JPS6127506A - カラ−フイルタ− - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はカラーフィルターに関するもので、特にカラー
撮像素子やカラーフォトセンサー及びカラーディスプレ
ーなどに用いられる微細色分解用カラーフィルターに関
するものである。

〔従来の技術〕

従来より、代表的なカラーフィルターとして、基板上に
ゼラチン０、カゼイン、グリユーあるいはポリビニルア
ルコールなどの親水性高分子物質からなる媒染層を設け
、その媒染層を色素で染色して着色層を形成する染色カ
ラーフィルターが知られている。染色法では使用可能な
染料が多く、フィルターとして要求される分光特性への
対応が比較的容易であるが、染色工程が染料を溶解した
染色浴中に浸漬するというコントロールの難しい湿式１
程を採用しており、また各色毎に防染用の中間層を設け
るといった複雑な工程を有するため歩留りが悪いといっ
た欠点を有している。また耐熱性が１５０〜１６０℃程
度と比較的低く、熟的処理を必要とする工程では使用が
困難である。

これに対して染料や顔料の色素薄膜を蒸着等の堆積膜形
成法が知られている（特開昭５５−１４６４０６等）。

この方法によれば色素そのもので着色層が形成できるの
で、染色法に比べて薄型化でき、また非水工程である為
制御も容易である。また、耐熱性が良いという特徴も有
している。しかしながら、蒸着に適する使用可能な色素
の選択が容易でないため、今まで普及していなかった。

他方、カラーフィルターを色素の観点からみると、カラ
ーフィルター用色素には以下のよな特性が要求される。

まず第一にフィルターとして適切な分光特性でなければ
ならない、一般にカラーフィルターは用途、方式にもよ
るが、２ないし３色の複数の色構成で、フィルターとし
ての色特性は個々の色特性は勿論、全体のバランスがと
れていなくてはならない０例えば１色でも分光特性的に
劣っていれば、他がいくら良くてもフィルターとしての
色特性は劣ってしまって不適当なものとなってしまう。

一方製法の点からみれば、分光特性が良くても製造上安
定性に欠けたり、特別の処理、工程が必要な色素では歩
留りの低下をまねき、結局カラーフィルターには不適当
なものになってしまう、従ってカラーフィルター用色素
としては、分光特性と製造の両面からみてバ→ンスのと
れた最適なものを選Ｊｆなければならない。

特に蒸着法においては、耐熱性があって容易に蒸発気化
可能であり、かつフォトリソ工程での溶剤処理に耐える
という製造面での制約が強いため染色法にヰベて種々の
利点があるにもかかわらず、蒸着型カラーフィルターが
普及していなかった。

〔発明の目的〕

而して本発明は、三色の色素について、蒸着への適応性
、分光透過特性、耐溶剤性および耐久性を考慮して、最
適の色素を選択使用することによって優れた蒸着色素層
から成るカラーフィルターを提供することを主たる目的
とする。

本発明の別の目的は、赤色色素について蒸着可能で耐溶
剤性があり、かつ分光特性の優れた赤色色素をフタロシ
アニン系色素との組合せで用いることにより総合的に優
れた特徴を有するカラーフィルターを提供することでも
ある。

〔発明の構成〕

本発明によるカラーフィルターは、色素層を成す色素が
下記構造の色素から選ばれた組合せであることを特徴と
している。

赤色色素：構造式（りおよび（ｎ）から選択されるペリ
レンテトラカルボン酸誘 導体 緑色色素：フタロシアニン系色素 青色色素：フタロシアニン系色素とキナクリドン系色素
との組合せ （Ｉ） （ＩＩ　） ここでＲ１は水素、アルキル基又はアリール基である。

又、色素層形成に用いられる色素に要求される特性は、
蒸２着可能であり、蒸着後のレジストによるフォトリソ
工程での一溶剤や熱処理に耐え、かつフィルターと、し
てバランスのとれた分光特性を有していることである。

