KR20220137864A

KR20220137864A - 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법

Info

Publication number: KR20220137864A
Application number: KR1020227001579A
Authority: KR
Inventors: 토모미 사이토; 잇페이 와타나베; 요스케 마에다
Original assignee: 가부시키가이샤 아데카
Priority date: 2020-02-04
Filing date: 2021-01-29
Publication date: 2022-10-12
Also published as: CN114222773A; TW202146510A; WO2021157491A1; CN114222773B; JPWO2021157491A1

Abstract

본 발명의 목적은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명은 양이온 중합성 성분과 광산 발생제와 카르바졸계 증감제를 포함하는 조성물로서, 상기 양이온 중합성 성분이 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 조성물이다. 상기 지환식 에폭시 화합물은 분자 중에 적어도 하나의 지환식 에폭시기, 즉 시클로알켄옥사이드 구조를 가지는 것이며, 2개의 시클로알켄옥사이드 구조가 직접 또는 시클로알칸 구조를 통해 축합한 구조를 가지는 화합물, 및 2개의 시클로알켄옥사이드 구조가 연결기에 의해 연결된 구조를 가지는 화합물인 것이 바람직하다.

Description

조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법

본 발명은 조성물, 그의 경화물 및 그것을 사용한 광학 필터 그리고 경화물의 제조 방법에 관한 것이다.

특정 파장의 광을 흡수하는 광학 필터의 형성 방법으로서, 착색제와 경화성 화합물을 포함하는 착색 조성물을 포토리소그래피법, 잉크젯법 등의 각종 도포 방법에 의해 기재(基材)에 도포하여 경화하고, 착색 패턴을 형성하는 방법이 알려져 있다. 이와 같은 착색 조성물로는 예를 들면, 라디칼 중합성 화합물과 착색제를 조합한 조성물이 알려져 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에는 염료와 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 조성물이 기재되어 있다.

그러나 착색제로서 염료를 포함하는 라디칼 중합성 착색 조성물을 사용하여 광학 필터를 형성한 경우, 원하는 파장영역의 광흡수성이 뛰어난 광학 필터를 얻을 수 없는 경우가 있다는 문제가 존재했다.

미국 특허공보 US9,720,319

본 발명자들은 경화성 화합물로서 양이온 중합성 화합물을 사용함으로써 원하는 파장영역의 광흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것을 발견하여 이를 제안했다.

그러나 착색제와 함께 양이온 중합성 화합물을 사용한 경우, 경시적으로 광흡수성이 변화되는 경우가 있다는 문제가 있었다.

또한, 얻어질 경화물의 기재에 대한 밀착성이 충분하지 않아, 형성된 착색 패턴이 기재로부터 박리되는 경우가 있다는 문제가 있었다.

본 발명은 상기 문제점에 비추어 보아 이루어진 것이며, 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것을 주목적으로 한다.

본 발명자는 예의 검토한 결과, 양이온 중합성 화합물로서 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하고, 나아가 특정 증감제를 조합한 조성물을 사용함으로써 밀착성이 뛰어나며, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물의 형성이 가능해지는 것을 발견했다.

즉, 본 발명은 양이온 중합성 성분과 광산 발생제와 카르바졸계 증감제를 포함하는 조성물로서, 상기 양이온 중합성 성분이 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 조성물이다.

본 발명에서는 상기 지환식 에폭시 화합물이 하기 식(1-1), (1-2), (1-3), (1-4) 및 (1-5)로 표현되는 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고, 상기 옥세탄 화합물이 다관능 옥세탄 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다.

식(1-1) 중 R¹, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹ 및 R¹⁰은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.

식(1-2) 중, R¹¹, R¹², R¹³, R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹, R²⁰, R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵ 및 R²⁶은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.

식(1-3) 중, R³¹, R³², R³³, R³⁴, R³⁵, R³⁶, R³⁷, R³⁸, R³⁹, R⁴⁰, R⁴¹, R⁴², R⁴³, R⁴⁴, R⁴⁵, R⁴⁶, R⁴⁷ 및 R⁴⁸은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.

식(1-4) 중, R⁵¹, R⁵², R⁵³, R⁵⁴, R⁵⁵, R⁵⁶, R⁵⁷, R⁵⁸, R⁵⁹, R⁶⁰, R⁶¹, R⁶², R⁶³, R⁶⁴, R⁶⁵, R⁶⁶, R⁶⁷ 및 R⁶⁸은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.

식(1-5) 중, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁴, R⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁹, R⁸⁰, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁴, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷ 및 R⁸⁸은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타내고,

X는 단결합 또는 탄소 원자수 1~4의 알킬렌기, 카르보닐기, 에테르 결합, 에스테르 결합, 카보네이트기, 아미드기 혹은 이들이 복수 연결된 기를 나타낸다.

본 발명에서는 상기 지환식 에폭시 화합물이 상기 식(1-1), (1-2) 및 (1-5)로 표현되는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다.

본 발명에서는 상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량이 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 합계 100질량부 중에 1질량부 이상 80질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서는 상기 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 합계 함유량이 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 40질량부 이상 95질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서는 상기 양이온 중합성 성분이 추가로 지방족 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서는 상기 카르바졸계 증감제가 하기 식(4-1), (4-2), (4-3) 또는 (4-4)로 표현되는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

식(4-1) 중 R²⁰¹은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고,

R²⁰², R²⁰³, R²⁰⁴, R²⁰⁵, R²⁰⁶, R²⁰⁷, R²⁰⁸ 및 R²⁰⁹는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.

식(4-2) 중 R²¹¹은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고,

R²¹², R²¹³, R²¹⁴, R²¹⁵, R²¹⁶, R²¹⁷, R²¹⁸, R²¹⁹, R²²⁰ 및 R²²¹은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.

식(4-3) 중 R²³¹은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고,

R²³², R²³³, R²³⁴, R²³⁵, R²³⁶, R²³⁷, R²³⁸, R²³⁹, R²⁴⁰ 및 R²⁴¹은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.

식(4-4) 중 R²⁵¹은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고,

R²⁵², R²⁵³, R²⁵⁴, R²⁵⁵, R²⁵⁶, R²⁵⁷, R²⁵⁸, R²⁵⁹, R²⁶⁰ 및 R²⁶¹은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.

본 발명은 상기 조성물의 경화물을 제공한다.

본 발명에 따르면, 상기 경화물은 상술한 조성물을 경화시킨 것임으로써, 예를 들면 뛰어난 밀착성을 발휘함과 함께, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 것이 된다. 따라서, 이와 같은 경화물을 사용함으로써 경시적인 광흡수성 변화가 억제된 광학 필터가 용이하게 얻어진다.

본 발명은 상기 조성물의 경화물을 포함하는 광흡수층을 가지는 광학 필터를 제공한다.

본 발명에 따르면, 상기 광흡수층이 상술한 경화물을 포함함으로써, 광흡수층이 형성되는 부재에 대한 뛰어난 밀착성을 발휘함과 함께, 광흡수성의 경시 안전성이 뛰어난 것이 된다.

본 발명은 상기 조성물을 경화하는 공정을 가지는 경화물의 제조 방법이다.

본 발명에 따르면, 상기 경화물의 제조 방법은 상기 조성물을 경화시키는 것이기 때문에, 예를 들면, 뛰어난 밀착성을 발휘함과 함께, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 얻을 수 있다. 또한, 이와 같은 경화물을 사용함으로써, 광흡수성의 경시 안정성이 뛰어난 광학 필터 등으로서 사용할 수 있게 된다.

본 발명은 조성물, 그것을 사용한 경화물 및 경화물의 제조 방법에 관한 것이다.

이하, 본 발명의 조성물, 경화물 및 경화물의 제조 방법에 대해 상세하게 설명한다.

A. 조성물

본 발명의 조성물은 양이온 중합성 성분과 광산 발생제와 카르바졸계 증감제를 포함하는 조성물로서, 상기 양이온 중합성 성분이 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.

본 발명의 조성물은 양이온 중합성 화합물로서 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하고, 나아가 특정 증감제를 조합시킴으로써 밀착성이 뛰어나며, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물의 형성이 가능해진다.

여기서, 양이온 중합성 화합물로서 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하고, 나아가 특정 증감제를 조합함으로써, 밀착성이 뛰어나며, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물의 형성이 가능해지는 이유에 대해서는 명확하지 않지만, 이하와 같이 추측된다.

지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물과 특정 증감제를 조합함으로써, 적당한 속도로 경화 반응이 진행되고, 충분한 가교 구조가 형성된 경화물을 형성할 수 있다. 또한, 지환식 에폭시 화합물과 옥세탄 화합물의 조합에 의해, 경화 수축을 적게 할 수 있다. 이와 같은, 적당한 속도로 경화 반응이 진행되는 것, 및 경화 수축의 적음으로부터, 경화물 중의 착색제의 응집, 블리드 아웃 등이 억제되고, 착색제가 경화물 중에 안정적으로 유지된다. 또한, 지환식 에폭시 화합물이 가지는 지환 구조에 의해, 효과적으로 경화물 중으로의 수분의 침입을 차단할 수 있다. 특히, 고온고습 조건하에서도 경화물 중으로의 수분의 침입을 효과적으로 차단할 수 있다. 그 결과, 상기 조성물은 수분의 존재에 의한 착색제의 분해, 변성 등의 경시적 열화도 억제할 수 있다. 특히 습열 조건하 등의 가혹한 조건하에서도 착색제의 응집, 블리드 아웃 등을 억제할 수 있고, 나아가 분해, 변성 등의 경시적 열화도 억제할 수 있다. 이와 같은 점에서, 상기 조성물을 사용한 경화물은 광흡수성 변화가 적은 것이 된다.

또한, 경화 반응에 의해 충분한 가교 구조가 형성되고, 경화 수축도 적음으로써, 상기 경화물은 피착체와의 밀착성이 뛰어난 것이 된다.

이상의 점에서, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있는 것이 된다.

또한, 상기 조성물은 경화물로 한 경우에 사용한 첨가제 등의 응집, 블리드 아웃 등이 억제되며, 첨가제 등이 경화물 중에 안정적으로 유지됨으로써, 예를 들면, 첨가제로서 착색제를 사용한 경우에는 용제의 첨가량이 적어도 착색제의 분산성이 뛰어난 것이 된다. 그 결과, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해진다. 용제 첨가량을 저감할 수 있음으로써 건조 공정이 짧고 공정 통과성이 뛰어나며, 환경 및 인체에 대한 영향이 적고, 나아가 도포 대상의 재료 선택의 자유도도 뛰어난 것이 된다.

또한, 경화 반응이 빠르고, 초기 경화성이 뛰어남으로써 예를 들면, 공정 통과성이 뛰어난 것이 된다. 또한, 상술한 바와 같이, 상기 조성물의 경화물은 고온고습 조건하에서 수분의 침입을 효과적으로 차단할 수 있고, 내수성, 내습열성이 뛰어난 것이 된다.

이와 같이, 상기 조성물은 이를 사용하여 형성한 경화물이 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적으며, 나아가 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것이 된다.

이하, 본 발명의 조성물을 구성하는 각 성분에 대해 상세하게 설명한다.

1. 양이온 중합성 성분

상기 양이온 중합성 성분은 산에 의해 중합 또는 가교 반응을 일으키는 화합물이다.

본 발명에서는 양이온 중합성 성분은 지환식 에폭시 화합물과 옥세탄 화합물 양자를 포함한다.

