KR20210016324A

KR20210016324A - 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법

Info

Publication number: KR20210016324A
Application number: KR1020207026416A
Authority: KR
Inventors: 요스케 마에다
Original assignee: 가부시키가이샤 아데카
Priority date: 2018-06-04
Filing date: 2019-06-03
Publication date: 2021-02-15
Also published as: TW202004344A; JP7374567B2; CN111936546A; WO2019235435A1; JPWO2019235435A1

Abstract

본 발명은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 조성물을 제공하는 것을 주목적으로 한다.
본 발명은 색소와 양이온 중합성 성분과 산 발생제를 포함하는 조성물을 제공함으로써, 상기 과제를 해결한다. 상기 색소가 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소인 것이 바람직하다. 상기 양이온 중합성 성분이 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.

Description

조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법

본 발명은 색소와 양이온 중합성 성분과 산 발생제를 포함하는 조성물에 관한 것이다.

특정 광에 대하여 강도가 큰 흡수를 가지는 화합물은, CD-R, DVD-R, DVD+R, BD-R 등의 광학 기록 매체의 기록층이나, 액정 표시 장치(LCD), 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시 장치(CRT), 형광 표시관, 전계 방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치의 광학 요소로 사용되고 있다.

특허문헌 1에는 플라스마 디스플레이에서의 리모콘 오동작 방지 및 플라스마 디스플레이에서 발생하는 네온 오렌지광 흡수를 목적으로 하는 광학 필터용 조성물로서, 특정 아크릴계 수지 및 380~780㎚에 극대 흡수를 가지는 색소를 함유하는 수지 조성물이 개시되어 있다.

특허문헌 2에는 단파 반도체 레이저의 발신 파장에 대하여 고감도인 화상 기록 재료로서, 350~850㎚에 흡수 극대를 가지는 증감 색소를 함유하는 라디칼 중합성의 감광성 조성물이 개시되어 있다.

특허문헌 3에는 고체 촬상 소자 등의 광학 필터의 형성에 사용되는 조성물로서, 700~1100㎚에 흡수 극대를 가지는 레이크 색소를 함유하는 경화성 조성물이 개시되어 있다.

일본 공개특허공보 특개2004-323819호 일본 공개특허공보 특개2006-259558호 일본 공개특허공보 특개2007-271745호

화상 표시 장치의 색 재현성을 향상시키는 방법으로서, 각 색의 발광광의 색 순도를 향상시키는 방법이 알려져 있다.

예를 들면, 청색광 및 녹색광의 겹침 영역의 파장의 광을 흡수하는 광학 필터를 사용함으로써, 화상 표시 장치는 청색광 및 녹색광의 색 순도 향상을 도모할 수 있다.

그러나 예를 들면, 화상 표시 장치의 청색광 및 녹색광의 색 순도 향상을 목표로 하여, 특허문헌 1~3에 기재된 조성물을 사용하여 광학 필터를 형성한 경우, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻을 수 없는 경우가 있다.

또한, 그와 같은 낮은 광 흡수성에 의해, 청색광 및 녹색광의 색 순도가 저하되고, 화상 표시 장치의 색 재현성이 저하되는 문제 등이 생기는 경우가 있다.

본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 형성 가능한 조성물을 제공하는 것에 있다.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 한 결과, 특정 색소와, 양이온 중합성 성분으로 에폭시 수지 등을 사용함으로써, 상술한 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명에 이르렀다.

즉, 본 개시는 색소와 양이온 중합성 성분과 산 발생제를 포함하는 조성물을 제공한다.

본 발명에 따르면, 상기 조성물이 색소, 양이온 중합성 성분 및 산 발생제를 포함함으로써 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다.

본 개시에서는 상기 색소가 피로메텐계 색소 또는 시아닌계 색소인 것이 바람직하다. 상기 색소가 피로메텐계 색소 또는 시아닌계 색소임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

본 개시에서는 상기 피로메텐계 색소가 하기 일반식(101)로 나타내는 화합물을 포함하고, 상기 시아닌계 색소가 하기 일반식(102)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 일반식(101)로 나타내는 화합물 또는 일반식(102)로 나타내는 화합물을 색소로 사용함으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

(식 중 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 설포기, 설포기의 염, 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기, 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기, 탄소 원자수 3~30의 지방족 복소환기 또는 탄소 원자수 3~30의 방향족 복소환기를 나타내거나,

R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶은, 각각 독립적으로 상기 지방족 탄화수소기, 상기 방향환 함유 탄화수소기, 상기 지방족 복소환기 또는 상기 방향족 복소환기 중의 1개 또는 2개 이상의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 또는 상기 지방족 탄화수소기, 상기 방향환 함유 탄화수소기, 상기 지방족 복소환기 또는 상기 방향족 복소환기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이, 탄소-탄소 이중결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR''-, >P=O, -S-S-, -SO₂- 또는 산소 원자가 서로 이웃하지 않는 조건으로 이들의 조합한 기로 치환되어 있는 기를 나타내고,

R''는, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,

상기 지방족 탄화수소기, 상기 방향환 함유 탄화수소기, 상기 지방족 복소환기 및 상기 방향족 복소환기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 치환기가, 에틸렌성 불포화기, 할로겐 원자, 아실기, 아실옥시기, 치환 아미노기, 설폰아미드기, 설포닐기, 카르복실기, 시아노기, 설포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 설폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 설포기, 포스폰산기, 또는 인산기의 염이며,

X¹⁰¹은 3가의 기를 나타내고,

M은, 붕소 원자, 베릴륨 원자, 마그네슘 원자, 크롬 원자, 철 원자, 니켈 원자, 구리 원자, 아연 원자 또는 백금 원자를 나타내며,

M과 N을 잇는 점선은, N의 부대전자가 M에 배위하여 형성된 배위결합을 나타내거나, 또는 N과 M 사이에 결합이 존재하지 않는 것을 나타내고,

Y¹⁰¹은 M과 결합하는 기를 나타내며,

n은 1~3의 정수를 나타낸다.)

(식 중 A는 하기의 군I의 (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), (j), (k), (l) 및 (m)에서 선택되는 기를 나타내고,

A'는 하기의 군II의 (a'), (b'), (c'), (d'), (e'), (f'), (g'), (h'), (i'), (j'), (k'), (l') 및 (m')에서 선택되는 기를 나타내며,

Q는 메틴 사슬을 포함하는 탄소 원자수 1~9의 연결기를 나타내고, 상기 연결기는 메틴 사슬 중에 환 구조를 포함하고 있어도 되고,

An^q-는 q가의 음이온을 나타내고, q는 1 또는 2를 나타내며, p는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)

(식 중 환C는, 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,

X는, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, -CR⁵¹R⁵²-, 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기, -NH- 또는 -NY²-를 나타내며,

R¹, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R⁵¹ 및 R⁵²는, 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 설포기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸ 및 R⁹는 각각 동일하거나 또는 다르며,

Y 및 Y²는, 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,

r은, (a), (b), (c), (d), (e), (g), (h), (i), (j), (l) 및 (m)에서 치환 가능한 수를 나타내고,

*는 결합수(結合手)를 나타낸다.)

(식 중 환C'는, 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,

X'는, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, -CR⁵¹R⁵²-, 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기, -NH- 또는 -NY²-를 나타내며,

R¹', R²', R³', R⁴', R⁵', R⁶', R⁷', R⁸', R⁹', R⁵¹ 및 R⁵²는, 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 설포기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R²', R³', R⁴', R⁵', R⁶', R⁷', R⁸' 및 R⁹'는 각각 동일하거나 또는 다르며,

Y' 및 Y²는, 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,

r'는, (a'), (b'), (c'), (d'), (e'), (g'), (h'), (i'), (j'), (l') 및 (m')에서 치환 가능한 수를 나타내며,

*는 결합수를 나타낸다.)

본 개시에서는 상기 색소가 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소인 것이 바람직하다. 상기 색소가 상술한 색소임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

본 개시에서는, 상기 색소가 테트라아자포르피린계 색소를 포함하고, 상기 테트라아자포르피린계 색소가 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

(식 중 R³⁰¹, R³⁰², R³⁰³, R³⁰⁴, R³⁰⁵, R³⁰⁶, R³⁰⁷ 및 R³⁰⁸은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 또는 이들 기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환된 기를 나타내고,

상기 알킬기, 상기 알콕시기, 상기 아릴기, 상기 아릴옥시기 및 상기 헤테로아릴기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 치환기가, 에틸렌성 불포화기, 할로겐 원자, 아실기, 아실옥시기, 치환 아미노기, 설폰아미드기, 설포닐기, 카르복실기, 시아노기, 설포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 설폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 설포기, 포스폰산기, 인산기의 염이며,

R³⁰¹과 R³⁰², R³⁰³과 R³⁰⁴, R³⁰⁵와 R³⁰⁶ 및 R³⁰⁷과 R³⁰⁸은, 서로 연결되어 피롤환의 탄소 원자를 포함하는 지환 구조를 형성하고 있어도 되고,

R³⁰¹, R³⁰², R³⁰³, R³⁰⁴, R³⁰⁵, R³⁰⁶, R³⁰⁷ 및 R³⁰⁸은 동시에 수소 원자로는 되지 않고,

M은, 2개의 수소 원자, 2개의 1가의 금속 원자, 2가의 금속 원자, 또는 3가 혹은 4가의 금속 화합물을 나타낸다.)

본 개시에서는 상기 색소가, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하 포함되어 있고, 상기 양이온 중합성 성분이, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상 포함되어 있으며, 상기 산 발생제가, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하 포함되어 있는 것이 바람직하다.

상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 용이하기 때문이다.

본 개시에서는 상기 산 발생제가 하기 일반식(2)로 나타내는 광산 발생제인 것이 바람직하다. 상기 광산 발생제를 사용함으로써 상기 조성물은 감도가 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

(식 중 R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³ 및 R³⁴는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고,

R³⁵는, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 하기 식(A)~(C)로부터 선택되는 어느 하나의 치환기를 나타내며,

An1^q1-는 q1가의 음이온을 나타내고,

q1은 1 또는 2의 정수를 나타내며,

p1은 전하를 중성으로 하는 계수를 나타낸다.)

(식 중 R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴², R¹⁴³ 및 R¹⁴⁴, R¹⁴⁵, R¹⁴⁶, R¹⁴⁷, R¹⁴⁸ 및 R¹⁴⁹ 는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고,

*는 식(2) 중의 S와의 결합 위치를 나타낸다.)

본 개시에서는, 상기 양이온 중합성 성분이, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 양이온 중합성 성분이 상술한 화합물을 포함함으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

본 개시에서는, 상기 에폭시 화합물이, 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물 중 적어도 한쪽을 포함하는 것이 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어나고, 또한 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

본 개시에서는 상기 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물의 합계의 함유량이 상기 에폭시 화합물 100질량부 중에 50질량부 이상인 것이 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어나고, 또한 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 원하는 파장범위에 의해 급준(急峻)한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

본 개시에서는 상기 조성물이 광학 필터용인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

본 개시는 상기 조성물의 경화물을 제공한다.

본 개시에 따르면, 상기 조성물의 경화물을, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터 등으로 사용할 수 있다.

본 개시는 상기 조성물의 경화물을 포함하는 광 흡수층을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 필터를 제공한다.

본 개시에 따르면, 광학 필터가 상기 광 흡수층을 가짐으로써, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 것이 된다.

본 개시는 상기 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 경화물의 제조 방법을 제공한다.

본 개시에 따르면, 상기 경화물의 제조 방법은, 상기 조성물을 경화시키는 것이기 때문에, 예를 들면, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터 등으로서 사용 가능한 경화물을 얻을 수 있다.

본 개시는 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 제조 가능한 조성물을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.

본 개시는 조성물, 그 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법에 관한 것이다.

이하, 본 개시에 대해 상세하게 설명한다.

A. 조성물

우선, 본 개시의 조성물에 대해 설명한다.

본 개시의 조성물은 색소와 양이온 중합성 성분과 산 발생제를 포함하는 것에 특징의 하나를 가지는 것이다.

본 개시에 따르면, 상기 조성물이 색소, 양이온 중합성 성분 및 산 발생제를 포함함으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다.

상기 성분을 포함하는 조성물을 사용함으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 이유에 대해서는 이하와 같이 추측된다.

즉, 본 개시의 조성물에서, 색소와 상기 양이온 중합성 성분 및 산 발생제를 병용함으로써, 상기 색소가 변성, 분해 등이 적은 것이 된다.

보다 구체적으로는, 에폭시 화합물 등의 양이온 중합성 성분은 예를 들면, 메타크릴레이트, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여 경화 반응이 약해서, 색소에 변성 등이 생기는 것을 억제할 수 있다. 그 결과, 조성물을 경화시켰을 때에 색소, 즉, 원하는 파장영역의 광을 흡수 가능한 색소의 함유량의 저하가 적다.

또한, 본 개시의 조성물에서, 상기 양이온 중합성 성분 및 산 발생제를 사용함으로써, 색소를 안정적으로 분산시킨 상황을 유지하는 것이 가능해진다.

보다 구체적으로는, 에폭시 화합물 등의 양이온 중합성 성분은 예를 들면, 메타크릴레이트, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여, 경화 시의 경화 수축이 적고, 경화 시에 색소가 응집되는 등의 문제가 적다. 그 결과, 상기 조성물의 경화물은 색소가 안정적으로 분산되어 유지되는 것이 된다.

그 결과, 상기 경화물 중의 색소는 원하는 파장범위의 광을 효율적으로 흡수할 수 있게 된다.

이상의 점에서, 상기 조성물이 소정의 색소, 양이온 중합성 성분 및 산 발생제를 포함함으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것이다.

또한, 상기 조성물은 경화물의 광 흡수성의 예측이 용이한 것이 된다.

본 개시에서, 색소로서 예를 들면, 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용함으로써, 450㎚ 부근에 스펙트럼 피크를 가지는 청색광 및 550㎚ 부근에 스펙트럼 피크를 가지는 녹색광의 겹침 영역의 파장의 광을 안정적으로 흡수할 수 있다.

이로써, 상기 조성물을 사용함으로써, 청색광 및 녹색광의 겹침 영역의 파장의 광만 선택적으로 흡수 가능한 광학 필터를 얻을 수 있다.

이와 같이 상기 조성물에 따르면, 그 용도에 따라 소정의 파장범위에 흡수 극대를 가지는 색소를 선택함으로써, 그 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 가능해진다.

또한, 본 개시의 조성물에 따르면, 하기의 효과가 발휘된다.

에폭시 화합물 등의 양이온 중합성 성분은 상술한 바와 같이, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여 중합 시의 경화 수축이 적다.

이 때문에, 상기 조성물은 기재 등의 부재에 도포된 후, 경화물이 된 경우에도 컬의 발생, 또한 박리의 발생이 적은 것이 된다.

또한, 상기 양이온 중합성 성분은 예를 들면, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여 내수성이 높고, 예를 들면 고습 환경 하에서의 밀착력의 저하도 적다.

이와 같은 점에서, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어난 것이 된다.

이상의 점에서, 소정의 색소, 양이온 중합성 성분 및 산 발생제를 동시에 포함하는 것으로 함으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 제조할 수 있는 조성물이 됨과 함께, 컬의 발생, 박리의 발생이 적고, 밀착성도 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다.

또한, 상기 조성물은, 양이온 중합에 의해 경화 가능함으로써, 얻어진 경화물은 3차원 가교한 것으로 할 수 있다. 그 결과, 상기 경화물은 예를 들면, 열가소성 수지 등에 색소를 분산시킨 조성물 등과 비교하여 색소의 유지 성능 등의 내구성, 강도 등이 뛰어난 것이 된다.

더욱이, 상기 조성물은 에폭시 화합물 등의 양이온 중합성 성분을 포함하는 것이기 때문에, 얻어지는 경화물은 예를 들면, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여 유연성이 뛰어난 것이 된다. 따라서, 상기 조성물을 사용하여 제조된 광학 필터는 예를 들면, 플렉시블성이 요구되는 화상 표시 장치 등에 특히 바람직하게 사용할 수 있다.

본 개시의 조성물은 색소, 양이온 중합성 성분 및 산 발생제를 포함하는 것이다.

이하, 본 개시의 조성물의 각 성분에 대해 상세하게 설명한다.

1. 색소

상기 색소로는 원하는 파장범위의 광을 흡수 가능한 것이라면 문제는 없고, 상기 조성물의 종류, 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.

상기 색소의 최대 흡수 파장은 예를 들면, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는다는 관점, 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점 등으로부터, 2색의 발광 스펙트럼이 겹치는 파장의 범위의 광을 흡수 가능한 것을 사용할 수 있다.

상기 색소의 최대 흡수 파장은 예를 들면, 녹색광 및 적색광의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하인 것으로 할 수 있다.

상기 색소는 예를 들면, 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 가시광 사이의 겹침에 한정되지 않고, 380㎚보다 단파장의 자외광 사이, 780㎚보다 장파장의 적외선 사이 등의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서, 이들 광의 파장범위에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 사용할 수도 있다.

상기 색소의 최대 흡수 파장은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 등의 관점에서, 450㎚ 이상 550㎚ 미만인 것, 즉, 본 개시의 조성물은 색소와 양이온 중합성 성분과 산 발생제를 포함하고, 상기 색소가 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소인 것이 바람직하다.

450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소는 예를 들면, 600㎚ 부근에 최대 흡수 파장을 가지는 색소와 비교하여 안정성이 낮고, 라디칼 중합성 화합물과 함께 사용하여 경화시켰을 때에 변성·분해 등을 발생시키기 쉽다. 이 때문에, 상술한 색소를 사용함으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있다.

또한, 상기 색소로서, 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용함으로써, 상기 조성물은 청색광 및 녹색광의 겹침을 저감하고, 색 순도를 향상시키는 광학 필터에 사용하는 것이 용이해지기 때문이다.

본 개시에서, 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가진다는 것은 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장범위에서의 최대 흡수 파장이 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 포함되는 것을 말하는 것으로 할 수 있다.

본 개시에서는 상기 색소의 최대 흡수 파장은 470㎚ 이상 530㎚ 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 480㎚ 이상 510㎚ 이하인 것이 바람직하다. 청색광 및 녹광의 색 순도가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하고, 또한 색 강도의 저하가 적은 것이 되기 때문이다.

또한, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 얻을 수 있기 때문이다.

또한, 상기 색소의 반값폭(이하, 색소 단체(單體) 반값폭이라고 칭하는 경우가 있음.)은, 색 재현성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것이라면 문제는 없는데, 100㎚ 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 10㎚ 이상 80㎚ 이하인 것이 바람직하며, 특히, 20㎚ 이상 50㎚ 이하인 것이 바람직하다.

색소 단체 반값폭이 상술한 범위임으로써, 청색광 및 녹색광의 색 순도가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하며, 또한 색 강도의 저하가 적은 것이 되기 때문이다.

상기 최대 흡수 파장 및 반값폭의 측정 방법은 최대 흡수 파장을 정밀도 높게 측정할 수 있는 방법이라면 문제는 없고, 예를 들면, 하기의 방법을 이용할 수 있다.

(1) 용제에 색소를 용해하고, 색소 용액을 조제한다.

(2) 색소 용액을 석영셀(광로 길이 10mm, 두께 1.25mm)에 충전하고, 분광 광도계(예를 들면, 니혼분코 제품 가시자외 흡광도계 V-670 등)를 이용하여 투과율을 측정한다.

한편, 색소 용액의 농도는 최대 흡수 파장을 정확하게 확인할 수 있는 농도이면 문제는 없고, 예를 들면, 최대 흡수 파장이 되는 파장에서의 투과율이 5% 정도(예를 들면, 3% 이상 7% 이하)가 되도록 조정할 수 있다.

상기 용제로는 색소를 용해 가능하고, 최대 흡수 파장의 시프트가 적은 등, 각 색소의 투과 스펙트럼을 정밀도 높게 측정할 수 있는 것이라면 문제는 없고, 예를 들면, 클로로포름을 사용할 수 있다. 또한, 클로로포름에 용해되지 않는 색소에 대해서는 다른 용제를 사용할 수 있다.

색소 용액의 투과 스펙트럼은 미리 용제 단체에서의 투과 스펙트럼을 측정하고, 색소 용액의 투과 스펙트럼으로부터 용제의 투과 스펙트럼을 빼서 보정한 것을 이용한다.

또한, 반값폭은 최대 흡수 파장을 나타내는 피크 탑(peak top)의 양측에 위치하는 2점간의 거리((100-λmax에서의 투과율)/2로 나타내는 반값이 관찰되는 파장간의 거리)를 말한다.

구체적으로는, 최대 흡수 파장이 되는 파장 λmax에서의 투과율이 4%인 경우에는 투과율이 48%가 되는 파장간 거리를 반값폭으로 한다.

상기 색소가 2종류 이상의 색소를 포함하는 경우에는 각각의 색소를 사용하여 색소 용액을 조제한다.

상기 색소로는 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것이면 되고, 예를 들면, 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 피로메텐계 색소, 아조계 색소, 테트라아자포르피린계 색소, 크산텐계 색소, 트리아릴메탄계 색소 등을 들 수 있다.

본 개시에서는 그 중에서도 상기 색소가 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽을 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽인 것, 즉, 본 개시의 조성물은 색소와 양이온 중합성 성분과 산 발생제를 포함하고, 상기 색소가 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽인 것임이 바람직하다.

또한, 본 개시에서는 그 중에서도 상기 색소가 피로메텐계 색소를 포함하는 것이 바람직하다.

