JP2004323819A - 樹脂組成物、光学フィルターおよびプラズマディスプレー - Google Patents

樹脂組成物、光学フィルターおよびプラズマディスプレー Download PDF

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Abstract

【課題】 波長380〜780nmに極大吸収を有する色素の耐熱性、耐湿性を向上させた樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記式(1)で示す単量体および/またはフッ素原子含有不飽和単量体を5〜100質量%含むモノマー混合物を重合して得られ、酸価が0〜30mgKOH/gであり、水酸基価が0〜30mgKOH/gであるアクリル系樹脂に、波長380〜780nmに極大吸収を有する色素を含有することを特徴とする。酸価と水酸基価を調整すると、長期にわたる耐熱性、耐湿性が確保でき、色素の劣化を防止してPDP用光学フィルターとして使用しても鮮明なコントラストを得ることができる。
【化1】
Figure 2004323819

(式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、Xは、炭素数4〜25の炭化水素基を表す。)
【選択図】 なし

Description

本発明は、特定構造のアクリル系樹脂をバインダー樹脂とし、これに波長380〜780nmに極大吸収を有する色素を添加して得られる、耐熱性、耐湿性に優れる樹脂組成物および該樹脂組成物を用いた光学フィルター並びにプラズマディスプレーに関する。
近年、薄型で大画面に適用できるPDP(PlasmaDisplay Panel)が注目されている。PDPはプラズマ放電の際に近赤外線光が発生し、この近赤外線が家電用テレビ、クーラー、ビデオデッキ等の電気機器の誤動作を誘発することが問題となっている。
このような問題を解決するために高度な近赤外線遮断性と可視光透過性を有する近赤外線遮断フィルムに関する発明がある(特許文献1)。該文献では、波長850〜1100nmの近赤外線領域における透過率の最大値と最小値の差および最大透過率、波長450〜650nmの可視領域で最低透過率等を特定範囲に設定した赤外線吸収フィルターが開示されている。波長850〜1100nmの近赤外線領域における透過率の最大値と最小値の差、最大透過率を所定範囲に設定することでプラズマディスプレーに用いた場合にディスプレーから放射される不要な赤外線を吸収し、赤外線を使用したリモコンの誤動作を防ぐことができ、波長450〜650nmの可視領域での最低透過率を所定範囲に設定することでディスプレー前面に設置した場合に明るさを確保できるというものである。赤外線吸収色素としては、ジイモニウム塩化合物、含フッ素系フタロシアニン化合物、チオニッケル錯体化合物などが使用され、バインダー樹脂としてポリエステル系、アクリル系、ポリアミド系樹脂が開示されている。
一方、従来のリモコン誤動作を防止するための近赤外線吸収に加えて、画像を不鮮明にするいわゆるネオンオレンジ光(550〜620nm領域)を選択的に吸収し、かつ他の可視光領域はほとんど吸収しないようにして画像を鮮明にするように構成した近赤外吸収フィルターもある(特許文献2)。該文献では、該ネオンオレンジ光の吸収に使用される色素が、耐候性、耐久性に劣るため、透明基材上に少なくとも、近赤外線吸収色素を含有する透明樹脂塗膜と、550〜620nmを選択的に吸収する色素を含有する粘着剤層とを、該粘着層が最外層となるように形成してなる近赤外線吸収材料を提案している。該公報で使用する近赤外線吸収色素としては、特定構造のジチオールニッケル錯体や特定構造のジイモニウム化合物を対象とし、ネオンオレンジ光(550〜620nm領域)のみを選択的に吸収する色素としては、特定構造のシアニン色素を対象とし、透明樹脂としては色素の安定性の点からポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリシクロオレフィンなどが好ましいとしている。粘着材層は、上記色素と透明樹脂とを有機溶媒に溶解してロールコーターなどでフィルムに成形するというものであり、溶剤として1,3−ジオキソラン、ジクロロメタンを使用している。
プラズマディスプレーパネルの前面に配置される光学フィルターとして、590nm近辺のネオンオレンジ色に近く色再現性を悪化させる波長を吸収するため、570〜600nmに吸収極大波長を有する色素を配合したものもある(特許文献3)。該文献は、PDPの発光スペクトルを改善して色純度、色再現性を向上させるPDPフィルターを提供するため、透明アクリル粘着剤やメタクリル樹脂に570〜600nmに極大吸収を有する色素を配合し、色再現性に優れるPDPフィルターを調製するものである。
また、赤、青、緑の3原色に影響を及ぼさず、光線透過率曲線における480〜520nm、550〜610nmの領域にシャープな吸収を示し、かつ380〜420nmの波長域に吸収を有する色調整フィルターもある(特許文献4)。該公報では、ネオンオレンジ光を吸収するための方法として、特定構造のテトラアザポルフィリン系色素、特定構造のジピラゾリジン系色素、特定構造のジピラゾリルスクアリリウム系色素などを組み合わせて配合し、これによって色純度や色再現範囲を改善しようとするものである。
更に、透明基材上に少なくとも近赤外線吸収色素と550〜620nmに極大吸収波長を有する色素とを含有する透明樹脂塗膜を積層し、前記透明樹脂塗膜中の残存溶媒量が5重量ppm以上かつ500重量ppm未満である近赤外線カット材料もある(特許文献5)。前記近赤外線吸収色素をバインダー樹脂に分散した組成物を塗布後に乾燥して得られる成型体では樹脂塗膜中の色素の安定性が悪く、近赤外線吸収性能の低下や色相の変化、耐熱性に劣る点に鑑みてなされたものである。透明樹脂としてポリカーボネート、ポリアリレート等を使用し、近赤外線吸収色素としてジチオール金属錯体系、ジイモニウム系、フタロシアニン系色素を例示し、550〜620nmの極大吸収波長を有する色素としてシアニン系、スクアリウム系、アゾメチン系、キサンテン系などを例示し、溶媒としてはTHF、ジエチルエーテル、クロロホルムなどを記載している。
更に、赤外線吸収剤をポリウレタン樹脂層その他の樹脂層に含有させる場合に該吸収剤の耐熱性、耐久性に劣り、赤外線遮断効果が経時的に劣化することに鑑みて、近赤外線吸収色素と色調補正能とを有する色素を、ガラス転移温度が120〜180℃の熱可塑性樹脂を主剤として含有させた光学フィルムが開示されている(特許文献6)。ガラス転移温度が120℃を下回ると、混合した色素の耐久性、耐候性が不十分となり、経時的に高温多湿の条件で色素の劣化が起こるとし、このような熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系樹脂、オレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂などを例示している。更に、波長380〜780nmの光を吸収できる色調補正剤としては、アゾ系、縮合アゾ系、ジインモニウム系、フタロシアニン系、アンスラキノン系などの色素を、近赤外線吸収剤としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系などを、また、主剤を溶解するための溶剤としては、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、エーテル系溶剤、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤、エチルセロソルブなどのエーテルアルコール系溶剤等を開示している。
特開2001−133624号公報 特開2002−200711号公報 特開2001−228323号公報 特開2003−36033号公報 特開2002−264278号公報 特開2003−4939号公報
プラズマディスプレーでは、リモコン誤動作を防止するため、850〜1100nmの波長を吸収する近赤外線吸収剤が使用され、併せてネオン原子が励起された後に基底状態に戻る際に発するいわゆるネオンオレンジ色の発光を吸収する必要があるが、従来の技術では該発光の吸収は十分でなく、コントラストを改善する技術が求められる。
