JPS63170601A - 色分離フイルタ−部の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、力２−撮像管に使用する透明基板上に光学的
フィルター素子及び透明導電膜を設けてなる色分離フィ
ルター部の製造法に関する。

〔従来の技術〕

従来、単管式又は、２管式等のカラー撮像管に使用する
色分離フィルターとしては、１々のものが開発され、提
案されているが例えば、透明基板上に有機高分子物質膜
を形成し、更に該有機高分子物質膜を適当な染料で縞状
、格子状或は単色ないし多色に染色して有機系染色フィ
ルターを形成しこれを利用したもの等が知られている。

而して、これらの色分離フィルターは、上記の有機系染
色フィルターの染色面に透明導電体および光導電体を組
合わせることによってカラ−撮像管としての機能を発揮
するもので勘しかしながら、従来、透明導電体および光
導電体を有機系染色フィルターの染色面に組合わせるに
は、一般に該有機系染色フィルターの染色面上に直接透
明導電体および光導電体を形成するものではなく、別個
の基板上に透明導電膜および光導電膜を形成し、これを
該透明導電膜面が上記染色面に重ね合うように接触させ
て接着剤等を介して接着結合させて組合わせている。

上記のカラー撮像管に使用する色分１ｌｉＩ！フイルタ
ーについて更に詳しく述べると、それは第１図に示す如
く、ガラス板等のフェースプレート１０片面に有機高分
子物質膜を例えばレッドＲ。

グリーンＧ１ブルーＢｏ［に染色したフィルター層２を
形成し、更に、透明導電１１５および光導電膜４を設け
、これらを管体５にターゲット６で固定した構成を基本
構造とするものである。

かかる構造において透明導電膜面フィルター層に直接設
けることもｙＸ理的には問題ないが、しかし該フィルタ
ー層は、有機高分子物質膜の染色体であるので透明導電
膜を直接付着させることは極めて困１である。

すなわち、透明導電膜は、一般に酸化錫（Ｓｎ０２）又
は酸化インジウム（工ｎｘｏｓ”）　”Ｊを蒸着、スパ
ッタリングあるいは熱時スプレーによる吹付は等の方法
によって形成するものであるがその製造工程において２
００〜５００℃位の温度条件を必要とするものである。

而して、かかる温度条件は有機高分子物質膜をレッド、
グリーン、ブルーの頭に染色したフィルター層の耐熱性
の限度を越えるものであり、直接フィルター層に透明導
電膜を形成すること線不可能なことである。

例えば、有機高分子物質膜がゼラチン層などである場合
、直接透明導電層を付着させると、亀裂が入ってひび割
れ状の面となったシ或はマット状の面となシ、透明度を
著しく低下させることが多く好ましくないものである。

このため、カッ−撮像管に使用される色分離フィルター
においては、第２図に示す如く、透明導電膜３を支持体
となるガラス板等の透明板７上に蒸着法等で形成して、
これを透明導電体とし、該透明導電体を接着剤８等でフ
ィルター層２と接着させ九構成とするのが普通である。

かかる構成によれば、透明導電膜を形成する際の熱その
他等によって、フィルター層におよぼす影響を取除くこ
とができるものである。

しかしながら、上記の如き構成のカラー撮像管に使用す
る色分離フィルターにおいては、ガラス板等の透明板は
、色分解情報を解像力よく受けるためには、薄い程撮像
管特性が向上するので、通常数μ〜２０μ程度のものが
要求されておシ、而してこのような薄い透明板を使用し
て透明導電体を製造する場合には、破損その他等の大き
な問題が生じて好ましくないものである。

尚、上記において、光学的染色フィルターは次の様な方
法によって形成している。

すなわち、先ず、透明ガラス基板上にゼラチン溶液又は
ポリビニルアルコール溶液などの水溶性有機高分子物質
の溶液を塗布、乾燥して、有機高分子物質膜を形成する
。

次いで上記有機高分子物質膜の上に、例えば、コダック
ホトレジスト、ＫＰＲ（コダック社製）等の疎水性ホト
レジストを塗布、乾燥して感光性を与え、次に適尚な縞
状又は格子状等の写真原版を密着させて近紫外光等で焼
き付け、常法に従って現象する。

これによって、上記ホトレジストは露光された部分が残
留し、非露光部は現像液により溶解除去される。

次に、上記ガラス基板を有機染料の染色液に入れて染色
操作を行なって、ガラス基板上のホトレジストが除去さ
れて裸出している部分の有機高分子物質膜のみを染色し
、他方ホトレジストが残留している部分の有機高分子物
質膜は該レジストに阻書されて染色されて、結果として
、上記写真原版に対する染色画偉を形成する。

