JPS60192903A - カラ−フイルタ− - Google Patents
カラ−フイルタ−Info
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- JPS60192903A JPS60192903A JP59047180A JP4718084A JPS60192903A JP S60192903 A JPS60192903 A JP S60192903A JP 59047180 A JP59047180 A JP 59047180A JP 4718084 A JP4718084 A JP 4718084A JP S60192903 A JPS60192903 A JP S60192903A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dye
- phthalocyanine
- layer
- resist
- yellow
- Prior art date
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- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカラーフィルターに関するもので、特にカラー
撮像素子やカラーセンサー及びカラーディスプレーなど
の微細色分解用のカラーフィルターに関するものである
。
撮像素子やカラーセンサー及びカラーディスプレーなど
の微細色分解用のカラーフィルターに関するものである
。
カラーフィルターとしては、基板上にゼラチン、カゼイ
ン、グリユーあるいはポリビニルアルコールなどの親水
性高分子物質からなる媒染層を設け、その媒染層を色素
で染色して着色層を形成する染色カラーフィルターが知
られている。このような染色法では使用可能な染料が多
くフィルターとして要求される分光特性への対応が比較
的容易であるが、染色工程が染料を溶解した染色浴中に
浸漬するというコントロールの難しい模式１程を採用し
ており、また各色毎に防染用の中間層を設けるといった
複雑な工程を有するため歩留りが悪いといった欠点を有
している。また耐熱温度が１５０〜１６０〜程度までと
比較的低く熱的処理を必要とする工程では使用が困難で
ある。
ン、グリユーあるいはポリビニルアルコールなどの親水
性高分子物質からなる媒染層を設け、その媒染層を色素
で染色して着色層を形成する染色カラーフィルターが知
られている。このような染色法では使用可能な染料が多
くフィルターとして要求される分光特性への対応が比較
的容易であるが、染色工程が染料を溶解した染色浴中に
浸漬するというコントロールの難しい模式１程を採用し
ており、また各色毎に防染用の中間層を設けるといった
複雑な工程を有するため歩留りが悪いといった欠点を有
している。また耐熱温度が１５０〜１６０〜程度までと
比較的低く熱的処理を必要とする工程では使用が困難で
ある。
これに対して染料や顔料の色素薄膜を蒸着等の気相堆積
法で形成する蒸着法が知られている（特開昭５５−１４
１１１４０１１１等）、この方法によれば色素そのもの
で着色層が形成できるので、染色法に比べて薄型化でき
、また非水工程で制御も容易である。
法で形成する蒸着法が知られている（特開昭５５−１４
１１１４０１１１等）、この方法によれば色素そのもの
で着色層が形成できるので、染色法に比べて薄型化でき
、また非水工程で制御も容易である。
また耐熱性が良いという特徴も有している。しかしなが
ら蒸着に適する使用可能な色素の選択が容易でないため
、今まで普及していない、カラーフィルターを色素の観
点からみると、カラーフィルター用色素には以下のよう
な特性が要求される。まず第一にフィルターとして適切
な分光特性を有するものでなければならない。
ら蒸着に適する使用可能な色素の選択が容易でないため
、今まで普及していない、カラーフィルターを色素の観
点からみると、カラーフィルター用色素には以下のよう
な特性が要求される。まず第一にフィルターとして適切
な分光特性を有するものでなければならない。
一方製法の点からみれば、分光特性が良くても製造上安
定性に欠けたり、特別の処理工程が必要な色素では歩留
りの低下をまねき結局カラーフィルターには不適当なも
のになってしまう、従ってカラーフィルター用色素とし
ては、分光特性と製造の両面からみてバランスのとれた
最適なものを選ばなければならない。
定性に欠けたり、特別の処理工程が必要な色素では歩留
りの低下をまねき結局カラーフィルターには不適当なも
のになってしまう、従ってカラーフィルター用色素とし
ては、分光特性と製造の両面からみてバランスのとれた
最適なものを選ばなければならない。
特に蒸着法においては、耐熱性があって容易に蒸発気化
可能であり、かつフォトリソ工程での溶剤処理に耐える
という製造面での制約が強いため染色法に比べて種々の
利点があるにもかかわらず、蒸着型カラーフィルターが
普及していなかった。
可能であり、かつフォトリソ工程での溶剤処理に耐える
という製造面での制約が強いため染色法に比べて種々の
利点があるにもかかわらず、蒸着型カラーフィルターが