特に、ネオンオレンジ光を吸収する色素は、耐熱性、耐湿性に劣る場合があり、該色素の劣化により経時的にコントラストが悪化する場合がある。従って、耐熱性、耐湿性に優れる光学フィルターの提供が求められる。
本発明者らは、光学フィルターに使用される色素の安定性について検討したところ、色素が配合されるバインダー層によって色素の安定性が影響を受けること、特に380〜780nmの可視域に極大吸収波長を有する色素は、特定量の極性基を有するアクリル系樹脂を含む樹脂組成物に配合すると、その耐湿性、耐熱性が飛躍的に向上することを見出し本発明を完成させた。前記特定アクリル系樹脂をバインダーとして使用すると、乾燥条件による色素の性能への影響が少ない。このため、従来の乾燥時に沸点の点で使用不能であった高沸点溶剤も使用ができるようになり、溶剤の選択肢が大幅に広がった。更に、塗膜の残留溶剤量の影響が少ないため乾燥条件の管理が容易となり、従来の乾燥時間よりも大幅に短縮ができ、生産性が飛躍的に向上し、大幅なコストダウンを図ることが可能となった。
本発明によれば、特定構造のアクリル系樹脂をバインダー樹脂として使用することで、波長380〜780nmに極大吸収を有する色素を安定に保持することができる。特に、該樹脂を使用すると、耐熱性、耐湿性に優れるため、上記色素の劣化を防止し、PDPで発生するネオンオレンジ光を効果的に吸収し、コントラストを鮮明にすることができる。
また、上記アクリル系樹脂は、高沸点溶媒で希釈しても乾燥後の塗膜に含まれる色素の安定性を損なうことがない。このため、光学フィルター製造時の溶媒選択の範囲を広がることができる。
本発明で使用するアクリル系樹脂は、単量体成分に、更に紫外線吸収性単量体や酸化防止性単量体を配合すると、長期耐熱性や耐湿性を高めることができる。
本発明の第一は、下記式(1)で示す単量体および/またはフッ素原子含有不飽和単量体を5〜100質量%含むモノマー混合物を重合して得られ、酸価が0〜30mgKOH/gであり、水酸基価が0〜30mgKOH/gであるアクリル系樹脂に、波長380〜780nmに極大吸収を有する色素を含有してなる、樹脂組成物である。
Figure 2004323819
(式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、Xは、炭素数4〜25の炭化水素基を表す。)
ネオンオレンジ光を吸収するため、光学フィルターに使用される波長380〜780nmに極大吸収を有する色素の安定性を検討したところ、特定構造の樹脂をバインダー樹脂とした場合に、その安定性に優れることが判明した。このような樹脂として、上記式(1)で示す単量体および/またはフッ素原子含有不飽和単量体を必須に含有するアクリル系樹脂がある。
上記式(1)中、Xで表される炭素数4〜25の炭化水素基としては、例えば、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロドデシル基等の脂環式炭化水素基;ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基等の直鎖または分枝鎖のアルキル基;ボルニル基、イソボルニル基等の多環式炭化水素基等が挙げられる。これらの中でも、脂環式炭化水素基、分枝鎖のアルキル基、炭素数6以上の直鎖アルキル基、多環式炭化水素基であることが好ましい。更に好ましくは炭素数6以上の脂環式炭化水素基、多環式炭化水素基である。
上記式(1)で表される単量体としては、例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、tert−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、特開2002-69130号公報で開示されているような(メタ)アクリル酸のシクロヘキシルアルキルエステルが挙げられる。本発明では、上記式(1)で表される単量体は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
また、フッ素原子含有不飽和単量体としては、ポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテル基を有するラジカル重合性単量体が挙げられ、パーフルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロテトラデシル基が好適である。
このようなフッ素原子含有不飽和単量体としては、CH=C(CH)COOCH(CFCF、CH=C(CH)COOCHCH(CFCF、CH=CHCOO(CFCF、CH=CHCOOCHCH(CFCF、CH=CHCOOCHCH(CFCF(CF、CH=C(CH)COOCH(OCOCH)CH(CFCF(CF、CH=CHCOOCHCH(OH)CH(CFCF(CF、CH=CHCOOCHCH(CFCF、CH=C(CH)COOCHCHNHCO(CFCF、CH=CHOCONHCO(CFCF(CFC1)CF、CH=CHCOOCHCHN(C)SO(CFCF、CH=CHCOOCHCHCHCH(CFCF、CH=C(CH)COOCHCHN(C)SO(CFCF、CH=CHCOOCHCHNHCO(CFCF、CH=CHCOO(CH(CFCF(CF、CH=CHCOOCH(CF10H、CH=C(CH)COOCH(CF10CFCl、CH=CHCONHCHCHOCOCF(CF)OC、CH=CHCONHCHCHOCOCF(CF)(OCOCが好適である。このような単量体は、1種を単独で使用し、または2種以上を併用することもできる。フッ素原子含有不飽和単量体としては、市販品を使用することもできる。例えば、共栄社化学社製、商品名ライトエステルFM−108、ライトエステルM−3F、ライトエステルM−4F;日本メクトロン社製、商品名CHEMINOX FAAC、CHEMINOX FAMAC、CHEMINOX FAAC−M、CHEMINOX FAMAC−M、CHEMINOX PFAE、CHEMINOX PFOE等がある。
上記式(1)で表される単量体および/または上記フッ素原子含有不飽和単量体のモノマー混合物中の配合量としては、例えば、アクリル系樹脂を構成する全単量体を100質量%とすると、上記式(1)で表される単量体や上記フッ素原子含有不飽和単量体を単独で使用し、または上記式(1)で表される単量体と上記フッ素原子含有不飽和単量体とを任意の範囲で含ませた場合の合計量が5〜100質量%、より好ましくは10〜90質量%、更に好ましくは15〜80質量%である。5質量%未満であると、これに色素を添加しても、色素の耐湿性や耐熱性が経時的に低下する。これは、上記式(1)で示す単量体やフッ素原子含有不飽和単量体を共重合してなるアクリル系樹脂を含む塗膜が、吸湿性の低い塗膜となるため、色素の劣化原因となる水分の塗膜への侵入を抑制するからである。
上記単量体成分以外に用いることのできるその他の共重合可能な不飽和単量体として、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体;2−(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート等の酸性リン酸エステル系不飽和単量体;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート(例えば、ダイセル化学工業社製、商品名「プラクセルFM」)等の活性水素をもつ基を有する不飽和単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル;グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基を有する不飽和単量体がある。