上記の如く染色後、十分水洗し、乾燥し、次いで残留し
ているホトレジストを溶剤等で溶解、除去して光学的染
色フィルターを得ることができる。

更に必要に応じて、上記の第１回染色後の有機高分子物
質、嗅の上に上記と同様にホトレジスト製版し、上記第
１回の染料と異なる染料で染色して多色フィルターとす
ることができる。

而して、一般にフィルターの色はレッド、グリーン、ブ
ルーを一枚のフィルター中に染色したものである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明が解決しようとする問題点はカラー撮像管に使用
する色分離フィルターにおける上記の如き問題点を解消
した、フィルター層上に透明導電体を作業性よく簡便に
直接形成させる色分離フィルター部の製造法を提供する
ことにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者は上記の問題点を解決すべく研究の結果透明基
板上に光学的フィルター素子及び透明導電膜を設けてな
るカラー撮像管の色分離フィルター部の製造法において
、透明基板上に多層干渉膜をパターン状に加工して多層
干渉膜パターンを形成し、その上に耐熱性着色剤を真空
蒸着又はスパッタリングして着色薄膜層を形成し、つい
で該着色薄膜層上に写真製版的方法により チ咽噂レジストパターンを形成し、ついでレジストパタ
ーンで被覆されていない着色薄膜層領域をプラズマ食刻
、或いは逆スパッタリングにより乾式食刻して該着色薄
膜層領域の着色薄膜層を除去すると共に上記のレジスト
パターンを同時に除去して多層干渉膜ストライプと着色
薄膜ストライプよりなる多色光学的フィルター素子を形
成し、ついで上記の多色光学的フィルター素子面に耐熱
性、耐薬品性に富む樹脂を回転塗布法や真空装置内塗布
法などによ、６ｓｏｏ。

〜２００００人程度の厚さに塗布乾燥し、十分に硬化さ
せて中間保ａ膜を形成し、次に中間保護膜上に真空蒸着
法によシ透明導電膜を形成する方法により所期の目的を
達成し得ることを見いだし、かかる知見にもとづいて本
発明を完成したものである。

即ち、本発明の要旨は透明基板上に光学的フィルター素
子及び透明導電膜を設けてなるカラ上に耐熱性着色剤を
真空蒸着又はスパッタリングして着色、薄膜層を形成し
、ついで該着色薄膜層上に写真製版的方法により　　　
　　　　　−レジストパター ンを形成し、ついでレジストパターンで被覆されていな
い着色薄膜層領域をプラズマ食刻、或いは逆スパッタリ
ングによシ乾式食刻して該着色薄膜層領域の着色薄膜層
を除去すると共に上記のレジストパターンを同時に除去
して多層干渉膜パターンと着色薄膜パターンよシなる多
色光学的フィルター素子を形成し、ついで上記の多色光
学的フィルター素子面に耐熱性、耐薬品性に富む樹脂を
回転塗布法や真空装置内塗布法などＫよ＃）５０００−
２００００Ａ程度の厚さに塗布乾燥し、十分に硬化させ
て中間保護膜を形成し、次に中間保護膜上に真空蒸着法
により透明導電膜を形成することを特徴とする色分離フ
ィルター部の製造法である。

上記の本発明について以下に更に詳しく説明する。

先ず本発明においてガラスなどの透明基板上に多層干渉
膜を設け、次いで多層干渉膜をドライエツチングによシ
ストライプなどの所望の形状に加工する。

而して多層干渉膜は高屈折率物質層と低屈折率物質層を
積層してなるもので積層される高屈折率物質層と低屈折
率物質層、との合成積層数は、６層以上好ましくは８層
以上である。この合成層数が６層未満であると透過領域
と反射領域との境界での光透過率特性の立上りがシャー
プではなくなり、しかも反射領域における透過率が無視
しうるほど小さくなくなるため好ましくない。また、積
層数が多くなれば、前記境界での光透過率特性の立上シ
がシャープになりかつ反射領域における透過率は小さく
なるが、積層工程が複雑になるため、実用上の見地から
２０層程度までであることが好ましい。

高屈折率物質としては、Ｔ４０２（屈折率ｎ＝２．２）
、８’ｂ２０ｓ（ｎ　＝　２．０４　）、０ｅ０２　（
ｎ　＝　２．４２　）、Ｚｒ０２（ｎ−２、，１０）、
ＺｎＥｌ（ｎｚ２．３５冷どが用いられる。また、低屈
折率物質としては、Ｉ？１０２（ｎ＝　ｔ　４６　）、
ＣａＦ２（ｎ＝１２３）、ＭｇＦｚ（ｎｘｔ３８）など
が用いられる。

