der Kristallsymmetrie eines verfügbaren doppelbrechenden optischen Materials entsprechen, lassen sich durch ein optisches Element gemäß Anspruch 5 besonders einfach umsetzen.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung erläutert; es zeigen:
  • 1 die doppelbrechende Wirkung eines Projektionsob jektivs einer Projektionsbelichtungsanlage in einer Pupillenebene in einer schematischen Darstellung;
  • 2 u. 3 die Polarisationszustände eines Projektionslichtbündels vor (2) bzw. nach (3) dem Durchtritt durch das Projektionsobjektiv mit einer doppelbrechenden Wirkung gemäß 1;
  • 4 eine zu 1 ähnliche Darstellung der doppelbrechenden Wirkung eines alternativen Projektionsobjektivs;
  • 5: ein Diagramm, welches die Abhängigkeit des Mittelwerts einer Phasendifferenz, die aufeinander senkrecht stehende Polarisationen beim Durchgang durch das Projektionsobjektiv der 1 oder 4 erfahren, vom Radius der Subapertur des Projektionsobjektivs gemäß den 1 oder 4 im Vergleich zu einem unkorrigierten Projektionsobjektiv darstellt;
  • 6: ein Diagramm der Standardabweichung der Phasendifferenzen gemäß 5.
  • 1 zeigt in einer schematischen Darstellung die doppelbrechende Wirkung eines erfindungsgemäßen Projektionsobjektivs in einer Pupillenebene. Dargestellt ist eine einzige optische Komponente 1 mit einer doppelbrechenden Wirkung, die derjenigen des Projektionsobjektivs in der Pupillenebene äquivalent ist.
  • Jede Kombination optischer Elemente Ji (i = 1, ..., N; N: Anzahl der optischen Elemente) mit doppelbrechender optischer Wirkung läßt sich durch eine die gesamte doppel brechende Wirkung beschreibende äquivalente optische Komponente 1 beschreiben. Hierbei gilt (n Produktsymbol):
    Figure 00040001
    JRet fasst hierbei die retardierenden Wirkungen der einzelnen optischen Elemente zu einem einzigen äquivalenten Retarder zusammen.
  • αΦ ist die Phasendifferenz zwischen aufeinander senkrecht stehenden Polarisationen, die durch den äquivalenten Retarder erzeugt wird. Diese Phasendifferenz ist proportional zur Längendifferenz der Hauptachsen der Projektion des Dielektrizitätstensors der optischen Komponente 1 auf die Zeichenebene der 1. Die Projektion ist dort durch eine Pfeildarstellung veranschaulicht. Hierbei geht jeweils ein Paar rechtwinklig aufeinander stehender Pfeile vom selben Ursprung aus und verdeutlicht die doppelbrechende Wirkung am Ort dieses Ursprungs. Die beiden Pfeile 2, 3, die von einem Ursprungspunkt ausgehen, stehen für die Dielektrizitätskonstante der optischen Komponente 1 längs dessen langsamer Achse am Ursprungsort (Pfeil 2) sowie längs der hierzu senkrechten Achse (Pfeil 3). Die Pfeile 2, 3 entsprechen daher den Hauptachsen der durch die Projektion des Dielektrizitätstensors auf die Zeichenebene der 1 entstehenden Ellipse 4.
  • α steht für den Winkel zwischen der langsamen Hauptachse 2 eines Pfeilpaars und einer festen Bezugsachse, die in 1 horizontal verläuft.
  • Die polarisationsdrehende Wirkung der optischen Komponente 1 wird in der Gleichung (1) durch einen äquivalenten Rotator, JRot, beschrieben. Hierbei bezeichnet β den Winkel zwischen der langsamen Hauptachse 2 und der in 1 durch einen gestrichelten Pfeil angedeuteten Polarisationsrichtung 5 des einfallenden Projektionslichts.
  • Zur Veranschaulichung sind die Pfeildarstellungen im rechten oberen Quadranten der 1 relativ dicht ausgeführt.
  • Die doppelbrechende Wirkung der optischen Komponente 1 gemäß 1 ist radialsymmetrisch, wobei die langsame Hauptachse 2 an jedem Ort der optischen Fläche der optischen Komponente 1 in radialer Richtung verläuft. Die Längen der Hauptachsen 2, 3 sind für alle Pfeilpaare gleich und damit unabhängig vom Durchtrittsort durch die optische Komponente. Damit ist auch die Differenz der Brechungsindizes und somit auch die Phasenverzögerung bzw. Phasendifferenz δΦ an jedem Ort der optischen Komponente 1 konstant.