양이온 중합성 성분으로는 예를 들면 에폭시기, 옥세타닐기, 환상 락톤기, 환상 아세탈기, 환상 티오에테르기, 스피로오르토에스테르기 등의 환상 에테르기, 및 비닐에테르기 등의 양이온 중합성 기를 가지는 양이온 중합성 화합물을 들 수 있다.

상기 양이온 중합성 화합물로는 예를 들면 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물 등의 환상 에테르 화합물, 및 비닐에테르 화합물 등을 들 수 있다.

여기서, 에폭시 화합물은 양이온 중합성 기로서 에폭시기만 가지는 화합물로 한다.

옥세탄 화합물은 양이온 중합성 기로서, 옥세타닐기를 가지는 화합물 모두를 가리킨다. 즉, 에폭시기와 옥세타닐기 양자를 가지는 화합물은 옥세탄 화합물에 해당한다.

에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물 이외의 양이온 중합성 화합물은 에폭시기 및 옥세타닐기 중 어느 것도 가지지 않는 화합물로 한다.

(1) 지환식 에폭시 화합물

상기 지환식 에폭시 화합물은 분자 중에 적어도 하나의 지환식 에폭시기, 즉 시클로알켄옥사이드 구조를 가지며, 옥세타닐기를 가지지 않는 화합물이고, 1분자 중에 복수의 지환식 에폭시기를 가져도 되며, 지환식 에폭시기 이외의 에폭시를 가져도 된다. 또한, 상기 지환식 에폭시 화합물은 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

시클로알켄옥사이드 구조는 시클로헥센환 함유 화합물이나 시클로펜텐환 함유 화합물을 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는, 시클로헥센옥사이드 구조나 시클로펜텐옥사이드 구조와 같이, 지방족환과 에폭시환이 환 구조의 일부를 공유하는 구조이다.

상기 지환식 에폭시 화합물 중 시클로알켄옥사이드 구조를 1개 가지는 화합물로는 예를 들면, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트, 디시클로펜타디엔디에폭사이드, 에폭시헥사하이드로프탈산디옥틸, 에폭시헥사하이드로프탈산디-2-에틸헥실, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산, 1,2-에폭시-2-에폭시에틸시클로헥산 등을 들 수 있다.

또한, 시클로알켄옥사이드 구조를 2개 가지는 화합물로는 2개의 시클로알켄옥사이드 구조가 직접 또는 시클로알칸 구조를 통해 축합한 구조를 가지는 화합물, 및 2개의 시클로알켄옥사이드 구조가 연결기에 의해 연결된 구조를 가지는 화합물을 들 수 있다.

2개의 시클로알켄옥사이드 구조가 직접 또는 시클로알칸 구조를 통해 축합한 구조를 가지는 화합물의 구체예로는 하기 식(1-1)~(1-4)로 표현되는 화합물을 들 수 있고, 2개의 시클로알켄옥사이드 구조가 연결기에 의해 연결된 구조를 가지는 화합물의 구체예로는 하기 식(1-5)로 표현되는 화합물을 들 수 있다.

식(1-1) 중, R¹, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹ 및 R¹⁰은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.

상기 식(1-1) 중의 R¹~R¹⁰, 상기 식(1-2) 중의 R¹¹~R²⁶, 상기 식(1-3) 중의 R³¹~R⁴⁸, 상기 식(1-4) 중의 R⁵¹~R⁶⁸ 및 상기 식(1-5) 중의 R⁷¹~R⁸⁸로 표현되는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있다.

상기 식(1-1) 중의 R¹~R¹⁰, 상기 식(1-2) 중의 R¹¹~R²⁶, 상기 식(1-3) 중의 R³¹~R⁴⁸, 상기 식(1-4) 중의 R⁵¹~R⁶⁸ 및 상기 식(1-5) 중의 R⁷¹~R⁸⁸로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 아밀기, 이소아밀기, t-아밀기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 이소옥틸기, 2-에틸헥실기, t-옥틸기, 노닐기, 이소노닐기, 데실기 및 이소데실기 등을 들 수 있다.

상기 식(1-1) 중의 R¹~R¹⁰, 상기 식(1-2) 중의 R¹¹~R²⁶, 상기 식(1-3) 중의 R³¹~R⁴⁸, 상기 식(1-4) 중의 R⁵¹~R⁶⁸ 및 상기 식(1-5) 중의 R⁷¹~R⁸⁸로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기로는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, s-부톡시기, t-부톡시기, 아밀옥시기, 이소아밀옥시기, t-아밀옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, t-옥틸옥시기, 노닐옥시기, 이소노닐옥시기, 데실옥시기 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다.

상기 식(1-5) 중의 X로 표현되는, 탄소 원자수 1~4의 알킬렌기로는 탄소 원자수 1~4의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기를 들 수 있고, 상기 알킬기로는 상기 식(1-1)의 R¹~R¹⁰으로 표현되는 알킬기로서 든 알킬기 중, 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 들 수 있다. 구체적으로는 메틸렌기, 메틸메틴기, 이소프로필리덴기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기 등을 들 수 있다.

상기 X가 탄소 원자수 1~4의 알킬렌기, 카르보닐기, 에테르 결합, 에스테르 결합, 카보네이트기 및 아미드기에서 선택되는 기가 복수 연결된 기인 경우, X 전체의 탄소 원자수로는 2 이상 20 이하로 할 수 있다.

한편, 단결합이란, X가 연결되는 탄소 원자끼리가 직접 결합하는 것이다. 이와 같은 단결합에 의해, 2개의 시클로알켄옥사이드환이 결합된 화합물로는 예를 들면, 하기 식(A1-4)로 표현되는 화합물을 들 수 있다.

상기 식(1-1)~(1-5)로 표현되는 화합물의 제조 방법으로는 일본 공개특허공보 특개2019-189844호에 기재된 제조 방법 등을 들 수 있다.

상기 식(1-1)로 표현되는 화합물 중 시판되고 있는 것으로는 예를 들면, THI-DE(JXTG 에너지 제품) 등을 들 수 있다.

상기 식(1-2)로 표현되는 화합물 중 시판되고 있는 것으로는 예를 들면, DE-102(JXTG 에너지 제품) 등을 들 수 있다.

상기 식(1-3)으로 표현되는 화합물 중 시판되고 있는 것으로는 예를 들면, DE-103(JXTG 에너지 제품) 등을 들 수 있다.

상기 식(1-5)로 표현되는 화합물 중 시판되고 있는 것으로는 예를 들면, 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 8000(다이셀 제품) 등을 들 수 있다.

본 발명에서는 상기 지환식 에폭시 화합물이 시클로알켄옥사이드 구조를 2개 이상 가지는 다관능 지환식 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 관능기 수는 2개 이상 5개 이하인 것이 바람직하고, 2개 이상 3개 이하인 것이 보다 바람직하며, 2개인 것이 특히 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서는 상기 지환식 에폭시 화합물이 2개의 시클로알켄옥사이드 구조가 직접 또는 시클로알칸 구조를 통해 축합한 구조를 가지는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 특히, 상기 조성물은 내수성이 뛰어난 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서는 상기 지환식 에폭시 화합물이 상기 식(1-1), (1-2), (1-3), (1-4) 및 (1-5)로 표현되는 화합물에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 식(1-1), (1-2) 및 (1-5)로 표현되는 화합물에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것이 보다 바람직하며, 특히, 상기 식(1-1) 및 (1-2)로 표현되는 화합물에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

상기 식(1-1) 중의 R¹~R¹⁰, 상기 식(1-2) 중의 R¹¹~R²⁶, 상기 식(1-3) 중의 R³¹~R⁴⁸, 상기 식(1-4) 중의 R⁵¹~R⁶⁸ 및 상기 식(1-5) 중의 R⁷¹~R⁸⁸은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 특히 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

상기 식(1-5) 중의 X는 단결합, 탄소 원자수 1~4의 알킬렌기, 에스테르 결합, 또는 탄소 원자수 1~4의 알킬렌기와 에스테르 결합이 연결된 기인 것이 바람직하고, 단결합 또는 탄소 원자수 1~4의 알킬렌기와 에스테르 결합이 연결된 기인 것이 보다 바람직하며, 단결합, 또는 탄소 원자수 1~2의 알킬렌기와 에스테르 결합이 연결된 기인 것이 더 바람직하고, 특히 단결합인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

상기 지환식 에폭시 화합물의 분자량으로는 원하는 내구성 및 밀착성을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 100 이상 400 이하인 것이 바람직하고, 120 이상 300 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히 150 이상 250 이하인 것이 바람직하다. 상기 분자량임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

상기 지환식 에폭시 화합물의 에폭시 당량으로는 원하는 내구성 및 밀착성을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 50 이상 200 이하인 것이 바람직하고, 60 이상 150 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히, 70 이상 130 이하인 것이 바람직하다. 상기 에폭시 당량임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량으로는 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 합계 100질량부 중에 1질량부 이상 80질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 70질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 10질량부 이상 60질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 12질량부 이상 40질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 15질량부 이상 30질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량으로는 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 1질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 8질량부 이상 40질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 10질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량으로는 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 1질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 8질량부 이상 40질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 10질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

한편, 상기 조성물의 고형분은 상기 조성물의 용제 이외의 모든 성분의 합계를 가리키는 것이다.

상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량으로는 상기 조성물 100질량부 중에 1질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 8질량부 이상 40질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 10질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 합계 함유량으로는 상기 조성물 100질량부 중에 40질량부 이상 95질량부 이하인 것이 바람직하고, 50질량부 이상 95질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 60질량부 이상 92질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 70질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

(2) 옥세탄 화합물

상술한 바와 같이, 옥세탄 화합물은 양이온 중합성 기로서, 옥세타닐기를 가지는 화합물 모두를 가리킨다.

상기 옥세탄 화합물은 분자 중에 적어도 하나의 옥세타닐기를 가지는 화합물이며, 1분자 중에 복수의 옥세타닐기를 가져도 되고 에폭시기를 가져도 된다. 또한, 상기 옥세탄 화합물은 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

상기 옥세탄 화합물 중 옥세타닐기를 1개 가지는 화합물로는 예를 들면, 하기 식(2-1)로 표현되는 화합물을 들 수 있다.

상기 식(2-1) 중 R⁹¹ 및 R⁹²는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타낸다.

상기 식(2-1) 중의 R⁹¹ 및 R⁹²로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기는 상기 식(1-1) 중의 R¹~R¹⁰으로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기와 마찬가지이다.

상기 R⁹¹로는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 R⁹²로는 수소 원자 또는 탄소 원자수 3~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 수소 원자 또는 탄소 원자수 5~10의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 수소 원자 또는 탄소 원자수 6~9의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 식(2-1)로 표현되는 화합물의 구체예로는 3-에틸-3-(하이드록시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(메톡시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(시클로헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(4-하이드록시부틸옥시메틸)옥세탄 등을 들 수 있다.

또한, 옥세타닐기를 2개 가지는 화합물로는 예를 들면, 하기 식(2-2)로 표현되는 화합물을 들 수 있다.

상기 식(2-2) 중 R⁹³ 및 R⁹⁴는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내고, Z는 탄소 원자수 2~20의 연결기를 나타내며, n은 0~3의 정수를 나타낸다.

상기 식(2-1) 중의 R⁹³ 및 R⁹⁴로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기는 상기 식(1-1) 중의 R¹~R¹⁰으로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기와 마찬가지이다.