こういった諸物件を満足する色素としてフタロシアニン
系色素があげられる。フタロシアニン系色素は基本とな
るフタロシアニン環が化学的にも熱的にも極めて安定な
ので蒸着性、耐溶剤性に優れ分光特性も青から緑にかけ
て良好な特性を示すものが多い、従って、青ないし緑ま
たはシアン色素としてフタロシアニン系色素は蒸着法に
適するものといえる。

そこで問題は、これに組合せる赤色色素である。フタロ
シアニン系色素に匹敵する性能を有する赤色系色素でな
いと、カラーフィルター全体として実用水準の蒸着型フ
ルターを作ることが不可能であるからである。

本発明に用いられる赤色色素のペリレンテトラカルボン
酸誘導体は、前記（Ｉ）式または（ＩＩ　）式で示され
る構造を有し、そのペリレン骨格によって熱的に極めて
安定であり、加熱しても分解することなく、所定の温度
以上になると容易に蒸着する性質を有しており、蒸着に
よって色素層を形成するには極めて好適である。

また、蒸着によって形成されたペリレンテトラカルボン
酸誘導体の色素層は、有機膜にしばしば見られるような
疎い膜ではなく、極めて緻密で、しかもガラスのような
無機物の表面にも強く密着しており、蒸着膜としてすぐ
れた物性を有している。

分光特性も第７図のｌＯで示される如く、優れた赤の特
性を有している。

また一方、この色素層は有機溶剤に対して優れた耐性を
有している。即ち、アルコール類等の貧溶媒は勿論、ケ
トン類、エステル類、エーテルアルコール類、ハロゲン
溶剤等の良溶媒に対してもほとんど溶解せず、分光特性
的にも何ら変化を起すことがない、従って、色素層に対
して、レジストの塗布、現像を施しても全く何ら支障が
ないので１色素層の微細加工も容易に行ないうるもので
あり、微細カラーフィルター等の製造に極めて好適であ
る。

ペリレンテトラカルボン酸誘導体の例としては、次のよ
うなものが好適例として挙げられる。（以下■〜ｌ巨の
記号で示す） （３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸＝無水
物） （静上式においてＲ１が−Ｈであるもの・少上式におい
てＲ１が一〇Ｈ３であるもの本発明はまた、優れた分光
特性の青色色素層を有する蒸着型フィルターの作成を可
能ならしめる目的をもあわせもっている。蒸着方式で使
える青色色素は数少なく、比較的良く特性を満たすもの
としてフタロシアニン系色素が挙げられる。

フタロシアニン系色素はおおむね青色の分光特性を示す
が、やや緑色領域にまで透過特性がのびている。

また中心金属の種類や置換基の導入などによっては、さ
らに緑色に近い傾向を示す場合もある。

いずれにしても分光特性的には青から緑にわたっており
、厳密な特性が要求される目的用途によっては青色とし
て充分ではない。

面して本発明は、蒸着方式に適したフタロシアニン系色
素のもつ特性をいかしつつ、その欠点である分光特性を
補なって優れた青色色素層を形成可能にするものである
。

本発明によるカラーフィルターは、フタロシアニン系色
素とキナクリドン系色素を蒸着して形成される青色色素
層を有することを特徴とするものである。

即ち本発明の青色色素層として、フタロシアニン系色素
の他にキナクリドン系のマゼンタ色素を併用することに
より、フタロシアニン色素のもつ緑色分光成分をカット
し、優れた青色の分光特性を有する色素層を形成するこ
とが出来る。

フタロシアニン系色素の色補正に用いる色素としては、
鋭い立ち上り特性を有するマゼンタ“色素でなければな
らない。また蒸着法で形成するので、フタロシアニン系
色素に匹適する蒸着性と耐溶剤性をも兼ねそなえる必要
があるが、本発明で用いるキナクリドン系マゼンタ色素
はこれらの特性を全て満足するものであり、フタロシア
ニン系色素との組合せにおいて蒸着型のすぐれた青色色
素層形成を可能にするものである。