  • Einer derartige konstante Phasendifferenz entspricht ein konstanter Betrag der Doppelbrechung über den Querschnitt des Projektionslichtbündels für jedem einzelnen Feldpunkt zugeordnete Abbildungsstrahlen.
  • Die doppelbrechende Wirkung der optischen Komponente 1 auf einfallendes Projektionslicht verdeutlichen die 2 und 3. Diese zeigen Polarisationszustände eines Nutzlichtbündels 9 vor (2) und nach (3) dem Durchtritt durch das optische Element 1. Vor dem Durchtritt durch das optische Element 1 ist das Nutzlichtbündel 9 über seinen Querschnitt linear in in 2 horizontaler Richtung polarisiert, was durch die schematischen Pfeile 6 innerhalb des Querschnitts des Nutz lichtbündels 9 in 2 dargestellt ist.
  • Nach dem Durchtritt durch das optische Element 1 ergibt sich ein Polarisationszustand des Nutzlichtbündels 9 wie in 3 dargestellt. Dort ist der Polarisationszustand im rechten oberen Quadranten des Nutzlichtbündels 9 verglichen mit den anderen drei Quadranten dichter im Detail dargestellt.
  • Überall dort, wo die Pfeile 6 des Polarisationszustands des Nutzlichtbündels 9 vor dem Durchtritt durch das optische Element 1 parallel zu einer der Hauptachsen 2, 3 der Projektion des Dielektrizitätstensors des optischen Elements 1 verlaufen, bleibt die Polarisation des Nutzlichtbündels 9 unverändert, so daß sich in 3 ein das Nutzlichtbündel 9 in vier Quadranten unterteilendes Kreuz unveränderter Polarisation ergibt. Längs der Winkelhalbierenden dieser Quadranten ist die Polarisation des Nutzlichtbündels 9 um 90° zur ursprünglichen Polarisationsrichtung gedreht, verläuft dort also in in 3 vertikaler Richtung. Längs dieser Winkelhalbierenden nimmt die Polarisation des Nutzlichtbündels 9 vor dem Durchtritt durch das optische Element 1 einen 45°-Winkel zu den Hauptachsen der Projektion des Dielektrizitätstensors des optischen Elements 1 ein, so daß sich aufgrund einer Lambda/2-Wirkung des optischen Elements 1 die genannte Polarisationsdrehung um 90° nach dem Durchtritt des Nutzlichtbündels 9 durch das optische Element 1 ergibt.
  • Zwischen den vorstehend diskutierten Bereichen linearer Polarisation nach dem Durchtritt des Nutzlichtbündels 9 durch das optische Element 1 liegen Bereiche zirkularer bzw. elliptischer Polarisation des Nutzlichtbündels 9 vor, die durch Polarisationskreise 7 bzw. Polarisationsellipsen 8 in 3 wiedergegeben sind. Das Verhältnis der Längen der Hauptachsen dieser zirkularen bzw. elliptischen Polarisationen ist eine Funktion des Winkels der ursprünglichen Polarisation des Nutzlichtbündels 9 vor dem Durchtritt durch das optische Element 1 zu den Hauptachsen 2, 3 der Projektion des Dielektrizitätstensors des optischen Elements 1 im an dieser Stelle vom Nutzlichtbündel 9 durchstrahlten Bereich.
  • 4 zeigt eine alternative Ausführungsform einer optischen Komponente. Figurenbestandteile, die denjenigen entsprechen, die schon unter Bezugnahme auf die 1 bis 3 beschrieben wurden, tragen um jeweils 100 erhöhte Bezugszeichen und werden nicht nochmals im einzelnen erläutert.
  • Bei der optischen Komponente 101 liegt keine Radialsymmetrie der doppelbrechenden Wirkung vor, wie dies bei der optischen Komponente 1 der 1 der Fall war. Vielmehr liegen die Hauptachsen 102, 103 bezüglich des Winkels α in einer komplett regellosen Verteilung vor, so daß ausgehend von einem ersten Ursprungsort einer Pfeildarstellung der doppelbrechenden Wirkung nicht auf die Orientierung der langen Hauptachse eines benachbart gelegenen Ursprungsort geschlossen werden kann. Die Phasendifferenz δΦ ist wie bei der Ausführungsform nach 1 auch für die optische Komponente 101 über deren gesamte optische Fläche konstant.
  • Ausgehend vom Zentrum der optischen Komponente 101, d. h. vom Durchstoßpunkt der optischen Achse des Projektionsobjektivs, welches durch die optische Komponente 101 beschrieben wird, sind in 4 beispielhaft zwei Subaperturen mit Radien R1, R2 dargestellt.
  • Für optische Komponenten nach Art der optischen Komponenten 1, 101 zeigt 5 mit vollen Quadraten die Abhängigkeit von Mittelwerten der Phasendifferenz δΦ vom Radius der Subapertur. Gemittelt wird über die Fläche der Subapertur.