普及していなかった。
ところで蒸着型フィルターに用いられる色素に要求され
る特性は、蒸着可能であり、蒸蒼後のレジストによるフ
ォトリソ工程での溶剤や熱処理に耐え、かつフィルター
としてバランスのとれた分光特性を有していることであ
るが、こういった緒特性を比較的良く満足する色素とし
てフタロシアニン系色素があげられる。フタロシアニン
系色素は基本となるフタロシアこン環が化学的にも熱的
にも極めて安定なので蒸着性、耐溶剤性に優れている。
る特性は、蒸着可能であり、蒸蒼後のレジストによるフ
ォトリソ工程での溶剤や熱処理に耐え、かつフィルター
としてバランスのとれた分光特性を有していることであ
るが、こういった緒特性を比較的良く満足する色素とし
てフタロシアニン系色素があげられる。フタロシアニン
系色素は基本となるフタロシアこン環が化学的にも熱的
にも極めて安定なので蒸着性、耐溶剤性に優れている。
しかし、分光特性についてはフタロシアニン系色素は、
青色またはシアン色としての特性を示すものが多い、中
心金属や置換基によって緑色に近い特性を示す場合もあ
るが、概して青色側によっているため、厳密に緑として
みた場合には充分でない。
青色またはシアン色としての特性を示すものが多い、中
心金属や置換基によって緑色に近い特性を示す場合もあ
るが、概して青色側によっているため、厳密に緑として
みた場合には充分でない。
而して本発明はこのフタロシアニン類のもつすぐれた蒸
着性、耐溶剤性を活し、その欠点である分光特性を補な
った蒸着型カラーフィルターを提供することを主たる目
的とするものである。
着性、耐溶剤性を活し、その欠点である分光特性を補な
った蒸着型カラーフィルターを提供することを主たる目
的とするものである。
本発明によるカラーフィルターは、フタロシアニン系色
素とアントラキノン系色素を蒸着して形成される緑色素
層を有することを特徴とするものである。即ち本発明で
は緑色色素層として、フタロシアニン系色素の他にアン
トラキノン系の黄色色素を併用することにより、フタロ
シアニン色素のもつ青色分光成分をカットし、優れた緑
色の分光特性を有する着色層を形成するものである。
素とアントラキノン系色素を蒸着して形成される緑色素
層を有することを特徴とするものである。即ち本発明で
は緑色色素層として、フタロシアニン系色素の他にアン
トラキノン系の黄色色素を併用することにより、フタロ
シアニン色素のもつ青色分光成分をカットし、優れた緑
色の分光特性を有する着色層を形成するものである。
フタロシアニン色素の色補正に用いる色素としては、鋭
い立ち上り特性を有する黄色色素でなければならない、
また蒸着法で形成するので、フタロシアニン系色素類に
匹敵する蒸着性と耐溶剤性をも兼ねそなえる必要がある
が本発明で用いるアントラキノン系黄色色素はこれらの
特性を全て満足するものであり、フタロシアニン系色素
との組合せにおいて蒸着型のすぐれた緑着色層形成を可
能にするものである。
い立ち上り特性を有する黄色色素でなければならない、
また蒸着法で形成するので、フタロシアニン系色素類に
匹敵する蒸着性と耐溶剤性をも兼ねそなえる必要がある
が本発明で用いるアントラキノン系黄色色素はこれらの
特性を全て満足するものであり、フタロシアニン系色素
との組合せにおいて蒸着型のすぐれた緑着色層形成を可
能にするものである。
本発明で用いられるアントラキノン系色素とはアントラ
キノンの銹導体及び類似の多環式キノンをいう、アント
ラキノン系色素は熱的に安定で高温に於いて分解するこ
とはなく、所定の温度以上になると容易に蒸発する性質
を有しており、蒸着に゛よって色素薄膜を形成するには
極めて好適である。
キノンの銹導体及び類似の多環式キノンをいう、アント
ラキノン系色素は熱的に安定で高温に於いて分解するこ
とはなく、所定の温度以上になると容易に蒸発する性質
を有しており、蒸着に゛よって色素薄膜を形成するには
極めて好適である。
蒸着によって形成されたアントラキノン系色素の薄膜は
有機膜にしばしば見られるような疎い膜ではなく極めて
緻密でしかもガラスのような無機物の表面にも強く密着
しており、蒸着膜としてすぐれた物性を有している。
有機膜にしばしば見られるような疎い膜ではなく極めて
緻密でしかもガラスのような無機物の表面にも強く密着
しており、蒸着膜としてすぐれた物性を有している。
また一方この蒸着膜は有機溶剤に対して優れた耐性を有
している。即ち、アルコール類等の貧溶媒は勿論、ケト
ン類、エステル類、エーテルアルコール類、ハロゲン溶
剤等の良溶蝶に対してもほとんど溶解せず、分光特性的
にも何ら変化を起すことがない、従って、色素層に対し
て、レジストの塗布、現像を施しても全く何ら支障がな
いので、色素層の微細加工も容易に行ないうるものであ
り、微細カラーフィルター等の製造に極めて好適である
。
している。即ち、アルコール類等の貧溶媒は勿論、ケト
ン類、エステル類、エーテルアルコール類、ハロゲン溶
剤等の良溶蝶に対してもほとんど溶解せず、分光特性的
にも何ら変化を起すことがない、従って、色素層に対し
て、レジストの塗布、現像を施しても全く何ら支障がな
いので、色素層の微細加工も容易に行ないうるものであ