本発明で用いられるキナクリドン系色素とは（Ｉ）式で
示される基本骨格をもち、それから導かれる誘導体をも
含めたものをさす。

誘導体の一例としては などがあげられる。またこれらの混合物の場合もある。

分光特性的にはいずれも前側に透過率の立ち上りがあり
、フタロシアニン系色素の緑色成分のカットに適してい
る。

また、キナクリドン系色素は、熱的に極めて安定であり
、加熱しても分解することなく、所定の温度以上になる
と容易に蒸発する性質を有しており蒸着によっで色素薄
膜を形成するには極めて好適である。蒸着によって形成
されたキナクリドン系色素の薄膜は、有機膜にしばしば
見られるような疎い膜ではなく、極めて縁布でしかもガ
ラスのような無機物の表面にも強く電着しており、蒸着
膜としてすぐれた物性を有している。

また・方、この蒸着膜は有機溶剤に対して優れた耐性を
有している。即ち、アルコール類等の貧溶媒は勿論、ケ
トン類、エステル類、エーテルアルコール類、ハロゲン
溶剤等の良溶媒に対してもほとんど溶解せず１分光特性
にも何ら変化を起こすことがない。従って、色素層に対
して、レジストの塗布、現像を施しても全く何ら支障が
ないので、色素層の微細加工も容易に行ないうるもので
あり、微細カラーフルター等の製造に極めて好適である
。

このようなキナクリドン系色素として市販されているも
の（商品名）は リオノゲン　マゼンタ　Ｒ（東洋インキ）ファーストゲ
ン　スーパーマゼンタＲ，Ｒ３（大日本インキ） シンカシア　レッドＢＲＴ　、ＹＲＴ （デュポン） シンカシア　バイオレット　ＢＲＴ （デュポン） などが挙げられる。

−・方、前記した如くフタロシアニン系色素も同様の優
れた特性も有する。

代表的なフタロシアニンの例としては、メタルフリーフ
タロシアニン、銅フタロシアニン。

ベリリウムフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニ
ン、亜鉛フタロシアニン、チタニ、ウムフタロシアニン
、錫フタロシアニン、鉛フタロシアニン、パラジウムフ
タロシアニン、クロムフタロシアニン、モリブデンフタ
ロシアニン。

マンガンフタロシアニン、鉄フタロシアニン。

コバルトフタロシアニン、ニッケルフタロシアニン、パ
ラジウムフタロシアニン、白金フタロシアニンが挙げら
れる。青色色素層の形成はフタロシアニン系色素とキナ
クリドン系色素を順次蒸着積層する方法が一般的である
が同時蒸着でもかまわない。所望の分光特性に応じてそ
れぞれの膜厚または蒸着量を制御する。好ましくは膜厚
にしてそれぞれ５００−１００００人が適切である”。

次にパターン状の色素層の形成方法について述べる。蒸
着色素層のパターニング技−侑としては、ドライエツチ
ング法とリフトオフ法がある。ドライエツチング法は色
素層上にレジストパターンをつくり、それをマスクとし
てプラズマあるいはイオンエツチング等のドライエツチ
ングで色素パターンを形成するものである（特開昭５８
−３４９６１等）。この方法では染色法の如き中間層の
形成は不要であるが、そのかわり色素パターン上にレジ
ストマスクが残ってしまう。しかもこのマスクを色素層
に何ら損傷を与えずに除去することは極めて困難なため
、結局実質的に光学的には不要なレジストマスクが色素
層の上に積層された２層構成になる。

またリフトオフ法によるパターン状色素層は、後で溶解
可能な物質、主にレジストを用いて除去すべき色素層の
下部にレジストマスクを形成後、その上に蒸着色素層を
設け、しかる後、レジストマスクを溶解又は剥離するこ
とによって、色素層には何ら直接的な作用を及ぼすこと
なく、その上の色素層を物理的に除去して形成すること
ができる。− 有機色素層のリフトオフ法に用いるレジストと己では、
後に溶解可能であればネガ型、ポジ型を問わない。しか
しネガ型では一般に輻射線の照射で架橋が進み、溶解す
るには強い溶解力をもつ溶剤が必要となる。従って色素
膜に損傷をケ、えたり溶解したりしやすいので好ましく
はない。