상기 식(2-2) 중의 Z로 표현되는 탄소 원자수 2~20의 연결기로는 탄소 원자수 2~10의 알킬렌기 및 탄소 원자수 8~20의 방향환 함유 기 등을 들 수 있다.

상기 R⁹³ 및 R⁹⁴는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 n으로는 0~2의 정수인 것이 바람직하고, 0~1의 정수인 것이 보다 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 식(2-2) 중의 Z로 표현되는 탄소 원자수 2~10의 알킬렌기로는 탄소 원자수 2~10의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기를 들 수 있고, 상기 알킬기로는 상기 식(1-1)의 R¹~R¹⁰으로 표현되는 알킬기로서 든 알킬기 중, 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 들 수 있다. 구체적으로는 메틸메틴기, 이소프로필리덴기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기 등을 들 수 있다.

상기 식(2-2) 중의 Z로 표현되는 탄소 원자수 8~20의 방향환 함유기로는 벤젠환 1~2개와, 알킬렌기, 카보네이트기, 아미드기 혹은 이들이 복수 연결된 기를 조합한 기를 들 수 있고, 구체적으로는 하기 식(2a)~(2d)로 표현되는 기 등을 들 수 있다.

상기 식(2-2)로 표현되는 화합물의 구체예로는 3,7-비스(3-옥세타닐)-5-옥사-노난, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에탄, 1,3-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]프로판, 에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 1,4-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)부탄, 1,6-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)헥산, 3-에틸-3-(3-에틸-3-옥세타닐메틸옥시메틸)옥세탄, 크실릴렌비스옥세탄 등을 들 수 있다.

옥세탄 화합물의 시판품으로는 예를 들면, 아론옥세탄 OXT-101, OXT-212, OXT-121, OXT-221(도아 고세이 제품), 에타나콜 EHO, HBOH, OXBP, OXIPA(우베 고산 제품) 등을 들 수 있다.

본 발명에서는 상기 옥세탄 화합물이 옥세타닐기를 2개 이상 가지는 다관능 옥세탄 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서는 상기 옥세탄 화합물이 상기 식(2-2)로 표현되는 화합물에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 옥세탄 화합물의 분자량으로는 원하는 내구성 및 밀착성을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 100 이상 400 이하인 것이 바람직하고, 120 이상 300 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히, 150 이상 250 이하인 것이 바람직하다. 상기 분자량임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 옥세탄 화합물의 옥세탄 당량으로는 원하는 내구성 및 밀착성을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 50 이상 200 이하인 것이 바람직하고, 60 이상 150 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히 70 이상 130 이하인 것이 바람직하다. 상기 옥세탄 당량임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 옥세탄 화합물의 함유량으로는 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 5질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하고, 30질량부 이상 85질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 40질량부 이상 80질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 50질량부 이상 75질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 옥세탄 화합물의 함유량으로는 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 5질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하고, 30질량부 이상 85질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 40질량부 이상 80질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 50질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 옥세탄 화합물의 함유량으로는 상기 조성물 100질량부 중에 5질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하고, 30질량부 이상 85질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 40질량부 이상 80질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 50질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

(3) 기타 에폭시 화합물

상기 양이온 중합성 화합물은 상술한 지환식 에폭시 화합물 이외의 에폭시 화합물을 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 에폭시 화합물로는 지방족 에폭시 화합물 및 방향족 에폭시 화합물을 들 수 있다.

본 발명에서는 상기 에폭시 화합물로서, 지방족 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

(3-1) 지방족 에폭시 화합물

상기 지방족 에폭시 화합물은 에폭시기를 가지며, 옥세타닐기, 지환식 에폭시기 및 방향족환을 가지지 않는 화합물이다.

상기 지방족 에폭시 화합물은 분자 중에 적어도 하나의 에폭시기를 가지는 화합물이며, 1분자 중에 복수의 에폭시기를 가지고 있어도 된다. 또한, 상기 지방족 에폭시 화합물은 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

상기 지방족 에폭시 화합물로는 지방족 탄화수소환을 포함하지 않는, 쇄상 지방족 에폭시 화합물, 및 지방족 탄화수소환을 포함하는, 지방족환 함유 에폭시 화합물을 들 수 있다.

상기 쇄상 지방족 에폭시 화합물로는 예를 들면, 하기 식(I)로 표현되는 화합물을 들 수 있다.

상기 식(I) 중, Y¹은 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기, 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이 산소 원자로 치환된 구조의 기를 나타낸다.

상기 식(I) 중의 Y¹로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기는 상기 식(1-1) 중의 R¹~R¹⁰으로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기를 들 수 있다.

상기 Y¹로는 탄소 원자수 2~8의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 3~6의 알킬렌기인 것이 보다 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 Y¹에 사용되는 알킬렌기는 직쇄상이어도 되고 분기상이어도 되는데, 분기상인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

지방족환 함유 에폭시 화합물로는 예를 들면, 하기 식(II)로 표현되는 화합물을 들 수 있다.

상기 식(II) 중 Y²는 시클로알킬환을 가지는 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.

상기 Y²로 표현되는 시클로알킬환을 가지는 2가의 지방족 탄화수소기에서의 시클로알킬환으로는 시클로알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 시클로알킬렌기를 들 수 있다.

상기 시클로알킬기로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 메틸시클로펜틸기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 트리메틸시클로헥실기, 테트라메틸시클로헥실기, 펜타메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기 및 메틸시클로헵틸기 등의 단환식 지방족 탄화수소기; 비시클로[2.1.1]헥실기, 비시클로[2.2.1]헵틸기, 비시클로[2.2.2]옥틸기, 비시클로[4.3.1]데실기, 비시클로[3.3.1]노닐기, 보닐기, 보네닐기, 노보닐기, 노보네닐기, 6,6-디메틸비시클로[3.1.1]헵틸기, 트리시클로부틸기, 아다만틸기 등의 다환식 지방족 탄화수소기 등을 들 수 있다.

상기 Y²로 표현되는 시클로알킬환을 가지는 2가의 지방족 탄화수소기로는 상기 시클로알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 시클로알킬렌기와 알킬렌기를 조합한 기도 들 수 있다.

상기 Y²의 탄소 원자수로는 3개 이상 20개 이하인 것이 바람직하고, 6개 이상 18개 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히 10개 이상 15개 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

또한, 지방족환 함유 에폭시 화합물로서, 하기 식(III)으로 표현되는 화합물도 들 수 있다.

상기 식(III) 중 R은 탄소 원자수 1~10의 t가의 지방족 탄화수소기이며, s는 1~30의 정수를 나타내고, t는 1~10의 정수를 나타낸다. t가 2 이상인 경우, 복수의 s는 각각 달라도 된다.

상기 식(III) 중의 R로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 t가의 지방족 탄화수소기로는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로부터 수소 원자를 t-1개 제거한 기를 들 수 있다.

상기 탄소 원자수 1~10의 알킬기는 상기 식(1-1) 중의 R¹~R¹⁰으로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기와 마찬가지이다.

상기 R은 탄소 원자수 2~10의 알킬기가 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 3~8의 분기상의 알킬기가 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

t는 1 이상 10 이하의 정수인 것이 화합물의 입수 용이성의 점에서 바람직하고, 2 이상 8 이하의 정수인 것이 보다 바람직하며, 특히 2 이상 6 이하의 정수인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 식(III)으로 표현되는 화합물의 분자량으로는 광흡수성의 경시 안정성이 뛰어난 경화물을 형성할 수 있는 것이면 되고, 1,000 이상 5,000 이하인 것이 바람직하며, 1,500 이상 4,000 이하인 것이 보다 바람직하고, 특히, 2,000 이상 3,000 이하인 것이 바람직하다. 상기 분자량임으로써 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

한편, 식(III)으로 표현되는 화합물이 모노머나 올리고머가 중합된 부위를 가지는 경우, 상기 분자량은 중량 평균 분자량(Mw)을 의미한다. 또한, 중량 평균 분자량의 측정은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해, 표준 폴리스티렌 환산값으로 구할 수 있다.

상기 중량 평균 분자량은 예를 들면, 니혼 분코 제품의 GPC(LC-2000plus 시리즈)를 이용하고, 용출용제를 테트라하이드로푸란으로 하며, 교정곡선용 폴리스티렌 스탠다드를 Mw1,110,000, 707,000, 397,000, 189,000, 98,900, 37,200, 13,700, 9,490, 5,430, 3,120, 1,010, 589(토소 제품 TSKgel 표준 폴리스티렌)로 하고, 측정 칼럼을 KF-804, KF-803, KF-802(쇼와 덴코 제품)로 해서 측정하여 얻을 수 있다.

또한, 측정 온도는 40℃로 할 수 있고, 유속은 1.0㎖/분으로 할 수 있다.

측정 시의 시료 농도로는 0.1질량%~0.2질량%로 할 수 있다.

지방족 에폭시 화합물의 관능기 수로는 원하는 내구성 및 밀착성이 얻어지는 것이면 되고, 1개 이상 5개 이하인 것이 바람직하고, 1개 이상 3개 이하인 것이 보다 바람직하며, 2개 이상 3개 이하인 것이 더 바람직하고, 2개인 것이 특히 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서는 상기 지방족 에폭시 화합물이 쇄상 지방족 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 특히, 상기 식(I)로 표현되는 화합물에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

상기 지방족 에폭시 화합물의 분자량으로는 원하는 내구성 및 밀착성을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 100 이상 400 이하인 것이 바람직하고, 120 이상 300 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히, 150 이상 250 이하인 것이 바람직하다. 상기 분자량임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

상기 지방족 에폭시 화합물의 에폭시 당량으로는 원하는 내구성 및 밀착성을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 50 이상 200 이하인 것이 바람직하고, 60 이상 150 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히, 70 이상 130 이하인 것이 바람직하다. 상기 에폭시 당량임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이해지기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지기 때문이다.

상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량으로는 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 1질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 8질량부 이상 40질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 10질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량으로는 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 1질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 8질량부 이상 40질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 10질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량으로는 상기 조성물 100질량부 중에 1질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 8질량부 이상 40질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 10질량부 이상 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

(3-2) 방향족 에폭시 화합물

상기 방향족 에폭시 화합물은 방향족환 및 에폭시기를 가지며, 옥세타닐기 및 시클로알켄옥사이드 구조를 가지지 않는 화합물이다.

이와 같은 방향족 에폭시 화합물로는 예를 들면, 페놀, 크레졸, 부틸페놀 등의 1가 페놀, 및 그 알킬렌옥사이드 부가물의 글리시딜에테르화물, 2개 이상의 방향환을 가지는 다가 페놀, 및 그 알킬렌옥사이드 부가물 등의 다가 페놀류의 폴리글리시딜에테르, 페놀노볼락형 에폭시 화합물; 레조르시놀, 하이드로퀴논 및 카테콜 등의 2개 이상의 페놀성 수산기를 가지는 페놀류의 글리시딜에테르; 벤젠디메탄올, 벤젠디에탄올 및 벤젠디부탄올 등의 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향 족 화합물의 폴리글리시딜에테르; 프탈산, 테레프탈산 및 트리멜리트산 등의 2개 이상의 카르복실산을 가지는 다염기산 방향족 화합물의 폴리글리시딜에스테르; 안식향산, 톨루일산 및 나프토산 등의 안식향산류의 글리시딜에스테르; 스티렌옥사이드 및 디비닐벤젠의 에폭시화물 등을 들 수 있다.