更に、(メタ)アクリルアミド、N,N′−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート、シクロヘキシルマレイミド等の窒素原子を有する不飽和単量体;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の2個以上の重合性二重結合を有する不飽和単量体;塩化ビニル等のハロゲン原子を有する不飽和単量体(上記フッ素原子含有不飽和単量体を除く);スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族不飽和単量体;酢酸ビニル等のビニルエステル;ビニルエーテル等も使用することができる。
色素の更なる耐久性向上が必要な場合には、べンゾトリアゾール系、べンゾフェノン系、トリアジン系等の紫外線吸収性基を有する不飽和単量体(重合性紫外線吸収性単量体)を使用すればよい。具体的には「RUVA93」(商品名、大塚化学社製)、「BP−1A」(商品名、大阪有機化学社製)等が挙げられ、これらは単独で使用し得る他、必要により2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。また、紫外線安定性基を有する不飽和単量体(重合性紫外線安定性単量体)として「アデカスタブLA−82」、「アデカスタブLA−87」(いずれも商品名、旭電化工業社製)、酸化防止能を有する不飽和単量体(重合性酸化防止単量体)として「スミライザーGS」、「スミライザーGM」(いずれも商品名、住友化学工業社製)等が挙げられ、これらは単独で使用し得る他、必要により2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
また本願の樹脂組成物にクエンチャーを配合することでも更に色素の耐久性を向上することができる。このようなクエンチャーとしては、例えば、日本カーリット社製の商品名「CIR1080」、「CIR1081」、「CIR960」、みどり化学社製の商品名「MIR101」、住友精化社製、商品名「EST5」が挙げられる。
本発明において、重合性紫外線吸収性単量体、重合性紫外線安定性単量体、重合性酸化防止単量体の配合量は、全単量体においてその合計量が0〜50質量%の範囲で適宜選択できる。その際、使用する単量体の種類や配合量は、得られるアクリル系樹脂の酸価が0〜30mgKOH/gであり、水酸基価が0〜30mgKOH/gとなるように調整しなければならない。酸価は、アクリル系樹脂1gに含まれるカルボキシル基を中和するのに必要な水酸化カリウムのmg数で示され、単位はmgKOH/gである。水酸基価は、アクリル系樹脂1gに含まれる水酸基をアセチル化して、アセチル化に要した酢酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのmg数で示される。このため、配合する単量体に含まれるカルボキシル基や水酸基量を算出し、上記範囲の酸価および水酸基価とする。
上記アクリル系樹脂を製造するための重合方法としては、例えば、重合開始剤を用いて、溶液重合、分散重合、懸濁重合、乳化重合等の従来公知の重合方法により行うことができる。溶液重合を行う場合の溶媒としては特に限定されず、例えば、iso−プロパノール、n−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン等のエーテル類;酢酸ブチル、酪酸エチル、酪酸ブチル等のエステル類;塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の高極性溶剤類等の1種または2種以上用いることができる。溶媒の使用量としては、重合条件やバインダー樹脂中の重合体の重量割合等により適宜設定すればよい。
上記重合開始剤としては特に限定されず、例えば、2,2′−アゾビス−(2−メチルブチロニトリル)、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド等の通常のラジカル重合開始剤が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。使用量としては、所望する重合体の特性値等から適宜設定すればよいが、例えば、単量体成分を100質量%とすると、0.01〜50質量%とすることが好ましい。より好ましくは、0.05〜20質量%である。
上記重合方法における重合条件としては、重合方法により適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。例えば、重合温度としては、室温〜200℃とすることが好ましい。より好ましくは、40〜140℃である。反応時間としては、単量体成分の組成や重合開始剤の種類等に応じて、重合反応が完結するように適宜設定すればよい。
本発明のアクリル系樹脂は、酸価が0〜30mgKOH/g、より好ましくは0〜20mgKOH/g、特に好ましくは0〜15mgKOH/gであり、水酸基価が0〜30mgKOH/g、より好ましくは0〜20mgKOH/g、特に好ましくは0〜15mgKOH/gである。酸価が30mgKOH/gを越える場合は、色素の耐湿性、耐熱性が低下する場合があり、また本発明の樹脂組成物を用いて光学フィルターを作成するために透明基材に積層すると、耐湿試験後に透明基材層との密着性が低下する場合がある。同様に、水酸基価が30mgKOH/gを越える場合は、色素の耐湿熱性、耐熱性が低下する場合があり、耐湿試験後に透明基材層との密着性が低下する場合がある。また、酸価および水酸基価が上記範囲にあると、その詳細は不明であるが、これに後記する色素を配合しても残留溶剤量による色素の経時的な劣化が防止できるのである。これは、色素のマトリックスであるアクリル系樹脂の上記式(1)で示す単量体および/またはフッ素原子含有不飽和単量体が有する特定構造と、特定量の極性基の存在によって、色素分子が安定化されるためと思われる。このため、従来は溶媒の除去を容易にするために低沸点の溶媒を使用していたが、本発明では、残存溶媒によって配合する色素の劣化が少ないため、高沸点の溶媒を使用することができ、溶媒の選択範囲を広げることができる。
本発明で使用するアクリル系樹脂は、重量平均分子量が、3000〜1,000,000であることが好ましく、より好ましくは5,000〜700,000、特に好ましくは7,000〜500,000である。3,000よりも小さい場合は、基材との耐湿試験後の密着性が低下する場合がある。一方、1,000,000を越える場含は、塗装作業性が低下し、透明基材との漏れ性が低下するために耐湿試験後の密着性が低下する場合がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の値である。
本発明で使用するアクリル系樹脂は、ガラス転移温度が−50〜200℃であることが好ましく、より好ましくは−30〜180℃である。−50℃よりも低い場合は、色素の耐湿性、耐熱性が低下する場合があり、または透明基材との耐湿試験後の密着性が低下する場合がある。また、200℃を超えると、塗装作業性の点で不利である。
上記アクリル系樹脂に配合する380〜780nmの可視域に極大吸収波長を有する色素としては、例えば、特開2002−200711号公報記載の式(6)、(7)、(8)で示すシアニン色素、特開2003−36033号公報記載の一般式(I)で示すテトラアザポルフィリン系色素、一般式(II)で示すジピラゾリルメチン系色素、一般式(III)で示すジピラゾリルスクアリリウム系色素、その他のシアニン系、アズレニウム系、スクアリリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、ビスアゾ系、アントラキノン系、ペリレン系、インダンスロン系、ニトロソ系、金属チオール錯体系、インジコ系、アゾメチン系、キサンテン系、オキサノール系、インドアニリン系、キノリン系等従来公知の色素を広く使用することができる。例えば、旭電化工業社製、商品名アデカアークルズTW−1367、アデカアークルズSG−1574、アデカアークルズTW1317、アデカアークルズFD−3351、アデカアークルズY944、林原生物化学研究所製、商品名NK−5451、NK−5532、NK−5450等が挙げられる。本発明では、この中でも、特に下記式で示すジピラゾリルスクアリリウム系色素や、テトラアザポルフィリン系色素に好適である。
Figure 2004323819
Figure 2004323819