り、微細カラーフィルター等の製造に極めて好適である
。
代表的なアントラキノン系黄色色素の構造の一例を次に
示す。
示す。
但し、本発明のカラーフィルターの色素層を形成するこ
とのできる色素としては、必ずしもこれらに限定される
ものではない。
とのできる色素としては、必ずしもこれらに限定される
ものではない。
このようなアントラキノン系色素として市販されている
ものの一例を商品名を用いて以下に挙げる。
ものの一例を商品名を用いて以下に挙げる。
クロモフタール イエロー Ａ２Ｒ
（チバガイギー製） Ｃ，１，ＮＯ，７Ｏｆ１００ヘリ
オフアースト イエロー Ｅ３Ｒ （バイエル製） パリオゲン イエロー １，１５６ｔＱ（ＢＡＳＦ製）
Ｃ，１，ＮＯ，Ｈ４２０カヤセツト イエロー Ｅ−
Ｒ （日本化薬製） Ｃ，１，ＮＯ−８５０４１３クロモフ
タール イエロー ＡＧＲ （チバガイギー製） パイブラスト イエロー Ｅ２Ｇ （バイエル製） 二ホンスレン イエロー ＧＣＮ （住友化学製） Ｇ、１．ＮＯ−８７３００ミケスレン
イエロー ＧＫ （三井東圧製） Ｃ，１，ＮＯ，６１７２５インダンス
レンプリンテイング イエロー ＧＯＫ（ヘキスト製）
’ Ｇ、１．ＮＯ，５８１００アントラゾール イエロ
ー Ｖ （ヘキスト製） Ｇ、１．ＮＯ，６０５３１ミケスレン
ソリュプル イエロー １２Ｇ（三井東圧製） Ｃ，
ｌ−Ｎｏ、 ｆｔ０６０５ミケスレン イエロー ＧＦ （Ｅ井東圧製） Ｃ，１，ＮＯ，ｅｅ５ｔ。
オフアースト イエロー Ｅ３Ｒ （バイエル製） パリオゲン イエロー １，１５６ｔＱ（ＢＡＳＦ製）
Ｃ，１，ＮＯ，Ｈ４２０カヤセツト イエロー Ｅ−
Ｒ （日本化薬製） Ｃ，１，ＮＯ−８５０４１３クロモフ
タール イエロー ＡＧＲ （チバガイギー製） パイブラスト イエロー Ｅ２Ｇ （バイエル製） 二ホンスレン イエロー ＧＣＮ （住友化学製） Ｇ、１．ＮＯ−８７３００ミケスレン
イエロー ＧＫ （三井東圧製） Ｃ，１，ＮＯ，６１７２５インダンス
レンプリンテイング イエロー ＧＯＫ（ヘキスト製）
’ Ｇ、１．ＮＯ，５８１００アントラゾール イエロ
ー Ｖ （ヘキスト製） Ｇ、１．ＮＯ，６０５３１ミケスレン
ソリュプル イエロー １２Ｇ（三井東圧製） Ｃ，
ｌ−Ｎｏ、 ｆｔ０６０５ミケスレン イエロー ＧＦ （Ｅ井東圧製） Ｃ，１，ＮＯ，ｅｅ５ｔ。
二ホンスレン イエロー ＧＣＦ
（住友化学製） Ｃ，１，ＮＯ，８５４３０インダンス
レン イエロー ３Ｇ （バイエル製） Ｇ、ｌ−Ｎｏ、 ８５４０５二ホンス
レン イエロー ４ＧＬ （住友化学製） インダンスレン イエロー ５ＧＫ （バイエル製） Ｇ、ｌ−Ｎｏ、 ６５４１０パランス
レン イエロー ＰＧＡ （ＢＡＳＦ製） Ｃ，１，ＮＯ，ｆ１８４００チバノン
イエロー ２Ｇ （チバガイギー製） インダンスレン イエロー Ｆ２ＧＧ （ヘキスト製） アントラゾール イエロー ＩＣＧ （ヘキスト製） インダンスレン イエロー ５ＣＦ （ＢＡＳＦ製） ミケスレン イエロー ３ＧＬ （三井東圧製） インダンスレン イエロー ＬＧＦ （ＢＡＳＦ製） モノライト イエロー ＦＲ （ＩＧＩ製） カヤセット イエロー Ｅ−ＡＲ （日本化薬製） また代表的なフタロシアニン系色素の例としては、メタ
ルフリーフタロシアこン、銅フタロシアニン、ベリリウ
ムフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、亜鉛
フタロシアニン、チタニウムフタロシアニン、錫フタロ
シアニン、鉛フタロシアニン、バナジウムフタロシアニ
ン、クロムフタロシアニン、モリブデンフタロシアニン
、ブンガンフタロシアニン、鉄フタロシアニン、コバル
トフタロシアニン、ニッケルフタロシアニン、パラジウ
ムフタロシアニン、白金フタロシアニンが挙げられる。
レン イエロー ３Ｇ （バイエル製） Ｇ、ｌ−Ｎｏ、 ８５４０５二ホンス
レン イエロー ４ＧＬ （住友化学製） インダンスレン イエロー ５ＧＫ （バイエル製） Ｇ、ｌ−Ｎｏ、 ６５４１０パランス
レン イエロー ＰＧＡ （ＢＡＳＦ製） Ｃ，１，ＮＯ，ｆ１８４００チバノン
イエロー ２Ｇ （チバガイギー製） インダンスレン イエロー Ｆ２ＧＧ （ヘキスト製） アントラゾール イエロー ＩＣＧ （ヘキスト製） インダンスレン イエロー ５ＣＦ （ＢＡＳＦ製） ミケスレン イエロー ３ＧＬ （三井東圧製） インダンスレン イエロー ＬＧＦ （ＢＡＳＦ製） モノライト イエロー ＦＲ （ＩＧＩ製） カヤセット イエロー Ｅ−ＡＲ （日本化薬製） また代表的なフタロシアニン系色素の例としては、メタ
ルフリーフタロシアこン、銅フタロシアニン、ベリリウ
ムフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、亜鉛
フタロシアニン、チタニウムフタロシアニン、錫フタロ
シアニン、鉛フタロシアニン、バナジウムフタロシアニ
ン、クロムフタロシアニン、モリブデンフタロシアニン
、ブンガンフタロシアニン、鉄フタロシアニン、コバル
トフタロシアニン、ニッケルフタロシアニン、パラジウ
ムフタロシアニン、白金フタロシアニンが挙げられる。