(3-3) 에폭시 화합물

상기 지환식 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물의 함유량으로는 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 5질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하고, 10질량부 이상 60질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히, 20질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 합계 함유량으로는 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에, 90질량부 이상인 것이 바람직하고, 95질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 특히, 99질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

(4) 기타 양이온 중합성 화합물

상술한 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물 이외의 기타 양이온 중합성 화합물로는 비닐에테르 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물 등을 들 수 있다.

(a) 비닐에테르 화합물

비닐에테르 화합물은 비닐에테르 구조를 가지며, 에폭시기를 가지지 않는 화합물이다.

비닐에테르 화합물로는 예를 들면, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, n-도데실비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르, 2-에틸헥실비닐에테르, 2-클로로에틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, 트리에틸렌글리콜비닐에테르, 2-하이드록시에틸비닐에테르, 4-하이드록시부틸비닐에테르, 1,6-시클로헥산디메탄올모노비닐에테르, 에틸렌글리콜디비닐에테르, 1,4-부탄디올디비닐에테르, 1,6-시클로헥산디메탄올디비닐에테르 등을 들 수 있다.

비닐에테르 화합물의 시판품으로는 예를 들면, 2-하이드록시에틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르, 4-하이드록시부틸비닐에테르(마루젠 세키유 가가쿠 제품)를 들 수 있다.

(5) 기타

상기 양이온 중합성 성분의 함유량으로는 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상 99질량부 이하인 것이 바람직하고, 70질량부 이상 97질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히, 80질량부 이상 95질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 양이온 중합성 성분의 함유량으로는 상기 조성물 100질량부 중에 50질량부 이상 99질량부 이하인 것이 바람직하고, 70질량부 이상 97질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히, 80질량부 이상 95질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

2. 광산 발생제

상기 광산 발생제는 가시광선, 자외선, X선, 전자선, 고주파와 같은 활성 에너지선(이하, 간단히 "에너지선"이라고도 함) 조사(照射)에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이다.

상기 광산 발생제로는 오늄염인 복염 또는 그의 유도체, 혹은 옥심술포네이트 화합물, 할로겐 함유 화합물, 디아조케톤 화합물, 술폰 화합물, 술폰산 화합물, 디아조메탄 화합물, 니트로벤질 화합물, 벤조인토실레이트 화합물, 철아렌 착체, 아세토페논 유도체 화합물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.

본 발명에서는 광산 발생제가 오늄염인 복염 또는 그의 유도체인 것이 바람직하다. 이와 같은 광산 발생제임으로써 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다.

오늄염인 복염 또는 그의 유도체로는 예를 들면, 하기 식(i)로 표현되는 양이온과 음이온의 염을 들 수 있다.

[A]^m+[B]^m- (i)

여기서, 양이온 [A]^m+는 오늄이며, 그 구조는 예를 들면, 하기 식으로 나타낼 수 있다.

[(R⁹⁵)_aQ]^m+ (ii)

상기 식(ii) 중 R⁹⁵는 탄소 원자수가 1~60이며, 탄소 원자 이외의 원자를 몇 개 포함하고 있어도 되는 유기 기를 나타낸다.

a는 1~5의 정수를 나타낸다.

a개의 R⁹⁵는 각각 독립적으로 동일해도 되고 달라도 된다.

a개의 R⁹⁵ 중 적어도 하나가 방향환을 가지는 상기 유기 기를 나타낸다.

Q는 S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F 및 N=N으로 이루어지는 군에서 선택되는 원자 또는 원자단을 나타낸다. 또한, 양이온 [A]^m+ 중의 Q의 원자가를 q로 했을 때, m=a-q라는 관계가 성립되는 것이 필요하다. 단, N=N은 원자가 0으로 취급한다.

또한, 음이온 [B]^m-는 할로겐화물 착체인 것이 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, 하기 식(iii)으로 나타낼 수 있다.

[LX_b]^m- (iii)

상기 식(iii) 중 L은 할로겐화물 착체의 중심 원자인 금속 또는 반금속(Metalloid)을 나타내고, B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn 또는 Co이다.

X는 할로겐 원자를 나타낸다.

b는 3~7의 정수를 나타낸다. 또한, 음이온 [B]^m- 중의 L의 원자가를 p로 했을 때, m=b-p라는 관계가 성립되는 것이 필요하다.

상기 식(iii)의 음이온 [LX_b]^m-의 구체예로는 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트[(C₆F₅)₄B]^-, 테트라플루오로보레이트(BF₄)^-, 헥사플루오로포스페이트(PF₆)^-, 헥사플루오로안티모네이트(SbF₆)^-, 헥사플루오로아르세네이트(AsF₆)^-, 헥사클로로안티모네이트(SbCl₆)^-, 트리스(펜타플루오로메틸)트리플루오로인산 이온(FAP 음이온) 등을 들 수 있다.

또한, 음이온 [B]^m-는 하기 식(iv)로 표현되는 구조이어도 된다.

[LX_b-1(OH)]^m- (iv)

여기서, L, X 및 b는 상기와 마찬가지이다.

또한, 기타 음이온으로는 과염소산 이온(ClO₄)^-, 트리플루오로메틸아황산 이온(CF₃SO₃)^-, 플루오로술폰산 이온(FSO₃)^-, 톨루엔술폰산 음이온, 트리니트로벤젠술폰산 음이온, 캄퍼 술포네이트, 노나플로로부탄술포네이트, 헥사데카플로로옥탄술포네이트, 테트라아릴보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다.

본 발명에서는 이와 같은 오늄염 중에서도 하기의 (가)~(다)의 방향족 오늄염을 사용하는 것이 특히 유효하다. 이들 중에서 그 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.

(가) 페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트, 4-메톡시페닐디아조늄헥사플루오로안티모네이트, 4-메틸페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트 등의 아릴디아조늄염

(나) 디페닐요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 디(4-메틸페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 디(4-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 톨릴쿠밀요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등의 디아릴요오드늄염

(다) 하기 군I 또는 군II로 표현되는 술포늄 양이온과 헥사플루오로안티몬 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 이온 등의 술포늄염

또한, 기타 광산 발생제로는 (η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일) 〔(1,2,3,4,5,6-η)-(1-메틸에틸)벤젠〕-아이언-헥사플루오로포스페이트 등의 철-아렌 착체나, 트리스(아세틸아세토나토)알루미늄, 트리스(에틸아세토나토아세타토)알루미늄, 트리스(살리실알데히다토)알루미늄 등의 알루미늄 착체와 트리페닐실라놀 등의 실라놀류와의 혼합물 등도 들 수 있다.

이들 중에서도 실용면과 광감도의 관점에서, 광산 발생제로는 방향족 요오드늄염, 방향족 술포늄염 및 철-아렌 착체가 바람직하고, 그 중에서도 방향족 술포늄염인 것이 바람직하며, 황 원자(S)에 방향족환이 3개 결합된 구조를 가지는 트리아릴술포늄염인 것이 보다 바람직하고, 특히, 하기 식(3)으로 표현되는 트리아릴술포늄염인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

식(3) 중 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵, R¹⁰⁶, R¹⁰⁷, R¹⁰⁸, R¹⁰⁹, R¹¹⁰, R¹¹¹, R¹¹², R¹¹³ 및 R¹¹⁴는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타내고,

R¹¹⁵는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 하기 식(3a)~(3c)에서 선택되는 어느 하나의 치환기를 나타내며,

An^q-는 q가의 음이온을 나타내고,

p는 전하를 중성으로 하는 계수를 나타낸다.

식(3a)~(3c) 중, R¹¹⁶, R¹¹⁷, R¹¹⁸, R¹¹⁹, R¹²⁰, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁵, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴² 및 R¹⁴³은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타내고,

*는 S와의 결합 위치를 나타낸다.

상기 식(3) 중의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵, R¹⁰⁶, R¹⁰⁷, R¹⁰⁸, R¹⁰⁹, R¹¹⁰, R¹¹¹, R¹¹², R¹¹³, R¹¹⁴ 및 R¹¹⁵ 그리고 상기 식(3a)~(3c) 중의 R¹¹⁶, R¹¹⁷, R¹¹⁸, R¹¹⁹, R¹²⁰, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁵, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴² 및 R¹⁴³으로 표현되는 할로겐 원자는 상기 "1. 양이온 중합성 성분"의 항에 기재된 식(1-1) 중의 "할로겐 원자"와 마찬가지이다.

상기 식(3) 중의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵, R¹⁰⁶, R¹⁰⁷, R¹⁰⁸, R¹⁰⁹, R¹¹⁰, R¹¹¹, R¹¹², R¹¹³, R¹¹⁴ 및 R¹¹⁵, 그리고 상기 식(3a)~(3c) 중의 R¹¹⁶, R¹¹⁷, R¹¹⁸, R¹¹⁹, R¹²⁰, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁵, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴² 및 R¹⁴³으로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기는 상기 "1. 양이온 중합성 성분"의 항에 기재된 식(1-1) 중의 "탄소 원자수 1~10의 알킬기"와 마찬가지이다.

상기 식(3) 중의 R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵, R¹⁰⁶, R¹⁰⁷, R¹⁰⁸, R¹⁰⁹, R¹¹⁰, R¹¹¹, R¹¹², R¹¹³ 및 R¹¹⁴, 그리고 상기 식(3a)~(3c) 중의 R¹¹⁶, R¹¹⁷, R¹¹⁸, R¹¹⁹, R¹²⁰, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁵, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴² 및 R¹⁴³으로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기는 상기 "1. 양이온 중합성 성분"의 항에 기재된 식(1-1) 중의 "탄소 원자수 1~10의 알콕시기"와 마찬가지이다.

상기 식(3) 중의 pAn^q-로 표현되는 q가의 음이온으로는 상술한 음이온 [B]^m-로서 든 것 중, 소정 가수(價數)의 음이온을 들 수 있다.

pAn^q-로 표현되는 q가의 음이온으로는 예를 들면, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트[(C₆F₅)₄B]^-, 테트라플루오로보레이트(BF₄)^-, 헥사플루오로포스페이트(PF₆)^-, 헥사플루오로안티모네이트(SbF₆)^-, 헥사플루오로아르세네이트(AsF₆)^-, 헥사클로로안티모네이트(SbCl₆)^-, 트리스(펜타플루오로메틸)트리플루오로인산 이온(FAP 음이온), 과염소산 이온(ClO₄)^-, 트리플루오로메틸아황산 이온(CF₃SO₃)^-, 플루오로술폰산 이온(FSO₃)^-, 톨루엔술폰산 음이온, 트리니트로벤젠술폰산 음이온, 캄퍼 술포네이트, 노나플로로부탄술포네이트, 헥사데카플로로옥탄술포네이트, 테트라아릴보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다.