本発明の樹脂組成物は、上記アクリル系樹脂に波長380〜780nmに極大吸収を有する色素を添加したものである。予め上記色素を溶媒に溶解または分散させ、これを上記アクリル系樹脂に混練し均一の樹脂組成物を調製することができる。また、アクリル系樹脂を溶融し、これに上記色素を添加し混練して均一の樹脂組成物を調製することができる。さらに、上記重合時の反応溶液をそのままアクリル系樹脂含有溶液として使用することができる。
本発明の樹脂組成物中のアクリル系樹脂の配合量は、不揮発分換算で、樹脂組成物100質量%において、50〜99.9995質量%であることが好ましく、より好ましくは60〜99.9985質量%、特に好ましくは70〜99.9985質量%である。50質量%未満であると、該樹脂組成物から形成される可視光線吸収性塗膜の物性が十分でなくなるおそれがあり、99.9995質量%を超えると上記の色素の質量割合が少なくなるために、可視光線吸収性能が十分でなくなる恐れがある。
一方、該樹脂組成物中の上記の色素配合量は、不揮発分換算で樹脂組成物100質量%に、0.0005〜20質量%にすることが好ましく、より好ましくは0.0015〜10質量%である。0.0005質量%未満であると、該樹脂組成物から形成される可視光線吸収性塗膜が十分な可視光線吸収性能を発揮しないおそれがあり、20質量%を超えると可視光線吸収性塗膜の物性が十分でなくなるおそれがある。
更に、本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、その性能を失わない範囲で溶剤や添加剤、硬化剤等を1種または2種以上含んでいてもよい。溶剤としては、上述したのと同様の有機溶剤等が挙げられるが、例えば、透明基材がポリカーボネートのように芳香族系溶剤で侵される材質の場合には、脂肪族のアルコール系溶剤の使用が好ましい。脂肪族のアルコール系溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられ、1種または2種以上を用いることができる。また、添加剤としては、フィルムやコーティング膜等を形成する樹脂組成物に一般に使用される従来公知の添加剤等を用いることができ、例えば、分散剤;レベリング剤;コロイド状シリカ、アルミナゾル等の無機微粒子、消泡剤、タレ性防止剤、シランカップリング剤、チタン白、複合酸化物顔料、カーボンブラック、有機顔料、顔料中間体等の顔料;酸化防止剤;粘性改質剤;紫外線安定剤;金属不活性化剤;過酸化物分解剤;充填剤;補強剤;可塑剤;潤滑剤;防食剤;防錆剤;蛍光性増白剤;有機及び無機系紫外線吸収剤、無機系熱線吸収剤;有機・無機防炎剤;静電防止剤等が挙げられる。また、硬化剤としては、ポリイソシアネート化合物またはその変性物、エポキシ樹脂、アミノプラスト樹脂等の硬化剤を使用することができる。
本発明の樹脂組成物は、光学用、農業用、建築用、車両用、画像記録用などのフィルムやシート、冷凍・冷蔵ショーケース、色素増感型太陽電池など太陽電池、半導体レーザー光などを光源とする感光材料、光ディスク用などの情報記録材料、眼精疲労防止材、感光紙などの光熱変換材、接着材などとして使用できる。特に、光学用、画像記録用などのフィルムやシート、光ディスク用などの情報記録材料、感光紙などの光熱変換材、粘接着材としての使用が好ましい。
本発明の第二は、上記樹脂組成物からなる層を、透明基材層に積層した、光学フィルターである。これにより、ネオンオレンジ光の吸収性に優れ、かつ耐熱性、耐湿性に優れ、長期に安定した吸収効率を確保できる光学フィルターを得ることができる。例えば、前記上記樹脂組成物を適当な溶剤の溶液若しくは分散液とし、公知の塗布方法でシート状またはフィルム状の透明基材層上に塗布し乾燥させ、透明基材層上に、前記色素を含むバインダー樹脂からなる色素含有樹脂層を形成させて積層体とすることが好ましい。
本発明で使用する透明基材としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない材料であれば特に制限はない。具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂等を挙げられ、これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が好ましい。更に、該透明基材は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。
上記透明基材樹脂は、公知の添加剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができ、公知の射出成形、Tダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶融させてキャスティングする方法などを用い、フィルムまたはシート状に成形される。かかる透明基板を構成する基材は、未延伸でも延伸されていてもよく、また他の基材と積層されていてもよい。
本発明の光学フィルターを作成するには、次の(1)〜(4)の方法がある。(1)上記樹脂組成物に、必要に応じて上記有機溶媒のいずれかを添加して粘度を低下させ、これを上記透明基材層上に塗布し乾燥させる方法、(2)熱可塑性樹脂における常法の成形法に従って、前記樹脂組成物を溶融して押出成形、射出成形、圧縮成形等によってフィルム或いはシートに成形し、そのフィルム或いはシートを透明基材上に接着剤等により接着させる方法、(3)前記樹脂組成物を溶融してフィルム状またはシート状に押出し、透明基材上に押出ラミネートする方法、(4)前記樹脂組成物を溶融して透明基材と共押出成形する方法、等の各種の方法を採ることができる。なお、単層のシートまたはフィルムを作製するには、例えば、(1)前記樹脂組成物を適当な溶剤の溶液若しくは分散液としてキャリヤー上に流延し、乾燥させる方法、(2)熱可塑性樹脂における常法の成形法に従って、前記樹脂組成物を溶融して押出成形、射出成形、圧縮成形等によってフィルムまたはシートに成形する方法などにより成形できる。また、前記樹脂組成物を透明基材上に塗布する方法としては、例えば、浸漬、吹き付け、刷毛塗り、カーテンフローコート、グラビアコート、ロールコート、スピンコート、ブレードコート、バーコート、リバースコート、ダイコート、スプレーコート、静電塗装等の方法が挙げられる。
本発明の樹脂組成物層の厚さとしては、使用用途等により適宜設定すればよく特に限定されるものではない。例えば、乾燥時の厚さを0.5〜1,000μmとなるようにすることが好ましい。より好ましくは、1〜100μmである。
また、透明基材層と前記樹脂組成物層とを積層するために使用できる粘着剤層としては、ウレタン系、アクリル系、シリコーン系等の公知の接着剤を利用できる。粘着剤層の厚さは、1〜200μmであり、好ましくは3〜100μmである。上記粘着剤層は、紫外線吸収剤、紫外線安定剤等の添加剤を含んでいてもよい。接着層を使用することで、前記樹脂組成物層と透明基材層との密着が強くなり、前記樹脂組成物層と透明基材との間での剥がれや劣化が生じにくくなる。
本発明の光学フィルターは、更に、近赤外線吸収層、電磁波遮蔽層、光線反射防止層、ぎらつき防止(ノングレア)層、傷付き防止層等が設けられていてもよく、フィルター中の各層の配置は任意に選択すればよいが、この順に積層されているのが好ましい。これら各層の厚みは、通常、0.1〜30μm、好ましくは0.5〜10μmで十分である。
ここで、近赤外線吸収層は、780〜1,200nmに極大吸収を有する色素を上記樹脂組成物に含有させて、波長380〜780nmに極大吸収すると同時に近赤外線吸収層としてもよいが、近赤外線吸収剤を積層体として製造されるフィルターの各層間に使用してもよい。例えば、後記する接着剤層や後記する傷付き防止層等のフィルター構成層のいずれか、または、適宜使用されるアンカーコート剤からなる層等に添加して形成してもよい。