상술한 색소, 보다 구체적으로는, 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소, 그 중에서도 피로메텐계 색소는 라디칼 중합성 화합물과 함께 사용하여 경화시켰을 때에 변성·분해 등을 발생시키기 쉽다. 이 때문에, 상술한 색소를 사용함으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있다.

본 개시에서는 급준한 광학 특성을 얻는 것, 및 내광성의 향상의 관점에서는 상기 색소가 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽과 테트라아자포르피린계 색소를 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 피로메텐계 색소와 테트라아자포르피린계 색소를 포함하는 것이 바람직하다.

본 개시에서는 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 관점, 청색광 및 녹색광의 겹침을 저감하고, 색 순도를 향상시키는 광학 필터에 사용하는 것이 용이해진다는 관점에서, 상기 색소가 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소이며, 상기 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소가, 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽인 것, 즉, 상기 색소가 상기 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽인 것이 바람직하다.

또한, 본 개시에서는 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 관점, 청색광 및 녹색광의 겹침을 저감하고, 더욱이, 녹색광 및 적색광의 겹침을 저감하며, 색 순도를 향상시키는 광학 필터에 사용하는 것이 용이해진다는 관점에서, 상기 색소가 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소와, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소 양자를 포함하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소로서 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽과, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소로서 테트라아자포르피린계 색소를 포함하는 것이 바람직하다. 이들 색소의 조합은 응집 등을 발생시키는 것이 적고, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 흡수와 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 흡수를 양립시키기 용이하기 때문이다.

상기 피로메텐계 색소는 피로메텐 골격을 가지며, 원하는 파장범위의 광을 흡수할 수 있는 것이면 되는데, 그 중에서도 하기 일반식(101)로 나타내는 색소인 것이 바람직하다.

상기 피로메텐계 색소는 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

R''는, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,

X¹⁰¹은 3가의 기를 나타내고,

M과 N을 잇는 점선은 N의 부대전자가 M에 배위하여 형성된 배위결합을 나타내거나, 또는 N과 M 사이에 결합이 존재하지 않는 것을 나타내고,

Y¹⁰¹은 M과 결합하는 기를 나타내며,

n은 1~3의 정수를 나타낸다.)

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기로는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 2~30의 알케닐기, 탄소 원자수 2~30의 알키닐기, 탄소 원자수 3~30의 시클로알킬기 등을 들 수 있다.

상기 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, iso-프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, iso-부틸기, 아밀기, iso-아밀기, tert-아밀기, 시클로펜틸기, 헥실기, 2-헥실기, 3-헥실기, 시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 헵틸기, 2-헵틸기, 3-헵틸기, iso-헵틸기, tert-헵틸기, 1-옥틸기, iso-옥틸기, tert-옥틸기 및 아다만틸기 등을 들 수 있다.

상기 탄소 원자수 2~30의 알케닐기로는 비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 이소프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-옥테닐기, 1-데세닐기, 1-옥타데세닐기 등을 들 수 있다.

상기 탄소 원자수 2~30의 알키닐기로는 에티닐기, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기, 1-부티닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기, 1-옥티닐기, 1-데시닐기, 1-옥타데시닐기 등을 들 수 있다.

상기 탄소 원자수 3~30의 시클로알킬기로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로옥타데실기, 2-보닐기, 2-이소보닐기, 1-아다만틸기 등을 들 수 있다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶으로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기로는 방향환을 포함하는 것이면 되고, 단환 방향환으로부터 수소 원자를 하나 제거한 기 또는 그 기에 포함되는 방향환 중의 수소 원자가 지방족 탄화수소기로 치환된 기인 단환 방향족 탄화수소기, 단환 방향환이 축합된 축합 방향족환으로부터 수소 원자를 하나 제거한 기 또는 그 기에 포함되는 방향환 중의 수소 원자가 지방족 탄화수소기로 치환된 기인 축합환 방향족 탄화수소기, 단환 방향환 및 축합 방향족환이, 단결합 또는 카르보닐기 등의 연결기를 통해 결합한 집합 방향환으로부터 수소 원자를 하나 제거한 기 또는 그 기에 포함되는 방향환 중의 수소 원자가 지방족 탄화수소기로 치환된 기인 환집합 방향족 탄화수소기 등의 아릴기를 들 수 있다.

상기 방향환 중의 수소 원자를 치환하는 지방족 탄화수소기는 R¹⁰¹ 등에 사용되는 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기로서 든 기를 사용할 수 있다.

한편, 본 명세서에서 "탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기"에서의 "6~30"은 "방향환"이 아닌 "방향환 함유 탄화수소기"의 탄소 원자수를 규정한다.

상기 방향환 함유 탄화수소기로는, 보다 구체적으로는 탄소 원자수 6~30의 단환 방향족 탄화수소기, 탄소 원자수 10~30의 축합환 방향족 탄화수소기, 탄소 원자수 12~30의 환집합 방향족 탄화수소기 등의 아릴기를 들 수 있다.

또한, 방향환 함유 탄화수소기로는, 상기 지방족 탄화수소기의 수소 원자를 아릴기로 치환한 아릴알킬기를 사용할 수 있다.

상기 탄소 원자수 6~30의 단환 방향족 탄화수소기로는 페닐기, o-톨릴기, m-톨릴기, p-톨릴기, 2,4-크실릴기, p-쿠메닐기, 메시틸기 등을 들 수 있다.

상기 탄소 원자수 10~30의 축합환 방향족 탄화수소기로는 1-나프틸기, 2-나프틸기, 1-안트릴기, 2-안트릴기, 5-안트릴기, 1-페난트릴기, 9-페난트릴기, 1-아세나프틸기, 2-아줄레닐기, 1-피레닐기, 2-트리페닐렌기, 1-피레닐기, 2-피레닐기, 1-페릴레닐기, 2-페릴레닐기, 3-페릴레닐기, 2-트레페닐레닐기, 2-인데닐기, 1-아세나프티레닐기, 2-나프타세닐기, 2-펜타세닐기 등을 들 수 있다.

상기 탄소 원자수 12~30의 환집합 방향족 탄화수소기로는, o-비페닐릴기, m-비페닐릴기, p-비페닐릴기, 테르페닐릴기, 7-(2-나프틸)-2-나프틸기 등을 들 수 있다.

상기 아릴알킬기로는 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 스티릴, 신나밀, 페로세닐메틸, 페로세닐프로필 등을 들 수 있다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶으로 나타내는 탄소 원자수 3~30의 지방족 복소환기로는 3-이소크로마닐기, 7-크로마닐기, 3-쿠마리닐 등을 들 수 있다.

한편, 본 명세서에서 "탄소 원자수 3~30의 지방족 복소환기"에서의 "3~30"은 "지방족 복소환"이 아닌 "지방족 복소환기"의 탄소 원자수를 규정한다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶에 사용되는 탄소 원자수 3~30의 방향족 복소환기로는, 2-푸릴기, 3-푸릴기, 2-티에닐기, 3-티에닐기, 2-벤조푸릴기, 2-벤조티에닐기, 2-피리딜기, 3-피리딜기, 4-피리딜기, 2-퀴놀릴기, 3-퀴놀릴기, 4-퀴놀릴기, 5-퀴놀릴기, 6-퀴놀릴기, 7-퀴놀릴기, 8-퀴놀릴기, 1-이소퀴놀릴기, 3-이소퀴놀릴기, 4-이소퀴놀릴기, 5-이소퀴놀릴기, 6-이소퀴놀릴기, 7-이소퀴놀릴기, 8-이소퀴놀릴기, 2-피리미디닐기, 2-피라지닐기, 2-퀴나졸리닐기, 2-퀴녹살리닐기, 2-옥사졸릴기, 2-티아졸릴기 등을 들 수 있다.

한편, 본 명세서에서, "탄소 원자수 3~30의 방향족 복소환기"에서의 "3~30"은 "방향족 복소환"이 아닌 "방향족 복소환기"의 탄소 원자수를 규정한다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶으로 나타내는 할로겐 원자로는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶에 사용되는 설포기의 염으로는, -SO₃ ^-Na⁺ 등의 알칼리 금속염, -SO₃ ^-NH₄ ⁺ 등의 암모늄염 등을 들 수 있다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶으로 나타내는 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기, 지방족 복소환기, 및 방향족 복소환기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상은 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.

상기 치환기로는 비닐기, 알릴기, 아크릴기 및 메타크릴기 등의 에틸렌성 불포화기; 불소, 염소, 브롬 및 요오드 등의 할로겐 원자; 아세틸기, 2-클로로아세틸기, 프로피오닐기, 옥타노일기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 페닐카르보닐(벤조일)기, 프탈로일기, 4-트리플루오로메틸벤조일기, 피발로일기, 살리실로일기, 옥살로일기, 스테아로일기, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, t-부톡시카르보닐기, n-옥타데실옥시카르보닐기 및 카르바모일기 등의 아실기; 아세틸옥시기 및 벤조일옥시기 등의 아실옥시기; 아미노기, 에틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 부틸아미노기, 시클로펜틸아미노기, 2-에틸헥실아미노기, 도데실아미노기, 아닐리노기, 클로로페닐아미노기, 톨루이디노기, 아니시디노기, N-메틸-아닐리노기, 디페닐아미노기, 나프틸아미노기, 2-피리딜아미노기, 메톡시카르보닐아미노기, 페녹시카르보닐아미노기, 아세틸아미노기, 벤조일아미노기, 포르밀아미노기, 피발로일아미노기, 라우로일아미노기, 카르바모일아미노기, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노기, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노기, 모르폴리노카르보닐아미노기, 메톡시카르보닐아미노기, 에톡시카르보닐아미노기, t-부톡시카르보닐아미노기, n-옥타데실옥시카르보닐아미노기, N-메틸-메톡시카르보닐아미노기, 페녹시카르보닐아미노기, 설파모일아미노기, N,N-디메틸아미노설포닐아미노기, 메틸설포닐아미노기, 부틸설포닐아미노기 및 페닐설포닐아미노기 등의 치환 아미노기; 설폰아미드기, 설포닐기, 카르복실기, 시아노기, 설포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 설폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 설포기, 포스폰산기, 인산기의 염 등을 들 수 있다.

즉, 본 개시에서 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶은, 각각 독립적으로 상기 지방족 탄화수소기, 상기 방향환 함유 탄화수소기, 상기 지방족 복소환기 또는 상기 방향족 복소환기 중의 1개 또는 2개 이상의 수소 원자가, 에틸렌성 불포화기, 할로겐 원자, 아실기, 아실옥시기, 치환 아미노기, 설폰아미드기, 설포닐기, 카르복실기, 시아노기, 설포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 설폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 설포기, 포스폰산기 또는 인산기의 염 등으로 치환된 기를 나타낼 수 있다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶으로 나타내는 방향환 함유 탄화수소기에 포함되는 아릴기 및 아릴알킬기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상 그리고 지방족 복소환기 및 방향족 복소환기에 포함되는 복소환기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상은 상기 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 된다.

한편, 본 명세서에서, 기의 탄소 원자수는 기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 경우, 그 치환 후의 기의 탄소 원자수를 규정한다. 따라서, 상기 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기의 수소 원자가 치환되어 있는 경우의 탄소 원자수란, 수소 원자가 치환된 후의 탄소 원자수를 가리키고, 수소 원자가 치환되기 전의 탄소 원자수를 가리키는 것이 아니다. 이하, 그 밖의 기 중의 수소 원자가 치환되어 있는 경우도 동일하다.

또한, 본 명세서에서, 소정의 탄소 원자수의 기 중의 메틸렌기가 2가의 기로 치환된 기에 따른 탄소 원자수의 규정은 그 치환 후의 기의 탄소 원자수를 규정한다. 따라서, 상기 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기 중의 메틸렌기가 치환되어 있는 경우의 탄소 원자란, 메틸렌기가 치환된 후의 탄소 원자수를 가리키고, 메틸렌기가 치환되기 전의 탄소 원자수를 가리키는 것이 아니다. 이하, 그 밖의 기 중의 메틸렌기가 치환되어 있는 경우도 동일하다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶에 사용되는 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기, 지방족 복소환기 및 방향족 복소환기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상은 탄소-탄소 이중결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR''-, >P=O, -S-S-, -SO₂- 또는 산소 원자가 서로 이웃하지 않는 조건으로 이들의 조합한 기로 치환되어 있는 경우가 있다.

즉, 본 개시에서 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶은, 각각 독립적으로 상기 지방족 탄화수소기, 상기 방향환 함유 탄화수소기, 상기 지방족 복소환기 또는 상기 방향족 복소환기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이, 탄소-탄소 이중결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR''-, >P=O, -S-S-, -SO₂- 또는 산소 원자가 서로 이웃하지 않는 조건으로 이들의 조합한 기로 치환되어 있는 기로 할 수 있다.

R''는, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내는 것으로 할 수 있다.

R''로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로서 예시한 것 중 탄소 원자수가 1~8인 것을 들 수 있다.

상기 탄소-탄소 이중결합으로는, 보다 구체적으로는 -CH=CH-, -C(CH₃)=CH-, -C(CH₃)=C(CH₃)- 등을 들 수 있다.

상기 일반식(101)에서의 R¹⁰²와 R¹⁰³ 및/또는 R¹⁰⁴와 R¹⁰⁵는, 각각 서로 결합하여 피롤환에 축합하는 방향환을 형성해도 된다. 이 방향환은 치환기를 가지고 있어도 되고, 또한, 이들에 의해 형성되는 축합 방향환은 동일한 것이어도 되고 다른 것이어도 된다.

상기 일반식(101)로 나타내는 피로메텐계 색소의 구체예로는, 일본 공개특허공보 특개2013-109105호에 기재된 식(2)-1~(2)-11 등을 들 수 있다.

본 개시에서, 상기 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶은, 수소 원자, 할로겐 원자, 설포기의 염, 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기, 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 수소 원자, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하다.

상기 R¹⁰² 및 R¹⁰⁵는 그 중에서도 특히 수소 원자인 것이 바람직하다. 또한, 상기 R¹⁰¹, R¹⁰³, R¹⁰⁴ 및 R¹⁰⁶은, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다.

상기 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶이 상술한 관능기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 M은, 붕소 원자, 베릴륨 원자, 마그네슘 원자, 크롬 원자, 철 원자, 니켈 원자, 구리 원자, 아연 원자 또는 백금 원자를 나타낸다.

본 개시에서는 그 중에서도 상기 M이 붕소 원자인 것이 바람직하다. 상기 M이 붕소 원자임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어나고, 또한 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 일반식(101)에서의 X¹⁰¹이 나타내는 3가의 기로는 -CR¹⁷=, 또는 질소 원자를 들 수 있다.

여기서, R¹⁷은 상기 R¹⁰¹~R¹⁰⁶과 동일한 치환기를 사용할 수 있다.

상기 R¹⁷은, 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기인 경우, R¹⁷ 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이, -O-, -S-로 치환되어 있는 것 또는 무치환인 것을 바람직하게 사용할 수 있고, 그 중에서도 -S-로 치환되어 있는 것 또는 무치환인 것을 바람직하게 사용할 수 있다.

상기 X¹⁰¹은 이들 중에서도 -CR¹⁷=인 것이 바람직하다. 상기 X¹⁰¹이 상술한 기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어나고, 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 R¹⁷로는, 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 1~4의 알킬기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 R¹⁷이 상술한 원자임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 일반식(101)에서의 Y¹⁰¹이 나타내는 M과 결합하는 기로는 M과 결합 가능하면 되고, 예를 들면, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기, 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기, 탄소 원자수 3~20의 지방족 복소환기, 및 탄소 원자수 3~30의 방향족 복소환기를 들 수 있다.

여기서, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기, 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기, 탄소 원자수 3~20의 지방족 복소환기, 및 탄소 원자수 3~30의 방향족 복소환기에 대해서는 상기 R¹⁰¹~R¹⁰⁶과 동일한 치환기를 들 수 있다.

또한, 상기 Y¹⁰¹은, n이 2개 이상인 경우, 복수 포함되는 Y¹⁰¹은 동일한 것이어도 되고 다른 것이어도 되며, 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.

본 개시에서는 그 중에서도 상기 Y¹⁰¹이 할로겐 원자인 것이 바람직하고, 특히 불소 원자인 것이 바람직하다. 상기 Y¹⁰¹이 상술한 원자임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 일반식(101)에서의 M과 N을 잇는 점선은 배위결합을 나타내는 것이 바람직하다.

상기 일반식(101)에서의 n은 Y¹⁰¹의 결합수를 나타내는 것이며, M의 종류에 따라 설정되는 것이다. 예를 들면, M이 붕소인 경우에는 n은 2로 할 수 있다.

본 개시에서는 상기 일반식(101)로 나타내는 화합물이 하기 일반식(101a)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

(식 중 R^101a, R^102a, R^103a, R^104a, R^105a 및 R^106a는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내고,

X^101a는 -CR^17a=로 나타내는 기를 나타내며,

R^17a는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내고,

B와 N을 잇는 점선은 N의 부대전자가 M에 배위하여 형성된 배위결합을 나타낸다.)

상기 일반식(101a)에서의 R^101a, R^102a, R^103a, R^104a, R^105a 및 R^106a 그리고 R^17a에 사용되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는, 상기 일반식(101)에서의 R¹⁰¹에 사용되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수의 것을 사용할 수 있다.

본 개시에서는 그 중에서도 R^101a, R^103a, R^104a 및 R^106a가 수소 원자, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다.

본 개시에서는 그 중에서도 R^102a 및 R^105a가, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히 수소 원자인 것이 바람직하다.

본 개시에서는 그 중에서도 R^17a가 탄소 원자수 1~4의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히, -S-로 치환되어 있거나 또는 무치환의 탄소 원자수 1~4의 알킬기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 무치환의 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다.

R^101a, R^102a, R^103a, R^104a, R^105a 및 R^106a 그리고 R^17a가 상술한 기임으로써 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이해진다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이해진다.

상기 일반식(101)로 나타내는 피로메텐계 색소의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, Heteroatom Chemistry, Vol.1, 5, 389(1990) 등에 기재된 방법 등을 이용할 수 있다.

상기 피로메텐계 색소의 함유량으로는 색소 100질량부 중에 20질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 30질량부 이상인 것이 바람직하며, 30질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 35질량부 이상 60질량부 이하인 것이 바람직하며, 35질량부 이상 55질량부 이하인 것이 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이해지기 때문이다.

한편, 고형분이란, 용제 이외의 모든 성분을 포함하는 것이다.

또한, 본 명세서에서 특별히 언급이 없는 경우에는 함유량은 질량 기준이다.

상기 용제는 유기 용제(이하, 용매라고 칭하는 경우가 있음.) 및 물을 들 수 있고, 상기 양이온 중합 개시제에 의해 중합되지 않는 것이다.

따라서, 상온(25℃) 대기압 하에서 액상이어도, 후술할 "2. 양이온 중합성 성분"의 항에 기재되어 있는 양이온 중합성 성분은 상기 용제에는 포함되지 않는다.

또한, 상기 용제는 상기 조성물의 각 성분을 분산 또는 용해하기 위해 사용되는 것이기 때문에, 후술할 "3. 산 발생제"에 기재된 산 발생제 등도 상온 대기압 하에서 액상이어도, 상기 용제에는 포함되지 않는다.

상기 피로메텐계 색소의 함유량으로는, 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 0.01질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이해지기 때문이다.

상기 피로메텐계 색소의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 보다 뛰어난 것으로 하는 관점에서는 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.1질량부 이상 2질량부 이하인 것이 바람직하다.

상기 피로메텐계 색소의 함유량으로는, 조성물 100질량부 중에 0.002질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 0.002질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.02질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이해지기 때문이다.

상기 피로메텐계 색소의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 보다 뛰어난 것으로 하는 관점에서는 조성물 100질량부 중에 0.002질량부 이상 1.8질량부 이하인 것이 바람직하다.

상기 시아닌계 색소는 폴리메틴 골격의 양 말단에 질소를 포함하는 복소환을 가지는 시아닌 구조를 가지며, 원하는 파장범위의 광을 흡수할 수 있는 것이면 되는데, 그 중에서도 하기 일반식(102)로 나타내는 색소인 것이 바람직하다.

상기 시아닌계 색소는, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

(식 중 환C는 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,

r은, (a), (b), (c), (d), (e), (g), (h), (i), (j), (l) 및 (m)에서 치환 가능한 수를 나타내며,

*는 결합수를 나타낸다.)

(식 중 환C'는 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,

*는 결합수를 나타낸다.)

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹ 및 R⁵²에 사용되는 할로겐 원자로는, 상기 일반식(101)에 사용되는 R¹⁰¹ 등과 동일한 것을 들 수 있다.

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹ 및 R⁵²로 나타내는 아미노기로는, 아미노, 에틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 2-에틸헥실아미노, 도데실아미노, 아닐리노, 클로로페닐아미노, 톨루이디노, 아니시디노, N-메틸-아닐리노, 디페닐아미노, 나프틸아미노, 2-피리딜아미노, 메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 포르밀아미노, 피발로일아미노, 라우로일아미노, 카르바모일아미노, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노, 모르폴리노카르보닐아미노, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, t-부톡시카르보닐아미노, n-옥타데실옥시카르보닐아미노, N-메틸-메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 설파모일아미노, N,N-디메틸아미노설포닐아미노, 메틸설포닐아미노, 부틸설포닐아미노, 페닐설포닐아미노 등을 들 수 있다.