この点ポジ型レジストでは、特にレジストパターン形成
後、全面に輻射線照射すれば可溶性になるので、ネガ型
に比べて色素を溶解しにくい溶剤を選択できるのでリフ
トオフには好適である。またポジ型レジストも樹脂成分
の種類が多岐にわたでおり、その塗布や現像に使用され
る溶剤も様々である。本発明に於いては色素に対してよ
り作用性の少ない溶剤の使えるポジ型レジストを選択す
ることが望ましく、−例として重合単位として下記の構
造式（ｍ）で示される含フツ素メタクリレートを主体と
するポジ型レジストが好適例として挙げられる。このレ
ジストは、エステル類、芳香族類、ハロゲン化炭化水素
類などの溶解能が低い良溶媒は勿論のこと、アルコール
類などの溶解能が低い貧溶媒にも良く溶解するため、色
素膜に影響の少ない溶剤を使えるためである。

このようなレジストとしては、ＦＰＭ２１０　、　’Ｆ
ＢＭＩ　１０およびＦＢＭ１２０（いずれも商品名でダ
イキン工業製）が挙げられる。

〇 Ｒ２−Ｃ−Ｒ１ ここで、Ｒ１およびＲ２は水素又はアルキル基、Ｒ３は
各炭素に少なくとも１個のフ・ン素が結合したアルキル
基。

代表的な例　　　第　　１　　表 その他レジストとしては、次のような商品名で市販され
ている各種のものを適宜用いることができる。

ＡＺシリーズ：　　１１１，１１９Ａ、１２０，３４０
，１３５０Ｂ。

１３５０Ｊ、１３７０，１３７５，１４５０，１４５０
Ｊ、１４７０゜１４７５．２４００，２４１５．２４３
０（以上シプレー社製） Ｗａｙｃｏａｔ　：ＨＰＲ−２０４，ＨＰＲ−２０５，
ＨＰＲ−２０６゜ＨＰＲ−２０７，ＨＰＲ−１１８２Ｗ
ａｙｃｏａｔ：ＭＰＲ（以上ハント社製） Ｋｏｄａｋ　Ｍｉｃｒｏ　　Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ　　Ｒｅ
５ｉｓｔ　　８０９（コダック社製） Ｉｓｏｆｉｎｅ　　Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ　　Ｒｅ５ｉｓｔ
（マイクロイメージテクノロジー社製）ＰＣ１２９，１
２９ｓＦ　　　　　　　　　　　　　（ポリクローム社
１υ０ＦＰＲＩＩニア７．７８，８００ ０ＥＢＲ：１０００．’１０１０．１０３００ＤＵＲ：
１０００，１００１．１０１０’、１０１３．１０１４
（以上東京応化社製） ＥＢＲ：１，９　　　　　　　　　　　　　（東し製）
ＦＭＲ：Ｅｌｏｏ、ＥＩＯＩ　　　　　　　（富士薬品
工業製）ＪＳＲＰｏ５ｉｔｉｖｅ　　Ｐｈｏｔｏｒｅｓ
ｉｓｔ　　ＰＦＲ３０Ｑ３（日本合成ゴム社製） Ｓｅｌｅｃｔｉｌｕｘ　　Ｐ　　　　　　　　　　　（
メルク社製）以上のようなパター二、ング工程によって
所定の複数色のパターン状の色素層が形−成された後、
色素層上に保護膜を設けることが望ましい。