본 발명에서는 R¹¹⁵가 상기 식(3a)~(3c)에서 선택되는 것임이 바람직하고, 상기 식(3a) 또는 (3c)인 것이 보다 바람직하다. R³⁵가 상술한 구조를 가짐으로써, 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

R¹⁰¹, R¹⁰², R¹⁰³, R¹⁰⁴, R¹⁰⁵, R¹⁰⁶, R¹⁰⁷, R¹⁰⁸, R¹⁰⁹, R¹¹⁰, R¹¹¹, R¹¹², R¹¹³ 및 R¹¹⁴는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기인 것이 바람직하고, 특히 수소 원자 또는 할로겐 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

R¹¹⁶, R¹¹⁷, R¹¹⁸, R¹¹⁹, R¹²⁰, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶, R¹²⁷, R¹²⁸, R¹²⁹, R¹³⁰, R¹³¹, R¹³², R¹³³, R¹³⁴, R¹³⁵, R¹³⁶, R¹³⁷, R¹³⁸, R¹³⁹, R¹⁴⁰, R¹⁴¹, R¹⁴² 및 R¹⁴³은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기인 것이 바람직하고, 특히 수소 원자 또는 할로겐 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 광산 발생제의 함유량은 단독 또는 복수종의 합계로, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.1질량부 이상 10질량부 이하가 바람직하고, 0.5질량부 이상 7질량부 이하가 보다 바람직하며, 특히, 1질량부 이상 5질량부 이하가 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

한편, 광산 발생제의 시판품은 용제에 분산 또는 용해된 상태로 판매되는 경우가 있는데, 본 발명에서의 산발생제의 함유량은 용제를 제외한 고형분으로서의 함유량을 나타내는 것이다.

상기 광산 발생제의 함유량은 단독 또는 복수종의 합계로, 상기 양이온 중합성 성분 100질량부에 대하여, 0.1질량부 이상 10질량부 이하가 바람직하고, 0.5질량부 이상 7질량부 이하가 보다 바람직하며, 특히, 1질량부 이상 5질량부 이하가 바람직하다. 함유량을 이와 같은 범위로 함으로써, 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

3. 카르바졸계 증감제

상기 카르바졸계 증감제는 카르바졸 골격을 가지는 화합물로 이루어지는 것이다. 또한, 상기 카르바졸계 증감제로서 사용되는 카르바졸 골격을 가지는 화합물은 광산 발생제와 병용했을 때에 동일 노광량으로 비교한 경우, 광산 발생제로부터의 산발생량을 향상시켜서, 조성물을 고감도로 할 수 있는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 카르바졸계 증감제는 카르바졸 골격을 가지는 화합물을 2종 이상 포함하고 있어도 된다.

카르바졸 골격을 가지는 화합물로는 예를 들면, 하기 식(4-1), (4-2), (4-3) 및 (4-4)로 표현되는 화합물 등을 들 수 있다.

상기 식(4-1) 중의 R²⁰¹, R²⁰², R²⁰³, R²⁰⁴, R²⁰⁵, R²⁰⁶, R²⁰⁷, R²⁰⁸ 및 R²⁰⁹로 표현되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 예를 들면, 상기 "1. 양이온 중합성 성분"의 항에 기재된 식(1-1) 중의 "탄소 원자수 1~10의 알킬기"로서 예시한 것에 더하여, 4-에틸옥틸기, n-운데실기, 1-메틸데실기, n-도데실기, 1,3,5,7-테트라메틸옥틸기, n-트리데실기, 1-헥실헵틸기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-에이코실기, n-트리코실기 및 n-테트라코실기 등을 들 수 있다.

상기 식(4-1) 중의 R²⁰¹, R²⁰², R²⁰³, R²⁰⁴, R²⁰⁵, R²⁰⁶, R²⁰⁷, R²⁰⁸ 및 R²⁰⁹로 표현되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 3,4,5-트리메톡시페닐기, 4-tert-부틸페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 안트라세닐기 및 페난트릴기 등을 들 수 있다.

상기 식(4-1) 중의 R²⁰¹, R²⁰², R²⁰³, R²⁰⁴, R²⁰⁵, R²⁰⁶, R²⁰⁷, R²⁰⁸ 및 R²⁰⁹로 표현되는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는 예를 들면, 상기 "1. 양이온 중합성 성분"의 항에 기재된 식(1-1) 중의 "탄소 원자수 1~10의 알콕시기"로서 예시한 것에 더하여, 4-에틸옥틸옥시기, n-운데실옥시기, 1-메틸데실옥시기, n-도데실옥시기, 1,3,5,7-테트라메틸옥틸옥시기, n-트리데실옥시기, 1-헥실헵틸옥시기, n-테트라데실옥시기, n-펜타데실옥시기, n-헥사데실옥시기, n-헵타데실옥시기, n-옥타데실옥시기, n-에이코실옥시기, n-트리코실옥시기 및 n-테트라코실옥시기 등을 들 수 있다.

상기 식(4-2) 중의 R²¹¹, R²¹², R²¹³, R²¹⁴, R²¹⁵, R²¹⁶, R²¹⁷, R²¹⁸, R²¹⁹, R²²⁰ 및 R²²¹로 표현되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기는 식(4-1) 중의 R²⁰¹로 표현되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기와 동일하다.

상기 식(4-2) 중의 R²¹¹, R²¹², R²¹³, R²¹⁴, R²¹⁵, R²¹⁶, R²¹⁷, R²¹⁸, R²¹⁹, R²²⁰ 및 R²²¹로 표현되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기는 식(4-1) 중의 R²⁰¹로 표현되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기와 동일하다.

상기 식(4-3) 중의 R²³¹, R²³², R²³³, R²³⁴, R²³⁵, R²³⁶, R²³⁷, R²³⁸, R²³⁹, R²⁴⁰ 및 R²⁴¹로 표현되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기는 식(4-1) 중의 R²⁰¹로 표현되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기와 동일하다.

상기 식(4-3) 중의 R²³¹, R²³², R²³³, R²³⁴, R²³⁵, R²³⁶, R²³⁷, R²³⁸, R²³⁹, R²⁴⁰ 및 R²⁴¹로 표현되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기는 식(4-1) 중의 R²⁰¹로 표현되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기와 동일하다.

상기 식(4-4) 중의 R²⁵¹, R²⁵², R²⁵³, R²⁵⁴, R²⁵⁵, R²⁵⁶, R²⁵⁷, R²⁵⁸, R²⁵⁹, R²⁶⁰ 및 R²⁶¹로 표현되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기는 식(4-1) 중의 R²⁰¹로 표현되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기와 동일하다.

상기 식(4-4) 중의 R²⁵¹, R²⁵², R²⁵³, R²⁵⁴, R²⁵⁵, R²⁵⁶, R²⁵⁷, R²⁵⁸, R²⁵⁹, R²⁶⁰ 및 R²⁶¹로 표현되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기는 식(4-1) 중의 R²⁰¹로 표현되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기와 동일하다.

상기 식(4-1) 중의 R²⁰¹은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 특히 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 식(4-2) 중의 R²¹¹, 상기 식(4-3) 중의 R²³¹ 및 상기 식(4-4) 중의 R²⁵¹은 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 3~15의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 5~12의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 식(4-1) 중의 R²⁰², R²⁰³, R²⁰⁴ 및 R²⁰⁵ 중 적어도 하나와, R²⁰⁶, R²⁰⁷, R²⁰⁸ 및 R²⁰⁹ 중 적어도 하나가 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~30의 알콕시기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 R²⁰³ 및 R²⁰⁸이 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~30의 알콕시기인 것이 바람직하며, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기인 것이 보다 바람직하고, 탄소 원자수 1~5의 알콕시기인 것이 더 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 1~3의 알콕시기인 것이 바람직하다. 또한, R²⁰³ 및 R²⁰⁸이 알콕시기인 경우, R²⁰², R²⁰⁴, R²⁰⁵, R²⁰⁶, R²⁰⁷ 및 R²⁰⁹가 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 식(4-2) 중의 R²¹², R²¹³, R²¹⁴, R²¹⁵, R²¹⁶, R²¹⁷, R²¹⁸, R²¹⁹, R²²⁰ 및 R²²¹, 상기 식(4-3) 중의 R²³², R²³³, R²³⁴, R²³⁵, R²³⁶, R²³⁷, R²³⁸, R²³⁹, R²⁴⁰ 및 R²⁴¹, 그리고 상기 식(4-4) 중의 R²⁵², R²⁵³, R²⁵⁴, R²⁵⁵, R²⁵⁶, R²⁵⁷, R²⁵⁸, R²⁵⁹, R²⁶⁰ 및 R²⁶¹은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히, 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

본 발명에서는 상기 식(4-1)로 표현되는 화합물 또는 상기 식(4-2)로 표현되는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 상기 식(4-2)로 표현되는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있기 때문이다. 또한 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 카르바졸계 증감제의 함유량은 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.1질량부 이상 5질량부 이하가 바람직하고, 0.2질량부 이상 3질량부 이하가 보다 바람직하며, 특히, 0.5질량부 이상 2질량부 이하가 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 카르바졸계 증감제의 함유량은 상기 산발생제 100질량부에 대하여, 1질량부 이상 70질량부 이하가 바람직하고, 5질량부 이상 50질량부 이하가 보다 바람직하며, 특히, 10질량부 이상 30질량부 이하가 바람직하다. 상기 조성물은 감도가 뛰어나고, 밀착성도 뛰어난 경화물이 얻어지는 것이 되기 때문이다. 또한, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

4. 용제

상기 조성물은 필요에 따라 용제를 포함할 수 있다.

상기 용제는 상온(25℃) 대기압하에서 액상이고, 조성물 중의 각 성분을 분산 또는 용해 가능한 것이며, 상기 산발생제의 작용에 의해 상기 양이온 중합성 성분과 반응하지 않는 것이다.

따라서, 상온(25℃) 대기압하에서 액상이어도 상기 "1. 양이온 중합성 성분"의 항에 기재된 양이온 중합성 화합물은 상기 용제에는 포함되지 않는다.

또한, 상기 용제는 상기 조성물의 각 성분을 분산 또는 용해하기 위해 사용되는 것이기 때문에, 상기 "2. 광산 발생제"에 기재된 광산 발생제, "3. 카르바졸계 증감제"에 기재된 카르바졸계 증감제도 상온 대기압하에서 액상이어도, 상기 용제에는 포함되지 않는다.

이와 같은 용제로는 물, 유기 용제 중 어느 것이나 사용할 수 있는데, 유기 용제를 바람직하게 사용할 수 있다.

상기 유기 용제로는 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 디에틸케톤, 아세톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용제; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산시클로헥실, 락트산에틸, 숙신산디메틸, 텍사놀 등의 에스테르계 용제; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 셀로솔브계 용제; 메탄올, 에탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 이소- 또는 n-부탄올, 아밀알코올, 디아세톤알코올 등의 알코올계 용제; 에틸렌글리콜모노메틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트(PGMEA), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 에톡시에틸프로피오네이트, 1-t-부톡시-2-프로판올, 3-메톡시부틸아세테이트, 시클로헥사놀아세테이트 등의 에테르에스테르계 용제; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용제; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용제; 테레빈유, D-리모넨, 피넨 등의 테르펜계 탄화수소유; 미네랄 스피릿, 스와졸 #310(코스모 마쓰야마 세키유(주)), 솔벳소 #100(엑손 가가쿠(주)) 등의 파라핀계 용제; 사염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소계 용제; 클로로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소계 용제; 카르비톨계 용제, 아닐린, 트리에틸아민, 피리딘, 아세트산, 아세토니트릴, 이황화탄소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸필로리돈, 디메틸술폭시드, 물 등을 들 수 있고, 이들 용제는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용제로서 사용할 수 있다. 이들 중에서도 케톤류, 에테르에스테르계 용제 등, 특히 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 시클로헥사논 등을 들 수 있고, 이들 용제는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용제로서 사용할 수 있다.