このうち、高屈折率物質としてのＴｌＯ２と、低屈折率
物質としての５ｉｏ２との組合せが、多層積層する場合
に層間の応力緩和の面から好ましい。

高屈折率物質層および低屈折率物質層は、蒸着法あるい
はスパッタリング法などの気相成膜法によって積層形成
される。

高屈折率物質層と低層折本物質層よシなる多層干渉膜の
パターン化は多層干渉膜の上Ｋ例えばムＺ−１３５０（
キノンジアサイド系フォトレジスト）よシなるマスキン
グレジスト層を形成し、次いで０Ｆ４１０２ガスにより
反応性イオンエツチングによシドライエツデングし、次
いでアルカリ剥離液を用いてマスキングレジスト層を剥
離することによって形成される。

次いで多層干渉膜パターンを設けた透明基板上に着色薄
膜パターンを次のようにして形成する。

先ず、本発明においては、非水溶性着色剤であって約２
００°Ｃ以上の温度に耐える耐熱性を有しかつ適当な手
段で蒸発又は昇華可能な材料を用いる必要がある。これ
に適合する材料としては、顔料あるいは非水溶性染料（
油溶性或いは建染染料等）から選出することがで六る。

上記に適合する条件をもった費色剤は、一般に多層干渉
膜ストライプを設けた透明基板（例ガラス）上に真空装
置内で薄膜付置させる。この為には真空蒸着法やスパッ
タリング法が用いられるが一般に前者の万がよい。

また着色薄膜喝とガラス等の透明基板との接置性を強化
するために接置強化剤処理をあらかじめガラス等の透明
基板面にほど・こしてもよい。

着色薄膜１の厚さは所望の分光特注によって決められる
が通常２０００〜１ｆｌＯＯＯＡ程度である。この厚さ
は有機高分子嗜染色の場合よりもかなり小さいものであ
る。

ついで該着色薄膜１轡上に適半なホトレジスト（例ＫＰ
Ｒ，ＫＴＦＲ，ポリビニルアルコール−重クロム酸アン
モン感光液等］を塗布して乾燥したのち、所望のパター
ンをもつ写真扉板の画像を焼付転写し常法の如く現像、
乾燥してレジストパターンを形成する。この警版仮をプ
ラズマ食刻装置或いは逆スパッタリング法によるスパツ
ダ食刻装置などの乾式食刻装置内に設置して乾式食刻を
行なう。着色薄膜１とレジスト１は同時に食刻されるの
でレジスト食刻が完了する前に置き薄膜１＠の食刻が完
了する様にレジス）ｆｆ厚を調節しておかなければなら
ない。

本発明においては、上記のようにして、透明基板上Ｃ二
耐熱性に富む着色剤による光学的フィルター素子を形成
することができる。もし萱色薄膜−が成る叩の薬品（た
とえばアルコール、ベンゼン等）に可溶性であれば、ホ
トレジスト塗布の場合に使用されている溶剤が着色１を
溶解するか否かに注意し溶解しない溶剤と組合わされた
ホトレジストを使用しなければならない。

レジスト溶解除去法等によっても光学的フィルター素子
を形成することができる。

本発明においては、第３図に示す如く、上記の操作によ
って透明基板２１の上に例えばレッド（Ｒ）、グリーン
（Ｇ）、又はブルー（Ｂ１等からなる例えばストライプ
状の多ｌ干渉膜パターン２２を形成した上に多１干渉模
バダーン２２と交叉する例えばストライプ状の異なる色
の着色薄膜パターン２３を形成することができる。

次に本発明において、上記の光学的フィルター素子面に
耐熱性、耐薬品性に富む！＃脂による無色透明な中間保
護膜を設ける方法について脱明すると、先ず本発明にお
いて、中間保護膜は、次工程の透明導ｗＬ膜を形成させ
るための各種の処理条件に耐えるものでなければならな
い。

即ち中間保護膜自体が前述の如く耐Ｍ性がなければなら
ないが更に光学的フィルター素子面を保護すると同時に
その耐熱性も向上せしめることが望ましい。又勿論無色
透明であり、透明導！膜形成工程の前処理、たとえば表
面清浄化のための洗滌工程においてそれ自身はもちろん
、内部の光学的フィルター素子に影響があってはならな
い。即ちアルカリ洗滌剤、酸洗展剤、中性洗滌剤等の水
溶液及び脂肪族又は芳香族の汎用溶剤類に対し浸漬時及
び超音波洗滌時に十分な耐性を備えることが望ましい。

か蔦る特性をもつ中間保護膜は回転塗布法や真空装置内
塗布などにより５０００〜２００００久程度の厚さに塗
布乾燥し十分な皮膜形成のための便化を行なうことによ
って光学的フィルター素子面上に中間保ｆｆ１ｔＷを形
成することができる。