アントラキノン系色素との組合せで緑色素層を形成する
には緑色側に多くの透過率を有するフタロシアニンが望
ましい。
には緑色側に多くの透過率を有するフタロシアニンが望
ましい。
緑色素層の形成はフタロシアニン系色素とアントラキノ
ン系色素を順次蒸着積層する方法が一般的であるが、同
時蒸着でもかまわない、所望の分光特性に応じてそれぞ
れの膜厚又は蒸着量を制御する０通常はそれぞれ膜厚に
して５００〜１００ＯＯＡが適切である。
ン系色素を順次蒸着積層する方法が一般的であるが、同
時蒸着でもかまわない、所望の分光特性に応じてそれぞ
れの膜厚又は蒸着量を制御する０通常はそれぞれ膜厚に
して５００〜１００ＯＯＡが適切である。
次にこれらパターン状の色素層の形成方法について述べ
る。蒸着色素層のパターニング技術としてはドライエツ
チング法とリフトオフ法がある。
る。蒸着色素層のパターニング技術としてはドライエツ
チング法とリフトオフ法がある。
ドライエツチング法は色素層上にレジストパターンをつ
くり、それをマスクとしてプラズマあるいはイオンエツ
チングで色素パターンを形成するものである。（特開昭
５１３−３４９８１等）。この方法では染色法の如き中
間層の形成は不用であるが、そのかわり色素パターン上
にレジストマスクが残ってしまう。しかもこのマスクを
色素層に何ら損傷を与えずに除去することは極めて困難
なため、結局実質的に光学的には不要なレジストマスク
が色素層の上に積層された２層構成になる。
くり、それをマスクとしてプラズマあるいはイオンエツ
チングで色素パターンを形成するものである。（特開昭
５１３−３４９８１等）。この方法では染色法の如き中
間層の形成は不用であるが、そのかわり色素パターン上
にレジストマスクが残ってしまう。しかもこのマスクを
色素層に何ら損傷を与えずに除去することは極めて困難
なため、結局実質的に光学的には不要なレジストマスク
が色素層の上に積層された２層構成になる。
また、リフトオフ法によるパターン状緑色素層は後で溶
解可能な物質、主にレジストを用いて除去すべき色素層
の下部にパターンを形成後その上に蒸着色素層を設け、
しかる後、レジストパターンを溶解又は剥離することに
よって色素層には何ら直接的な作用を及ぼすことなく、
その上の色素層を物理的に除去することができる。
解可能な物質、主にレジストを用いて除去すべき色素層
の下部にパターンを形成後その上に蒸着色素層を設け、
しかる後、レジストパターンを溶解又は剥離することに
よって色素層には何ら直接的な作用を及ぼすことなく、
その上の色素層を物理的に除去することができる。
色素層のリフトオフ法に用いるレジストとしては、後に
溶解可能であればネガ型、ポジ型を問わない。しかしネ
ガ型では一般に輻射線の照射で架橋が進み、溶解するに
は強い溶解力をもつ溶剤が必要となる。従って色素層に
損傷を与えたり溶解させたりしやすいので好ましくはな
い。
溶解可能であればネガ型、ポジ型を問わない。しかしネ
ガ型では一般に輻射線の照射で架橋が進み、溶解するに
は強い溶解力をもつ溶剤が必要となる。従って色素層に
損傷を与えたり溶解させたりしやすいので好ましくはな
い。
この点ポジ型レジストでは、特にレジストパターン形成
後、全面に輻射線を照射すれば可溶性になるので、ネガ
型に比べて色素を溶解しにくい溶剤を選択できるのでリ
フトオフには好適である。またポジ型レジストも樹脂成
分の種類が多岐にわたっており、その塗布や現像に使用
される溶剤も様々である。色素に対してより作用性の少
ない溶剤の使えるポジ型レジストを選択することが望ま
しく、−例として重合単位として下記構造で示される含
フツ素メタクリレートを主体とするポジ型レジストが好
適例として挙げられる。このレジストは、エステル類、
芳香族類、ハロゲン化炭化水素類などの溶解能が高い良
溶媒は勿論のこと、アルコール類などの溶解能が低い貧
溶媒にも良く溶解するため、色素膜に影響の少ない溶剤
を使えるためである。
後、全面に輻射線を照射すれば可溶性になるので、ネガ
型に比べて色素を溶解しにくい溶剤を選択できるのでリ
フトオフには好適である。またポジ型レジストも樹脂成
分の種類が多岐にわたっており、その塗布や現像に使用
される溶剤も様々である。色素に対してより作用性の少
ない溶剤の使えるポジ型レジストを選択することが望ま
しく、−例として重合単位として下記構造で示される含
フツ素メタクリレートを主体とするポジ型レジストが好
適例として挙げられる。このレジストは、エステル類、
芳香族類、ハロゲン化炭化水素類などの溶解能が高い良
溶媒は勿論のこと、アルコール類などの溶解能が低い貧
溶媒にも良く溶解するため、色素膜に影響の少ない溶剤
を使えるためである。
コノようなレジストとしては、ＦＰＭ２１０、ＦＢＩ
１１０およびＦＢＩ２０（いずれも商品名でダイキン工
業製）が挙げられる。
１１０およびＦＢＩ２０（いずれも商品名でダイキン工
業製）が挙げられる。
３
ここで、Ｒ１および烏は水素又はアルキル基、馬は各炭
素に少なくとも１個のフッ素が結合したアルキル基であ
る。
素に少なくとも１個のフッ素が結合したアルキル基であ
る。
代表的な例としては次のものが挙げられる。