상기 유기 용제 중에서도 케톤류, 알코올계 용제, 에테르에스테르계 용제, 방향족계 용제 등인 것이 바람직하고, 그 중에서도 에테르에스테르계 용제, 알코올계 용제인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.

상기 용제의 함유량은 경화 감도 및 분산 안정성이 얻어지는 것이면 되고, 상기 조성물 100질량부 중에 1질량부 이상 99질량부 이하로 할 수 있고, 10질량부 이상 80질량부 이하인 것이 바람직하며, 15질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 20질량부 이상 40질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.

또한, 상기 조성물이 착색제를 포함하는 경우에 용제의 첨가량이 적어도 착색제의 분산성이 뛰어나고, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이해지는 효과를 보다 효과적으로 발휘하는 관점에서는 상기 용제의 함유량은 적은 것이 바람직하고, 상기 조성물 100질량부 중에 10질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 5질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히, 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 용제량의 함유량이 적음으로써, 착색제의 분산성이 뛰어난 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있음과 함께, 건조 공정에서의 가열, 휘발된 용제 등에 의해, 주변 부재의 열화 억제, 건조 공정 단축에 의한 생산성 향상을 도모할 수 있다. 또한, 인체에 대한 안전성이 뛰어난 것이 된다.

5. 첨가제

본 발명의 조성물은 양이온 중합성 성분, 산발생제 및 카르바졸계 증감제를 포함하는 것이며, 또한 필요에 따라 용제를 포함하는 것인데, 이들 이외의 기타 성분도 포함할 수 있다.

기타 성분으로는 무기 필러, 유기 필러, 실란 커플링제, 착색제, 광증감제, 소포제, 증점제, 칙소제, 계면활성제, 레벨링제, 난연제, 가소제, 안정제, 중합 금지제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 정전방지제, 유동 조정제 및 접착 촉진제 등의 각종 첨가물 등을 들 수 있다.

본 발명의 조성물은 첨가제로서 착색제를 포함하는 것이 바람직하다. 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 효과, 착색제의 분산성이 뛰어난 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다. 상기 착색제로는 염료 및 안료를 들 수 있는데, 본 발명에서는 염료가 바람직하다. 착색제를 포함하는 경우에 착색제의 분산성이 뛰어나고, 또한 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성하는 것이 가능해지는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

상기 염료로는 안트라퀴논계 색소, 인디고이드계 색소, 알리자린계 색소, 아크리딘계 색소, 스틸벤계 색소, 티아졸계 색소, 나프톨계 색소, 퀴놀린계 색소, 니트로계 색소, 인다민계 색소, 옥사진계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 피로메텐계 색소, 아조계 색소, 테트라아자포르피린계 색소, 크산텐계 색소, 트리아릴메탄계 색소 등의 염료 등을 들 수 있고, 이들은 복수를 혼합하여 사용해도 된다. 이와 같은 염료로는 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2017-68221호에 기재된 것을 사용할 수 있다.

상기 염료는 착색제의 분산성이 뛰어나고, 또한 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성하는 것이 가능해지는 효과를 보다 효과적으로 발휘하는 관점에서는 트리아릴메탄계 색소, 크산텐계 색소 또는 테트라아자포르피린계 색소인 것이 바람직하고, 크산텐계 색소 또는 테트라아자포르피린계 색소인 것이 보다 바람직하다.

상기 크산텐계 색소로는 예를 들면, 하기 식(5)로 표현되는 화합물을 들 수 있다.

식(5) 중, R³⁰¹, R³⁰², R³⁰³, R³⁰⁴, R³⁰⁵, R³⁰⁶, R³⁰⁷, R³⁰⁸, R³⁰⁹ 및 R³¹⁰은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고,

R³¹¹, R³¹², R³¹³, R³¹⁴, R³¹⁵ 및 R³¹⁶은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며,

An^q1-는 q1가의 음이온을 나타내고, q1은 1 또는 2를 나타내며, p1은 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.

상기 식(5) 중의 R³¹¹, R³¹², R³¹³, R³¹⁴, R³¹⁵ 및 R³¹⁶으로 표현되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기는 상기 "1. 양이온 중합성 성분"의 항에 기재된 식(1-1) 중의 "탄소 원자수 1~10의 알킬기"와 동일하다.

상기 식(5) 중의 An^q1-로 표현되는 음이온으로는 1가의 유기 술폰산계 음이온, 비스트리플루오로메틸술포닐이미드 이온, 비스퍼플루오로부탄술포닐이미드 이온, 퍼플루오로-4-에틸시클로헥산술폰산 이온, 벤젠디술폰산 이온 및 나프탈렌디술폰산 이온 등을 들 수 있다.

본 발명에서는 비스트리플루오로메틸술포닐이미드 이온이 바람직하다. 착색제의 분산성이 뛰어나고, 또한 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성하는 것이 가능해지는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

본 발명에서는 R³⁰¹, R³⁰², R³⁰³, R³⁰⁴, R³⁰⁵, R³⁰⁶, R³⁰⁷, R³⁰⁸, R³⁰⁹ 및 R³¹⁰이 수소 원자이며, R³⁰⁴ 및 R³⁰⁷이 할로겐 원자인 것이 바람직하다. 착색제의 분산성이 뛰어나고, 또한 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성하는 것이 가능해지는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

또한, R³¹¹, R³¹², R³¹³, R³¹⁴, R³¹⁵ 및 R³¹⁶이 탄소 원자수 1~6의 알킬기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~4의 알킬기인 것이 보다 바람직하다. 착색제의 분산성이 뛰어나고, 또한 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성하는 것이 가능해지는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

상기 테트라아자포르피린계 색소로는 예를 들면, 하기 식(6)으로 표현되는 화합물을 들 수 있다.

식(6) 중 R³²¹, R³²², R³²³, R³²⁴, R³²⁵, R³²⁶, R³²⁷ 및 R³²⁸은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고, 상기 아릴기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, R¹~R⁸ 모두가 수소 원자인 것은 아니다. M은 2가의 금속 원자를 나타낸다.

상기 식(6) 중의 R³²¹, R³²², R³²³, R³²⁴, R³²⁵, R³²⁶, R³²⁷ 및 R³²⁸로 표현되는 탄소 원자수 6~30의 아릴기는 상기 "3. 카르바졸계 증감제"의 항에 기재된 식(4-1) 중의 "탄소 원자수 6~30의 아릴기"와 동일하다.

본 발명에서는 R³²¹, R³²², R³²³, R³²⁴, R³²⁵, R³²⁶, R³²⁷ 및 R³²⁸은 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 6~30의 할로겐화 아릴기인 것이 바람직하다. 특히, R³²¹, R³²³, R³²⁵ 및 R³²⁷이 탄소 원자수 1~6의 알킬기이며, R³²², R³²⁴, R³²⁶ 및 R³²⁸이 탄소 원자수 6의 할로겐화 아릴기인 것이 바람직하다. 착색제의 분산성이 뛰어나고, 또한 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성하는 것이 가능해지는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

상기 착색제의 함유량으로는 밀착성이 뛰어나고, 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이면 되는데, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 0.5질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있음과 함께, 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

상기 기타 성분의 합계 함유량으로는 밀착성이 뛰어나고, 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것이면 되는데, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 20질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.1질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하며, 0.5질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있음과 함께, 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하기 때문이다.

6. 조성물

상기 조성물의 제조 방법으로는 상기 각 성분을 원하는 양 포함하는 조성물을 형성할 수 있는 방법이라면 문제는 없고, 공지의 혼합 수단을 이용하는 방법을 들 수 있다.

상기 조성물은 밀착성, 초기 경화성, 내수성, 내습열성 등의 밸런스가 뛰어난 효과가 요구되는 용도, 또한 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물이 얻어지는 것, 착색제의 분산성이 뛰어나고, 색상 불균일이 적은 경화물의 형성이 용이한 것 등의 효과가 요구되는 용도 등, 다양한 용도에 사용할 수 있다.

상기 조성물의 구체적인 용도로는 광학 필터, 도료, 코팅제, 라이닝제, 접착제, 인쇄판, 절연 바니시, 절연 시트, 적층판, 프린트 기판, 반도체 장치용·LED 패키지용·액정 주입구용·유기 일렉트로 루미네선스(EL)용·광소자용·전기절연용·전자부품용·분리막용 등의 봉지제(封止劑), 성형 재료, 퍼티, 유리섬유 함침제, 필러, 반도체용·태양전지용 등의 패시베이션(passivation)막, 층간 절연막, 보호막, 프린트 기판, 또는 컬러TV, PC모니터, 휴대정보단말, CCD이미지 센서의 컬러 필터, 플라스마 표시 패널용 전극재료, 인쇄 잉크, 치과용 조성물, 광조형용 수지, 액상 및 건조막 쌍방, 미소기계부품, 유리섬유 케이블 코팅, 홀로그래피 기록용 재료의 각종 용도를 들 수 있다.

상기 광학 필터로는 광학 필터를 투과하는 광의 스펙트럼 형상의 변화가 요구되는 것으로 할 수 있고, 예를 들면, 액정표시장치(LCD), 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시장치(CRT), CCD이미지 센서, CMOS 센서, 형광표시관, 전계방사형 디스플레이 등의 화상표시 장치용, 분석 장치용, 반도체 장치 제조용, 천문관측용, 광통신용, 안경 렌즈, 창문 등의 용도에 사용할 수 있다.

상기 접착제로는 내구성, 밀착성, 내수성 등이 요구되는 것이면 되고, 예를 들면, 액정표시장치(LCD), 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시장치(CRT), CCD이미지 센서, CMOS 센서, 형광표시관, 전계방사형 디스플레이 등의 화상표시 장치를 구성하는 부재의 접착용을 들 수 있다.

상기 조성물은 광학 필터 형성용 재료, 접착제 및 봉지재로서 알맞게 사용할 수 있고, 구체적으로는 화상표시 장치의 광학 필터 형성용 재료, 화상표시 장치를 구성하는 부재의 접착제 및 유기 일렉트로 루미네선스(EL) 소자용 봉지재로서 알맞게 사용할 수 있다.

그 중에서도 화상표시 장치의 광학 필터 형성용, 특히, 화상표시 장치의 색 조정 필터 형성용 재료로서 알맞게 사용할 수 있다.

여기서, 색 조정 필터는 각 색의 광을 조정하는 것을 들 수 있다. 색 조정 필터로는 보다 구체적으로는 광학 필터로서 사용되는, R(빨강), G(초록), B(파랑) 및 기타 색의 화소가 배치된 컬러 필터를 투과한 광의 색을 더 조정하기 위해, 컬러 필터와 평면에서 봤을 때 겹치도록 배치되는 것, 각 색의 일렉트로 루미네선스 소자 등의 각 색의 발광체로부터 조사된 광의 색을 더 조정하기 위해, 각 색의 발광체와 평면에서 봤을 때 겹치도록 배치되는 것 등을 들 수 있다.

상기 용도임으로써 밀착성 및 착색제의 분산성이 뛰어나고, 광흡수성 변화가 적은 경화물을 제조할 수 있는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.

상기 조성물의 경화물이 형성되는 피착체의 재료로는 특별히 제한되지 않고, 통상 사용되는 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면, 알루미늄, 티탄, 스테인리스, 연강, 도금강 등의 금속 기재, 유리 등의 무기 재료; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 니트로셀룰로오스 등의 셀룰로오스에스테르; 폴리아미드; 폴리이미드; 폴리우레탄; 에폭시 수지; 폴리카보네이트; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1,2-디페녹시에탄-4,4'-디카르복실레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르; 폴리스티렌; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐 등의 폴리올레핀; 폴리아세트산비닐, 폴리염화비닐, 폴리불화비닐 등의 비닐 화합물; 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리카보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리에테르이미드; 폴리옥시에틸렌, 노보넨 수지, 시클로올레핀 폴리머(COP) 등의 고분자 재료를 들 수 있다.