これはゴミ、傷といった欠陥を防ぎ、また各種環境条件
から色素層を保護するためである。

保護膜の形成には通常知られている各種方法が使える。

例えば、ポリウレタン、ポリカーボネート、シリコーン
、アクリル、ポリパラキシリレン等の有機材料やＳｉ３
Ｎ４，５ｉ０２．ＳｉＯ。

Ａｌ２Ｏ３，Ｔａ２’０３等Ｎｏ無機材料を用いテスピ
ンコート。

ディッピング、ロールコータ−等の塗布法あるいは蒸着
等で膜形成することができる。

また各種感光性樹脂、例えば各種レジストを使用するこ
とも可能である。

有機蒸着色素フィルターは有機染色フィルターに比べ耐
熱性耐光性に優れるが、一般の蒸着膜に見られるように
湿度に弱い場合があるので、その様な場合には保護膜は
この点を考慮して疎水性であることが望ましい。色素と
のマツチング等を考慮するとこの様な保護膜形成材料と
してはネオプレンゴム、インプレンゴム、環化ゴム。

天然ゴム等のゴム系樹脂及びそれらのレジストが特に好
適である。また樹脂膜塗布の場合、使用されている有機
溶剤が色素層を侵さないことが必要である。本発明に用
いる色素は耐溶剤性に優れるので各種溶剤、例えば芳香
族系、セロソルブ。

エステルケトン等やこれらの混合溶媒が使用可能である
が、より好ましくは脂肪族炭化水素、アルコール等があ
げられる。これらの溶剤を含有した上記ゴム系樹脂が好
ましいが、加工性の点でゴム系樹脂のレジストが特に好
適である。

ゴム系樹脂のレジストとしては、例えば次の商品名で市
販されているものが挙げられる。

Ｗａｙｃｏａｔ　　ＩＣ，Ｔｙｐｅ　　３ＩＣ，ＳＣ，
ＨＲ及びＨＮＲ９９９（以上ハント社製） Ｋｏｄａｋ　Ｍｉｃｒｏｒｅｓｉｓｔ　　７４７および
７５２（以上コダック社製） ０ＭＲ８１，８３，８５，８７，８３３３，８３ＳＲ，
８３ＵＲおよび０ＤＵＲＩＩＯＷＲ（以上東京応化社製
）Ｉｓｏｐｏｌｙ　ＭＲおよびＨＤ （以上マイクロ　イメージ　テクノロジー社製）Ｓｅｌ
ｅｃｔｉｌｕｘ　　Ｎ２０．Ｎ３５．Ｎ４５．Ｎ６０お
よびＮ１００（以上Ｅ、Ｍケミカルズ社製） Ｊ、ＳＲＣＩＲ７０１および　ＪＳＲ ＣＢＲ−Ｍ２Ｏ３（以下日本合成ゴム社製）本発明で用
いられる基板は、色素蒸着が可能であれば特に限定され
るものではない０例えば具体的に以下のものが使用され
る。ガラス板、光学用樹脂板、ゼラチン、ポリビニルア
ルコール、とドロキシエチルセルロース、メチルメタク
リレート、ポリエステル、ブチラールポリアミドなどの
樹脂フィルム、 パターン状色素層をカラーフィルターとして適用される
ものと一体に形成することも可能である。その場合の基
板の一例としては、ブラウン管表示面、撮像管の受光面
、ＣＣＤ、ＢＢＤ、ＣＩＤ等の固体撮像素子が形成され
たウェハー、薄膜半導体を用いた密着型イメージセンサ
−１液晶ディスプレー面、カラー電子写真用感光体等が
あげられる。

蒸着された色素層と下地の基板、例えばガラス等との接
着性を増す必要がある場合は、ガラス基板等にポリウレ
タン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シランカップリング
剤等をあらかじめ薄く塗布してから蒸着膜を形成すると
効果的である。

以下図面により、代表的な本発明のパターン作成工程を
説明する。

ポジ型レジストを所望の基板にスピナーを用いて回転塗
布する。乾燥後適当な温度条件下でプリベークする。つ
いでレジスト感度を有する光又は電子ビームで所定のパ
ターン形状に露光し現像する。必要に応じて、現像前に
レジスト膜のひずみを緩和する目的での前処理、現像後
、膜の膨潤をおさえる為のリンス処理を行う。