近赤外線吸収剤としては、特開2001−106689号公報の式(1)で示されるフタロシアニン化合物、特開2002−82219号公報記載の一般式(1)で示す芳香族ジチオール系金属錯体、一般式(2)、(3)で示す芳香族ジインモニウム化合物、一般式(4)〜(9)で示す芳香族ジオール化合物、特開2001−133624号公報に記載のジイモニウム系化合物、その他の、ニトロソ系化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、ジチオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、及び前記以外のスクアリリウム系化合物やメチン系化合物等の有機物質、アンチモンドープ酸化錫、インジウムドープ酸化錫等が挙げられる。該色素は、上記したように、波長380〜780nmに極大吸収を有する色素と共にアクリル系樹脂に配合してもよいが、上記アクリル系樹脂または他の透明樹脂に配合して、従来公知の方法を使用して近赤外線吸収層としてもよい。別個の近赤外線吸収層とする場合には、本発明の透明基材層と前記樹脂組成物層、および必要に応じて配合される接着層のいずれの順に積層されてもよい。本発明の光学フィルターは、波長380〜780nmに極大吸収を有する色素を含有すると共に、780〜1,200nmに極大吸収を有する色素を含有する層を有することで、リモコン誤操作を回避でき、ネオンオレンジ光の吸収性にも優れ、極めて有用である。
一方、電磁波遮蔽層は、ディスプレー装置からの発光に伴い発生する電磁波による生体や電子機器への悪影響を防ぐために設けるものである。電磁波遮蔽層は、銀、銅、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ等のような金属または金属酸化物の薄膜からなり、これらは真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング方法、CVD法、プラズマ化学蒸着法等の従来公知のドライプレーティング法を利用し、製造することができる。電磁波遮蔽層は、最もよく用いられるのは、酸化インジウムスズ(ITOと略記されることもある)の薄膜であるが、メッシュ状の穴を有する銅の薄膜や誘電体層と金属層を基材上に交互に積層させた積層体も好適に用いることができる。前記誘電体層としては、酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的である。積層体は、通常、誘電体層よりはじまり3〜13層程度の間で奇数層となるように積層される。電磁波遮蔽層は、前記のディスプレー用フィルターのいずれかの層上にそのまま形成させてもよいし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリング後に、該フィルターと貼り合わせて形成させてもよい。
反射防止層は、表面の反射を抑えて、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止するためのものである。反射防止層は、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物の薄膜からなる場合と、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させたものからなる場合とがあり、前者の場合には、電磁波遮蔽層のところで挙げたと同様のドライプレーティング法を用いて、単層あるいは多層の形態で、前記のディスプレー用フィルターの層上にそのまま形成させる方法や樹脂フィルムあるいはガラス上に、蒸着あるいはスパッタリング後に、該フィルターと貼り合わせて形成させる方法が挙げられる。また、後者の場合は、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の使用される樹脂のフィルムまたはシートを接着剤によりディスプレー用フィルターに接着する方法等、通常の樹脂積層体の作成方法が挙げられる。また、このほかに、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けるという手法を用いてもよい。
ノングレア層は、シリカ、メラミン樹脂、アクリル樹脂等の微粉体をインキ化し、従来公知の塗布法で、本発明のフィルターのいずれかの層上に塗布し、熱或いは光硬化させることにより形成される。また、ノングレア処理したフィルムを該フィルター上に貼りつけてもよい。また、傷付き防止層は、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、多官能アクリレート等のアクリレートと光重合開始剤を有機溶剤に溶解或いは分散させた塗布液を従来公知の塗布法で、本発明のフィルターのいずれかの層上に、好ましくは、最外層に位置するように、塗布し、乾燥させ、光硬化させることにより形成される。
本発明の光学フィルターは、好適には、前記透明基材と前記樹脂組成物層を基本構成層とし、必要に応じて、前記近赤外線吸収層、電磁波遮蔽層、光線反射防止層、ノングレア層、及び傷付き防止層等を有する積層体であり、更に酸化防止剤層や紫外線吸収剤含有層を有していてもよい。これらの各層の積層順序は特に限定されるものではなくまた、積層方法も特に限定されるものではない。通常は、各層間に必要に応じて透明基材を挟みながら、接着剤を用いて積層体とするが、その場合、コロナ放電処理、グロー放電処理、プラズマ処理、火炎処理、化学薬品処理等の表面処理を施したり、イソシアネート系、ポリエステル系、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエン系、アルキルチタネート系等の公知のアンカーコート剤を使用することにより、接着時の密着性がよくなったり、接着剤がムラ無く塗布できるので好ましい。
本発明の第三は、上記光学フィルターを用いる、プラズマディスプレーである。上記光学フィルターは、該フィルターをディスプレー表示面に張り合わせるための粘着剤層を最外層に設けてもく、この粘着剤層により、ディスプレーの製造工程の途中またはディスプレーの製造後を問わず、簡便にディスプレーの前面にこのフィルターを貼着することができる。従来は、ディスプレー自体の前面に順番に近赤外線吸収フィルター、電磁波遮蔽フィルター等を配置する必要があったものが、本発明のフィルターを貼るだけとなり製造工程が簡便になるだけでなく、フィルターがディスプレーと一体形成されるので、ディスプレー装置全体で見たときに薄肉化が可能となる。
粘着剤層を構成する粘着剤としては、スチレンブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メチル、ボリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のポリアクリル酸アルキルエステル等が挙げられ、これらは単独に用いられてもよいが、さらに粘着付与剤としてピッコライト、ポリベール、ロジンエステル等を添加したものを用いてもよい。
粘着剤層形成方法としては、具体的には、上記ゴム類またはポリアクリル酸アルキルエステルをハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、脂肪族炭化水素系または芳香族炭化水素系から選ばれる溶媒単独または複数混合した溶剤系に分散または溶解して粘度を調整したものをディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、プレードコート法及びエアーナイフコ- ト法等の公知の塗工方法で塗工し、その後溶剤を乾燥させ、粘着剤層とする。
この際の粘着剤層の厚みは、通常、5〜100μm、好ましくは10〜50μmである。粘着剤層の表面に剥離フィルムを設け、粘着剤層にゴミ等が付着しないように、プラズマディスプレーの表面に張り付けるまで粘着剤層を保護するのもよい。この場合、フィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時の作業がやりやすい。
プラズマディスプレーにフィルターを貼着時、プラズマディスプレーの表面とフィルターとの間に気泡が入ると画像が歪んだり、見にくくなったりする等、実用上の大きな問題となるので気泡の巻き込みには十分に注意する必要がある。本発明のプラズマディスプレーは、上述のように直接ディスプレー表面上に本発明の光学フィルターを貼りつけ、または、あらかじめ透明のガラスや透明樹脂板等と貼り合わせた上で、本発明の光学フィルターをディスプレー表面上に貼りつけることで製造することができる。