B. 경화물

다음으로, 본 발명의 경화물에 대해 설명한다.

본 발명의 경화물은 상술한 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 것이다.

상기 경화물은 상술한 조성물을 경화시킴으로써 예를 들면, 뛰어난 밀착성을 발휘함과 함께, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 것이 된다. 따라서, 이와 같은 경화물을 이용함으로써 경시적인 광흡수성 변화가 억제된 광학 필터가 용이하게 얻어진다.

본 발명의 경화물은 상술한 조성물을 사용하는 것이다.

이하, 본 발명의 경화물에 대해 상세하게 설명한다.

한편, 상기 조성물에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지이다.

상기 경화물은 통상 양이온 중합성 성분의 중합물을 포함하는 것이다.

상기 경화물의 평면에서 본 형상, 두께 등에 대해서는 상기 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.

상기 두께로는 예를 들면, 0.05㎛ 이상 300㎛ 이하 등으로 할 수 있다.

상기 경화물의 제조 방법으로는 상기 조성물의 경화물을 원하는 형상이 되도록 형성할 수 있는 방법이라면 특별히 한정되는 것은 아니다.

이와 같은 제조 방법으로는 후술할 "D. 경화물의 제조 방법"의 항에 기재된 내용과 마찬가지이기 때문에 여기서의 설명은 생략한다.

상기 경화물의 용도 등에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지이다.

C. 광학 필터

다음으로, 본 발명의 광학 필터에 대해 설명한다.

본 발명의 광학 필터는 상술한 경화물을 포함하는 광흡수층을 가지는 것을 특징으로 하는 것이다.

상기 광흡수층이 상술한 경화물을 포함함으로써 광흡수층이 형성되는 부재에 대한 뛰어난 밀착성을 발휘함과 함께, 광흡수성의 경시 안정성이 뛰어난 것이 된다.

본 발명의 광학 필터는 상기 광흡수층을 가지는 것이다.

이하, 본 발명의 광학 필터에 포함되는 광흡수층에 대해 상세하게 설명한다.

1. 광흡수층

상기 광흡수층은 상술한 경화물을 포함하는 것이다.

상기 광흡수층에 포함되는 상기 경화물의 함유량은 통상 광흡수층 100질량부 중에 100질량부이다. 즉, 상기 광흡수층은 통상 상기 경화물로 이루어지는 것이다.

상기 경화물에 대해서는 상기 "B. 경화물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지이다.

한편, 상기 광흡수층에 포함되는 경화물은 통상 착색제를 포함하는 것이다. 착색제의 내용에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지이다.

상기 광흡수층의 평면에서 본 형상, 면적 및 두께 등의 형상에 대해서는 광학 필터의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.

상기 광흡수층의 형성 방법으로는 원하는 형상, 두께의 광흡수층을 형성할 수 있는 것이면 되고, 공지의 도막의 형성 방법을 이용할 수 있다. 상기 형성 방법으로는 후술할 "D. 경화물의 제조 방법"의 항에 기재된 내용과 마찬가지이다.

2. 광학 필터

상기 광학 필터는 상기 광흡수층만 포함하는 것이어도 되고, 상기 광흡수층 이외의 기타 층을 포함하는 것이어도 된다.

상기 기타 층으로는 투명 지지체, 밑칠층, 반사방지층, 하드코트층, 윤활층, 점착제층 등을 들 수 있다.

이와 같은 각 층의 내용 및 그 형성 방법 등에 대해서는 광학 필터에 일반적으로 사용되는 것으로 할 수 있고, 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2011-144280호, 국제공개공보 WO2016/158639 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.

상기 광흡수층은 예를 들면, 상기 투명 지지체 및 임의의 각 층의 사이를 접착하는 접착층 등으로 사용되는 것이어도 상관없다.

또한, 그때에는 상기 광학 필터는 접착층으로서의 광흡수층의 표면에 이(易)밀착된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 공지의 세퍼레이터 필름을 마련할 수도 있다.

상기 광학 필터는 화상표시 장치용으로서 이용하는 경우, 통상 디스플레이의 앞면에 배치할 수 있다. 예를 들면, 광학 필터를 디스플레이의 표면에 직접 붙여도 문제는 없고, 디스플레이 앞에 전면판이나 전자파 쉴드가 마련된 경우는 전면판 또는 전자파 쉴드의 표측(외측) 또는 이측(디스플레이 측)에 광학 필터를 붙여도 상관없다.

상기 광학 필터는 예를 들면, 화상표시 장치에 포함되는 각 부재, 예를 들면, 컬러 필터, 편광판 등의 광학부재로서 사용되는 것이어도 상관없다.

또한, 상기 광학 필터는 상기 화상표시 장치에 포함되는 각 부재에 직접 적층되는 것이어도 상관없다.

D. 경화물의 제조 방법

다음으로, 본 발명의 경화물의 제조 방법에 대해 설명한다.

본 발명의 경화물의 제조 방법은 상술한 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.

본 발명에 따르면, 상기 경화물의 제조 방법은 상기 조성물을 경화시키는 것이기 때문에 예를 들면, 뛰어난 밀착성을 발휘함과 함께 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 얻을 수 있다. 또한, 이와 같은 경화물을 사용함으로써 광흡수성의 경시 안정성이 뛰어난 광학 필터 등으로서 사용 가능해진다.

본 발명의 경화물의 제조 방법은 상기 경화하는 공정을 포함하는 것이다.

이하, 본 발명의 경화물의 제조 방법의 각 공정에 대해 상세하게 설명한다.

한편, 상기 조성물은 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지이므로 여기서의 설명은 생략한다.

1. 경화하는 공정

상기 경화하는 공정은 상술한 조성물을 경화하는 공정이다.

상기 조성물의 경화 방법으로는 상기 양이온 중합성 성분끼리를 중합할 수 있는 방법이면 된다.

조성물의 도막에 대하여 에너지선을 조사하는 방법, 조성물의 도막을 가열하는 방법 등을 들 수 있다. 이와 같은 중합하는 방법은 상기 조성물이 산발생제를 포함하는 경우에는 그 산발생제의 종류에 따라 결정하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 조성물이 산발생제로서 광산 발생제를 포함하는 경우에는 에너지선을 조사하는 방법을 바람직하게 이용할 수 있고, 조성물이 산발생제로서 열산 발생제를 포함하는 경우에는 가열하는 방법을 바람직하게 이용할 수 있다. 상기 양이온 중합성 성분의 중합이 용이하기 때문이다.

본 공정에서 양이온 중합성 성분의 중합에 사용되는 에너지선의 광원으로는 초고압 수은램프, 고압 수은램프, 중압 수은램프, 저압 수은램프, 수은 증기 아크등, 크세논 아크등, 카본 아크등, 메탈할라이드 램프, 형광등, 텅스텐 램프, 엑시머 램프, 살균등, 발광 다이오드, CRT광원 등에서 얻어지는 2000옹스트롬~7000옹스트롬의 파장을 가지는 전자파 에너지나 전자선, X선, 방사선 등의 고에너지선을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 파장 300~450㎚의 광을 발광하는 초고압 수은램프, 수은 증기 아크등, 카본 아크등, 크세논 아크등, 발광 다이오드 등이 사용된다. 양이온 중합성 성분의 중합이 용이하기 때문이다.

에너지선의 조사량에 특별히 제한은 없고, 조성물의 조성에 따라 적절히 결정할 수 있다. 상기 조사량은 조성물 중의 성분의 열화 방지의 관점에서 조사량은 100mJ/㎠~2000mJ/㎠가 바람직하다.

본 공정에서의 조성물의 도막을 가열하는 방법으로는 핫 플레이트 등의 열판이나, 대기 오븐, 불활성 가스 오븐, 진공 오븐, 열풍순환식 오븐 등을 이용하는 방법을 들 수 있다.

도막을 가열할 때의 가열 온도로는 특별히 한정되지 않지만, 양이온 중합성 성분의 중합이 용이한 관점에서, 70℃ 이상 200℃ 이하인 것이 바람직하고, 90℃ 이상 150℃ 이하인 것이 바람직하다.

도막을 가열할 때의 가열 시간으로는 특별히 한정되지 않지만, 생산성 향상의 점에서, 1~60분이 바람직하고, 1~30분이 보다 바람직하다.

본 공정에서, 상기 경화 방법이 에너지선을 조사하는 방법 및 가열하는 방법을 병용하는 방법인 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는 에너지선을 조사하는 방법 및 가열하는 방법을 이 순서로 실시하는 것이 바람직하다. 양이온 중합성 성분의 중합을 효율적으로 진행시킬 수 있기 때문이다.

2. 기타 공정

상기 제조 방법은 필요에 따라 기타 공정을 가지는 것이어도 상관없다.

이와 같은 공정으로는 조성물을 경화하는 공정 전에 상기 조성물을 도포하는 공정 등을 들 수 있다.

조성물을 도포하는 방법으로는 스핀 코터, 롤 코터, 바 코터, 다이 코터, 커튼 코터, 각종 인쇄, 침지 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다.

상기 기재로는 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있고, 소다 유리, 석영 유리, 반도체 기판, 금속, 종이, 플라스틱 등을 포함하는 것을 들 수 있다.

또한, 상기 경화물은 기재 상에서 형성된 후, 기재로부터 박리하여 사용해도 되고, 기재로부터 다른 피착체에 전사하여 사용해도 상관없다.

3. 경화물

본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 경화물 및 용도 등에 대해서는 상기 "B. 경화물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지이다.

본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 가지며, 동일한 작용 효과를 발휘하는 것은 어떠한 것이어도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.

실시예

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 더 상세하게 설명하겠지만, 본 발명은 이들 실시예 등에 한정되는 것이 아니다.

[제조예 1]

일본 공개특허공보 특개2006-189751호에 기재된 아자포르피린계 화합물의 제조 방법에 의해, 하기 식(E1)로 표현되는 화합물을 얻었다.

[제조예 2]

국제공개공보 WO2014/196464에 기재된 방법에 의해, 하기 식(E2)로 표현되는 화합물을 얻었다.

[실시예 1~35 및 비교예 1~6]

하기 표 1~4에 기재된 배합에 따라 각 성분을 배합하여 조성물을 얻었다.

또한, 각 성분은 이하의 재료를 사용했다.

한편, 표 중의 배합량은 각 성분의 질량부를 나타내는 것이다. 산발생제의 배합량은 용제를 포함하는 배합량을 나타내는 것이다.