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹ 및 R⁵²로 나타내는 아미드기로는, 포름아미드, 아세트아미드, 에틸아미드, 이소프로필아미드, 부틸아미드, 옥틸아미드, 노닐아미드, 데실아미드, 운데실아미드, 도데실아미드, 헥사데실아미드, 옥타데실아미드, (2-에틸헥실)아미드, 벤즈아미드, 트리플루오로아세트아미드, 펜타플루오로벤즈아미드, 디포름아미드, 디아세트아미드, 디에틸아미드, 디이소프로필아미드, 디부틸아미드, 디옥틸아미드, 디노닐아미드, 디데실아미드, 디운데실아미드, 디도데실아미드, 디(2-에틸헥실)아미드, 디벤즈아미드, 디트리플루오로아세트아미드, 디펜타플루오로벤즈아미드 등을 들 수 있다.

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹ 및 R⁵²로 나타내는 메탈로세닐기로는, 페로세닐, 니켈로세닐, 코발토닐, 페로센알킬, 페로센알콕시 등을 들 수 있다.

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹, R⁵², Y, Y' 및 Y²에 사용되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는, 페닐, 나프틸, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-iso-프로필페닐, 4-iso-프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-iso-부틸페닐, 4-tert-부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 4-스테아릴페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디-tert-부틸페닐, 2,5-디-tert-부틸페닐, 2,6-디-tert-부틸페닐, 2,4-디-tert-펜틸페닐, 2,5-디-tert-아밀페닐, 2,5-디-tert-옥틸페닐, 2,4-디쿠밀페닐, 4-시클로헥실페닐, (1,1'-비페닐)-4-일, 2,4,5-트리메틸페닐, 페로세닐 등을 들 수 있다.

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹, R⁵², Y, Y' 및 Y²로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기로는 상기 일반식(101)에 사용되는 R¹⁰¹ 등과 동일한 것을 들 수 있다.

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹, R⁵², Y, Y' 및 Y²에 사용되는 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 등의 관능기는, 상기 관능기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 설포기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 또는 메탈로세닐기로 치환되어도 된다.

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹, R⁵², Y, Y' 및 Y²로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기, 알킬기의 수소 원자를 치환해도 되는 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기 및 메탈로세닐기로는, R¹ 의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.

상기 일반식(102)에서의 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹, R⁵², Y, Y' 및 Y²로 나타내는 아릴알킬기 및 알킬기 등의 관능기는, 상기 관능기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO₂-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-의 2가의 기로 치환되어 있어도 된다.

한편, 상기 관능기 중의 메틸렌기는, 2가의 기로 치환되는 경우, 상기 관능기 중에서 산소 원자가 서로 이웃하지 않는 조건으로 상기 2가의 기로 치환되는 것이다.

상기 일반식(102)에서, X 및 X'로 나타내는 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기로는, 시클로프로판-1,1-디일, 시클로부탄-1,1-디일, 2,4-디메틸시클로부탄-1,1-디일, 3,3-디메틸시클로부탄-1,1-디일, 시클로펜탄-1,1-디일, 시클로헥산-1,1-디일 등을 들 수 있다.

상기 A는, 상기 군I의 (a)~(m)에서 선택되는 기를 나타내는데, (h), (i), (j) 또는 (l)인 것이 바람직하고, 그 중에서도 (l)인 것이 특히 바람직하다. 상기 A가 상술한 기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 A'는, 상기 군I의 (a')~(m')로 선택되는 기를 나타내는데, (h'), (i'), (j') 또는 (l')인 것이 바람직하고, 그 중에서도 (l')인 것이 특히 바람직하다. 상기 A'가 상술한 기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹ 및 R⁵²는, 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 설포기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 혹은 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내거나, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 R¹~R⁹, R¹'~R⁹', R⁵¹ 및 R⁵²가 상술한 기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 X 및 X'는, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, -CR⁵¹R⁵²-, 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기, -NH- 또는 -NY²-를 나타내거나, 산소 원자, 황 원자 또는 -CR⁵¹R⁵²-인 것이 바람직하고, -CR⁵¹R⁵²-인 것이 바람직하다. 상기 X 및 X'가 상술한 관능기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 Y, Y' 및 Y²는, 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내거나, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 Y, Y' 및 Y²가 상술한 기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 r, r'는, (a)~(e), (g)~(j), (l), (m), (a')~(e'), (g')~(j'), (l') 및 (m')에서 치환 가능한 수를 나타내는 것이다.

보다 구체적으로는, 상기 치환 가능한 수는 R¹ 또는 R¹'가 결합하는 환을 구성하는 탄소 원자에 결합하는 수소 원자의 수를 나타내는 것이다. 한편, 상기 환을 구성하는 탄소 원자에는, (h), (i), (l)에 포함되는 X가 -CR⁵¹R⁵²-인 경우에 X로 사용되는 -CR⁵¹R⁵²- 중의 탄소 원자를 포함하지 않는 것으로 한다.

예를 들면, 상기 A가 (b), (c), (h), (l)인 경우에는, r은 4가 되고, 상기 A가 (d), (i)인 경우에는, r은 2가 되며, 상기 A가 (j)인 경우에는, r은 3이 된다. 또한, 상기 A가 (a)이며, 환C가 벤젠환인 경우에는 r은 4가 되고, 환C가 나프탈렌환인 경우에는, r은 6이 된다.

상기 일반식(102)에서의 Q로 나타내는 연결기에 포함되는 메틴 사슬은, 상기 메틴 사슬 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기, -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 또는 알킬기로 치환되어 있어도 된다.

상기 일반식(102)에서의 Q로 나타내는 연결기에 포함되는 메틴 사슬은, 상기 메틴 사슬 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO₂-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-의 2가의 기로 치환되어 있어도 된다.

한편, 상기 메틴 사슬 중의 메틸렌기는, 2가의 기로 치환되는 경우, 상기 메틴 사슬 중에서 산소 원자가 서로 이웃하지 않는 조건으로 상기 2가의 기로 치환되는 것이다.

상기 메틴 사슬 중의 수소 원자를 치환하는 R 및 R'는, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 혹은 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타낸다.

R 및 R'로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 혹은 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기는, R¹⁰¹ 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.

상기 일반식(102)에서의 Q로 나타내는, 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬을 포함하고, 또한 사슬 중에 환 구조를 포함해도 되는 연결기로는 하기 (Q-1)~(Q-11) 중 어느 하나로 나타내는 기가 제조가 용이하기 때문에 바람직하다.

탄소 원자수 1~9의 연결기에서의 탄소 원자수란, 메틴 사슬 및 메틴 사슬 중에 포함되는 환 구조의 탄소 원자수를 가리키고, 상기 연결기를 치환하는 기(예를 들면 하기 R¹⁴~R¹⁹ 및 Z')의 탄소 원자를 포함하지 않는다. 또한, 하기의 (Q-1)~(Q-11)로 나타내는 기의 양 말단의 탄소 원자(예를 들면, (Q-6)로 나타내는 연결기의 양 말단의 탄소 원자)를 포함하지 않는다.

본 개시에서는, (Q-1)~(Q-11)로 나타내는 기 중에서도 (Q-4), (Q-5), (Q-7), (Q-8)인 것이 바람직하고, (Q-4), (Q-7)인 것이 바람직하다. 상기 Q가 상술한 연결기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

(식 중 R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹ 및 Z'는, 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기, -NRR', 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,

R 및 R'는, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 혹은 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내며,

*는 결합수를 나타낸다.)

상기 R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹ 및 Z'에 사용되는 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 혹은 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기는, R¹⁰¹ 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.

상기 R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹ 및 Z'로 나타내는 -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상은, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 -NRR'로 치환되어 있어도 된다.

상기 R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹ 및 Z'로 나타내는 -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상은, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO₂-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-의 2가의 기로 치환되어 있어도 된다.

본 개시에서는, R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷, R¹⁸ 및 R¹⁹가, 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히 탄수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하다.

본 개시에서는 그 중에서도 R¹⁴ 및 R¹⁵의 조합에서는 R¹⁴가 수소 원자이며, R¹⁵가 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하다.

본 개시에서는 Z'가 할로겐 원자인 것이 바람직하고, 그 중에서도 염소 원자인 것이 바람직하다. 상기 R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷, R¹⁸ 및 R¹⁹ 그리고 Z'가 상술한 바람직한 기임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

본 개시에서는 상기 일반식(102) 중의 A-Q-A'로 나타내는 양이온이 하기 일반식(102-1a) 또는 (102-2a)로 나타내는 양이온인 것이 바람직하다. 상기 양이온이 상술한 양이온임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

(식 중의 R^1a, R^2a, R^3a, R^4a, R^5a, R^6a, R^7a 및 R^8a, R^1a', R^2a', R^3a', R^4a', R^5a', R^6a', R^7a' 및 R^8a' 그리고 R^14a 및 R^15a는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내고,

Za 및 Za'는, 각각 독립적으로 할로겐 원자를 나타낸다.)

상기 일반식(102-1a) 및 (102-2a)에서의 R^1a~R^8a 및 R^1a'~R^8a' 그리고 R^14a 및 R^15a에 사용되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는, 상기 일반식(101)에 사용되는 R¹⁰¹ 등에 사용되는 것과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 일반식(102-1a) 및 (102-2a)에서의 Za 및 Za'에 사용되는 할로겐 원자로는, 상기 일반식(101)에 사용되는 R¹⁰¹ 등에 사용되는 것과 마찬가지로 할 수 있다.

본 개시에서는, 그 중에서도 상기 R^1a~R^8a 및 R^1a'~R^8a'가, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히, 수소 원자인 것이 바람직하다.

본 개시에서는 그 중에서도 상기 R^14a 및 R^15a가, 수소 원자, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히 R¹⁴가 수소 원자이며, R¹⁵가 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하다.

본 개시에서는 Za 및 Za'가 염소 원자인 것이 바람직하다.

R^1a~R^8a, R^1a'~R^8a', R^14a 및 R^15a 그리고 Za 및 Za'가 상술한 기임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서 사용되는 시아닌 화합물의 시아닌 양이온의 구체예로는 일본 특허공보 특허 제6305331호에 기재된 화합물 No.1~102를 들 수 있다.

상기 일반식(102) 중의 pAn^q-로 나타내는 q가의 음이온으로는, 메탄설폰산 음이온, 도데실설폰산 음이온, 벤젠설폰산 음이온, 톨루엔설폰산 음이온, 트리플루오로메탄설폰산 음이온, 나프탈렌설폰산 음이온, 디페닐아민-4-설폰산 음이온, 2-아미노-4-메틸-5-클로로벤젠설폰산 음이온, 2-아미노-5-니트로벤젠설폰산 음이온, 일본 공개특허공보 특개평10-235999호, 일본 공개특허공보 특개평10-337959호, 일본 공개특허공보 특개평11-102088호, 일본 공개특허공보 특개2000-108510호, 일본 공개특허공보 특개2000-168223호, 일본 공개특허공보 특개2001-209969호, 일본 공개특허공보 특개2001-322354호, 일본 공개특허공보 특개2006-248180호, 일본 공개특허공보 특개2006-297907호, 일본 공개특허공보 특개평8-253705호, 일본 공표특허공보 특표2004-503379호, 일본 공개특허공보 특개2005-336150호, 국제공개공보 WO2006/28006 등에 기재된 설폰산 음이온 등의 유기 설폰산 음이온 외에, 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온, 불화물 이온, 염소산 이온, 티오시안산 이온, 과염소산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라플루오로붕산 이온, 옥틸인산 이온, 도데실인산 이온, 옥타데실인산 이온, 페닐인산 이온, 노닐페닐인산 이온, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)포스폰산 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온, 트리스(할로게노알킬설포닐)메티드 음이온, 디(할로게노알킬설포닐)이미드 음이온, 테트라시아노보레이트 음이온, 여기(勵起) 상태에 있는 활성분자를 탈여기시키는(??칭시키는) 기능을 가지는 ??처 음이온이나 시클로펜타디에닐환에 카르복실기나 포스폰산기, 설폰산기 등의 음이온성 기를 가지는 페로센, 루테오센 등의 메탈로센 화합물 음이온 등을 들 수 있다.

본 개시에서는 그 중에서도 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라플루오로붕산 이온, 트리스(할로게노알킬설포닐)메티드 음이온(예를 들면, (CF₃SO₂)₃C^-), 디(할로게노알킬설포닐)이미드 음이온(예를 들면 (CF₃SO₂)₂N^-) 등을 바람직하게 사용할 수 있다.

상기 시아닌 색소는 그 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 주지 일반의 반응을 이용한 방법으로 얻을 수 있고, 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2010-209191호에 기재되어 있는 루트와 같이, 해당하는 구조를 가지는 화합물과, 이민 유도체의 반응에 의해 합성하는 방법을 들 수 있다.

색소 100질량부 중의 상기 시아닌계 색소의 함유량, 조성물 100질량부 중의 상기 시아닌계 색소의 함유량, 양이온 중합성 성분 100질량부에 대한 상기 시아닌계 색소의 함유량으로는, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있는 관점에서는 상기 피로메텐계 색소의 함유량과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 테트라아자포르피린계 색소는 포르피린 구조를 가지며, 또한 원하는 파장범위의 광을 흡수할 수 있는 것이면 된다.

이와 같은 테트라아자포르피린계 색소로는 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2018-081218호 등에 기재된 금속함유 포르피린 화합물, 국제공개공보 WO2017/010076에 기재된 아자포르피린계 염료 등을 사용할 수 있다.

본 발명에서는 그 중에서도 상기 테트라아자포르피린계 색소가 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.

상기 테트라아자포르피린계 색소가 상기 일반식(1)로 나타내는 화합물임으로써 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

(식 중 R³⁰¹, R³⁰², R³⁰³, R³⁰⁴, R³⁰⁵, R³⁰⁶, R³⁰⁷ 및 R³⁰⁸은, 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 또는 이들 기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환된 기를 나타내고,

R³⁰¹, R³⁰², R³⁰³, R³⁰⁴, R³⁰⁵, R³⁰⁶, R³⁰⁷ 및 R³⁰⁸은 동시에 수소 원자로는 되지 않으며,

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸은 동일해도 되고 달라도 된다.

예를 들면, R³⁰¹과 R³⁰², R³⁰³과 R³⁰⁴, R³⁰⁵와 R³⁰⁶ 및 R³⁰⁷과 R³⁰⁸은, 각각 동일한 기여도 되고, 각각 다른 종류의 기여도 된다.

상기 R¹~R⁸로 나타내는 할로겐 원자로는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 아미노기는 제1급 아미노기, 제2급 아미노기 및 제3급 아미노기 중 어느 것이어도 된다.

제2급 아미노기 및 제3급 아미노기로는, 각각 아미노기의 수소 원자의 1개 또는 2개가 탄소 원자수 1~30의 알킬기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다. 상기 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 예를 들면, 상기 R¹⁰¹ 등에 사용되는 알킬기와 동일한 기를 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 제2급 아미노기로는 예를 들면, N-메틸아미노기, N-에틸아미노기 및 N-n-부틸아미노기 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 제3급 아미노기로는, N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기 및 N,N-디-n-부틸아미노기 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기는, 탄소 원자수 1~12의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 2~6의 알킬기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 2~5의 알킬기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

또한, 상기 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는, 치환 또는 무치환의 탄소 원자수 1~30의 알킬기를 사용할 수 있다. 환언하면, 상기 R¹~R⁸은, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기여도 된다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 예를 들면, 상기 R¹⁰¹ 등에 사용되는 알킬기와 동일한 기를 들 수 있다.

상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는, 알킬기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.

상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 예를 들면, 상기 R¹⁰¹에 사용되는 지방족 탄화수소기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 치환기와 동일한 기를 들 수 있다.

또한, 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중의 수소 원자를 치환하는 치환기는, 상술한 알킬기, 후술할 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 헤테로아릴기 등이어도 된다. 즉, 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는, 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 예를 들면, 아르알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알콕시알킬기, 아릴옥시알킬기, 아르알킬옥시알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기 등도 들 수 있다.

상기의 아르알킬기로는 벤질기, α-메틸벤질기, α-에틸벤질기, α,α-디메틸벤질기, α-페닐벤질기, α,α-디페닐벤질기, 페네틸기, α-메틸페네틸기 등을 들 수 있다.

상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알킬기로는, 플루오로메틸기, 3-플루오로프로필기, 6-플루오로헥실기 등을 들 수 있다.

상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알킬기로는, 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, n-부톡시메틸기 등을 들 수 있다.

상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알콕시알킬기로는, (2-메톡시에톡시)메틸기, (2-에톡시에톡시)메틸기 등을 들 수 있다.

상기 아릴옥시알킬기로는, 페닐옥시메틸기, 4-메틸페닐옥시메틸기, 3-메틸페닐옥시메틸기 등을 들 수 있다.

상기 아르알킬옥시알킬기로는, 벤질옥시메틸기, 페네틸옥시메틸기 등을 들 수 있다.

상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기로는, 플루오로메틸옥시메틸기 등의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기는, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

또한, 상기 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~30의 알콕시기를 사용할 수 있다. 환언하면, 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸은, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기여도 된다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는, 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 알콕시기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.

상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는, 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 알킬기 중의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.

치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 보다 구체적으로는 아르알킬옥시기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시기 등을 들 수 있다.

상기 아르알킬옥시기로는, 벤질옥시기, α-메틸벤질옥시기, α-에틸벤질옥시기 등을 들 수 있다.

상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시기로는, 플루오로메틸옥시기, 3-플루오로프로필옥시기 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는, 탄소 원자수 6~20의 아릴기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 6~16의 아릴기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히, 탄소 원자수 6~12의 아릴기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히, 탄소 원자수 6~10의 아릴기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

또한, R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는, 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 사용할 수 있다. 환언하면, 상기 R¹~R⁸은, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기여도 된다.

상기 치환기를 가지는 탄소원자수 6~30의 아릴기로는, 아릴기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.

상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.

R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는, 상기 일반식(101) 중의 R¹⁰¹ 등에 사용되는 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기로 사용할 수 있는 아릴기를 들 수 있다.

상기 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 및 상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 예를 들면, 페닐기, 2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 3-에틸페닐기, 2-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는, 탄소 원자수 6~20의 아릴옥시기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 6~16의 아릴옥시기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

또한, 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는, 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~30의 아릴옥시기를 사용할 수 있다. 환언하면, 상기 R¹~R⁸은 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기여도 된다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 아릴옥시기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다. 상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 및 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는, 예를 들면, 페녹시기, 2-메틸페닐옥시기 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는, 2-메톡시페닐옥시기, 4-이소프로폭시페닐옥시기 등도 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 2-플루오로페닐옥시기, 3-클로로페닐옥시기 등도 들 수 있다.

더욱이, 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는, 3-클로로-4-메틸페닐옥시기, 2-페닐페닐옥시기 등도 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는, 예를 들면, 헤테로 원자로서, 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 적어도 하나 이상 포함하는 방향족 헤테로환을 들 수 있다.

또한, 상기 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는, 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기를 사용할 수 있다. 환언하면, 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸은, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기여도 된다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는, 헤테로아릴기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다. 상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는, 상기 R¹~R⁸로 나타내는 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹~R³⁰⁸로 나타내는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 헤테로아릴기, 및 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는 예를 들면, 푸라닐기, 피롤릴기, 3-피롤리노기, 피라졸릴기, 이미다졸릴기 등을 들 수 있다.

상기 R³⁰¹과 R³⁰², R³⁰³과 R³⁰⁴, R³⁰⁵와 R³⁰⁶ 또는 R³⁰⁷과 R³⁰⁸이 서로 연결되어 형성하는 지환 구조로는, R¹ 등이 결합되어 있는 피롤환의 탄소 원자를 포함하여 형성된, 탄소 원자수 3~20의 지환식 탄화수소기를 들 수 있고, 예를 들면, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 디메틸시클로헥산, t-부틸시클로헥산, 시아노시클로헥산, 디클로로시클로헥산 등의 지환 구조를 들 수 있다.

본 발명에서는, 상기 R³⁰¹~R³⁰⁸은, 수소 원자, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 또는 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기인 것이 바람직하다.

R³⁰¹과 R³⁰², R³⁰³과 R³⁰⁴, R³⁰⁵와 R³⁰⁶ 및 R³⁰⁷과 R³⁰⁸의 조합으로는, 원하는 파장의 광을 흡수할 수 있는 것이라면 어떤 조합이어도 되는데, 구체적으로는, (i) 수소 원자와 알킬기의 조합, (ii) 알킬기와 알콕시기의 조합, (iii) 알킬기와 아릴기의 조합 등인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

또한, R³⁰¹, R³⁰³, R³⁰⁵ 및 R³⁰⁷은 동일한 기여도 되고, 다른 기여도 되는데, 동일한 기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

더욱이, R³⁰², R³⁰⁴, R³⁰⁶ 및 R³⁰⁸은 동일한 기여도 되고, 다른 기여도 되는데, 동일한 기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 (i)의 조합으로는, 수소 원자와, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기의 조합이 바람직하고, 수소 원자와, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~10의 알킬기의 조합이 보다 바람직하며, 특히, 수소 원자와, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기의 조합이 바람직하다.

본 발명에서는, R³⁰¹, R³⁰³, R³⁰⁵ 및 R³⁰⁷이 수소 원자이며, 또한 R³⁰², R³⁰⁴, R³⁰⁶ 및 R³⁰⁸이, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 것이 가장 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 (iii)의 조합으로는, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기와, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기의 조합이 바람직하고, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~10의 알킬기와, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~12의 아릴기의 조합이 보다 바람직하며, 특히, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기와, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6의 아릴기의 조합이 보다 바람직하다.