その他レジストとしては、次のような商品名で市販され
ている各種のものを適宜用いることができる。
ている各種のものを適宜用いることができる。
ＡＺシリーズ： 、１１１．１１９Ａ、 １２０．３４
０．１３５０Ｂ。
０．１３５０Ｂ。
１３５０Ｊ、１３７０． １３７５． １４５０． １
４５０Ｊ、１４７０． １４７５゜２４００、２４１５
．２４３０ （以上シブレー製） Ｗａｙｃｏａｔ Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ ＬＳＩ Ｒｅ５ｉ
ｓｔ（１１５，２９５，３９５）Ｗａｙｃｏａｔ ＨＰ
ＲＰｏ５ｉｔｉｖｅ Ｒｅ５ｉｓｔ（１０４，１０８）
（以上ハント製） Ｋｏｄａｋ旧ｅｒａ Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ Ｒｅ５ｉｓｔ
（＝＋ダック製）Ｉｇｏｆｉｎｅ Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ
Ｒｅ５ｉｓｔ （マイクロイメージテクノロジー製） ＰＣ１２１３，１２９ＳＦ （ポリクローム製）ＯＦＰ
Ｒ？７．７８．８００ ０ＥＢＲ１０００，１０１０，１０３００ＤＵＲ１００
０，１００１，１０１０，１０１３，１０１４（以上東
京応化部） ＥＢＲ１，９（東し製） ＦＭＲＥｌｏｏ、 ＥＩＯＩ （富士薬品工業製）以上
のようなバターニング工程によってパターン状の着色層
が形成された後、着色層上に保護膜を設けることが望ま
しい、これはゴミ、傷といった欠陥を防ぎ、また各種環
境条件から着色層を保護するためである。
４５０Ｊ、１４７０． １４７５゜２４００、２４１５
．２４３０ （以上シブレー製） Ｗａｙｃｏａｔ Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ ＬＳＩ Ｒｅ５ｉ
ｓｔ（１１５，２９５，３９５）Ｗａｙｃｏａｔ ＨＰ
ＲＰｏ５ｉｔｉｖｅ Ｒｅ５ｉｓｔ（１０４，１０８）
（以上ハント製） Ｋｏｄａｋ旧ｅｒａ Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ Ｒｅ５ｉｓｔ
（＝＋ダック製）Ｉｇｏｆｉｎｅ Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ
Ｒｅ５ｉｓｔ （マイクロイメージテクノロジー製） ＰＣ１２１３，１２９ＳＦ （ポリクローム製）ＯＦＰ
Ｒ？７．７８．８００ ０ＥＢＲ１０００，１０１０，１０３００ＤＵＲ１００
０，１００１，１０１０，１０１３，１０１４（以上東
京応化部） ＥＢＲ１，９（東し製） ＦＭＲＥｌｏｏ、 ＥＩＯＩ （富士薬品工業製）以上
のようなバターニング工程によってパターン状の着色層
が形成された後、着色層上に保護膜を設けることが望ま
しい、これはゴミ、傷といった欠陥を防ぎ、また各種環
境条件から着色層を保護するためである。
保護膜の形成には通常知られている各種方法が使える。
有機樹脂例えば還化ゴムなどのゴム系樹脂、ポリウレタ
ン、ポリカーボネート、シリコン、アクリルポリバラキ
シリレンや、 Ｓｉ２Ｎ４ 、 Ｓｉｎ。
ン、ポリカーボネート、シリコン、アクリルポリバラキ
シリレンや、 Ｓｉ２Ｎ４ 、 Ｓｉｎ。
Ａ ｊｌ ２０３Ｔ Ｔａ２０３等の無機膜をスピンコ
ード、ディッピング、ロールコータ−等の塗布法あるい
は蒸着等で形成することができる。
ード、ディッピング、ロールコータ−等の塗布法あるい
は蒸着等で形成することができる。
また各種感光性樹脂例えば各種レジストを使用すること
も可能である。
も可能である。
本発明で用いられる基板は色素蒸着が可能であれば特に
限定されるものではない、Ｎえば具体的に以下のものが
使用できる。ガラス板、光学用樹脂板、ゼラチン、ポリ
ビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、メチ
ルメタクリレート、ポリエステル、ブチラール、ポリア
ミドなどの樹脂フィルム、パターン状の着色層をカラー
フィルターとして適用されるものと一体に形成すること
も可能である。その場合の基板の一例としては。
限定されるものではない、Ｎえば具体的に以下のものが
使用できる。ガラス板、光学用樹脂板、ゼラチン、ポリ
ビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、メチ
ルメタクリレート、ポリエステル、ブチラール、ポリア
ミドなどの樹脂フィルム、パターン状の着色層をカラー
フィルターとして適用されるものと一体に形成すること
も可能である。その場合の基板の一例としては。
ブラウン管表示面、撮像管の受光面、０００． ＢＢＤ
。
。
ＣＩＤ等の固体撮像素子が形成されたウェハー、薄膜半
導体を用いた密着型イメージセンサ−１液晶ディスプレ
ー面、カラー電子写真用感光体等があげられる。
導体を用いた密着型イメージセンサ−１液晶ディスプレ
ー面、カラー電子写真用感光体等があげられる。
蒸着された色素層と下地の基板、例えばガラス等との接
触性を増す必要がある場合は、ガラス基板等にポリウレ
タン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シランカップリング