なお、本発明の樹脂組成物、光学フィルターは、プラズマディスプレイ以外にも液晶表示装置(LCD)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL)、プラズマアドレスリキッドクリスタル(PALC)ディスプレイ、フィールドエミションディスプレイ(FED)等の平面型表示装置及び陰極管表示装置(CRT)等の表示装置にも使用できる。この場合、表示装置の視認側に設置すればよく、表示装置から離してもよい。また表示装置表面に直接貼り付けてもよい。
以下、本発明の実施例により具体的に説明する。
(合成例1)
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管及び窒素ガス導入口を備えた500mlフラスコに酢酸エチル30gを仕込んだ。更に滴下槽にシクロヘキシルメタクリレートを10g、メチルメタクリレート90g、tert−ブチル−パーオキシ−2−エチルヘキサノート0.5gのモノマー混合物を仕込み、該混合物の20質量%をフラスコに投入させて還流温度まで昇温させた。昇温後に残り80質量%のモノマー混合物を2時間かけて連続滴下し、滴下2時間後に酢酸エチル40gを投入した。滴下開始してから8時間後に冷却し、酢酸エチル80gを投入して不揮発物が40%溶液、重量平均分子量185000、酸価、水酸基価はいずれも0mgKOH/gのアクリル系樹脂(以下、アクリル系樹脂1とする)を得た。なお、酸価および水酸基価は、以下に従って算出した。
Figure 2004323819
Figure 2004323819
(合成例2〜15)
表1、2に示す組成に調製して、合成例1と同様な方法でアクリル系樹脂を得た。これらを合成例2〜15とする。
(実施例1)
バインダー樹脂として合成例1のアクリル系樹脂250部、下記化学式で示す色素A(テトラアザポリフィン系色素)を0.1g、メチルエチルケトン250gを配合して可視光線吸収性樹脂組成物を調製した。これを基材として両面が易接着処理された厚さ188ミクロンのPETフィルム(東洋紡社製「A−4100」)に塗装して100℃で3分乾燥させて膜厚10μmの塗膜を形成させた。以上の方法で作成したフィルムの室温での安定性、耐湿性、耐熱性を評価した。配合および結果を表3、5に示す。
Figure 2004323819
(実施例2〜14)
実施例2〜14は、色素Bとして下記に示すジピラゾリルスクアリリウム系色素を使用し、色素Cとしてアントラキノン系色素(アビジア社製、商品名「WAXOLINE Blue A/AP FW」を使用して、表3、4に従って実施例1と同様に操作した。配合および結果を表3〜6に示す。
Figure 2004323819
(比較例1〜7)
比較例1〜7は、希釈溶剤、乾燥条件を表4に示すようにした以外は、実施例1と同様な方法で塗工フィルム作成し、室温での安定性、耐湿性、耐熱性を評価した。配合および結果を表7、8に示す。
(評価方法)
(1)室温での安定性
室温で24時間放置し、放置前後の使用した色素の極大吸収波長での透過率を測定し、放置前後の透過率の差を求め、下記の基準で塗膜の透過率の変化から色素の吸収能の保持性を評価した。透過率の差は小さいほど室温での安定性に優れることを示す。尚、透過率は、分光光度計(島津製作所、UV−3100)を用いて、色素含有塗膜層からの入射光に対する透過率を測定した。色素の吸収能の保持性は、以下に従って評価した。
○;1%未満 △;1%以上5%未満 ×;5%以上
(2)耐湿性
60℃で相対湿度95%RHの高温高湿雰囲気中に1000時間、1500時間、2000時間放置し、放置前後の使用した色素の極大吸収波長での透過率を前記と同様に分光光度計で測定し、放置前後の透過率の差を求め、下記の基準で塗膜の透過率の変化から色素の吸収能の保持性を評価した。透過率の差は小さいほど耐湿性に優れることを示す。また基材ヘの密着性は、JIS 5400(1995年度)の碁盤目テープ剥離試験を行い、剥離試験後の塗膜状態を下記の基準で評価した。
色素の吸収能の保持性:
○;1%未満 △;1%以上5%未満 ×;5%以上
基材ヘの密着性
○:異常なし ×;剥離
(3)耐熱性
80℃の高温雰囲気中に1000時間、1500時間、2000時間放置し、放置前後の使用した色素の極大吸収波長での透過率を、前記と同様に分光光度計で測定し、放置前後の透過率の差を求め、下記の基準で塗膜の透過率の変化から色素の吸収能の保持性を評価した。透過率の差は小さいほど耐熱性に優れることを示す。また基材ヘの密着性は、JIS 5400(1995年度)の碁盤目テ一プ剥離試験を行い、剥離試験後の塗膜状態を下記の基準で評価した。
色素の吸収能の保持性
○;1%未満 △:1%以上5%未満 ×;5%以上
基材ヘの密着性
○;異常なし ×;剥離
Figure 2004323819
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Figure 2004323819
(結果)
(1)実施例1〜14の結果から明らかなように、上記式(1)で示す単量体および/またはフッ素原子含有不飽和単量体を5〜100質量%含むモノマー混合物を重合して得られ、酸価が0〜30mgKOH/gであり水酸基価が0〜30mgKOH/gであるアクリル系樹脂をバインダー樹脂として使用すると、テトラアザポルフィン系色素、テトラアザポルフィン系色素およびアントラキノン系色素のいずれについても、耐熱性、耐湿性および常温での安定性に優れた。
(2)実施例5,6から明らかなように、紫外線吸収性単量体や酸化防止能を有する単量体を共重合したアクリル系樹脂を使用すると、耐湿性や耐熱性が向上した。
(3)実施例2と実施例9との比較から明らかなように、乾燥時間を3分から30秒に短縮しても、耐熱性、耐湿性および常温での安定性が低下せず、長期にわたり色素の劣化を防止した。
(4)実施例2と実施例10との比較から明らかなように、沸点が80℃のメチルエチルケトンに代えて沸点が110℃のトルエンを使用し、乾燥時間を3分から30秒に短縮しても、耐熱性、耐湿性および常温での安定性が低下せず、長期にわたり色素の劣化を防止した。
(5)比較例1、2は、酸価または水酸基価が本願の規定値から外れるアクリル系樹脂を使用したため、室温での安定性や耐湿性や耐熱性が低下した。
(6)比較例1と比較例3との比較によって明らかなように、乾燥時間を3分から30秒に短縮すると耐湿性および常温での安定性が更に低下した。
(7)比較例2と比較例4との比較によって明らかなように、沸点が80℃のメチルエチルケトンに代えて沸点が110℃のトルエンを使用し、乾燥時間を3分から30秒に短縮すると、耐湿性および常温での安定性が更に低下した。
(8)比較例5、6は、酸価および水酸基価は、共に0〜30mgKOH/gの範囲であるが、上記式(1)で示す単量体および/またはフッ素原子含有不飽和単量体を5〜100質量%の範囲で含んでいない。このような樹脂をバインダー樹脂として使用すると、乾燥時間が3分でも30秒でも、耐熱性、耐湿性および常温での安定性のいずれも本願で使用するアクリル系樹脂の場合よりも低下した。
(9)比較例7は、沸点が110℃のトルエンを使用し、乾燥時間を30秒に短縮したものである。耐熱性、耐湿性および常温での安定性のいずれも本願で使用するアクリル系樹脂の場合よりも低下した。

Claims (4)

  1. 下記式(1)で示す単量体および/またはフッ素原子含有不飽和単量体を5〜100質量%含むモノマー混合物を重合して得られ、酸価が0〜30mgKOH/gであり、水酸基価が0〜30mgKOH/gであるアクリル系樹脂に、波長380〜780nmに極大吸収を有する色素を含有してなる、樹脂組成物。
    Figure 2004323819
    (式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、Xは、炭素数4〜25の炭化水素基を表す。)
  2. 請求項1記載の樹脂組成物からなる層を、透明基材層に積層した、光学フィルター。