아릴기의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 치환기로는, 할로겐 원자인 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소 원자인 것이 바람직하다. 또한, 아릴기의 수소 원자의 하나가 치환기로 치환되어 있는 것이 바람직하다.

본 발명에서는 R³⁰¹, R³⁰³, R³⁰⁵ 및 R³⁰⁷이, 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 할로겐 원자로 치환된 페닐기이며, 또한 R², R⁴, R⁶ 및 R⁸이, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 것이 특히 바람직하고, R³⁰¹, R³⁰³, R³⁰⁵ 및 R³⁰⁷이, 2-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기 등의 불소 원자로 수소 원자의 하나가 치환된 페닐기이며, 또한, R³⁰², R³⁰⁴, R³⁰⁶ 및 R³⁰⁸이, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 것이 가장 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 R³⁰¹, R³⁰³, R³⁰⁵ 및 R³⁰⁷이 상술한 관능기임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 피로메텐계 색소 또는 시아닌계 색소와 조합한 경우에는, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어남과 함께, 550㎚ 이상 610㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성도 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 M으로 나타내는 2가의 금속 원자로는 예를 들면, 주기율표 제3족~제15족에 속하는 금속 원자를 들 수 있다. 구체적으로는, Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Pb, Rh, Pd, Pt, Mn, Sn, Pb 등을 들 수 있다.

M으로 나타내는 1가의 금속 원자로는 예를 들면, Na, K, Li 등을 들 수 있다.

또한, M으로 나타내는 3가 혹은 4가의 금속 화합물로는 예를 들면, 주기율표 제3족~제15족에 속하는 3가 또는 4가의 금속의, 할로겐화물, 수산화물 및 산화물 등을 들 수 있다. 상기 금속 화합물로는 구체적으로는, AlCl, AlOH, InCl, FeCl, MnOH, SiCl₂, SnCl₂, GeCl₂, Si(OH)₂, Si(OCH₃)₂, Si(OPh)₂, Si(OSiCH₃)₂, Sn(OH)₂, Ge(OH)₂, VO, TiO 등을 들 수 있다.

상기 M은, Cu, Zn, Co, Ni, Pb, Pd, Pt, Mn, VO, TiO인 것이 바람직하고, 특히, Cu, Co, Ni, Pd, VO인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 M이 상술한 금속 원자 또는 금속 화합물임으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 피로메텐계 색소 또는 시아닌계 색소와 조합한 경우에는, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어남과 함께, 550㎚ 이상 610㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성도 뛰어난 광학 필터를 얻는 것이 용이하기 때문이다.

상기 일반식(1)로 나타내는, 테트라아자포르피린계 색소 화합물로는, 보다 구체적으로는 일본 공개특허공보 특개2017-68221호에 기재된 일반식(1)의 구체예와 동일한 것을 들 수 있다.

상기 테트라아자포르피린계 색소 화합물의 제조 방법으로는 공지의 방법을 이용할 수 있고, 예를 들면, J. Gen. Chem. USSR vol.47, 1954-1958(1977), 일본 공개특허공보 특개2012-121821호 등에 기재되어 있는 방법에 준한 제조 방법을 들 수 있다.

상기 테트라아자포르피린계 색소 화합물의 시판품으로는 예를 들면, PD-311S, PD-320, NC-35, SNC-8(이상, 야마모토 카세이 가부시키가이샤), FDG-004, FDG-007(이상, 야마다 가가쿠 고교 가부시키가이샤) 등을 들 수 있다.

본 발명에서 사용하는 테트라아자포르피린계 색소는 1종류의 화합물만으로 이루어지는 것이어도 되지만, 구조 또는 M으로 나타내는 금속 원자 혹은 금속 화합물(이하, 중심 금속 등이라고 칭하는 경우가 있음.)의 종류가 다른 2종류 이상의 화합물을 포함하는 것이어도 된다.

본 발명에서는, 습열 내구성 등의 내구성 향상의 관점에서는 상기 테트라아자포르피린계 색소로서, 상기 일반식(1)로 나타내는 화합물을 2종류 이상 포함하는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 테트라아자포르피린계 색소가 2종류 이상의 화합물을 포함함으로써 보다 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

조합하는 화합물의 종류는 2종류 이상인 것이 바람직한데, 2종류 이상 5종류 이하인 것이 보다 바람직하고, 2종류 이상 3종류 이하인 것이 더 바람직하며, 특히, 2종류인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.

구조가 다른 2종류 이상의 화합물의 조합으로는 예를 들면, R³⁰¹~R³⁰⁸이 서로 다른 화합물의 조합을 들 수 있고, 바람직한 조합으로서, R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기인 화합물과, R³⁰¹~R³⁰⁸이, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기 이외의 기인 화합물의 조합을 들 수 있다.

또한, R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기인 화합물과, R³⁰¹~R³⁰⁸이, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기 이외의 기이며, 또한 R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 화합물의 조합, 그리고 R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기이며, 또한, R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 화합물과, R³⁰¹~R³⁰⁸이, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기 이외의 기이며, R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가 수소 원자이고, 또한 R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 화합물의 조합을 들 수 있다.

바람직한 조합으로서, R¹~R⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~20의 아릴기이며, 또한, R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 화합물과, R³⁰¹~R³⁰⁸이, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기 이외의 기이며, R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가 수소 원자이고, 또한, R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 화합물의 조합을 들 수 있다.

특히 바람직한 조합으로서, R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 할로겐 원자로 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환된 탄소 원자수 6~12의 아릴기이며, 또한 R³⁰¹~R³⁰⁸ 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기인 화합물과, R³⁰¹~R³⁰⁸이, 수소 원자 및 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기인 화합물의 조합을 들 수 있다.

가장 바람직한 조합은 R³⁰¹, R³⁰³, R³⁰⁵ 및 R³⁰⁷이, 2-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기 등의 불소 원자로 수소 원자의 하나가 치환된 페닐기이며, 또한 R³⁰², R³⁰⁴, R³⁰⁶ 및 R³⁰⁸이, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 화합물과, R³⁰¹, R³⁰³, R³⁰⁵ 및 R³⁰⁷이 수소 원자이며, 또한 R³⁰², R³⁰⁴, R³⁰⁶ 및 R³⁰⁸이, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 화합물과의 조합이다.

이와 같은 화합물의 조합임으로써, 습열 내구성 등의 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

중심 금속 등이 다른 2종류의 화합물의 조합으로는 예를 들면, M으로서 Cu를 포함하는 화합물과 Pd를 포함하는 화합물의 조합과 같이, 2가의 금속 원자인, Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Pb, Rh, Pd, Pt, Mn, Sn, Pb에서 선택되는 2종류의 금속 원자를 각각 포함하는 화합물의 조합, 및, M으로서 VO를 포함하는 화합물과 TiO를 포함하는 화합물의 조합과 같이, 3가 혹은 4가의 금속 화합물인, AlCl, AlOH, InCl, FeCl, MnOH, SiCl₂, SnCl₂, GeCl₂, Si(OH)₂, Si(OCH₃)₂, Si(OPh)₂, Si(OSiCH₃)₂, Sn(OH)₂, Ge(OH)₂, VO, TiO에서 선택되는 2종류의 금속 화합물을 각각 포함하는 화합물의 조합을 들 수 있다.

또한, M으로서 Cu를 포함하는 화합물과 VO를 포함하는 화합물의 조합과 같이, 2가의 금속 원자에서 선택되는 금속 원자를 포함하는 화합물과, 3가 혹은 4가의 금속 화합물에서 선택되는 금속 화합물을 포함하는 화합물의 조합을 들 수 있다.

바람직한 조합으로는, M으로서 2가의 금속 원자에서 선택되는 금속 원자를 포함하는 화합물과, 3가 혹은 4가의 금속 화합물에서 선택되는 금속 화합물을 포함하는 화합물의 조합을 들 수 있다.

보다 바람직한 조합으로는 M으로서, Cu, Zn, Co, Ni, Pb, Pd, Pt, Mn에서 선택되는 금속 원자를 포함하는 화합물과, VO, TiO에서 선택되는 금속 화합물을 포함하는 화합물의 조합을 들 수 있고, M으로서 Cu를 포함하는 화합물과, VO를 포함하는 화합물을 포함하는 화합물의 조합이 특히 바람직하다.

상기 테트라아자포르피린계 색소가 2종류의 화합물을 포함하는 경우, 그들의 함유 비율은 원하는 내구성이 얻어지는 것이면 되고, 예를 들면, 한쪽의 함유량이, 화합물의 합계 100질량부 중에 1질량부 이상 99질량부 이하인 것이 바람직하고, 10질량부 이상 90질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 30질량부 이상 70질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 40질량부 이상 60질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 45질량부 이상 55질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 이들 중심 금속을 포함하는 화합물의 조합임으로써, 습열 내구성 등의 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 테트라아자포르피린계 색소의 함유량으로는, 색소 100질량부 중에 20질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 30질량부 이상 80질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 40질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 45질량부 이상 65질량부 이하인 것이 바람직하다. 피로메텐 혹은 시아닌의 내광성을 향상시키는 효과가 있기 때문이다.

상기 테트라아자포르피린계 색소의 함유량으로는 고형분 100질량부 중에, 0.01질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 0.01질량부 이상 8질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 0.1질량부 이상 5질량부 이하 그 중에서도 특히, 0.1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 특정 파장만을 효율적으로 커트할 필요가 있기 때문이다.

상기 테트라아자포르피린계 색소의 함유량으로는 조성물 100질량부 중에, 0.002질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 0.02질량부 이상 6.4질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 0.02질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 0.02질량부 이상 2.4질량부 이하인 것이 바람직하다.

상기 테트라아자포르피린계 색소가 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽과 병용되는 경우, 상기 피로메텐계 색소, 시아닌계 색소 및 테트라아자포르피린계 색소의 합계 함유량은, 상기 색소 100질량부 중에 30질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 50질량부 이상인 것이 바람직하며, 특히, 80질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히, 90질량부 이상인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히, 95질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 100질량부, 즉, 색소가 피로메텐계 색소, 시아닌계 색소 및 테트라아자포르피린계 색소인 것이 바람직하다.

한편, 상기 피로메텐계 색소, 시아닌계 색소 및 테트라아자포르피린계 색소의 합계 함유량은, 테트라아자포르피린계 색소가 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 피로메텐계 색소랑만 병용되는 경우에는, 상기 피로메텐계 색소, 시아닌계 색소 및 테트라아자포르피린계 색소의 합계 함유량은 상기 피로메텐계 색소 및 테트라아자포르피린계 색소의 합계 함유량을 의미하는 것이다.

상기 색소에 포함되는 색소의 종류로는 1종류여도 되고, 혹은 2종류 이상이어도 되는데, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 제조 가능한 조성물을 제공한다는 관점에서는 1종류인 것이 바람직하다.

한편, 종류가 다르다는 것은 최대 흡수 파장 및 반값폭 중 적어도 한쪽이 다른 것을 말하는 것이다.

한편, 상기 색소의 종류는 급준한 광학 특성을 얻는 것, 및 내광성 향상의 관점에서는 2종류 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소 중 적어도 한쪽과, 테트라아자포르피린계 색소를 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 피로메텐계 색소와, 테트라아자포르피린계 색소를 포함하는 것이 바람직하다.

본 개시의 조성물에서의 상기 색소의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 양이면 문제는 없고, 상기 조성물의 용도 등에 따라 적절히 설정되는 것인데, 조성물의 고형분 100질량부 중에, 0.01질량부 이상 20질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0.01질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 0.1질량부 이상 5질량부 이하가 바람직하다.

상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물을 사용하여 얻어지는 경화물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 것이 된다.

상기 색소의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 보다 뛰어난 경화물을 얻는다는 관점에서는, 조성물의 고형분 100질량부 중에 1.5질량부 이상 4.5질량부 이하인 것이 바람직하고, 2질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하며, 2.5질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하다.

또한, 색소가 2종류 이상의 색소를 포함하는 경우에는 상기 색소의 함유량은 색소의 합계 함유량을 말하는 것이다.

예를 들면, 색소가 피로메텐계 색소 및 시아닌계 색소를 포함하는 경우에는 상기 색소의 함유량은 양 색소의 합계량을 나타낸다. 또한, 색소가 피로메텐계 색소, 시아닌계 색소 및 테트라아자포르피린계 색소를 포함하는 경우에는 상기 색소의 함유량은 전체 색소의 합계량을 나타낸다.

또한, 상기 용제는, 상기 조성물의 각 성분을 분산 또는 용해하기 위해 사용되는 것이기 때문에, 후술할 "3.산 발생제"에 기재된 산 발생제 등도 상온 대기압 하에서 액상이어도, 상기 용제에는 포함되지 않는다.

상기 색소의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 양이면 문제는 없고, 상기 조성물의 용도 등에 따라 적절히 설정되는데, 양이온 중합성 성분 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0.02질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.05질량부 이상 5질량부 이하가 바람직하고, 그 중에서도 특히 1질량부 이상 4.5질량부 이하가 바람직하며, 그 중에서도 특히, 1.5질량부 이상 4.5질량부 이하인 것이 바람직하고, 2.0질량부 이상 4.5질량부 이하인 것이 바람직하며, 2.5질량부 이상 4.5질량부 이하인 것이 바람직하고, 3질량부 이상 4.2질량부 이하인 것이 바람직하다.

2. 양이온 중합성 성분

상기 양이온 중합성 성분은, 산 발생제에 의해 발생한 산에 의해 고분자화 또는 가교 반응을 일으키는 화합물로 이루어지는 것이면 어떠한 화합물이어도 문제는 없고, 특별히 한정되는 것은 아니다.

상기 양이온 중합성 성분으로는 예를 들면, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물, 비닐 화합물 등을 사용할 수 있고, 이들에서 선택되는 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.

상기 양이온 중합성 성분은 1종류의 화합물만이어도 상관없지만, 2종류 이상의 화합물을 포함하는 것이어도 상관없다.

상기 조성물이, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지기 때문이다. 또한, 상기 조성물이, 기재와의 밀착성이 뛰어난 경화물을 용이하게 제조할 수 있게 되기 때문이다.

한편, 2종류 이상의 화합물을 포함하는 예로는 구조, 분자량 등이 다른 화합물을 2종류 이상 포함하는 것을 들 수 있다.

상기 구조가 다른 조합으로는 예를 들면, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물 양자를 포함하는 것과 같이, 상술한 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물, 비닐 화합물 등의 다른 분류로부터 2종류 이상을 조합한 것을 들 수 있다.

상기 구조가 다른 조합으로는 예를 들면, 에폭시 화합물로서 지방족 에폭시 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 것, 에폭시 화합물로서 지방족 에폭시 화합물 및 방향족 에폭시 화합물을 포함하는 것, 방향족 에폭시 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 것 등과 같이, 방향족 에폭시 화합물, 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물에서 선택되는 2종류 이상을 조합한 것을 들 수 있다.

상기 분자량 등이 다른 조합으로는 예를 들면, 에폭시 화합물로서, 분자량이 다른 2종류의 지방족 에폭시 화합물을 조합한 것 등을 들 수 있다.

본 개시에서는 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있게 되는 것 및 기재와의 밀착성이 양호해지는 관점에서, 상기 양이온 중합성 성분이, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.

상기 에폭시 화합물은 에폭시 구조를 포함하는 화합물 모두가 해당하는 것으로 할 수 있다. 예를 들면, 에폭시 구조 및 옥세탄 구조 양자를 포함하는 화합물은 에폭시 화합물에 해당하는 것으로 할 수 있다.

이와 같은 에폭시 화합물로는 예를 들면, 방향족 에폭시 화합물, 지환족 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.

본 개시에서는 그 중에서도 상기 에폭시 화합물이, 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물 중 적어도 한쪽을 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 지환족 에폭시 화합물을 적어도 포함하는 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물 양자를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 에폭시 화합물을 사용함으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어남과 함께, 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 지환족 에폭시 화합물의 구체예로는 지방족환을 포함하는 것이면 되고, 적어도 1개의 지방족환을 가지는 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르 또는 시클로헥센이나 시클로펜텐환 함유 화합물을 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는 시클로헥센옥사이드나 시클로펜텐옥사이드 함유 화합물을 들 수 있다.

상기 지환족 에폭시 화합물 중에서도 지방족환으로서 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 에폭시 수지가 경화가 빨라 바람직하다.

상기 지환족 에폭시 화합물로는, 하기 일반식(5-1)로 나타내는 화합물과 같은, 2개 이상의 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 이와 같은 화합물을 포함함으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어남과 함께, 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

(식 중 X⁵는 직접결합 또는 연결기(1개 이상의 원자를 가지는 2가의 기)를 나타낸다.)

X⁵로 나타내는 연결기로는 예를 들면, 2가의 탄화수소기, 탄소-탄소 이중결합의 일부 또는 전부가 에폭시화된 알케닐렌기, 카르보닐기, 에테르 결합, 에스테르 결합, 카보네이트기, 아미드기, 및 이들이 복수 연결된 기 등을 들 수 있다.

상기 2가의 탄화수소기로는 직쇄 혹은 분기의 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기를 들 수 있다.

상기 직쇄 혹은 분기의 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기로는 직쇄 혹은 분기의 탄소 원자수 1~30의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기를 사용할 수 있다. 상기 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기로는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기를 사용할 수 있다.

상기 직쇄 또는 분기의 알킬렌기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 아밀기, 이소아밀기, t-아밀기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 이소옥틸기, 2-에틸헥실기, t-옥틸기, 노닐기, 이소노닐기, 데실기, 이소데실기, 운데실기, 도데실기, 테트라데실기, 헥사데실기, 옥타데실기 및 이코실기 등의, 탄소 원자수 1~20의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기를 들 수 있다.

상기 2가의 탄화수소기로서의, 탄소 원자수 1~20의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기로는, 메틸렌기, 메틸메틸렌기, 디메틸메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기 등을 들 수 있다.

상기 시클로알킬환을 가지는 알킬기로는 시클로알킬기를 사용할 수 있다. 상기 시클로알킬기로는 시클로헥실환 등의 단환식 탄화수소환, 노보닐환 등의 가교 탄화수소환 등의 시클로알킬환으로부터 수소 원자를 1개 제거한 기 또는 시클로알킬환으로부터 수소 원자를 1개 제거한 기의 환 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 지방족 탄화수소기로 치환한 기인, 단환식 탄화수소기, 가교 탄화수소환기 등을 들 수 있다.

상기 단환식 탄화수소기로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 메틸시클로펜틸기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 트리메틸시클로헥실기, 테트라메틸시클로헥실기, 펜타메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기 및 메틸시클로헵틸기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기를 들 수 있다.

상기 가교 탄화수소환기로는, 비시클로[2.1.1]헥실기, 비시클로[2.2.1]헵틸기, 비시클로[2.2.2]옥틸기, 비시클로[4.3.1]데실기, 비시클로[3.3.1]노닐기, 보닐기, 보네닐기, 노보닐기, 노보네닐기, 6,6-디메틸비시클로[3.1.1]헵틸기, 트리시클로부틸기, 아다만틸기를 들 수 있다.

X⁵로 나타내는 시클로알킬환을 가지는 알킬기로는 상기 시클로알킬기와, 상기 직쇄 또는 분기의 알킬기를 조합한 기도 사용할 수 있다. 예를 들면, 직쇄 또는 분기의 알킬기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이, 상기 시클로알킬기로 치환된 기, 직쇄 또는 분기의 알킬기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이, 상기 시클로알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기로 치환된 기, 상기 시클로알킬기의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 상기 직쇄 또는 분기의 알킬기로 치환된 기 등을 들 수 있다.

구체적으로는, 예를 들면, 1,2-시클로펜틸렌기, 1,3-시클로펜틸렌기, 시클로펜틸리덴기, 1,2-시클로헥실렌기, 1,3-시클로헥실렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 시클로헥실리덴기 등의 시클로알킬렌기(시클로알킬리덴기를 포함함) 등을 들 수 있다.

상기 탄소-탄소 이중결합의 일부 또는 전부가 에폭시화된 알케닐렌기(이하, "에폭시화 알케닐렌기"라고 칭하는 경우가 있음.)에서의 알케닐렌기로는 예를 들면, 비닐렌기, 프로페닐렌기, 1-부테닐렌기, 2-부테닐렌기, 부타디에닐렌기, 펜테닐렌기, 헥세닐렌기, 헵테닐렌기, 옥테닐렌기 등의 탄소 원자수 2~8의 직쇄 또는 분기쇄상의 알케닐렌기 등을 들 수 있다.

본 발명에서는, X⁵가 연결기인 것이 바람직하고, 2가의 탄화수소기, 에스테르 결합, 또는 이들이 복수 연결된 기인 것이 바람직하며, 특히, 2가의 탄화수소기와 에스테르 결합이 연결된 기인 것이 바람직하다. 이와 같은 화합물을 사용함으로써, 본 발명의 효과를 보다 효과적으로 얻을 수 있기 때문이다.

또한, 본 발명에서는, X⁵로 나타내는 2가의 탄화수소기가, 탄소 원자수 1~18의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 하나 제거한 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~8의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 하나 제거한 알킬렌기인 것이 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1~5의 직쇄의 알킬기로부터 수소 원자를 하나 제거한 알킬렌기인 것이 더 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 1~3의 직쇄의 알킬기로부터 수소 원자를 하나 제거한 알킬렌기인 것이 바람직하다. 상기 탄소 원자수가 상술한 범위 내임으로써, 본 발명의 효과를 보다 양호하게 발휘할 수 있기 때문이다.