剤等をあらかじめ薄く塗布してから蒸着膜を形成すると
効果的である。
触性を増す必要がある場合は、ガラス基板等にポリウレ
タン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シランカップリング
剤等をあらかじめ薄く塗布してから蒸着膜を形成すると
効果的である。
以下図面により、代表的な本発明のパターン作成工程を
説明する。
説明する。
ポジ型レジストを所望の基板にスピンナーを用いて回転
塗布する。乾燥後適当な温度条件下でプリベークする。
塗布する。乾燥後適当な温度条件下でプリベークする。
ついでレジスト感度を有する光または電子ビームで所定
のパターン形状に露光し現像する。必要に応じて、現像
前にレジストａのひずみを緩和する巨的での前処理、現
像後、膜の膨潤をおさえるためのリンス処理を行なう。
のパターン形状に露光し現像する。必要に応じて、現像
前にレジストａのひずみを緩和する巨的での前処理、現
像後、膜の膨潤をおさえるためのリンス処理を行なう。
現像によってもレジストの残膜や、残液いわゆるスカム
が取りきれない場合は、プラズマ灰化法によって除去す
ることが可能である。
が取りきれない場合は、プラズマ灰化法によって除去す
ることが可能である。
以上の工程によって第１図に示されるレジストパターン
２が基板ｌ上に形成される。ついで第２図の如く全面Ｊ
レジスト感度を有する光または電子ビームを照射する。
２が基板ｌ上に形成される。ついで第２図の如く全面Ｊ
レジスト感度を有する光または電子ビームを照射する。
これはレジストの主鎖切断や分解を行なうことによって
後のレジストパターンの溶解除去を容易にするものであ
るが、省くことも可能である。省いた場合には、その分
だけ強い溶解性の溶媒を使う必要がある。
後のレジストパターンの溶解除去を容易にするものであ
るが、省くことも可能である。省いた場合には、その分
だけ強い溶解性の溶媒を使う必要がある。
ついで第３図の如く、レジストパターン上に色素層３を
真空蒸着法によって形成する。フタロシアニン系色素と
アントラキノン系色素を積層する場合は蒸着をくり返す
０色素層の厚さは所望の分光特性によって決められるが
通常５ｏｏ −１００００Ａ程度である。
真空蒸着法によって形成する。フタロシアニン系色素と
アントラキノン系色素を積層する場合は蒸着をくり返す
０色素層の厚さは所望の分光特性によって決められるが
通常５ｏｏ −１００００Ａ程度である。
ついで色素層下のレジストパターンを除去するために色
素を溶解させず、また分光特性をそこなわずにレジスト
パターンのみを溶解もしくは基板から剥離させる溶媒に
浸漬する。
素を溶解させず、また分光特性をそこなわずにレジスト
パターンのみを溶解もしくは基板から剥離させる溶媒に
浸漬する。
レジストパターンの除去によって同時にその上にある色
素層が除去される訳であるが、これを補助するために、
浸漬時に超音波のエネルギーを加えることも有効である
。
素層が除去される訳であるが、これを補助するために、
浸漬時に超音波のエネルギーを加えることも有効である
。
このようにして、第４図の如くパターン状の着色層４が
形成される０色素を同一基板上に形成する場合にはさら
に異なるパターンに応じてレジストパターンの位置をず
らしながら、上記の工程をくり返して行なえばよい。
形成される０色素を同一基板上に形成する場合にはさら
に異なるパターンに応じてレジストパターンの位置をず
らしながら、上記の工程をくり返して行なえばよい。
色の種類の数だけこれらの工程をくり返すことによって
、例えば第５図の如き３つの色を有するパターン状着色
層４，５および６を有するものが製造できる。
、例えば第５図の如き３つの色を有するパターン状着色
層４，５および６を有するものが製造できる。
ついでパターン状着色層上に所望の樹脂層７を保護層と
して塗布してカラーフィルターが完成する。（第６図） 実施例 ｌ ガラス基板上にスピンナー塗布法によりポジ型しジス）
ＦＰＭ２１０ （商品名：ダイキン工業製）を０．６
ＪＩｊｌの膜厚に塗布した。１８０℃３０分間のプリベ
ークを行なった後、遠紫外光にてストライブ形状の露光
を行ない、専用前処理液、現像液、リンス液にて処理し
てレジストパターンを形成した。
して塗布してカラーフィルターが完成する。（第６図） 実施例 ｌ ガラス基板上にスピンナー塗布法によりポジ型しジス）
ＦＰＭ２１０ （商品名：ダイキン工業製）を０．６
ＪＩｊｌの膜厚に塗布した。１８０℃３０分間のプリベ
ークを行なった後、遠紫外光にてストライブ形状の露光
を行ない、専用前処理液、現像液、リンス液にて処理し
てレジストパターンを形成した。
次にこのパターン全面に遠紫外光を照射して現像液に可
溶とした。
溶とした。
続いてレジストパターンの形成されたガラス基板と、モ
リブデン製蒸着ポートに詰めた銅フタロシアニンを真空
蒸着機内に設置し排気した。真空度１０′〜１０”ｔｏ
ｒｒにおいて蒸着ポートを４５０〜５５０℃に加熱して
銅フタロシアニンを約１３００人厚に蒸着させた。
リブデン製蒸着ポートに詰めた銅フタロシアニンを真空