  3. 780〜1200nmに極大吸収を有する色素を含有することを特徴とする、請求項2記載の光学フィルター。
  4. 請求項2または3記載の光学フィルターを用いる、プラズマディスプレー。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007136017A1 (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Fujifilm Corporation 近赤外線吸収フィルター及びその製造方法
WO2008078806A1 (ja) * 2006-12-27 2008-07-03 Fujifilm Corporation 近赤外線吸収フィルタ及び近赤外線吸収フィルタの製造方法
JP2012185468A (ja) * 2010-12-17 2012-09-27 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子
US20130158201A1 (en) * 2010-06-21 2013-06-20 Lg Chem, Ltd. Acrylic copolymer and optical film including the same
KR20210016324A (ko) 2018-06-04 2021-02-15 가부시키가이샤 아데카 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2843204B1 (fr) * 2002-08-05 2004-09-17 Saint Gobain Structure de filtrage optique et de blindage electromagnetique
US7374822B2 (en) * 2003-10-20 2008-05-20 Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. Near-infrared ray-shielding paint, near-infrared ray-shielding laminate obtained therefrom and production method thereof
KR20060058560A (ko) * 2004-11-25 2006-05-30 삼성코닝 주식회사 화상 표시 장치용 광학필터 및 그의 제조방법
US7682771B2 (en) * 2004-12-29 2010-03-23 3M Innovative Properties Company Compositions containing photosensitive fluorochemical and uses thereof
KR101253373B1 (ko) * 2005-01-21 2013-04-11 아사히 가라스 가부시키가이샤 점착제 조성물 및 광학 필터
ATE417906T1 (de) * 2005-02-22 2009-01-15 Asahi Glass Co Ltd Haftklebemasse, haftklebefilm sowie optisches filter
TW200717016A (en) * 2005-07-25 2007-05-01 Hitachi Maxell Optical film and image display apparatus panel using the same
KR100705927B1 (ko) * 2005-10-26 2007-04-12 제일모직주식회사 근적외선 흡수 및 색보정 점착제 조성물 및 이를 이용한필름
FR2900658B1 (fr) * 2006-05-04 2008-06-13 Arkema Sa Composition transparente filtrant les ir
WO2007129418A1 (en) * 2006-05-05 2007-11-15 Japan Science And Technology Agency Novel copolymer of methacrylic ester, composition, optical element and electric member
US7550193B2 (en) * 2006-05-05 2009-06-23 Nanofilm Ltd Infrared radiation blocking laminate
KR20080064485A (ko) * 2007-01-05 2008-07-09 삼성코닝정밀유리 주식회사 광학 시트 및 디스플레이 광학 필터
JP2012189683A (ja) * 2011-03-09 2012-10-04 Nitto Denko Corp 赤外線反射フィルム
EP2705539A4 (en) * 2011-05-02 2015-03-04 Basf Se PHOTOVOLTAIC ELEMENT WITH INCREASED LONG-TERM STABILITY
JP6074949B2 (ja) * 2011-10-03 2017-02-08 Jsr株式会社 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
KR101995970B1 (ko) 2012-05-15 2019-07-03 가부시키가이샤 아데카 광경화성 수지조성물
JPWO2014024873A1 (ja) * 2012-08-06 2016-07-25 コニカミノルタ株式会社 光反射フィルムおよびこれを用いた光反射体
WO2014080750A1 (ja) * 2012-11-21 2014-05-30 三井化学株式会社 ポリウレタン樹脂の製造方法
KR101453469B1 (ko) * 2014-02-12 2014-10-22 나우주 광학 필터 및 이를 포함하는 촬상 장치
KR101956994B1 (ko) * 2016-12-13 2019-03-11 도레이첨단소재 주식회사 파장변환 조성물, 이를 포함하는 색변환 시트 및 백라이트 유닛
KR101986005B1 (ko) * 2017-04-26 2019-06-04 도레이첨단소재 주식회사 색변환 시트 및 이를 포함하는 백라이트 유닛
KR101978034B1 (ko) * 2017-04-27 2019-05-13 도레이첨단소재 주식회사 색변환 시트 및 이를 포함하는 백라이트 유닛
JP7339161B2 (ja) 2018-01-09 2023-09-05 株式会社Adeka 組成物、硬化物、光学フィルタ及び硬化物の製造方法
WO2020021969A1 (ja) 2018-07-27 2020-01-30 株式会社Adeka 組成物、硬化物、光学フィルタ及び硬化物の製造方法
WO2021194305A1 (ko) * 2020-03-26 2021-09-30 삼성에스디아이 주식회사 광학 부재 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR102568635B1 (ko) * 2020-03-26 2023-08-21 삼성에스디아이 주식회사 광학 부재 및 이를 포함하는 광학표시장치

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59124947A (ja) * 1983-01-05 1984-07-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd メタクリル樹脂組成物
JPS59124948A (ja) * 1983-01-05 1984-07-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd メタクリル樹脂組成物
JPS60184542A (ja) * 1984-03-05 1985-09-20 Asahi Chem Ind Co Ltd 赤外線フイルタ−用メタクリル樹脂組成物
JPS60192903A (ja) * 1984-03-14 1985-10-01 Canon Inc カラ−フイルタ−