상기 2개 이상의 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 화합물의 함유량은, 에폭시 화합물 100질량부 중에 40질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 50질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 55질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어남과 함께, 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 지환족 에폭시 화합물로는 하기 일반식(5-2)로 나타내는 화합물도 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 화합물을 사용함으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

(식 중 Y⁵는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 6~30의 알킬렌기를 나타낸다.)

Y⁵로 나타내는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기로는, 상기 X⁵로 나타내는 시클로알킬환을 가지는 알킬렌기와 동일한 기를 사용할 수 있다.

본 발명에서는 Y⁵가, 시클로알킬환을 2개 가지는 탄소 원자수가 13~20인 알킬렌기인 것이 바람직하고, 하기 일반식(5-3)으로 나타내는 기인 것이 보다 바람직하다. Y⁵가 상술한 구조를 가짐으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

(식 중 R^5a 및 R^5b는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, *는 결합 부분을 나타낸다.)

상기 지환족 에폭시 화합물로는 예를 들면, 수소첨가 비스페놀A디글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-1-메틸시클로헥실-3,4-에폭시-1-메틸헥산카르복실레이트, 6-메틸-3,4-에폭시시클로헥실메틸-6-메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-3-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-3-메틸시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-5-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-5-메틸시클로헥산카르복실레이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산-메타디옥산, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실카르복실레이트, 메틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산), 디시클로펜타디엔디에폭사이드, 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 에폭시헥사하이드로프탈산디옥틸, 에폭시헥사하이드로프탈산디-2-에틸헥실, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산, 1,2-에폭시-2-에폭시에틸시클로헥산, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트, 등을 들 수 있다.

한편, 지방족환 및 방향족환 양자를 포함하는 것은 지환족 에폭시 화합물에 해당하는 것으로 할 수 있다.

지환족 에폭시 화합물로는, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-1-메틸시클로헥실-3,4-에폭시-1-메틸헥산카르복실레이트 등이, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지는 관점에서 바람직하다.

상기 지환족 에폭시 화합물로서, 2,2-비스(하이드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물 등의 에폭시시클로알킬환에서 유래하는 시클로알킬환에 옥시라닐기가 직접 단결합으로 결합한 구조를 구성 단위로서 가지며, 에폭시시클로알킬환의 에폭시기끼리가 중합한 구조를 주쇄 구조로 가지는 화합물(이하, 지환족 에폭시 화합물A라고 칭하는 경우가 있음.)도 사용할 수 있다.

상기 지환족 에폭시 화합물로서 알맞게 사용할 수 있는 시판품으로는 예를 들면, 일본 특허공보 특허 제6103653호 등에 기재되어 있는 것을 들 수 있다.

상기 지환족 에폭시 화합물은 1종류만 사용해도 되지만, 2종류 이상을 조합하여 사용해도 되고, 예를 들면, 2개 이상의 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 화합물, 지환족 에폭시 화합물A를 조합하여 사용하는 것도 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 지환족 에폭시 화합물이, 2개 이상의 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 화합물 및 지환족 에폭시 화합물A를 병용하는 경우, 2개 이상의 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 화합물의 함유량은 상기 지환족 에폭시 화합물 100질량부 중에, 60질량부 이상 99질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 70질량부 이상 95질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 80질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 지환족 에폭시 화합물의 함유량은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 양이면 되는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 40질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 50질량부 이상인 것이 바람직하며, 60질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히, 60질량부 이상 85질량부 이하인 것이 바람직하며, 60질량부 이상 80질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 65질량부 이상 75질량부 이하인 것이 바람직하다.

또한, 에폭시 화합물의 함유량이 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 90질량부 이하인 경우, 상기 지환족 에폭시 화합물의 함유량은, 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 40질량부 이상 80질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 45질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하며, 45질량부 이상 65질량부 이하인 것이 바람직하다.

상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 방향족 에폭시 화합물의 구체예로는, 적어도 1개의 방향족환을 가지는 다가 페놀 또는, 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 예를 들면 비스페놀A, 비스페놀F, 또는 이들에 추가로 알킬렌옥사이드를 부가한 화합물의 글리시딜에테르화물이나 페놀노볼락형 에폭시 화합물; 레조르시놀이나 하이드로퀴논, 카테콜 등의 2개 이상의 페놀성 수산기를 가지는 방향족 화합물의 글리시딜에테르; 벤젠디메탄올이나 벤젠디에탄올, 벤젠디부탄올 등의 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산 등의 2개 이상의 카르복실산을 가지는 다염기산 방향족 화합물의 폴리글리시딜에스테르, 안식향산이나 톨루일산, 나프토산 등의 안식향산류의 폴리글리시딜에스테르, 안식향산의 글리시딜에스테르, 스티렌옥사이드 또는 디비닐벤젠의 에폭시화물 등을 들 수 있다.

그 중에서도 페놀류의 폴리글리시딜에테르, 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르화물, 다가 페놀류의 폴리글리시딜에테르화물, 안식향산류의 폴리글리시딜에스테르, 다염기산류의 폴리글리시딜에스테르의 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하고, 특히, 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르화물인 것이 바람직하다. 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지기 때문이다.

상기 방향족 에폭시 화합물의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 양이면 되는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 0질량부 이상 60질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지기 때문이다.

또한 상기 지방족 에폭시 화합물의 구체예로는, 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르 등, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르, 글리시딜아크릴레이트 또는 글리시딜메타크릴레이트의 비닐 중합에 의해 합성한 호모 폴리머, 글리시딜아크릴레이트 또는 글리시딜메타크릴레이트와 기타 비닐 모노머의 비닐 중합에 의해 합성한 코폴리머 등을 들 수 있다.

상기 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르로는, 그 중에서도 지방족 디올 화합물의 디글리시딜에테르 화합물을 바람직하게 사용할 수 있고, 특히, 하기 일반식(5-4)로 나타내는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 화합물을 사용함으로써 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어남과 함께, 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

(식 중 Y⁶은 탄소 원자수 1~30의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기를 나타낸다.)

Y⁶으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기로는 상기 X⁵로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기와 동일한 기를 사용할 수 있다. 또한, 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상은 -O-로 치환되어 있어도 된다.

한편, 상기 알킬렌기 중의 메틸렌기는, -O-로 치환되는 경우, 상기 알킬렌기 중에서 산소 원자가 서로 이웃하지 않는 조건으로 -O-로 치환되는 것이다.

본 발명에서는 Y⁶이 분기의 알킬렌기인 것이 바람직하다. 상기 구조를 가짐으로써, 상기 조성물은, 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

본 발명에서는 Y⁶이, 탄소 원자수 2~30의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 3~28의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 4~26의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기인 것이 바람직하다. 또한, Y⁶이, 메틸렌기가 -O-로 치환되어 있지 않은 알킬렌기인 경우, 그 탄소 원자수는 4~10인 것이 바람직하고, 4~8인 것이 바람직하다. 상기 Y⁶이, 메틸렌기가 -O-로 치환되어 있는 알킬렌기인 경우, Y⁶은, 탄소 원자수가 10~26이며, 폴리알킬렌글리콜로부터 양 말단의 수산기를 제거한 구조를 가지는 알킬렌기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수가 10~26이며, 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜로부터 양 말단의 수산기를 제거한 구조를 가지는 알킬렌기인 것이 바람직하며, 탄소 원자수가 15~24이고, 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜로부터 양 말단의 수산기를 제거한 구조를 가지는 알킬렌기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 일반식(5-4)로 나타내는 지방족 디올 화합물의 디글리시딜에테르화물로는, 구체적으로는 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 디프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르 등의 폴리알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르화물, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 시클로헥산디메틸올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,9-노난디올디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.

상기 지방족 에폭시 화합물은, 대표적인 지방족 에폭시 화합물로서, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린의 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판의 트리글리시딜에테르, 소르비톨의 테트라글리시딜에테르, 디펜타에리트리톨의 헥사글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜의 디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜의 디글리시딜에테르 등의 다가 알코올의 글리시딜에테르, 또한 프로필렌글리콜, 트리메틸올프로판, 글리세린 등의 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르폴리올의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 이염기산의 디글리시딜에스테르를 들 수 있다. 더욱이, 지방족 고급 알코올의 모노글리시딜에테르나 페놀, 크레졸, 부틸페놀, 또한 이들에 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르알코올의 모노글리시딜에테르, 고급 지방산의 글리시딜에스테르, 에폭시화 대두유, 에폭시스테아르산옥틸, 에폭시스테아르산부틸, 에폭시화폴리부타디엔 등을 들 수 있다.

한편, 지방족 에폭시 수지는 지방족환 및 방향족환을 포함하지 않는 것으로 할 수 있다.

상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 양이면 되는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 0질량부 이상 40질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하며, 0질량부 이상 25질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지기 때문이다.

본 개시에서는, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지는 관점에서는, 상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량은 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 5질량부 이상 50질량부 이하인 것도 바람직하고, 그 중에서도 10질량부 이상 40질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 20질량부 이상 40질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 25질량부 이상 35질량부 이하인 것이 바람직하다.

상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량은, 에폭시 화합물이 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물 양자를 포함하는 경우, 지방족 에폭시 화합물 및 지환족 에폭시 화합물의 합계 100질량부 중에, 10질량부 이상 60질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 20질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 25질량부 이상 45질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 25질량부 이상 40질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어남과 함께, 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 지환족 에폭시 화합물 및 상기 지방족 에폭시 화합물의 합계 함유량으로는 상기 에폭시 화합물 100질량부 중에, 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 70질량부 이상인 것이 바람직하며, 특히 90질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 95질량부 이상인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 98질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 100질량부인 것, 즉, 상기 양이온 중합성 성분이 에폭시 화합물로서, 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물만 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어남과 함께, 기재와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 방향족 및 지방족 에폭시 화합물로서 알맞게 사용할 수 있는 시판품으로는 예를 들면, 일본 특허공보 특허 제6103653호 등에 기재되어 있는 것을 들 수 있다.

상기 에폭시 화합물의 함유량은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 양이면 되는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 그 중에서도 60질량부 이상인 것이 바람직하며, 특히 70질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 75질량부 이상인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 80질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지기 때문이다.

상기 옥세탄 화합물로는, 옥세탄 구조를 가지며, 또한 에폭시 구조를 포함하지 않는 것으로 할 수 있다.

이와 같은 옥세탄 화합물의 구체예로는, 예를 들면, 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄, 3-(메타)알릴옥시메틸-3-에틸옥세탄, (3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸벤젠, 4-플루오로-[1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 4-메톡시-[1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, [1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)에틸]페닐에테르, 이소부톡시메틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 이소보닐옥시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 이소보닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-에틸헥실(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 에틸디에틸렌글리콜(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜타디엔(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐옥시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라하이드로푸르푸릴(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-테트라브로모페녹시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-트리브로모페녹시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-하이드록시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-하이드록시프로필(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 부톡시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타클로로페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 보닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 3,7-비스(3-옥세타닐)-5-옥사-노난, 3,3'-(1,3-(2-메틸레닐)프로판디일비스(옥시메틸렌))비스-(3-에틸옥세탄), 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에탄, 1,3-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]프로판, 에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리시클로데칸디일디메틸렌(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리메틸올프로판트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 1,4-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)부탄, 1,6-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)헥산, 펜타에리트리톨트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 폴리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨펜타키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디트리메틸올프로판테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, PO 변성 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 수소첨가 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, PO 변성 수소첨가 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 비스페놀F(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르 등을 예시할 수 있다.

본 개시에서의 상기 옥세탄 화합물의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 양이면 되는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 0질량부 이상 40질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 5질량부 이상 35질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 10질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 15질량부 이상 25질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해지기 때문이다.

상기 양이온 중합성 성분으로는, 티이란 화합물, 티에탄 화합물 등의 기타 화합물 사용할 수 있다.

이와 같은 양이온 중합성 성분으로 사용할 수 있는, 기타 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물, 그리고 비닐에테르 화합물 및 에틸렌성 불포화 화합물 등의 비닐 화합물 등에 대해서는 일본 특허공보 특허 제6103653호 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 양이온 중합성 성분은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것이면 되고, 예를 들면, 저분자량 화합물, 고분자량 화합물 중 어느 것이나 사용할 수 있다.

상기 양이온 중합성 성분은, 조성물의 코팅 용이성 등의 관점에서는 저분자량 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 저분자량 화합물은 조성물 중으로의 분산성 또는 용해성 등이 뛰어나기 때문에, 투명성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.

상기 양이온 중합성 성분은 경화물의 밀착성 등의 관점에서는 고분자량 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.

본 개시에서는 상기 양이온 중합성 성분이 코팅성 등의 관점에서, 적어도 저분자량 화합물을 포함하는 것이 바람직한데, 조성물의 코팅 용이성, 경화물의 밀착성 등의 밸런스의 관점에서는 상기 저분자량 화합물 및 상기 고분자량 화합물 양자를 포함하는 것으로 해도 된다.

상기 저분자량 화합물의 분자량으로는 원하는 코팅성 등이 얻어지는 것이면 되고, 예를 들면, 1000 이하로 할 수 있고, 50 이상 500 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 50 이상 300 이하인 것이 바람직하다.

상기 고분자량 화합물의 분자량은 원하는 접착 용이성 등이 얻어지는 것이면 되고, 예를 들면, 1000보다 큰 것으로 할 수 있고, 1000 이상 50000 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 1000 이상 10000 이하인 것이 바람직하다.

한편, 이하, 분자량은 화합물이 중합체인 경우에는 중량 평균 분자량(Mw)을 나타내는 것이다.

또한, 중량 평균 분자량은 겔투과 크로마토그래피(GPC)에 의해, 표준 폴리스티렌 환산값으로 하여 구할 수 있다.

상기 중량 평균 분자량 Mw는 예를 들면, 니혼 분코(주) 제품의 GPC(LC-2000plus 시리즈)를 이용하고, 용출 용제를 테트라하이드로푸란으로 하며, 교정 곡선용 폴리스티렌 스탠다드를 Mw 1110000, 707000, 397000, 189000, 98900, 37200, 13700, 9490, 5430, 3120, 1010, 589(토소(주)사 제품 TSKgel 표준 폴리스티렌)로 하고, 측정 칼럼을 KF-804, KF-803, KF-802(쇼와 덴코(주) 제품)로 하여 측정하여 얻을 수 있다.

또한, 측정 온도는 40℃로 할 수 있고, 유속은 1.0㎖/분으로 할 수 있다.

상기 저분자량 화합물의 함유량은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것이면 되고, 예를 들면, 양이온 중합성 성분 100질량부 중에, 10질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 30질량부 이상인 것이 바람직하며, 특히 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 60질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 형성할 수 있게 되기 때문이다.

본 개시의 조성물에서의 상기 양이온 중합성 성분의 함유량은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물이 얻어지는 양이라면 문제는 없고, 예를 들면, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에, 50질량부 이상으로 할 수 있고, 50질량부 이상 99질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 70질량부 이상 96질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 85질량부 이상 95질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 형성할 수 있게 되기 때문이다.

상기 양이온 중합성 성분 및 상기 색소의 합계 함유량은, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50.01질량부 이상으로 할 수 있고, 그 중에서도 70질량부 이상 99.5질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 80질량부 이상 98질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 85질량부 이상 96질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 색소의 유지 성능 등의 내구성, 강도 등이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

상기 양이온 중합성 성분의 함유량은, 상기 조성물 중의 수지 성분 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 80질량부 이상인 것이 바람직하며, 그 중에서도 90질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 95질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 100질량부인 것, 즉, 수지 성분으로서 상기 양이온 중합성 성분만 포함하는 것이어도 상관없다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있다. 또한, 상기 조성물은 색소의 유지 성능 등의 내구성, 강도 등이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

한편, 상기 수지 성분은 상기 양이온 중합성 성분 및 후술할 기타 수지 성분의 합계를 나타내는 것이다.

3. 산 발생제

상기 산 발생제로는 소정의 조건에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이라면 어떤 것이라도 문제는 없고, 특별히 한정되는 것은 아니다.

이와 같은 산 발생제로는 예를 들면, 자외선 조사 등의 광 조사에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 광산 발생제, 열에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 열산 발생제를 사용할 수 있다.

상기 산 발생제는 상기 광산 발생제 및 열산 발생제 중 적어도 한쪽을 사용할 수 있는데, 경화가 용이하다는 관점, 조성물의 경화 시에 조성물에 인접하여 사용되는 주변 부재로의 열에 의한 데미지를 저감할 수 있고, 주변 부재의 선택의 자유도가 높아진다는 관점 등에서는 광산 발생제인 것이 바람직하다. 또한, 상기 광산 발생제는 경화 속도가 빠르다는 이점도 있다.

또한, 상기 산 발생제는 광이 도달하기 어려운 장소에서도 경화물의 형성이 용이해지는 관점에서는 열산 발생제인 것이 바람직하다. 또한, 상기 열산 발생제는 경화 속도가 비교적 느리기 때문에, 이를 이용하고 경화 처리(가열 처리) 후에, 다른 부재와의 맞붙임을 용이하게 실시할 수 있다.

상기 산 발생제의 함유량은 단독 또는 복수종의 합계로, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 용이하게 얻는 것이 가능해지기 때문이다.

상기 양이온 중합성 성분에 대한 산 발생제의 사용 비율은 특별히 한정되지 않고, 본 개시의 목적을 저해하지 않는 범위 내에서 대체로 통상의 사용 비율로 사용하면 상관없는데, 예를 들면, 양이온 중합성 성분 100질량부에 대하여, 산 발생제 0.05질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량부 이상 8질량부 이하인 것이 바람직하며, 1질량부 이상 7질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 1.5질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 사용 비율이 상술한 범위임으로써, 양이온 중합성 성분을 충분히 경화시킴과 함께, 조성물의 경화물의 내열성이 양호한 점에서 매우 알맞다.

또한, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 용이하게 얻는 것이 가능해지기 때문이다.

(1) 광산 발생제

상기 광산 발생제로는 자외선 조사 등의 광 조사에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이라면 어떤 것이어도 문제는 없는데, 바람직하게는, 자외선의 조사에 의해 루이스산을 방출하는 오늄염인 복염, 또는 그의 유도체이다. 이러한 화합물의 대표적인 것으로는 하기 일반식(21)로 나타내는 양이온과 음이온의 염을 들 수 있다.

여기서 양이온 [A]^m+는 오늄인 것이 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, 하기 일반식(22)로 나타낼 수 있다.

여기서, R¹³은 탄소 원자수가 1~60이며, 탄소 원자 이외의 원자를 몇 개 포함하고 있어도 상관없는 유기 기이다. a는 1~5의 정수이다. a개의 R³은 각각 독립적으로, 동일해도 달라도 상관없다. 또한, 적어도 하나는 방향환을 가지는 상기 유기 기인 것이 바람직하다. Q는 S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F, N=N으로 이루어지는 군에서 선택되는 원자 혹은 원자단이다. 또한, 양이온 [A]^m+ 중의 Q의 원자가를 q로 했을 때, m=a-q라는 관계가 성립되는 것이 필요하다(단, N=N은 원자가 0으로 취급함).

또한, 음이온 [B]^m-는 할로겐화물 착체인 것이 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, 하기 일반식(23)으로 나타낼 수 있다.

여기서, L은 할로겐화물 착체의 중심 원자인 금속 또는 반금속(Metalloid)이며, B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co 등이다. X는 할로겐 원자이다. b는 3~7의 정수이다. 또한, 음이온 [B]^m- 중의 L의 원자가를 p로 했을 때, m=b-p라는 관계가 성립되는 것이 필요하다.

상기 일반식의 음이온 [LX_b]^m-의 구체예로는, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트[(C₆F₅)₄B]^-, 테트라플루오로보레이트(BF₄)^-, 헥사플루오로포스페이트(PF₆)^-, 헥사플루오로안티모네이트(SbF₆)^-, 헥사플루오로아르세네이트(AsF₆)^-, 헥사클로로안티모네이트(SbCl₆)^-, 트리스(펜타플루오로메틸)트리플루오로인산 이온(FAP 음이온) 등을 들 수 있다.

또한, 음이온 [B]^m-는 하기 일반식(24)로 나타내는 구조의 것도 바람직하게 사용할 수 있다.

여기서, L, X, b는 상기와 마찬가지이다. 또한, 그 밖에 사용할 수 있는 음이온으로는 과염소산 이온(ClO₄)^-, 트리플루오로메틸아황산 이온(CF₃SO₃)^-, 플루오로설폰산 이온(FSO₃)^-, 톨루엔설폰산 음이온, 트리니트로벤젠설폰산 음이온, 캄퍼 설포네이트, 노나플로로부탄설포네이트, 헥사데카플로로옥탄설포네이트, 테트라아릴보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다.

본 개시에서는 이와 같은 오늄염 중에서도 하기의 (가)~(다)의 방향족 오늄염을 사용하는 것이 특히 유효하다. 이들 중에서 그 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.

(가) 페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트, 4-메톡시페닐디아조늄헥사플루오로안티모네이트, 4-메틸페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트 등의 아릴디아조늄염

(나) 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트, 디(4-메틸페닐)요오도늄헥사플루오로포스페이트, 디(4-tert-부틸페닐)요오도늄헥사플루오로포스페이트, 톨릴쿠밀요오도늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등의 디아릴요오도늄염

(다) 하기 군III 또는 군IV로 나타내는 설포늄 양이온과 헥사플루오로안티몬 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 이온 등의 설포늄염

또한, 그 밖에 바람직한 것으로는 (η⁵-2,4-시클로펜타디엔-1-일)〔(1,2,3,4,5,6-η)-(1-메틸에틸)벤젠〕-아이언-헥사플루오로포스페이트 등의 철-아렌 착체나, 트리스(아세틸아세토나토)알루미늄, 트리스(에틸아세토나토아세타토)알루미늄, 트리스(살리실알데히다토)알루미늄 등의 알루미늄 착체와 트리페닐실라놀 등의 실라놀류의 혼합물 등도 들 수 있다.