(양이온 중합성 성분)

A1-1: 지환식 에폭시 화합물(2관능, 하기 식(A1-1)로 표현되는 화합물, 에폭시 당량 80g/eq., JXTG 에너지 제품 THI-DE)

A1-2: 지환식 에폭시 화합물(2관능, 하기 식(A1-2)로 표현되는 화합물, 에폭시 당량 122g/eq., JXTG 에너지 제품 DE-102)

A1-3: 지환식 에폭시 화합물(2관능, 하기 식(A1-3)으로 표현되는 화합물, 에폭시 당량 128~145g/eq., 다이셀 제품 셀록사이드 2021P)

A1-4: 지환식 에폭시 화합물(2관능, 에폭시 당량 100g/eq., 다이셀 제품 셀록사이드 8000)

A2-1: 옥세탄 화합물(2관능, 하기 식(A2-1)로 표현되는 화합물, 도아 고세이 제품 OXT-221)

A2-2: 옥세탄 화합물(단관능, 하기 식(A2-2)로 표현되는 화합물, 도아 고세이 제품 OXT-101)

A2-3: 옥세탄 화합물(단관능, 하기 식(A2-3)으로 표현되는 화합물, 도아 고세이 제품 OXT-212)

A3-1: 지방족 에폭시 화합물(다관능, 지방족환 함유, 에폭시 당량 170~190g/eq., 다이셀 제품 EHPE3150, 2,2-비스(하이드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물)

A3-2: 지방족 에폭시 화합물(2관능, 쇄상, 하기 식(A3-2)로 표현되는 화합물)

A3-3: 지방족 에폭시 화합물(2관능, 지방족환 함유, 하기 식(A3-3)으로 표현되는 화합물)

A4: 방향족 에폭시 화합물(2관능, 비스페놀A형, 에폭시 당량 190g/eq., ADEKA 제품 EP-4100E)

(광산 발생제)

B1: 광산 발생제(하기 식(B1)로 표현되는 화합물을 포함하는 50질량% 탄산프로필렌 용액)

B2: 광산 발생제(하기 식(B2)로 표현되는 화합물을 포함하는 50질량% 탄산프로필렌 용액)

(증감제)

C1: 카르바졸계 증감제(하기 식(C1)로 표현되는 화합물, N-(2-에틸헥실)-1,2-벤조카르바졸)

C2: 카르바졸계 증감제(하기 식(C2)로 표현되는 화합물, N-에틸-3,6-디메톡시카르바졸)

C3: 나프탈렌계 증감제(하기 식(C3)으로 표현되는 화합물, 1,4-디에톡시나프탈렌)

(첨가제)

D1: 산화방지제(하기 식(D1)로 표현되는 화합물)

D2: 산화방지제(하기 식(D2)로 표현되는 화합물)

E1: 테트라아자포르피린계 색소(염료, 하기 식(E1)로 표현되는 화합물)

E2: 크산텐계 색소(염료, 하기 식(E2)로 표현되는 화합물)

F1: 레벨링제(토레 다우코닝 제품 SH-29PA)

[평가]

얻어진 각 조성물에 대해 초기 경화성, 내습열성, 내수성, 밀착성 및 색상 불균일을 하기의 순서에 따라 평가했다. 결과를 표 1~4에 나타낸다.

1. 초기 경화성

광 레오미터로, 각 조성물에 365㎚의 광을 1500mJ 조사 후, 30초 경과 시점의 탄성률의 증가를 측정하고, 하기 평가 기준으로 평가했다.

<평가 기준>

++: 탄성률의 증가가 1.0×10⁵㎩ 이상

+: 탄성률의 증가가 1.0×10³㎩ 이상 1.0×10⁵㎩ 미만

-: 탄성률의 증가가 1.0×10³㎩ 미만

탄성률의 증가가 큰 것은 경화성이 뛰어난 것을 나타낸다.

2. 내습열성

10㎝×10㎝의 유리 기판에 각 조성물을 스핀 코트로 도포하고, UV-LED 광원을 이용하여 365㎚의 광을 3000mJ 조사하여 각 조성물을 경화시키고, 시험막을 제작했다.

시험막을 60℃, 90% RH의 항온항습 시험기에 1주간 방치한 후, 시험막 표면을 현미경 관찰하고, 시험막 표면의 1㎝×1㎝의 범위에서의, 착색제에서 유래하는 석출물로 덮인 면적의 비율을 측정하고, 하기 평가 기준으로 평가했다.

<평가 기준>

++: 10% 미만

+: 10% 이상 30% 미만

-: 30% 이상

착색제에서 유래하는 석출물로 덮인 면적의 비율이 작은 것은 착색제가 경화물 중에 안정적으로 유지되고, 경화물의 광흡수성 변화가 적은 것을 나타낸다.

3. 내수성

"평가 2. 내습열성"과 마찬가지로 하여 시험막을 형성했다.

시험막을 60℃, 90% RH의 항온항습 시험기에 1주간 방치한 후의 중량 증가를 측정하고, 이것을 함수율로 하여 하기 평가 기준으로 평가했다.

<평가 기준>

++: 함수율 0.03% 미만

+: 함수율 0.03% 이상 0.05% 미만

-: 함수율 0.05% 이상

함수율이 낮은 것은 경화물이 내수성이 뛰어난 것을 나타낸다. 또한, 수분의 존재에 의한 착색제의 분해, 변성 등의 경시적 열화가 억제되는 것을 나타내고, 광흡수성 변화가 적은 경화물의 형성이 보다 용이한 것을 나타낸다.

4. 밀착성

"평가 2. 내습열성"과 마찬가지로 하여 시험막을 형성했다.

시험막에 대해 커터 나이프를 이용하여 서로 30°의 각도로 교차하고, 유리 기판에 달하는 길이 40㎜의 칼집을 냈다. 이어서, 교차하는 2개의 칼집 상으로부터 접착 부분의 길이가 50㎜가 되도록 셀로판테이프를 붙이고, 지우개로 위에서 문질러서 셀로판테이프를 시험막에 밀착시켰다. 셀로판테이프를 밀착시키고 나서 2분 후에 셀로판테이프의 끝을 잡고 시험막에 대하여 수직방향으로 잡아 당겨서 박리했다. 셀로판테이프 박리 후의 시험막의 상태를 관찰하고, 하기 평가 기준으로 평가했다.

<평가 기준>

++: 시험막의 벗겨짐이 관찰되지 않았음

+: 칼집을 낸 부분의 일부분에 시험막의 벗겨짐이 관찰되었음

-: 칼집을 낸 부분의 대부분에 시험막의 벗겨짐이 관찰되었음

시험막의 벗겨짐이 관찰되지 않은 것은 높은 밀착성을 가지는 것을 나타낸다.

5. 색상 불균일

10㎝×10㎝의 유리 기판에 각 조성물을 스핀 코트로 도포하고, 핫 플레이트로 80℃ 3분간 가열 처리함으로써 용제를 건조 제거하여 이물 평가용 시험막을 제작했다.

시험막을 광학현미경으로 관찰하고, 1㎝×1㎝의 범위에서 최대 길이가 50㎛ 이상인 이물의 수를 확인하고, 하기 기준으로 평가했다. 한편, 여기서 말하는 최대길이는 평면에서 봤을 때의 이물의 상을 횡단하는 최대 선분의 길이를 가리킨다.

한편, 색상 불균일 평가란이 사선인 것은 평가를 실시하지 않은 것을 나타낸다.

<평가 기준>

++: 이물 수가 5개 이하

+: 이물 수가 5개 이상 20개 미만

-: 이물 수가 20개 이상

이물 수가 적은 것은 착색제의 응집이 억제되어 있는 것, 즉 착색제의 분산성이 뛰어난 것을 나타낸다.

표 1~4의 결과로부터 실시예의 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있는 것임을 확인할 수 있었다.

또한, 실시예의 조성물은 밀착성 등과 함께, 초기 경화성, 내습열성 및 내수성도 뛰어난 것을 확인할 수 있었다.

또한, 실시예의 조성물은 용제량이 적은 경우이어도 착색제의 분산성이 뛰어난 것을 확인할 수 있었다.

이와 같이, 실시예의 조성물은 밀착성이 뛰어나고, 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성할 수 있음과 함께, 초기 경화성, 착색제의 분산성, 내습열성 및 내수성의 밸런스가 뛰어난 것을 확인할 수 있었다.

본 발명의 조성물에 따르면, 밀착성이 뛰어나고, 착색제를 포함하는 경우에는 광흡수성 변화가 적은 경화물을 용이하게 형성하는 것이 가능해진다.

Claims

양이온 중합성 성분과,
광산 발생제와,
카르바졸계 증감제를 포함하는 조성물로서,
상기 양이온 중합성 성분이 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는, 조성물.
제1항에 있어서,
상기 지환식 에폭시 화합물이 하기 식(1-1), (1-2), (1-3), (1-4) 및 (1-5)로 표현되는 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고,
상기 옥세탄 화합물이 다관능 옥세탄 화합물을 포함하는, 조성물.

식(1-1) 중, R¹, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹ 및 R¹⁰은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.
식(1-2) 중, R¹¹, R¹², R¹³, R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹, R²⁰, R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵ 및 R²⁶은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.
식(1-3) 중, R³¹, R³², R³³, R³⁴, R³⁵, R³⁶, R³⁷, R³⁸, R³⁹, R⁴⁰, R⁴¹, R⁴², R⁴³, R⁴⁴, R⁴⁵, R⁴⁶, R⁴⁷ 및 R⁴⁸은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.
식(1-4) 중, R⁵¹, R⁵², R⁵³, R⁵⁴, R⁵⁵, R⁵⁶, R⁵⁷, R⁵⁸, R⁵⁹, R⁶⁰, R⁶¹, R⁶², R⁶³, R⁶⁴, R⁶⁵, R⁶⁶, R⁶⁷ 및 R⁶⁸은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타낸다.
식(1-5) 중, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁴, R⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁹, R⁸⁰, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁴, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷ 및 R⁸⁸은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기를 나타내고,
X는 단결합 또는 탄소 원자수 1~4의 알킬렌기, 카르보닐기, 에테르 결합, 에스테르 결합, 카보네이트기, 아미드기 혹은 이들이 복수 연결된 기를 나타낸다.
제2항에 있어서,
상기 지환식 에폭시 화합물이 상기 식(1-1), (1-2) 및 (1-5)로 표현되는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량이 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 합계 100질량부 중에 1질량부 이상 80질량부 이하인 조성물.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 지환식 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 합계 함유량이 상기 양이온 중합성 성분 100질량부 중에 40질량부 이상 95질량부 이하인 조성물.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 양이온 중합성 성분이 추가로 지방족 에폭시 화합물을 포함하는 조성물.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 카르바졸계 증감제가 하기 식(4-1), (4-2), (4-3) 또는 (4-4)로 표현되는 화합물을 포함하는 조성물.

식(4-1) 중, R²⁰¹은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고,
R²⁰², R²⁰³, R²⁰⁴, R²⁰⁵, R²⁰⁶, R²⁰⁷, R²⁰⁸ 및 R²⁰⁹는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.

식(4-2) 중, R²¹¹은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고,
R²¹², R²¹³, R²¹⁴, R²¹⁵, R²¹⁶, R²¹⁷, R²¹⁸, R²¹⁹, R²²⁰ 및 R²²¹은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.

식(4-3) 중, R²³¹은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고,
R²³², R²³³, R²³⁴, R²³⁵, R²³⁶, R²³⁷, R²³⁸, R²³⁹, R²⁴⁰ 및 R²⁴¹은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.

식(4-4) 중, R²⁵¹은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 나타내고,
R²⁵², R²⁵³, R²⁵⁴, R²⁵⁵, R²⁵⁶, R²⁵⁷, R²⁵⁸, R²⁵⁹, R²⁶⁰ 및 R²⁶¹은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화물.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화물을 포함하는 광흡수층을 가지는 광학 필터.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 경화하는 공정을 가지는 경화물의 제조 방법.