現像によってもレジストの残膜や、残液いわゆるスカム
が取りきれない場合は、プラズマ灰化法によって除去す
ることが可能である。

以上の工程によって第１図に示されるレジストマスク２
が基板ｌ上に形成される。ついで第２図の如く全面にレ
ジ芥ト感度を有する光または電子ビームを照射する。こ
れはレジストの主鎖切断や分解を行なうことによって後
のレジストマスクの溶解除去を容易にするものであるが
、省くことも可能である。省いた場合には、その分だけ
強い溶解性の溶媒を使う必要がある。

ついで第３図の如く、レジストマスク上に色素層３を真
空蒸着法によって形成する。積層する場合は蒸着をくり
返す。色素層の厚さは所望の分光特性によって決められ
るが、好ましくは５００〜１００００人とされるのが望
ましい。

ついで色素層下のレジストマスクを除去する　　ユため
に色素を溶解させず、また分光特性をそこなわずにレジ
ストマスクのみを溶解もしくは基板から剥離させる溶媒
に浸漬する。

レジストマスクの除去によって同時にその上にある色素
層が除去される訳であるが、これを補助するために、浸
漬時に超音波のエネルギーを加えることも有効である。

このようにして、第４図の如く第１のパターン状色素層
４が形成される。第２．第３の色素パターン形成は、パ
ターンに応じてレジストマスクの位置をずらしながら、
上記の工程をくり返して行なえばよい。

色の種類の数だけ、これらの工程をくり返すことによっ
て、例えば第５図の如き３つの色を有するパターン状色
素層４，５および６を有するものが製造できる。

ついでパターン状色素層Ｉに所望の保護層７を塗布して
カラーフィルターが完成する（第６図）。

だ流側１ ガラス基板上にスピナー塗布法により、ポジ型レジスト
０ＤＵＲ１ｏ１３　（東京応化製）を１．０ｇｍの膜厚
に塗布した。１２０℃２０分間のプリベークを行なった
後、遠紫外光にてマスク露光を行ない、専用現像液、専
用リンス液にて処理してレジストマスクを形成した。次
にこのレジストマスク全面に遠紫外光を照射して現像液
に可溶だ。

続いてレジストマスクの形成されたガラス基板と、モリ
ブデン製蒸着ポートに詰めたＣｕフタロシアニンを真空
蒸着機内に設置し排気した。真空度１０−５〜１０−Ｇ
ｔ　ｏ　ｒ　ｒにおいて蒸着ポートを４５０〜５５０℃
に加熱してＣｕフタロシアニンを約２０００人前着させ
た。さらに続いてキナクリドン系色素としてりオノゲン
マゼンタＲ（東洋インキ）を２０００人の厚さに＃着し
た。蒸着の済んだガラス基板を上記専用現像液で浸漬撹
拌してレジストマスクを溶解しながら蒸着ｎりの不要部
分を除去することによってパターン状青色色素層を形成
した。続いてこのパターン状青色色素層の形成されたガ
ラス基板上に同様な工程で０ＤＵＲＩＯ１３を塗布し露
光、現像し、次のパターン状緑色色素に相当するレジス
トマスクを形成した。全面露光後、真空蒸着機に設置し
、今度はｐｂフタロシア壬ンを４５０〜５５０’Ｏで蒸
着Ｌ２０００人の膜を得た。

しかる後に現像液で浸漬攪拌しパターン°状緑色色素層
を形成した。さらに全く同様な工程によりペリレンテト
ラカルボン酸誘導体系の赤色色素としてイルガジンレッ
ドＢＰＴ　（商品名：チバガイギー製ＣｌＮｏ、７１１
２７）を４００〜５００°Ｃで約２０００人前着し、現
像液処理によりパターン状赤色色素層を得た。この時青
色及び緑色色素層は勿論のこと、イルガジンレッドＢＰ
Ｔも現像液処理で全く溶解せず、分光特性も損なわれる
ことがなかった。