이들 중에서도 실용면과 광 감도의 관점에서, 방향족 요오도늄염, 방향족 설포늄염, 철-아렌 착체를 사용하는 것이 바람직하고, 하기 일반식(2)로 나타내는 방향족 설포늄염이 감도의 점에서 더 바람직하다. 또한, 상기 광산 발생제가 상기 방향족 설포늄염임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 형성할 수 있게 되기 때문이다.

또한, 상기 조성물은 경화시에 기재 등의 주변 부재로의 열에 의한 데미지를 저감할 수 있고, 주변 부재의 선택의 자유도가 높아지기 때문이다.

R³⁵는, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 하기 식(A)~(C)에서 선택되는 어느 하나의 치환기를 나타내며,

An1^q1-는 q1가의 음이온을 나타내고,

q1은 1 또는 2의 정수를 나타내며,

p1은 전하를 중성으로 하는 계수를 나타낸다.)

(식 중 R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴², R¹⁴³ 및 R¹⁴⁴, R¹⁴⁵, R¹⁴⁶, R¹⁴⁷, R¹⁴⁸ 및 R¹⁴⁹는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내며,

*은 식(2) 중의 S와의 결합 위치를 나타낸다.)

상기 일반식(2)로 나타내는 화합물에서, R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³, R³⁴, R³⁵, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴², R¹⁴³, R¹⁴⁴, R¹⁴⁵, R¹⁴⁶, R¹⁴⁷, R¹⁴⁸ 및 R¹⁴⁹로 나타내는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있다.

상기 일반식(2)로 나타내는 화합물에서, R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³, R³⁴, R³⁵, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴², R¹⁴³, R¹⁴⁴, R¹⁴⁵, R¹⁴⁶, R¹⁴⁷, R¹⁴⁸ 및 R¹⁴⁹로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, s-부틸, t-부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, t-아밀, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 에틸옥틸, 2-메톡시에틸, 3-메톡시프로필, 4-메톡시부틸, 2-부톡시에틸, 메톡시에톡시에틸, 메톡시에톡시에톡시에틸, 3-메톡시부틸, 2-메틸티오에틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 브로모메틸, 디브로모메틸, 트리브로모메틸, 디플루오로에틸, 트리클로로에틸, 디클로로디플루오로에틸, 펜타플루오로에틸, 헵타플루오로프로필, 노나플루오로부틸, 데카플루오로펜틸, 트리데카플루오로헥실, 펜타데카플루오로헵틸, 헵타데카플루오로옥틸, 메톡시메틸, 1,2-에폭시에틸, 메톡시에틸, 메톡시에톡시메틸, 메틸티오메틸, 에톡시에틸, 부톡시메틸, t-부틸티오메틸, 4-펜테닐옥시메틸, 트리클로로에톡시메틸, 비스(2-클로로에톡시)메틸, 메톡시시클로헥실, 1-(2-클로로에톡시)에틸, 1-메틸-1-메톡시에틸, 에틸디티오에틸, 트리메틸실릴에틸, t-부틸디메틸실릴옥시메틸, 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸, t-부톡시카르보닐메틸, 에틸옥시카르보닐메틸, 에틸카르보닐메틸, t-부톡시카르보닐메틸, 아크릴로일옥시에틸, 메타크릴로일옥시에틸, 2-메틸-2-아다만틸옥시카르보닐메틸, 아세틸에틸, 2-메톡시-1-프로페닐, 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 1-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 3-하이드록시프로필, 3-하이드록시부틸, 4-하이드록시부틸, 1,2-디하이드록시에틸 등을 들 수 있다.

상기 일반식(2)로 나타내는 화합물에서, R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³, R³⁴, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴², R¹⁴³ 및 R¹⁴⁴, R¹⁴⁵, R¹⁴⁶, R¹⁴⁷, R¹⁴⁸ 및 R¹⁴⁹로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기로는, 메톡시, 에톡시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, s-부틸옥시, t-부틸옥시, 이소부틸옥시, 펜틸옥시, 이소아밀옥시, t-아밀옥시, 헥실옥시, 시클로헥실옥시, 시클로헥실메틸옥시, 테트라하이드로푸라닐옥시, 테트라하이드로피라닐옥시, 2-메톡시에틸옥시, 3-메톡시프로필옥시, 4-메톡시부틸옥시, 2-부톡시에틸옥시, 메톡시에톡시에틸옥시, 메톡시에톡시에톡시에틸옥시, 3-메톡시부틸옥시, 2-메틸티오에틸옥시, 트리플루오로메틸옥시 등을 들 수 있다.

본 개시에서는 상기 R³⁵가 상기 화학식(A)~(C)에서 선택되는 것임이 바람직하고, 그 중에서도 상기 식(A) 또는 (B)에서 선택되는 것임이 바람직하다. 상기 R³⁵가 상술한 구조를 가짐으로써, 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있게 되기 때문이다.

본 발명의 조성물에서는 R³⁵가 상기 식(A) 또는 (C)에서 선택되는 것도 바람직하게 사용할 수 있다. 조성물은 경화 속도 및 접착력이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

본 발명의 조성물에서는 산 발생제의 분산 안정성의 관점에서는 R³⁵가 화학식(C)인 것이 바람직하다. 한편, 경화 속도 및 접착력이 보다 뛰어난 것으로 하는 관점에서는 R³⁵가 식(A)인 것임이 바람직하다.

본 발명의 조성물에서, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있음과 함께, 경화 속도 및 접착력이 뛰어난 것으로 하는 관점에서는, 산 발생제는 R³⁵가 식(A)인 것과 식(C)인 것 양자를 포함하는 것이 바람직하다.

산 발생제는 R³⁵가 식(A)인 것과 식(C)인 것 양자를 포함하는 경우, R³⁵가 식(A)인 것의 함유량은 식(C)인 것 100질량부에 대하여, 10질량부 이상 200질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 50질량부 이상, 200질량부 이하인 것이 바람직하며, 80질량부 이상 120질량부 이하인 것이 바람직하다. 이러한 범위의 함유량임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있음과 함께, 경화 속도 및 접착력이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 본 발명의 조성물은 내투습성 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.

R²¹, R²², R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³ 및 R³⁴는, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히 수소 원자인 것이 바람직하다. 상술한 관능기임으로써, 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있게 되기 때문이다.

R²³ 및 R²⁸은, 그 중에서도 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히 수소 원자 또는 할로겐 원자인 것이 바람직하다. 상술한 관능기임으로써, 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있게 되기 때문이다.

R¹²¹, R¹²², R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴², R¹⁴³, R¹⁴⁴, R¹⁴⁵, R¹⁴⁶, R¹⁴⁷, R¹⁴⁸ 및 R¹⁴⁹는, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히, 수소 원자인 것이 바람직하다. 상술한 관능기임으로써, 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있게 되기 때문이다.

R¹²³, R¹²⁸ 및 R¹³⁶은, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자 또는 할로겐 원자인 것이 바람직하다. 상술한 관능기임으로써, 조성물은, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있게 되기 때문이다.

상기 일반식(2)로 나타내는 화합물에서, R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³, R³⁴, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴², R¹⁴³ 및 R¹⁴⁴, R¹⁴⁵, R¹⁴⁶, R¹⁴⁷, R¹⁴⁸ 및 R¹⁴⁹로 나타내는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기로는, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 이소프로필옥시카르보닐, 페녹시카르보닐, 아세톡시, 프로피오닐옥시, 부티릴옥시, 클로로아세틸옥시, 디클로로아세틸옥시, 트리클로로아세틸옥시, 트리플루오로아세틸옥시, t-부틸카르보닐옥시, 메톡시아세틸옥시, 벤조일옥시 등을 들 수 있다.

상기 일반식(2)로 나타내는 화합물에서, An1^q1-로 나타내는 q1가의 음이온으로는 예를 들면, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트[(C₆F₅)₄B]^-, 테트라플루오로보레이트(BF₄)^-, 헥사플루오로포스페이트(PF₆)^-, 헥사플루오로안티모네이트(SbF₆)^-, 헥사플루오로아르세네이트(AsF₆)^-, 헥사클로로안티모네이트(SbCl₆)^-, 트리스(펜타플루오로메틸)트리플루오로인산 이온(FAP 음이온), 과염소산 이온(ClO₄)^-, 트리플루오로메틸아황산 이온(CF₃SO₃)^-, 플루오로설폰산 이온(FSO₃)^-, 톨루엔설폰산 음이온, 트리니트로벤젠설폰산 음이온, 캄퍼 설포네이트, 노나플로로부탄설포네이트, 헥사데카플로로옥탄설포네이트, 테트라아릴보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다.

(2) 열산 발생제

상기 열산 발생제는 열에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이라면 어떤 것이어도 문제는 없고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는, 열에 의해 루이스산을 방출하는 오늄염인 복염, 또는 그 유도체가, 수지 조성물을 경화시킨 경화물의 내열성이 좋아, 매우 알맞다.

이러한 화합물의 대표적인 것으로는 상기 "(1) 광산 발생제"의 항에 기재된 [A]^m+[B]^m-로 나타내는 양이온과 음이온의 염을 사용할 수 있다.

상기 열산 발생제는, 그 중에서도 수지의 경화성이 좋고, 경화물의 내열성이 높기 때문에, 하기 일반식(12)로 나타내는 설포늄염, 또는 일반식(13)으로 나타내는 설포늄염인 것이 바람직하다.

(식 중 R²²¹ 및 R²²²는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, 상기 알킬기, 방향족기 및 아릴알킬기의 1개 또는 2개 이상의 수소 원자는, 각각 독립적으로 수산기, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 니트로기, 설폰기 또는 시아노기로 치환되는 경우가 있으며, R²²¹과 R²²²는 탄소 원자수 2~7의 알킬 사슬로 환 구조를 구성하고 있는 경우가 있고,

R²²³ 및 R²²⁴는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 니트로기, 시아노기 또는 설폰기를 나타내고, 상기 알킬기, 방향족기 및 아릴알킬기의 1개 또는 2개 이상의 수소 원자는, 각각 독립적으로 수산기, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 니트로기, 설폰기 또는 시아노기로 치환되는 경우가 있으며,

An^q'-는 q'가의 음이온을 나타내고,

q'는 1 또는 2를 나타내며,

p'는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)

(식 중 R²²⁵는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 수산기, 니트로기, 설폰기 및 시아노기를 나타내고, 상기 알킬기, 방향족기 및 아릴알킬기의 1개 또는 2개 이상의 수소 원자는, 각각 독립적으로 수산기, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 니트로기, 설폰기 또는 시아노기로 치환되는 경우가 있으며,

R²²⁶은, 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, 상기 알킬기, 방향족기 및 아릴알킬기의 1개 또는 2개 이상의 수소 원자는, 각각 독립적으로 수산기, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 니트로기, 설폰기 또는 시아노기로 치환되는 경우가 있으며,

R²²⁷은, 구성하는 메틸렌기가 -O- 또는 S-로 나타내는 기로 치환되는 경우가 있는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내고,

An^q''-는 q''가의 음이온을 나타내며,

q''는 1 또는 2를 나타내고,

p''는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)

상기 일반식(12) 및 (13)으로 나타내는 화합물에서, R²²³, R²²⁴ 및 R²²⁵로 나타내는 할로겐 원자 그리고 R²²¹, R²²², R²²³, R²²⁴, R²²⁵, R²²⁶ 및 R²²⁷로 나타내는 기의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 경우가 있는 할로겐 원자와, R²²¹, R²²², R²²³, R²²⁴, R²²⁵, R²²⁶ 및 R²²⁷로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 R²²¹, R²²², R²²³, R²²⁴, R²²⁵, R²²⁶ 및 R²²⁷로 나타내는 기의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 경우가 있는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는, 상기 "(1) 광산 발생제"의 항에 기재된 일반식(2) 중의 R²¹ 등으로 사용되는 할로겐 원자, 알킬기와 마찬가지로 할 수 있다.

R²²¹, R²²², R²²³, R²²⁴, R²²⁵, R²²⁶으로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 방향족기 및 R²²¹, R²²², R²²³, R²²⁴, R²²⁵, R²²⁶으로 나타내는 기의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 경우가 있는 탄소 원자수 6~20의 방향족기로는, 페닐, 나프틸, 안트라닐 등을 들 수 있다.

R²²¹, R²²², R²²³, R²²⁴, R²²⁵, R²²⁶으로 나타내는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 및 R²²¹, R²²², R²²³, R²²⁴, R²²⁵, R²²⁶으로 나타내는 기의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 경우가 있는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기로는, 상기에서 설명한 탄소 원자수 1~10의 알킬기와 탄소 원자수 6~20의 방향족기를 조합한 것을 사용할 수 있다.

상기 일반식(12) 및 (13) 중의 p'An^q'- 및 p''An^q''-로 나타내는 q' 또는 q''가의 음이온으로는, 메탄설폰산 음이온, 도데실설폰산 음이온, 벤젠설폰산 음이온, 톨루엔설폰산 음이온, 트리플루오로메탄설폰산 음이온, 나프탈렌설폰산 음이온, 디페닐아민-4-설폰산 음이온, 2-아미노-4-메틸-5-클로로벤젠설폰산 음이온, 2-아미노-5-니트로벤젠설폰산 음이온, 일본 공개특허공보 특개평10-235999호, 일본 공개특허공보 특개평10-337959호, 일본 공개특허공보 특개평11-102088호, 일본 공개특허공보 특개2000-108510호, 일본 공개특허공보 특개2000-168233호, 일본 공개특허공보 특개2001-209969호, 일본 공개특허공보 특개2001-322354호, 일본 공개특허공보 특개2006-248180호, 일본 공개특허공보 특개2006-297907호, 일본 공개특허공보 특개평8-253705호, 일본 공표특허공보 특표2004-503379호, 일본 공개특허공보 특개2005-336150호, 국제공개공보 WO2006/28006 등에 기재된 설폰산 음이온 등의 유기 설폰산 음이온 외에, 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온, 불화물 이온, 염소산 이온, 티오시안산 이온, 과염소산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라플루오로붕산 이온, 옥틸인산 이온, 도데실인산 이온, 옥타데실인산 이온, 페닐인산 이온, 노닐페닐인산 이온, 트리스(펜타플루오로메틸)트리플루오로인산 이온(FAP 음이온) 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)포스폰산 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온, 여기 상태에 있는 활성 분자를 탈여기시키는(??칭시키는) 기능을 가지는 ??처 음이온이나 시클로펜타디에닐환에 카르복실기나 포스폰산기, 설폰산기 등의 음이온성 기를 가지는 페로센, 루테오센 등의 메탈로센 화합물 음이온 등을 들 수 있다. 그 중에서도 내열성이 높은 점에서, 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온이 바람직하다.

상기 열산 발생제가 열에 의해 산을 발생시키고, 조성물을 경화시킬 수 있는 온도의 범위는 특별히 한정되지 않지만, 알맞은 내열성을 가지는 경화물이 얻어지는 점이나, 프로세스 중의 열 안정성이 양호한 점에서, 50℃ 이상 250℃ 이하가 바람직하고, 100℃ 이상 220℃ 이하가 보다 바람직하며, 130℃ 이상 200℃ 이하가 더욱 바람직하고, 150℃ 이상 180℃ 이하가 더 바람직하다. 상기 조성물의 경화물의 형성이 용이하기 때문이다.

또한, 본 개시의 조성물에 사용되는 열산 발생제로서 알맞게 사용할 수 있는 시판품으로는 예를 들면, 선에이드 SI-B2A, 선에이드 SI-B3A, 선에이드 SI-B3, 선에이드 SI-B4, 선에이드 SI-60, 선에이드 SI-80, 선에이드 SI-100, 선에이드 SI-110, 선에이드 SI-150(이상 산신 가가쿠 고교(주) 제품), 아데카옵톤 CP-66, 아데카옵톤 CP-77(이상 (주)ADEKA 제품) 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독 혹은 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.

4. 기타 성분

상기 조성물은, 색소, 양이온 중합성 성분 및 산 발생제를 포함하는 것인데, 필요에 따라 용제 및 기타 성분을 포함할 수 있다.

상기 용제로는 유기 용매(이하, 간단히 용매라고 칭하는 경우가 있음.), 물 등을 사용할 수 있다.

상기 기타 성분으로는 각종 첨가제를 들 수 있다.

이와 같은 용매 및 각종 첨가제로는 국제공개공보 WO2017/098996 등에 기재된 것과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 용매 및 물을 포함하는 용제로는 통상 25℃에서 액상이며, 상기 조성물을 사용하여 경화물을 형성할 때에 건조 제거할 수 있는 것이 사용된다.

상기 조성물은 수지 성분으로서 상기 양이온 중합성 성분을 포함하는 것인데, 필요에 따라, 상기 양이온 중합성 성분 이외의 수지 성분(이하, 기타 수지 성분이라고 칭하는 경우가 있음.)을 포함할 수 있다.

상기 기타 수지 성분으로는 중축합 가능한 화합물 및 그 중축합물 등을 들 수 있다.

상기 중축합 가능한 화합물로는 라디칼 중합성 화합물을 들 수 있다. 또한, 후술할 중축합물을 구성하는 모노머 성분도 들 수 있다.

상기 라디칼 중합성 화합물은 라디칼 중합성 기를 가지는 것이다.

상기 라디칼 중합성 기로는 라디칼에 의해 중합 가능한 것이면 되고, 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기 등의 에틸렌성 불포화기 등을 들 수 있다.

상기 라디칼 중합성 화합물은, 라디칼 중합성 기를 1개 이상 가지는 것으로 할 수 있고, 라디칼 중합성 기를 1개 가지는 단관능 화합물, 라디칼 중합성 기를 2개 이상 가지는 다관능 화합물을 사용할 수 있다.

상기 라디칼 중합성 화합물로는 산가를 가지는 화합물, 산가를 가지지 않는 화합물 등을 사용할 수 있다.

상기 산가를 가지는 화합물로는 예를 들면, 메타크릴산, 아크릴산 등의 카르복실기 등을 가지는 아크릴레이트 화합물, 메타크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다.

상기 산가를 가지지 않는 화합물로는, 우레탄아크릴레이트 수지, 우레탄메타크릴레이트 수지, 에폭시아크릴레이트 수지, 에폭시메타크릴레이트 수지, 아크릴산-2-하이드록시에틸, 메타크릴산-2-하이드록시에틸 등의 카르복실기 등을 가지지 않는 아크릴레이트 화합물, 메타크릴레이트 화합물을 들 수 있다.

상기 라디칼 중합성 화합물은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 예를 들면, 라디칼 중합성 화합물은 에틸렌성 불포화기를 가지며 산가를 가지는 화합물 및 에틸렌성 불포화기를 가지며 산가를 가지지 않는 화합물을 조합하여 사용할 수 있다.

라디칼 중합성 화합물은, 2종 이상을 혼합하여 사용하는 경우에는 그들을 미리 공중합하여 공중합체로 사용해도 된다.

이와 같은 라디칼 중합성 화합물 등으로는, 보다 구체적으로는 일본 공개특허공보 특개2016-176009호에 기재되어 있는 라디칼 중합성 화합물 등을 들 수 있다.

본 개시에서는 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 형성할 수 있게 되는 관점에서는 상기 라디칼 중합성 화합물의 함유량이 적은 것이 바람직하다.

상기 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 1질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 0.5질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 0질량부, 즉, 라디칼 중합성 화합물을 포함하지 않는 것이 바람직하다.

상기 중축합물로는 2 이상의 반복 단위를 포함하는 올리고머 및 폴리머로 할 수 있다.

상기 중축합물로는 예를 들면, 폴리올레핀계 수지, 스티렌계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 할로겐 함유 수지 등의 열가소성 수지를 들 수 있다.

이와 같은 중축합물로는 예를 들면, 국제공개공보 WO2017/150662에 열가소성 수지로서 기재되어 있는 것과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 기타 성분은 증감제를 들 수 있다.

이와 같은 증감제로는 예를 들면, 안트라센계 화합물, 나프탈렌계 화합물, 카르바졸 유도체, 벤조카르바졸 유도체를 바람직하게 사용할 수 있고, 그 중에서도, 카르바졸 유도체, 벤조카르바졸 유도체를 바람직하게 사용할 수 있으며, 특히, 벤조카르바졸 유도체를 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 증감제를 사용함으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는다는 효과를 저해하지 않고, 경화성 등을 향상시킬 수 있기 때문이다. 또한, 색소의 블리드 아웃을 효과적으로 억제할 수 있고, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 내투습성 등도 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.

상기 안트라센계 화합물로는, 안트라센 구조를 가지는 화합물이면 되고, 예를 들면 하기 식(IIIa)로 나타내는 것을 들 수 있다.

(식 중 R²⁰¹ 및 R²⁰²는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~12의 알콕시알킬기를 나타내고, R²⁰³은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 나타낸다.)

R²⁰¹, R²⁰² 및 R²⁰³으로 나타내는 탄소 원자수 1~6의 알킬기로는, 상기 일반식(1) 중의 R¹ 등에 사용되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.