  • Der Radius ist in willkürlichen Einheiten zwischen 0 und 30, die Phasendifferenzmittelwerte sind in ° angegeben.
  • Bei Subaperturen mit einem Radius zwischen 5 und ca. 21 ist der Mittelwert der Phasendifferenz näherungsweise konstant und hat einen Wert von ca. minus 165°. Erst bei höheren Subaperturradien steigt der Mittelwert der Phasendifferenz bis auf einen Wert von ca. minus 120° an.
  • Im Vergleich hierzu ist in 5 zusätzlich noch die Abhängigkeit des Mittelwerts der Phasendifferenz vom Subaperturradius bei einer optischen Komponente, die analog zu den oben beschriebenen optischen Komponenten 1, 101 ein herkömmliches Projektionsobjektiv beschreibt, mit vollen Rauten dargestellt. Dort steigt der Mittelwert der Phasendifferenz mit dem Subaperturradius kontinuierlich zwischen ca. minus 145° und ca. 45° an.
  • 6 zeigt den Verlauf der Standardabweichung der Phasendifferenz bei den optischen Komponenten gemäß 5. Im wesentlichen entspricht der Verlauf der Standardabweichung demjenigen der oben beschriebenen Mittelwerte.
  • Ein Projektionsobjektiv, dessen doppelbrechende Wirkung mittels einer optischen Komponente nach 1 oder 4 beschrieben werden kann, wird hergestellt, indem bei der Fertigung bzw. der Justage des Projektionsobjektivs sowohl die skalaren Aberrationen als auch Abbildungsfehler, die durch polarisationsoptische Wir kungen der optischen Elemente des Projektionsobjektivs hervorgerufen werden, korrigiert werden. Hierbei dient als Zielgröße für die einzustellende Phasendifferenz δΦ nicht der Wert 0, sondern es wird ein Zustand angestrebt, bei dem unabhängig vom absoluten Wert der Phasendifferenz der optischen Komponente eine über die Fläche zumindest näherungsweise konstante Phasendifferenz erzeugt wird.
  • Freiheitsgrade für die Optimierung bilden z. B. die lokalen Dicken der optischen Elemente. Diese können durch entsprechende Bearbeitung, alternativ oder zusätzlich auch durch entsprechende Beschichtung geändert werden. Zudem können zusätzliche doppelbrechend wirkende optische Elemente in die Projektionsoptik eingesetzt werden, um insgesamt die Wirkung der oben beschriebenen optischen Komponenten 1, 101 zu erzielen. Derartige zusätzliche optische Elemente können solche sein, die aus spannungsdoppelbrechendem Material bestehen und eine vorgegebene innere Spannungsverteilung aufweisen. Ferner können zur Optimierung der doppelbrechenden Wirkung optische Elemente aus Kristallmaterialien eingesetzt sein, welche mit vorgegebener Orientierung zur optischen Achse der Projektionsoptik angeordnet sind.
  • Die Optimierung erfolgt ausgehend von Messungen oder Simulationsrechnungen zur polarisationsoptischen Wirkung des Projektionsobjektivs. Das Optimierungsverfahren kann auf bekannten Verfahren wie Monte-Carlo-Simulation, Simulated Annealing, Threshold Accepting oder genetischen Algorithmen basieren.

Claims (5)

  1. Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere für die Mikro-Lithographie, mit einer Projektionsoptik, die mindestens ein doppelbrechendes Element umfasst und ein Projektionsstrahlenbündel von einer Objektebene in eine Bildebene abbildet, dadurch gekennzeichnet, daß die optischen Elemente der Projektionsoptik derart zueinander angeordnet und/oder ausgebildet sind, daß sich für die jedem Feldpunkt zugeordneten Abbildungsstrahlen durch die gemeinsame optische Wirkung (1; 101) der optischen Elemente ein von Null verschiedener näherungsweise konstanter Betrag der Doppelbrechung über den Bündelquerschnitt des Projektionslichtbündels (9) ergibt.
  2. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Projektionsoptik mit mindestens einem doppelbrechend wirkenden optischen Element mit über die Apertur variierender Dicke.
  3. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch eine Projektionsoptik mit mindestens einem lokal beschichteten doppelbrechend wirkenden optischen Element.
  4. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Projektionsoptik mit mindestens einem doppelbrechenden Element mit vorgegebener innerer Spannungsverteilung.
  5. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Projektionsoptik mit mindestens einem doppelbrechend wirkendem Element aus Kristallmaterial, welches mit vorgegebener Orientierung zur optischen Achse der Projektionsoptik angeordnet ist.
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