蒸着機内に設置し排気した。真空度１０′〜１０”ｔｏ
ｒｒにおいて蒸着ポートを４５０〜５５０℃に加熱して
銅フタロシアニンを約１３００人厚に蒸着させた。
同様な方法によりアントラキノン系色素としてクロモフ
タールイエローＡＧＲ（商品名：チバガイギー製）を約
４００ＯＡの厚さに蒸着した。つづいて蒸着の済んだガ
ラス基板を上記専用現像液で浸漬撹拌してレジストパタ
ーンを溶解しながら蒸着膜の不要部分を除去することに
よって緑色ストライプの着色層を得ることができた。
タールイエローＡＧＲ（商品名：チバガイギー製）を約
４００ＯＡの厚さに蒸着した。つづいて蒸着の済んだガ
ラス基板を上記専用現像液で浸漬撹拌してレジストパタ
ーンを溶解しながら蒸着膜の不要部分を除去することに
よって緑色ストライプの着色層を得ることができた。
得られた本発明のカラーフィルターの有する緑色着色層
の分光特性を第７図の曲線−！Ｏに示す。この分光曲線
ｌＯから、クロモフタールイエローＡＧＲの分光特性（
曲線９）によって、銅フタロシアニンの分光特性（曲線
８）に於ける青色成分をカットし、緑色成分が生かされ
た優れた緑色特性を、本発明のカラーフィルターの有す
る緑色色素層が有していることが認められた。
の分光特性を第７図の曲線−！Ｏに示す。この分光曲線
ｌＯから、クロモフタールイエローＡＧＲの分光特性（
曲線９）によって、銅フタロシアニンの分光特性（曲線
８）に於ける青色成分をカットし、緑色成分が生かされ
た優れた緑色特性を、本発明のカラーフィルターの有す
る緑色色素層が有していることが認められた。
実施ｆ１２〜８
フタロシアニン系色素とアントラキノン系色素として、
以下に示した色素を組合せて使用する以外は、実施例１
と同様にして本発明のカラーフィルターの緑色着色層を
形成した。
以下に示した色素を組合せて使用する以外は、実施例１
と同様にして本発明のカラーフィルターの緑色着色層を
形成した。
いずれも実施Ｍｌの場合と同様に分光特性の改善された
パターン状緑色着色層が得られた。
パターン状緑色着色層が得られた。
【図面の簡単な説明】
第１図〜第６図は本発明によるカラーフィルターの製造
方法の工程説明図であり、第１図はレジストパターン形
成工程図、第２図は露光工程図、第３図は色素層の形成
工程図、および第４図はパターン状着色層形成工程を示
す図、Ｉ！ＪＳ５図は製造される三色の着色層の１態様
を示す図、第６図は保護層形成工程を示す図゛である。 ８７図は分光透過率のグラフを示す。 １ −ｍ−基板 ２−ｍ−レジストパターン ３−ｍ−色素層 ４．５および６−−− パターン状色素層７−ｍ−樹脂
層 第１図 第６図
方法の工程説明図であり、第１図はレジストパターン形
成工程図、第２図は露光工程図、第３図は色素層の形成
工程図、および第４図はパターン状着色層形成工程を示
す図、Ｉ！ＪＳ５図は製造される三色の着色層の１態様
を示す図、第６図は保護層形成工程を示す図゛である。 ８７図は分光透過率のグラフを示す。 １ −ｍ−基板 ２−ｍ−レジストパターン ３−ｍ−色素層 ４．５および６−−− パターン状色素層７−ｍ−樹脂
層 第１図 第６図
Claims (3)
- （１）フタロシアニン系色素およびアントラキノン系色
素を蒸着して形成される緑色素層を有することを特徴と
するカラーフィルター。 - （２）前記緑色素層が、レジストパターンを有する基板
上にフタロシアニン系色素およびアントラキノン系色素
を蒸着後、該レジストパターンを除去して形成されたパ
ターン状級色素層である特許請求の範囲第１項記載のカ
ラーフィルター。 - （３）前記レジストパターンがポジ型レジストで形成さ
れたものである特許請求の範囲第２項記載のカラーフィ
ルター。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59047180A JPS60192903A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | カラ−フイルタ− |
| DE19853509198 DE3509198A1 (de) | 1984-03-14 | 1985-03-14 | Farbfilter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59047180A JPS60192903A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | カラ−フイルタ− |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60192903A true JPS60192903A (ja) | 1985-10-01 |
| JPH0257285B2 JPH0257285B2 (ja) | 1990-12-04 |
Family
ID=12767880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59047180A Granted JPS60192903A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | カラ−フイルタ− |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60192903A (ja) |