R²⁰¹ 및 R²⁰²로 나타내는 탄소 원자수 2~12의 알콕시알킬기로는 상기 일반식(1) 중의 R¹ 등에 사용되는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기 중 소정의 탄소 원자수의 것을 사용할 수 있다.

본 개시에서는 R²⁰¹ 및 R²⁰²가 탄소 원자수 2~5의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 기임으로써, 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 내투습성 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.

본 발명에서는 R²⁰³이 수소 원자인 것이 바람직하다.

상기 나프탈렌계 화합물로는 나프탈렌 구조를 가지는 화합물이면 되고, 예를 들면, 하기 식(IIIb)로 나타내는 것을 들 수 있다.

(식 중 R²⁰⁴ 및 R²⁰⁵는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 나타낸다.)

R²⁰⁴ 및 R²⁰⁵로 나타내는 탄소 원자수 1~6의 알킬기로는, 상기 일반식(1) 중의 R¹ 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.

본 발명에서는 그 중에서도 R²⁰⁴ 및 R²⁰⁵가 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 기임으로써, 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 내투습성 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.

상기 카르바졸 유도체로는 카르바졸 구조를 가지는 화합물이면 되고, 예를 들면, 이하의 일반식(VI)로 나타내는 것을 들 수 있다.

(식 중 R^226a는 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타내고, R^227a, R^228a, R^229a, R^230a, R^231a, R^232a, R^233a 및 R^234a는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기, 카르복실기를 나타낸다.)

R^226a, R^227a, R^228a, R^229a, R^230a, R^231a, R^232a, R^233a 및 R^234a로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 탄소 원자수 6~20의 아릴기의 예로는, 상기 일반식(1) 중의 R¹ 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 탄소 원자수 6~30의 아릴기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다. R^227a, R^228a, R^229a, R^230a, R^231a, R^232a, R^233a 및 R^234a로 나타내는 할로겐 원자로는, 상기 일반식(1) 중의 R¹ 등으로 나타내는 할로겐 원자와 동일한 것을 들 수 있다.

본 발명에서는 R^226a가 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

본 개시에서는 R^227a, R^228a, R^229a, R^230a, R^231a, R^232a, R^233a 및 R^234a가, 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

상기 벤조카르바졸 유도체로는 벤조카르바졸 구조를 가지는 것이면 되고, 예를 들면, 이하의 일반식(VII-1)~(VII-3)으로 나타내는 것을 들 수 있다.

본 개시에서는, 그 중에서도 상기 벤조카르바졸 유도체가, 상기 일반식(VII-1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

(식 중 R²³⁵는 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타내고, R²³⁶, R²³⁷, R^238, R²³⁹, R²⁴⁰, R²⁴¹, R²⁴², R²⁴³, R²⁴⁴ 및 R²⁴⁵는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기, 카르복실기를 나타낸다.)

(식 중 R²⁴⁶은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타내고, R²⁴⁷, R²⁴⁸, R²⁴⁹, R²⁵⁰, R²⁵¹, R²⁵², R²⁵³, R²⁵⁴, R²⁵⁵ 및 R²⁵⁶은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)

(식 중 R²⁵⁷은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타내고, R²⁵⁸, R²⁵⁹, R²⁶⁰, R²⁶¹, R²⁶², R²⁶³, R²⁶⁴, R²⁶⁵, R²⁶⁶ 및 R²⁶⁷은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기, 카르복실기를 나타낸다.)

R²³⁵, R²³⁶, R²³⁷, R²³⁸, R²³⁹, R²⁴⁰, R²⁴¹, R²⁴², R²⁴³, R²⁴⁴, R²⁴⁵, R²⁴⁶, R²⁴⁷, R²⁴⁸, R²⁴⁹, R²⁵⁰, R²⁵¹, R²⁵², R²⁵³, R²⁵⁴, R²⁵⁵, R²⁵⁶, R²⁵⁷, R²⁵⁸, R²⁵⁹, R²⁶⁰, R²⁶¹, R²⁶², R²⁶³, R²⁶⁴, R²⁶⁵, R²⁶⁶ 및 R²⁶⁷로 나타내는, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기로는, 상기 일반식(1) 중의 R¹ 등으로 나타내는 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 탄소 원자수 6~30의 아릴기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.

본 개시에서는 식(VII-1)~(VII-3)으로 나타내는 벤조카르바졸 유도체 중에서도 벤조카르바졸환의 질소 원자에 결합하는 기인 R²³⁵, R²⁴⁶ 및 R²⁵⁷이 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 3~10의 분기 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

본 발명에서는, 상기 R²³⁶, R²³⁷, R²³⁸, R²³⁹, R²⁴⁰, R²⁴¹, R²⁴², R²⁴³, R²⁴⁴, R²⁴⁵, R²⁴⁷, R²⁴⁸, R²⁴⁹, R²⁵⁰, R²⁵¹, R²⁵², R²⁵³, R²⁵⁴, R²⁵⁵, R²⁵⁶, R²⁵⁸, R²⁵⁹, R²⁶⁰, R²⁶¹, R²⁶², R²⁶³, R²⁶⁴, R²⁶⁵, R²⁶⁶ 및 R²⁶⁷이, 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 상술한 기가 상술한 기 또는 원자임으로써, 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

상기 증감제의 함유량으로는, 양이온 중합성 성분끼리의 중합을 촉진 가능한 것이면 되고, 예를 들면, 단독 또는 복수종의 합계로, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 6질량부 이하로 할 수 있으며, 그 중에서도 0.1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.5질량부 이상 2질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

상기 증감제의 양이온 중합성 화합물에 대한 사용 비율은 특별히 한정되지 않고, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위 내에서 대체로 통상의 사용 비율로 사용하면 된다.

상기 증감제의 함유량은 예를 들면, 산 발생제 100질량부에 대하여, 1질량부 이상 200질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 100질량부 이하인 것이 바람직하며, 10질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하고, 15질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 사용 비율이 상술한 범위임으로써, 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.

5. 조성물

상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻는다는 관점에서, 경화 전후의 최소 투과율의 차의 절대값이 작은 것이 바람직하다. 상기 차의 절대값이 작은 경화물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 형성할 수 있게 되기 때문이다.

상기 색소, 양이온 중합성 성분 및 산 발생제의 함유량은, 각각 상기 "1. 색소", "2. 양이온 중합성 성분" 및 "3. 산 발생제"의 항에 기재된 함유량을 조합할 수 있다.

상기 조성물은 예를 들면, 상기 색소의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하이며, 상기 양이온 중합성 성분의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상이며, 상기 산 발생제의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하인 것으로 할 수 있다. 상기 각 성분의 함유량이 상술한 조합임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 용이하게 얻을 수 있다.

상기 조성물의 제조 방법으로는 상기 각 성분을 원하는 양 포함하는 조성물을 형성 가능한 방법이라면 문제는 없고, 공지의 혼합 수단을 이용하는 방법을 들 수 있다.

상기 조성물의 경화 방법으로는 산 발생제의 종류에 따라 적절히 설정되는 것이다.

상기 경화 방법으로는, 산 발생제가 광산 발생제인 경우에는 조성물에 대하여 자외선 등의 에너지선을 조사하는 에너지선 조사 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.

상기 조성물은 산 발생제가 광산 발생제인 경우에는, 에너지선 조사에 의해 통상은 0.1초~수 분 후에 지촉 건조 상태 혹은 용매 불용성의 상태로 경화할 수 있다.

상기 에너지선 및 에너지선으로의 폭로 시간으로는 국제공개공보 WO2013/172145 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 경화 방법은, 산 발생제가 열산 발생제인 경우에는 조성물에 대하여 가열 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.

상기 조성물에 대한 가열 방법, 가열 조건, 경화 시간 등에 대해서는 국제공개공보 WO2015/240123 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

본 개시의 조성물의 구체적인 용도로는 광학 필터, 도료, 코팅제, 라이닝제, 접착제, 인쇄판, 절연 바니시, 절연 시트, 적층판, 프린트 기판, 반도체 장치용·LED 패키지용·액정 주입구용·유기 일렉트로 루미네선스(EL)용·광소자용·전기절연용·전자부품용·분리막용 등의 봉지제(封止劑), 성형 재료, 퍼티, 유리 섬유 함침제, 필러, 반도체용·태양전지용 등의 퍼시베이션막, 층간 절연막, 보호막, 프린트 기판, 혹은 컬러TV, PC모니터, 휴대정보단말, CCD 이미지 센서의 컬러 필터, 플라스마 표시 패널용 전극재료, 인쇄 잉크, 치과용 조성물, 광조형용 수지, 액상 및 건조막 쌍방, 미소(微小)기계부품, 유리섬유 케이블 코팅, 홀로그래피 기록용 재료의 각종 용도를 들 수 있다.

상기 광학 필터로는, 광학 필터를 투과하는 광의 스펙트럼 형상의 변화가 요구되는 것으로 할 수 있고, 예를 들면, 액정 표시 장치(LCD), 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시 장치(CRT), CCD 이미지 센서, CMOS 센서, 형광 표시관, 전계 방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치용, 분석 장치용, 반도체 장치 제조용, 천문관측용, 광통신용, 안경 렌즈, 창문 등의 용도에 이용할 수 있다.

본 개시에서는 상기 조성물이 광학 필터용인 것이 바람직하고, 그 중에서도 화상 표시장치용인 것이 바람직하며, 특히, 화상 표시 장치의 색조정 필터용인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침을 저감하는 화상 표시 장치의 색조정 필터용인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 평면에서 봤을 때, 2종류의 발색의 발광광의 양자가 투과하도록 배치되는 화상 표시 장치의 색조정 필터용인 것이 바람직하다.

상기 용도임으로써, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 제조할 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

상기 용도는 그 중에서도 상기 색소가 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 색소인 경우에는, 청색광 및 녹색광의 발광광을 가지는 화상 표시 장치의 색조정 필터용인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 평면에서 봤을 때, 청색의 화소 및 녹색의 화소와 겹치며, 청색광 및 녹색광의 발광광의 양자가 투과하도록 배치되는 화상 표시 장치의 색조정 필터용인 것이 바람직하다.

상기 용도는 청색의 화소 또는 녹색의 화소와 겹치도록 배치되는 화상 표시 장치의 색조정용 필터용인 것도 바람직하다.

상기 용도임으로써 원하는 파장범위의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터를 제조할 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

또한, 상기 조성물의 용도로는 플렉시블성이 요구되는 용도도 들 수 있다.

구체적으로는, 상기 조성물은 플렉시블성을 가지는 화상 표시 장치용 광학 필터 등에 바람직하게 사용할 수 있다.

B. 경화물

다음으로, 본 개시의 경화물에 대해 설명한다.

본 개시의 경화물은 상술한 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 것이다.

본 개시에 따르면, 상기 경화물은 상술한 조성물을 경화시킨 것임으로써, 예를 들면, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터 등으로 사용할 수 있다.

본 개시의 경화물은 상술한 조성물을 사용하는 것이다.

이하, 본 개시의 경화물에 대해 상세하게 설명한다.

한편, 상기 조성물에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 경화물은 통상 양이온 중합성 성분의 중합물을 포함하는 것이다.

상기 양이온 중합성 성분의 중합물의 함유량은, 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 양이온 중합성 성분의 함유량과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 경화물에 포함되는 양이온 중합성 성분의 잔존량으로는, 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정되는 것인데, 예를 들면, 경화물에 포함되는 양이온 중합성 성분의 중합물과의 합계 100질량부 중에 10질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 1질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 경화물은 밀착성 등이 뛰어나고, 또한 강도 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.

상기 경화물의 평면에서 본 형상, 두께 등에 대해서는 상기 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.

상기 두께로는 예를 들면, 0.05㎛ 이상 300㎛ 이하 등으로 할 수 있다.

상기 경화물의 제조 방법으로는 상기 조성물의 경화물을 원하는 형상이 되도록 형성할 수 있는 방법이라면 특별히 한정되는 것은 아니다.

이와 같은 제조 방법으로는 예를 들면, 후술할 "F. 경화물의 제조 방법"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있기 때문에 여기서의 설명은 생략한다.

상기 경화물의 용도 등에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

C. 광학 필터

다음으로, 본 개시의 광학 필터에 대해 설명한다.

본 개시의 광학 필터는 상술한 경화물을 포함하는 광 흡수층을 가지는 것을 특징으로 하는 것이다.

본 개시에 따르면, 상기 광 흡수층이 상술한 경화물을 포함함으로써, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 것이 된다.

본 개시의 광학 필터는 상기 광 흡수층을 가지는 것이다.

이하, 본 개시의 광학 필터에 포함되는 광 흡수층에 대해 상세하게 설명한다.

1. 광 흡수층

상기 광 흡수층은 상술한 경화물을 포함하는 것이다.

상기 광 흡수층에 포함되는 상기 경화물의 함유량은 통상 광 흡수층 100질량부 중에 100질량부이다. 즉, 상기 광 흡수층은 상기 경화물로 이루어지는 것으로 할 수 있다.

상기 경화물에 대해서는 상기 "B. 경화물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 광 흡수층의 평면에서 본 형상, 면적 및 두께 등의 형상에 대해서는 광학 필터의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.

상기 광 흡수층의 형성 방법으로는, 원하는 형상, 두께의 광 흡수층을 형성 가능한 것이면 되고, 공지의 도막의 형성 방법을 이용할 수 있다. 상기 형성 방법으로는 예를 들면, 후술할 "D. 경화물의 제조 방법"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

2. 광학 필터

상기 광학 필터는 상기 광 흡수층만 포함하는 것이어도 되고, 상기 광 흡수층 이외의 기타 층을 포함하는 것이어도 된다.

상기 기타 층으로는 투명 지지체, 언더코트층, 반사 방지층, 하드코트층, 윤활층, 점착제층 등을 들 수 있다.

이와 같은 각 층의 내용 및 그 형성 방법 등에 대해서는 광학 필터에 일반적으로 사용되는 것으로 할 수 있고, 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2011-144280호, 국제공개공보 WO2016/158639 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 광 흡수층은 예를 들면, 상기 투명 지지체 및 임의의 각 층의 사이를 접착하는 접착층 등으로 이용되는 것이어도 상관없다.

또한, 그 때에는 상기 광학 필터는 접착층으로서의 광 흡수층의 표면에, 이밀착(易密着)한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 공지의 세퍼레이터 필름을 마련할 수도 있다.

상기 광학 필터는, 화상 표시 장치용으로 사용하는 경우, 통상 디스플레이의 앞면에 배치할 수 있다. 예를 들면, 광학 필터를 디스플레이의 표면에 직접 붙여도 문제는 없고, 디스플레이 앞에 전면판이나 전자파 쉴드가 마련되어 있는 경우는 전면판 또는 전자파 쉴드의 표측(외측) 또는 이측(디스플레이 측)에 광학 필터를 붙여도 상관없다.

상기 광학 필터는 예를 들면, 화상 표시 장치에 포함되는 각 부재, 예를 들면, 컬러 필터, 편광판 등의 광학 부재로 사용되는 것이어도 상관없다.

또한, 상기 광학 필터는 상기 화상 표시 장치에 포함되는 각 부재에 직접 적층되는 것이어도 상관없다.

D. 경화물의 제조 방법

다음으로, 본 개시의 경화물의 제조 방법에 대해 설명한다.

본 개시의 경화물의 제조 방법은 상술한 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.

본 개시에 따르면, 상기 경화물의 제조 방법은 상기 조성물을 경화시키는 것이기 때문에, 예를 들면, 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 광학 필터 등으로서 사용 가능한 경화물을 얻을 수 있다.

본 개시의 경화물의 제조 방법은 상기 경화하는 공정을 포함하는 것이다.

이하, 본 개시의 경화물의 제조 방법의 각 공정에 대해 상세하게 설명한다.

한편, 상기 조성물은 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다.

1. 경화하는 공정

상기 경화하는 공정은 상술한 조성물을 경화하는 공정이다.

상기 조성물의 경화 방법으로는 조성물에 포함되는 산 발생제 등의 개시제의 종류 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.

이와 같은 경화 방법으로는 예를 들면, 조성물이 개시제로서, 광산 발생제, 광 라디칼 개시제 등과 같이, 광 조사에 의해 중합성 화합물의 중합물을 얻을 수 있는 것인 경우에는, 상기 조성물에 대하여 자외선 등의 에너지선을 조사하는 에너지선 조사 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.

또한, 상기 경화 방법은, 조성물이 개시제로서, 열산 발생제, 열라디칼 개시제 등과 같이, 가열 처리에 의해 중합성 화합물의 중합물을 얻을 수 있는 것인 경우에는 조성물에 대하여 가열 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.

한편, 이와 같은 에너지선 조사, 가열 처리 등에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

2. 기타 공정

상기 제조 방법은 필요에 따라 기타 공정을 가지는 것이어도 상관없다.

이와 같은 공정으로는 조성물을 경화하는 공정 전에, 상기 조성물을 도포하는 공정 등을 들 수 있다.

조성물을 도포하는 방법으로는 스핀 코터, 롤 코터, 바 코터, 다이 코터, 커튼 코터, 각종 인쇄, 침지 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다.

상기 기재로는 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있고, 소다 유리, 석영 유리, 반도체 기판, 금속, 종이, 플라스틱 등을 포함하는 것을 들 수 있다.

또한, 상기 경화물은 기재 상에서 형성된 후, 기재로부터 박리하여 사용해도 상관없고, 기재로부터 다른 피착체에 전사하여 사용해도 상관없다.

3. 경화물

본 개시의 제조 방법에 의해 제조되는 경화물 및 용도 등에 대해서는 상기 "C. 경화물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

E. 기타

1. 색소와 양이온 중합성 성분과 산 발생제를 포함하는 조성물.

2. 1에 있어서, 상기 색소가 피로메텐계 색소 또는 시아닌계 색소인 조성물.

3. 2에 있어서, 상기 피로메텐계 색소가 상기 일반식(101)로 나타내는 화합물이며, 상기 시아닌계 색소가 상기 일반식(102)로 나타내는 화합물인 조성물.

4. 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 색소가 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 것인 조성물.

5. 1 내지 4 중 어느 한 항에 있어서, 상기 색소가 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하 포함되어 있고, 상기 양이온 중합성 성분이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상 포함되어 있으며, 상기 산 발생제가 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하 포함되어 있는, 조성물.

6. 1 내지 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산 발생제가 상기 일반식(2)로 나타내는 광산 발생제를 포함하는 조성물.

7. 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양이온 중합성 성분이 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는, 조성물.

8. 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물이 광학 필터용인 조성물.

9. 1 내지 8 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화물.

10. 9에 기재된 경화물을 포함하는 광 흡수층을 가지는 광학 필터.

11. 1 내지 8 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 경화하는 공정을 포함하는, 경화물의 제조 방법.

본 개시는 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 개시의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 가지며, 동일한 작용 효과를 발휘하는 것은 어떠한 것이라도 본 개시의 기술적 범위에 포함된다.

실시예

이하, 실시예 등을 들어 본 개시를 더 상세하게 설명하겠지만, 본 개시는 이들 실시예에 한정되는 것이 아니다.

[제조예 1~2]

일본 공개특허공보 특개2006-189751호에 기재된 디피로메텐계 화합물의 제조 방법에 의해, 하기 식(C-1) 및 (C-2)로 나타내는 화합물을 얻었다.

질량 분석으로 목적물의 분자량인 것을 확인했다.

[제조예 3~4]

일본 특허공보 특허 제6305331호에 기재된 시아닌 화합물의 제조 방법에 의해, 하기 식(C-3) 및 (C-4)로 나타내는 화합물을 얻었다.

[제조예 5~6]

일본 공개특허공보 특개2006-189751호에 기재된 아자포르피린계 화합물의 제조 방법에 의해, 하기 식(C-5) 및 (C-6)으로 나타내는 화합물을 얻었다.

[실시예 1~13 및 비교예 1~4]

하기 표 1~표 2에 기재된 배합에 따라, 양이온 중합성 성분, 산 발생제, 색소, 라디칼 중합성 화합물, 광 라디칼 개시제, 용제 및 첨가제를 배합한 후, 배합물을 5㎛의 멤브레인 필터를 거치게 하고, 불용해분을 제거하여 조성물을 얻었다.

또한, 각 성분은 이하의 재료를 사용했다.

한편, 표 중의 배합량은 각 성분의 질량부를 나타내는 것이다.

[실시예 14~18]

하기 표 3에 기재된 배합에 따라, 양이온 중합성 성분, 산 발생제, 색소, 라디칼 중합성 화합물, 광 라디칼 개시제, 용제 및 첨가제를 배합한 후, 배합물을 5㎛의 멤브레인 필터를 거치게 하고, 불용해분을 제거하여 조성물을 얻었다.

또한, 각 성분은 이하의 재료를 사용했다.