CA1293879C (en) * 1986-06-20 1992-01-07 Laurel Jean Pace Color filter arrays
DE68922470T2 (de) * 1988-11-26 1995-09-07 Toppan Printing Co Ltd Farbfilter für eine Vielfarben-Flüssigkristallanzeigetafel.
US5278243A (en) * 1992-01-14 1994-01-11 Soane Technologies, Inc. High impact resistant macromolecular networks
US5059500A (en) * 1990-10-10 1991-10-22 Polaroid Corporation Process for forming a color filter
US5140396A (en) * 1990-10-10 1992-08-18 Polaroid Corporation Filter and solid state imager incorporating this filter
JP2654735B2 (ja) * 1992-12-04 1997-09-17 日東電工株式会社 ラベル基材、インク及びラベル
DE4445498A1 (de) * 1994-12-20 1996-06-27 Roehm Gmbh Universell verträgliche Pigmentdispergatoren
JPH09171353A (ja) * 1995-12-20 1997-06-30 Fujitsu General Ltd 光学フィルタ
JPH1112425A (ja) * 1997-06-23 1999-01-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd プラズマディスプレイ用光学フィルタ
AU8541098A (en) * 1997-06-30 1999-01-25 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Pigment dispersions containing c.i. pigment red 222
TW454219B (en) * 1998-04-02 2001-09-11 Toshiba Corp Dispersion composition for black matrix, display, and process for producing display
WO2000014603A1 (en) * 1998-09-04 2000-03-16 Polaroid Corporation Process for preparing a color filter or overlay
JP3341741B2 (ja) 1998-12-03 2002-11-05 東洋紡績株式会社 近赤外線吸収フィルタ−
JP4325958B2 (ja) 1998-12-16 2009-09-02 株式会社日本触媒 紫外線及び熱線遮蔽性積層体
NL1013854C2 (nl) * 1999-03-03 2001-05-30 Sumitomo Chemical Co Kleurfilter, werkwijze voor het vervaardigen van een kleurfilter en fotogevoelig kleurenmengsel.
JP2001133624A (ja) 1999-11-05 2001-05-18 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 近赤外線遮蔽フィルム
KR20010051016A (ko) * 1999-11-11 2001-06-25 김순택 투명도전막 형성용 조성물 및 이로부터 형성된투명도전막을 구비하고 있는 표시소자
NL1016815C2 (nl) * 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
JP2001228323A (ja) * 2000-02-14 2001-08-24 Bridgestone Corp 光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネル
TW505942B (en) * 2000-06-29 2002-10-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and apparatus for forming pattern onto panel substrate
JP4651791B2 (ja) * 2000-08-29 2011-03-16 Nec液晶テクノロジー株式会社 反射型液晶表示装置、その製造方法、及びその駆動方法
JP2003167119A (ja) 2000-12-19 2003-06-13 Mitsubishi Chemicals Corp ディスプレイ用フィルター
JP3517210B2 (ja) * 2000-12-28 2004-04-12 日清紡績株式会社 近赤外線吸収材料
JP4073167B2 (ja) 2001-02-26 2008-04-09 株式会社日本触媒 近赤外線吸収性塗膜及び近赤外線吸収性樹脂組成物
JP4254069B2 (ja) * 2001-03-14 2009-04-15 パナソニック電工株式会社 近赤外線カット材料の製造方法
US6991849B2 (en) * 2001-06-21 2006-01-31 Teijin Limited Near infrared ray shielding film
JP2003004939A (ja) * 2001-06-25 2003-01-08 Asahi Glass Co Ltd 光学フィルム
JP4055379B2 (ja) 2001-07-25 2008-03-05 三菱化学株式会社 ディスプレイ用フィルター
TWI300234B (ja) * 2001-08-07 2008-08-21 Jsr Corp
JP2004115718A (ja) 2002-09-27 2004-04-15 Nippon Shokubai Co Ltd 近赤外線吸収性樹脂組成物

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007136017A1 (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Fujifilm Corporation 近赤外線吸収フィルター及びその製造方法
WO2008078806A1 (ja) * 2006-12-27 2008-07-03 Fujifilm Corporation 近赤外線吸収フィルタ及び近赤外線吸収フィルタの製造方法
US20130158201A1 (en) * 2010-06-21 2013-06-20 Lg Chem, Ltd. Acrylic copolymer and optical film including the same
JP2013533323A (ja) * 2010-06-21 2013-08-22 エルジー・ケム・リミテッド アクリル系共重合体及びこれを含む光学フィルム
JP2012185468A (ja) * 2010-12-17 2012-09-27 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子
JP2013228759A (ja) * 2010-12-17 2013-11-07 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子
KR20210016324A (ko) 2018-06-04 2021-02-15 가부시키가이샤 아데카 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법

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