| DE (1) | DE3509198A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009527014A (ja) * | 2006-02-17 | 2009-07-23 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 増強されたコントラストの青色カラーフィルター |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02153353A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-06-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 着色光重合組成物およびカラーフィルタ |
| DE3940640A1 (de) * | 1989-12-08 | 1991-06-20 | Nokia Unterhaltungselektronik | Verfahren zum herstellen einer substratplatte fuer eine fluessigkristallzelle mit schwarzmatrixbereichen |
| JPH0481801A (ja) * | 1990-07-25 | 1992-03-16 | Kuraray Co Ltd | 光学用成形品 |
| GB9411586D0 (en) * | 1994-06-09 | 1994-08-03 | Zeneca Ltd | Coating process |
| US5874188A (en) * | 1998-01-29 | 1999-02-23 | Eastman Kodak Company | Forming pigment color filter arrays |
| WO2001097253A1 (en) | 2000-06-16 | 2001-12-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Electric lamp comprising a light absorbing medium |
| JP3742366B2 (ja) | 2002-07-26 | 2006-02-01 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | カラーホイールの形成方法 |
| JP4431336B2 (ja) * | 2003-04-09 | 2010-03-10 | 株式会社日本触媒 | 樹脂組成物、光学フィルターおよびプラズマディスプレー |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3736050A (en) * | 1970-07-27 | 1973-05-29 | Ato Inc | High contrast filter for visual displays down-converting otherwise blocked radiation |
| DE3013142A1 (de) * | 1980-04-03 | 1981-10-08 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung eines fotoempfaengers mt einem multichroitischen farbstreifenfilter |
| JPS5740209A (en) * | 1980-08-23 | 1982-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of multicolor optical filter |
-
1984
- 1984-03-14 JP JP59047180A patent/JPS60192903A/ja active Granted
-
1985
- 1985-03-14 DE DE19853509198 patent/DE3509198A1/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009527014A (ja) * | 2006-02-17 | 2009-07-23 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 増強されたコントラストの青色カラーフィルター |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0257285B2 (ja) | 1990-12-04 |
| DE3509198A1 (de) | 1985-11-14 |
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