(양이온 중합성 성분)

A1-1: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 ED-523T, 일반식(5-4)로 나타내고, Y⁶이 분기의 알킬렌기인 화합물)

A1-2: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 ED-506, 일반식(5-4)로 나타내고, Y⁶이 분기의 알킬렌기인 화합물)

A1-3: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4100E, 비스페놀A형 에폭시 화합물)

A1-4: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4901)

A1-5: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4000)

A1-6: 지환족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4080E, 수소첨가 비스페놀A형 에폭시 화합물)

A1-7: 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 지환족 에폭시 화합물, 저분자량 화합물(다이셀사 제품 셀록사이드 2021P, 일반식(5-1)로 나타내고, X⁵가 알킬렌기 및 에스테르 결합이 연결된 기인 화합물)

A1-8: 지환족 에폭시 화합물, 고분자량 화합물(다이셀사 제품 EHPE-3150, 2,2-비스(하이드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물, 지환족 에폭시 화합물A)

A1-9: 옥세탄 화합물, 저분자량 화합물(도아고세이사 제품 OXT-211)

(라디칼 중합성 화합물)

A2-1: 라디칼 중합성 화합물(니혼 카야쿠사 제품 카야라드 DPHA(디펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트의 혼합물))

(열가소성 수지)

A3-1: 열가소성 수지(메타크릴 수지, 스미토모 가가쿠사 제품 스미펙스 LG)

(산 발생제)

B1-1: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-1)로 나타내는 화합물)

B1-2: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-2)로 나타내는 화합물)

B1-3: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-3)으로 나타내는 화합물)

B1-4: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-4)로 나타내는 화합물)

B1-5: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(산아프로사 제품 CPI-100P)

B1-6: 열산 발생제, 방향족 설포늄염(산신 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제품 SI-110)

B1-7: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-7)로 나타내는 화합물)

(라디칼 개시제)

B2-1: 광 라디칼 개시제(1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤(IRGACURE 184))

(색소)

C-1: 피로메텐계 색소, 일반식(101)로 나타내는 화합물(제조예 1에서 제조된 상기 식(C-1)로 나타내는 화합물, 최대 흡수 파장 496㎚(클로로포름 중))

C-2: 피로메텐계 색소, 일반식(101)로 나타내는 화합물(제조예 2에서 제조된 상기 식(C-2)로 나타내는 화합물, 최대 흡수 파장 486㎚~490㎚(에탄올 중))

C-3: 시아닌계 색소, 일반식(102)로 나타내는 화합물(제조예 3에서 제조된 상기 식(C-3)으로 나타내는 화합물, 최대 흡수 파장 493㎚(클로로포름 중))

C-4: 시아닌계 색소, 일반식(102)로 나타내는 화합물(제조예 3에서 제조된 상기 식(C-4)로 나타내는 화합물, 최대 흡수 파장 478㎚(클로로포름 중))

C-5: 테트라아자포르피린계 색소, 일반식(1)로 나타내는 화합물(제조예 5에서 제조된 상기 식(C-5)로 나타내는 화합물, 최대 흡수 파장 591㎚(클로로포름 중))

C-6: 테트라아자포르피린계 색소, 일반식(1)로 나타내는 화합물(제조예 6에서 제조된 상기 식(C-6)으로 나타내는 화합물, 최대 흡수 파장 594㎚(클로로포름 중))

(첨가제)

D-1: 레벨링제(토레 다우코닝사 제품 SH-29PPaint aditive)

D-2: 계면활성제(빅케미사 제품 BYK-333)

D-3: 산화 방지제(ADEKA사 제품 AO-60)

D-4: 산화 방지제(ADEKA사 제품 AO-20)

D-5: 증감제(하기 식(D-5)로 나타내는 화합물)

D-6: 증감제(하기 식(D-6)으로 나타내는 화합물)

D-7: 증감제(하기 식(D-7)로 나타내는 화합물)

(용제)

E-1: 메틸에틸케톤(MEK)

E-2: 디아세톤알코올

E-3: 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGM)

[평가]

각종 측정에 대해서는 이하의 방법에 따라 실시했다.

평가 1. 조성물 및 그 경화물의 최소 투과율 및 최대 흡수 파장

실시예 및 비교예의 조성물을 사용하여, 이하의 방법에 의해 경화 전의 평가용 샘플과 경화 후의 평가용 샘플을 준비하고, 니혼분코 제품 가시자외 흡광도계 V-670을 이용하여 투과 스펙트럼을 측정하고, 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 범위에서의 최소 투과율과 그 때의 파장(최대 흡수 파장)을 얻었다. 결과를 하기 표 1~3에 나타낸다.

한편, 비교예 3~4에 대해서는 경화성 조성물은 아니기 때문에, 경화 전의 평가용 샘플의 측정 결과만 나타낸다.

또한, 색소로서 2종류 이상의 색소를 포함하는 경우에는 파장이 가장 짧은 최대 흡수 파장을 나타내는 색소에 대한 최대 흡수 파장을 나타냈다. 예를 들면, 색소 C-1 및 색소 C-5의 2종류의 색소를 포함하는 실시예 14에서는 최대 흡수 파장이 짧은 색소 C-1에 기초하여 얻어지는 최대 흡수 파장을 표에 나타냈다.

(경화 전의 평가용 샘플의 제작 방법)

(1) 상기 조성물을 기재(도요보 제품 PET 필름 A9300, 100㎛)에 바 코트법으로 도포했다.

코팅의 두께는, 이하의 경화 전의 평가용 샘플의 최대 흡수 파장에서의 투과율이 6% 이하가 되도록 조정했다.

(2) 이어서, 오븐으로 도막을, 80℃, 5분간의 조건으로 건조 처리하여 용제를 제거하고, 경화 전의 평가용 샘플을 얻었다.

(경화 후의 평가용 샘플의 제작 방법)

(1) 경화 전의 평가용 샘플에 대하여, 각 실시예 및 비교예마다 이하의 경화 처리를 실시하고, 경화 후의 평가용 샘플을 얻었다.

(3-1) 실시예 1~12, 실시예 14~18 및 비교예 1~2에서는, 건조 처리 후의 도막에 대하여 고압 수은램프를 이용하여 자외선을 700mJ/㎠ 조사하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻었다.

(3-2) 실시예 13에서는 오븐으로 건조 처리 후의 도막에 대하여, 100℃, 20분의 가열 처리를 실시하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻었다.

평가 2. 경화물의 최소 투과율과 조성물의 최소 투과율의 차의 절대값

실시예 1~12, 실시예 14~18 및 비교예 1~2의 조성물을 사용하여, 이하의 방법에 의해, 경화 전의 평가용 샘플과 경화 후의 평가용 샘플의 최소 투과율을 측정하고, 그 차의 절대값을 측정했다.

또한, 최소 투과율의 차의 절대값은 상기 "평가 1. 조성물 및 그 경화물의 최소 투과율 및 최대 흡수 파장"에 기재된 바와 마찬가지로, 색소로서 2종류 이상의 색소를 포함하는 경우에는 파장이 가장 짧은 최대 흡수 파장을 나타내는 색소에 대한 최대 흡수 파장에서의 투과율의 차를 측정했다. 예를 들면, 색소 C-1 및 색소 C-5의 2종류의 색소를 포함하는 실시예 14에서는, 최대 흡수 파장이 짧은 색소 C-1에 기초하여 얻어지는 최대 흡수 파장인 497㎚에서의 투과율의 차를 측정하고, 표에 나타냈다.

또한, 경화를 위한 노광량으로서, 700mJ/㎠ 및 3000mJ/㎠의 두 수준으로 실시했다. 결과를 하기 표 1~3에 나타낸다.

한편, 경화 전의 평가용 샘플은 상기 "평가 1. 조성물 및 그 경화물의 최소 투과율 및 최대 흡수 파장"에서 사용한 것을 사용했다.

경화 후의 평가용 샘플 중 노광량이 700mJ/㎠인 것은, 상기 "평가 1. 조성물 및 그 경화물의 최소 투과율 및 최대 흡수 파장"에서 제작한 경화 후의 평가용 샘플을 사용했다.

경화 후의 평가용 샘플 중 노광량이 3000mJ/㎠인 것은, 상기 "평가 1. 조성물 및 그 경화물의 최소 투과율 및 최대 흡수 파장"에서 제작한 경화 후의 평가용 샘플의 제작 방법으로서 자외선의 노광량을 3000mJ/㎠ 조사한 것 이외에는 동일한 방법에 의해 얻었다.

평가 3. 컬성

상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플을 10㎝각으로 잘라내고, 우선 왼쪽 반(5㎝분)을 유리판으로 누르고, 젖혀 올라간 오른쪽의 2각 각각의 높이를 측정하고, 다음으로 오른쪽 반(5㎝분)을 유리판으로 누르고, 젖혀 올라간 왼쪽의 2각 각각의 높이를 측정하고, 4개의 측정값의 평균(단위: mm)을 컬성으로 했다.

눈으로 봐서 뒤로 젖혀짐이 있는지를 평가하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1~3에 나타낸다.

○: 4 모퉁이의 평균이 10mm 미만

×: 4 모퉁이의 평균이 10mm 이상

한편, 컬성 평가가 "○"이면, 경화물은 컬이 적고, 컬성이 뛰어난 것을 나타낸다.

평가 4. 가요성

상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플을 10㎝각으로 잘라내고, 직경 10mm의 금속 막대에 둘러 감아서 크랙이 가지 않는지를 눈으로 보고 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1~3에 나타낸다.

○: 크랙 없음

×: 크랙 있음

한편, 가요성 평가가 "○"이면, 경화물은 가요성이 뛰어난 것을 나타낸다.

평가 5. 내(耐)용제성

상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플의, 상기 조성물의 경화막에, 아세톤을 스며들게 한 면봉을 문지르고, 10번 왕복 후의 염료의 이염을 눈으로 보아 관찰하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1~3에 나타낸다.

○: 이염 없음

×: 이염 있음

한편, 내용제성이 "○"이면, 경화물은 경시적인 색 변화가 적은 점에서 뛰어난 것을 나타낸다.

평가 6. 색소 단체의 최대 흡수 파장

상기 색소(C-1~C-6)의 란에 기재된 최대 흡수 파장은 이하의 방법을 이용하여 측정했다.

우선, 용해 후의 최대 흡수 파장에서의 투과율이 5% 정도(3% 이상 7% 이하)가 되도록, 클로로포름(C-2에 대해서는 에탄올)에 용해하여, 색소 용액을 조제했다.

이어서, 색소 용액을, 석영셀(광로 길이 10mm, 두께 1.25mm)에 충전하고, 분광 광도계(예를 들면, 니혼분코 제품 가시자외 흡광도계 V-670)를 이용하여 투과율을 측정하고, 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장범위에서의 투과율이 최소값이 되는 파장(최대 흡수 파장)을 얻었다.

표 1~2로부터, 실시예 1~13의 조성물은 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 확인할 수 있었다.

또한, 실시예 1~13의 조성물은 비교예 1~2의 조성물과 비교하여, 경화 전후로 투과율 변화가 적고, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것을 확인할 수 있었다

또한, 실시예 1~12의 조성물은 비교예 1~2와 비교하여, 3000mJ/㎠의 노광 처리를 실시한 경우여도, 경화 전후의 최소 투과율의 차의 절대값이 작은 것을 확인할 수 있었다.

또한, 표에는 기재하지 않았지만, 실시예 1의 색소의 함유량을 0.05질량부, 0.1질량부, 0.2질량부로 한 실시예(실시예 1-1, 실시예 1-2, 실시예 1-3)와, 비교예 1의 색소의 함유량을 0.05질량부, 0.1질량부, 0.2질량부로 한 비교예(비교예 1-1, 비교예 1-2, 비교예 1-3)에 대해, 상기 "평가 2. 경화물의 최소 투과율과 조성물의 최소 투과율의 차의 절대값"에 기재된 평가를 실시했다.

그 결과, 700mJ/㎠ 및 3000mJ/㎠ 중 어느 평가에서, 실시예 1-1~1-3은, 각각 색소의 함유량이 동량의 비교예 1-1~1-3보다도 투과율 차의 절대값이 1.0% 이상 작은 결과가 되는 것을 확인할 수 있었다.

이와 같은 결과로부터, 상기 조성물은 특정 파장의 광을 흡수하여, 색 순도를 높이는 것, 예를 들면, 청색 발광 및 녹색 발광의 색 순도를 높이는 것이 가능하고, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 광학 필터에 특히 유용한 것을 확인할 수 있었다.

실시예 1~13 및 비교예 1~2의 컬성 평가로부터, 실시예 1~13의 조성물은 경화 수축이 적고, 밀착성 등이 뛰어난 것이 되는 것을 확인할 수 있었다.

실시예 1~13과 비교예 1~2의 가요성 평가로부터, 실시예 1~13의 조성물은 가요성이 양호하고, 예를 들면, 플렉시블성을 가지는 화상 표시 장치에 사용되는 광학 필터 등에 특히 유용한 것을 확인할 수 있었다.

실시예 1~13 비교예 3~4의 내용제성의 평가로부터, 상기 조성물은, 양이온 중합성 성분을 포함함으로써, 3차원 가교된 도막을 형성할 수 있고, 색소의 유지 성능 등의 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것을 확인할 수 있었다.

표 3으로부터, 실시예 14~18의 조성물은 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 확인할 수 있었다. 실시예 15~18과 같이, 최대 흡수 파장이 다른 색소를 복수 혼합한 경우여도, 예를 들면, 양자가 응집 등을 하지 않고, 각각의 색소에 기초한 최대 흡수 파장을 나타내는 경화물이 얻어지는 것을 확인할 수 있었다.

또한, 실시예 14~18의 조성물은, 비교예 1~2의 조성물과 비교하여, 경화 전후로 투과율 변화가 적고, 450㎚ 이상 550㎚ 미만의 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물이 얻어지는 것을 확인할 수 있었다

또한, 실시예 14~18의 조성물은 비교예 1~2와 비교하여, 3000mJ/㎠의 노광 처리를 실시한 경우여도, 경화 전후의 최소 투과율의 차의 절대값이 작은 것을 확인할 수 있었다.

이와 같은 결과로부터, 실시예 14~18의 조성물은 특정 파장의 광을 흡수하여, 색 순도를 높이는 것, 예를 들면, 청색 발광 및 녹색 발광의 색 순도를 높이는 것이 가능하고, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 광학 필터에 특히 유용한 것을 확인할 수 있었다.

실시예 14~18 및 비교예 1~2의 컬성 평가로부터, 실시예 14~18의 조성물은 경화 수축이 적고, 밀착성 등이 뛰어난 것이 되는 것을 확인할 수 있었다.

실시예 14~18과 비교예 1~2의 가요성 평가로부터, 실시예 14~18의 조성물은 가요성이 양호하고, 예를 들면, 플렉시블성을 가지는 화상 표시 장치에 사용되는 광학 필터 등에 특히 유용한 것을 확인할 수 있었다.

실시예 14~18 비교예 3~4의 내용제성의 평가로부터, 상기 조성물은 양이온 중합성 성분을 포함함으로써, 3차원 가교된 도막을 형성할 수 있고, 색소의 유지 성능 등의 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것을 확인할 수 있었다.

Claims

색소와,
양이온 중합성 성분과,
산 발생제를 포함하는 조성물.
제1항에 있어서,
상기 색소가 피로메텐계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하는 조성물.
제2항에 있어서,
상기 피로메텐계 색소가 하기 일반식(101)로 나타내는 화합물이며,
상기 시아닌계 색소가 하기 일반식(102)로 나타내는 화합물인 조성물.

(식 중 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 설포기, 설포기의 염, 탄소 원자수 1~30의 지방족 탄화수소기, 탄소 원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기, 탄소 원자수 3~30의 지방족 복소환기 또는 탄소 원자수 3~30의 방향족 복소환기를 나타내거나,
R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵ 및 R¹⁰⁶은, 각각 독립적으로 상기 지방족 탄화수소기, 상기 방향환 함유 탄화수소기, 상기 지방족 복소환기 또는 상기 방향족 복소환기 중의 1개 또는 2개 이상의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 또는 상기 지방족 탄화수소기, 상기 방향환 함유 탄화수소기, 상기 지방족 복소환기 또는 상기 방향족 복소환기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이, 탄소-탄소 이중결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR''-, >P=O, -S-S-, -SO₂- 또는 산소 원자가 서로 이웃하지 않는 조건으로 이들의 조합한 기로 치환되어 있는 기를 나타내고,
R''는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내며,
상기 지방족 탄화수소기, 상기 방향환 함유 탄화수소기, 상기 지방족 복소환기 및 상기 방향족 복소환기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 치환기가, 에틸렌성 불포화기, 할로겐 원자, 아실기, 아실옥시기, 치환 아미노기, 설폰아미드기, 설포닐기, 카르복실기, 시아노기, 설포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 설폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 설포기, 포스폰산기, 또는 인산기의 염이며,
X¹⁰¹은 3가의 기를 나타내고,
M은, 붕소 원자, 베릴륨 원자, 마그네슘 원자, 크롬 원자, 철 원자, 니켈 원자, 구리 원자, 아연 원자 또는 백금 원자를 나타내며,
M과 N을 잇는 점선은 N의 부대전자가 M에 배위하여 형성된 배위결합을 나타내거나, 또는 N과 M 사이에 결합이 존재하지 않는 것을 나타내고,
Y¹⁰¹은 M과 결합하는 기를 나타내며,
n은 1~3의 정수를 나타낸다.)

(식 중 A는 하기의 군I의 (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), (j), (k), (l) 및 (m)에서 선택되는 기를 나타내고,
A'는 하기의 군II의 (a'), (b'), (c'), (d'), (e'), (f'), (g'), (h'), (i'), (j'), (k'), (l') 및 (m')에서 선택되는 기를 나타내며,
Q는 메틴 사슬을 포함하는 탄소 원자수 1~9의 연결기를 나타내고, 상기 연결기는 메틴 사슬 중에 환 구조를 포함하고 있어도 되고,
An^q-는 q가의 음이온을 나타내고, q는 1 또는 2를 나타내며, p는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)

(식 중 환C는 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,
X는, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, -CR⁵¹R⁵²-, 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기, -NH- 또는 -NY²-를 나타내며,
R¹, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R⁵¹ 및 R⁵²는, 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 설포기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내며, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸ 및 R⁹는 각각 동일하거나 또는 다르며,
Y 및 Y²는, 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
r은, (a), (b), (c), (d), (e), (g), (h), (i), (j), (l) 및 (m)에서 치환 가능한 수를 나타내며,
*는 결합수(結合手)를 나타낸다.)

(식 중 환C'는, 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,
X'는, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, -CR⁵¹R⁵²-, 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기, -NH- 또는 -NY²-를 나타내며,
R¹', R²', R³', R⁴', R⁵', R⁶', R⁷', R⁸', R⁹', R⁵¹ 및 R⁵²는, 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 설포기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R²', R³', R⁴', R⁵', R⁶', R⁷', R⁸' 및 R⁹'는 각각 동일하거나 또는 다르며,
Y' 및 Y²는, 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
r'는, (a'), (b'), (c'), (d'), (e'), (g'), (h'), (i'), (j'), (l') 및 (m')에서 치환 가능한 수를 나타내고,
*는 결합수를 나타낸다.)
제3항에 있어서,
상기 색소가 450㎚ 이상 550㎚ 미만에 최대 흡수 파장을 가지는 것인 조성물.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 색소가 테트라아자포르피린계 색소를 포함하고,
상기 테트라아자포르피린계 색소가 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물인, 조성물.

(식 중 R³⁰¹, R³⁰², R³⁰³, R³⁰⁴, R³⁰⁵, R³⁰⁶, R³⁰⁷ 및 R³⁰⁸은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 또는 이들 기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환된 기를 나타내며,
상기 알킬기, 상기 알콕시기, 상기 아릴기, 상기 아릴옥시기 및 상기 헤테로아릴기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상을 치환하는 치환기가, 에틸렌성 불포화기, 할로겐 원자, 아실기, 아실옥시기, 치환 아미노기, 설폰아미드기, 설포닐기, 카르복실기, 시아노기, 설포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 설폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 설포기, 포스폰산기, 인산기의 염이고,
R³⁰¹과 R³⁰², R³⁰³과 R³⁰⁴, R³⁰⁵와 R³⁰⁶ 및 R³⁰⁷과 R³⁰⁸은, 서로 연결되어 피롤환의 탄소 원자를 포함하는 지환 구조를 형성하고 있어도 되며,
R³⁰¹, R³⁰², R³⁰³, R³⁰⁴, R³⁰⁵, R³⁰⁶, R³⁰⁷ 및 R³⁰⁸은 동시에 수소 원자로는 되지 않고,
M은, 2개의 수소 원자, 2개의 1가의 금속 원자, 2가의 금속 원자, 또는 3가 혹은 4가의 금속 화합물을 나타낸다.)
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 색소가 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하 포함되어 있고,
상기 양이온 중합성 성분이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상 포함되어 있으며,
상기 산 발생제가 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하 포함되어 있는, 조성물.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 산 발생제가, 하기 일반식(2)로 나타내는 광산 발생제를 포함하는 조성물.

(식 중 R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³ 및 R³⁴는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고,
R³⁵는, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 하기 식(A)~(C)에서 선택되는 어느 하나의 치환기를 나타내며,
An1^q1-는 q1가의 음이온을 나타내고,
q1은 1 또는 2의 정수를 나타내며,
p1은 전하를 중성으로 하는 계수를 나타낸다.)

(식 중 R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴², R¹⁴³ 및 R¹⁴⁴, R¹⁴⁵, R¹⁴⁶, R¹⁴⁷, R¹⁴⁸ 및 R¹⁴⁹는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고,
*는 식(2) 중의 S와의 결합 위치를 나타낸다.)
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 양이온 중합성 성분이 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는, 조성물.
제8항에 있어서,
상기 에폭시 화합물이 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물 중 적어도 한쪽을 포함하는, 조성물.
제9항에 있어서,
상기 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물의 합계의 함유량이 상기 에폭시 화합물 100질량부 중에 50질량부 이상인, 조성물.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물이 광학 필터용인 조성물.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화물.
제12항에 기재된 경화물을 포함하는 광 흡수층을 가지는 광학 필터.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 경화하는 공정을 포함하는, 경화물의 제조 방법.