最後にゴム系樹脂の保護膜として市販のネガレジスト０
ＤＵＲ１１０ＷＲ（商品名：東京応化製）を塗布しプリ
ベーク、全面露光によって硬化させ３色カラーフィルタ
ーを完成させた。

以上の一連の工程による溶剤、熱等でも使用した色素は
何ら損傷を受けることなく、優れたす。

尚、従来との比較の意味でよく知られている赤色色素と
してアストラフロキシンＧ（バイエル製）を同様な工程
で越みた。蒸着膜は得られたものの現像液処理の工程で
溶剤に侵されてしまい、望ましいパターン状赤色色素層
を得ることができなかった・ 実施例２ ガラス基板上に透明電極の形成された液晶ディスプレー
用対向電極基板を用いて実施例１と同様な工程で３色カ
ラーフィルターを形成した。

このカラーフィルターは電極基板を用いて良好なカラー
表示可能な液晶セルをつくることができた。

実施例３ 固体撮像素子が形成されたウェハーを基板として、実施
例１と同様な工程を行なうことにより、良好な特性をも
つカラー固体撮像素子を直接形成することができた。

実施例４〜ｌＯ 以下に示す本発明の代表的な色素の組合せで、実施例１
と全く同様な工程によって３色カラーフィルターを形成
した。

いずれの場合も色素層に何ら影響を与えることなく、分
光特性の優れたフィルターを形成できた。

実施例１１ 実施例１で用いたポジ型レジストをＦＰＭ２１０、ＦＢ
ＭＩＩｏ、１２０（ダイキン工業製）ＡＺ１３５０　（
シプレー製）にかえてあとは全く同じ工程でカラーフィ
ルターを形成した。

これらのレジストによっても色素層は何ら損傷を受けず
、勿論分光特性も損なわれなかろだ。

〔発明の効果〕

以上の詳細な説明より明らかな様に、本発明のカラーフ
ィルターは、色特性、分光特性に優れると共に。製造上
の安定性が高く且つ歩留りが良く。耐溶剤性、耐熱性に
優れているものである。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図は夫々本発明によるカラーフィルターの
製造方法の工程説明図であり、第１、図はレジストマス
ク形成工程図、第２図は露光工程図、第３図は色素層の
形成工程図、および第４図はパターン状色素層形成工程
図、第５図は製造される３色のパターン状色素層の１態
様および第６図は保護層形成工程をそれぞれ示す図であ
り、第７図−−−−９−は、夫 仝分光特性のグラフである。 １　−−−−−一　基板 ２　−−−−−−　レジストマスク ３　−−−−−一　色素層 ４．５および６　−−−−−−　パターン状色素層７　
−、−−−−一　保護層

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）赤色色素、緑色色素および青色色素より形成され
   る色素層を有するカラーフィルターにおいて、前記赤色
   色素が下記構造式（ I ）および（II）から選ばれたペ
   リレンテトラカルボン酸誘導体であり、前記緑色色素が
   フタロシアニン系色素であり、前記青色色素がフタロシ
   アニン系色素とキナクリドン系色素の組合せから成るこ
   とを特徴とするカラーフィルター。 （ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ （II）▲数式、化学式、表等があります▼ ここではＲ＿１は水素、アルキル基又はアリール基であ
   る。
2. （２）色素層が、レジストマスクを有する基板上に色素
   を蒸着後、該レジストマスクを除去して形成されたパタ
   ーン状色素層である特許請求の範囲第１項に記載のカラ
   ーフィルター。
3. （３）レジストマスクがポジ型レジストで形成されたも
   のである特許請求の範囲第２項に記載のカラーフィルタ
   ー。
4. （４）色素層の上に保護層を設けた特許請求の範囲第１
   項に記載のカラーフィルター。