次に本発明において、上記の中間保護膜の土に透明導１
膜を形成する方法について悦明すると、先ず、本発明１
：おいては透明導電膜形成のために前記洗滌剤等を用い
て上記中間保護膜を十分に表面清浄化を行なったのち、
数１００Ω／−〜＠、にΩ／ｉの透明導電膜を壇１させ
る。

透明導？４膜は一役にＳｎＯ４工ｎ２０３、ＴｉＯ□等
が用いられるが温度条件等から工ｎ　２０５を用いる場
合が多い。これはよく知られている様に通常は真空蒸！
Ｊ法で中間保ｉ膜上にｐＨＩ１ｍさせる。

成る場合ｔ＝は透明導電膜形成終了品が完成品となるが
、他の場合にはパターン加工した光学的フィルター素子
に対応させて透明導電膜をパターン化する必要がある。

このパターン化には通常のホトエツチング法が使用され
る。

即ち透明導電膜とにホトレジストを堕布し所要のパター
ンをもった写真原版をマスクアライメント装置を用いて
光学的フィルター素子のパターンと位置合せして焼付、
現像しホトレジスト除去部分の透明導電膜を食刻除去す
る。

最後に残留ホトレジストを除去部れば完成品となる。

本発明の方法によって得られたものは特に中間保護膜が
薄いために光学的に殆んど無視出来特注の良好な製品と
なる。

而して、上記の如き本発明の方法で得られるカラー撮像
管に使用する色分離フィルター部は第４図に示す如く、
透明基板２１上に多１干渉膜パダーン２２を形成し、次
いで着色％Ｊ　Ｉｆｌパターン２３を形成し、次にその
上に耐熱性、耐薬品性に富む樹枳による無色透明な中間
保護膜２４を設け、しかる後該中間保護膜２３土に透明
導電膜２５を形成した構成からなるものである。

尚、上記の本発明の方法において使用する各種の材料の
例について下記に示すが本発明はこれらによって限定さ
れるものではない。

先ず、本発明において光学的フィルター素子となる着色
Ｗｔ膜１を構成する雷色削としては下記のちのを使用す
ることができる。

（１）、アセトアセチックアニリド系着色剤スミラー７
アストイエローＧ（０，工、Ｎ０ｊ１６８０）スミラー
７アストイエロー１００Ｈ（０，工、Ｎｏ、１１７１０
）スミヲー７アストイエローＲＦ　　　（０，工、　Ｎ
ｏ、　２１０９６）スミラーファストイエロー５σｙ　
　（ｏ、工、　Ｎｏ、　２１０９５）等、（２）、ナフ
トール類のモノアゾ系着色剤スミラーファストレッド４
０１５　　（０，工、ｎｏ、１２３５５）スミラーファ
ストレッド４０７１　　　（０，工、ＮＯ，１２５７０
）スミラー７アストスカーレットＢ（ＫＯ，工、Ｎｏ、
１２３１５）スミラーファストスカーレット４ＲＯＰ（
０，工、ＮＯ，１２１２０）等、（３）、ポリサイクリ
ック系顔料 中ナクリトン系顔料　（例、ファストーゲンスーパーマ
ゼンタＲＩ３）ペリノン系顔料（例、ファ３トーゲンス
ー８オレンジＧＲＤ　Ｃ，工、Ｎｏ、７ｊ１０５） イソインド１ンａｍ（例、ファストーゲンスーノヒイエ
ローＲ）９□１つ、系ｌｆｉ料（Ｌファストーゲンスー
パー・“イオレット）等ＢＥＩ、　　Ｃ！、工、　Ｎｏ
、　５１３１９（４）、分散系染料 カヤセットブルー３１８ カヤセットターキノイズブル−７７６等、（５）、油溶
性系染料 ダイヤレジンレッド■ ダイヤレジンプラクンム ダイヤレジンプルーｍ１（００２）等、（６）、インダ
ンスレン系染料 ミケスＬ／Ｖイエｏ−Ｇ　ＯＮ　　　　（０，Ｘ、　Ｎ
ｏ、　６７３００）ミケスレンイエロー　　　　　　（
ｃ、　ｘ、　Ｎｏ、　６８４２０）ミケスレンオレンジ
Ｈ（ｃ、　Ｘ、　Ｎｏ、　７３３５５）ミケスレンスカ
ーレットＧ ミケスレンブリリアントピンクＲ（０，工・Ｎｏ、７３
３６０）ミグスレンブリリアントノ９オツドＲＲ（０，
工、Ｎα６００１０）ミケスｖｙブＡ−５Ｇ　　　　　
　（０，工、　Ｎｏ、　６９８４０）等（７）、フタロ
シアニン系顔料 無金属フタロシアニン、銅フタロシアニン、鉛フタロシ
アニン、亜鉛フタロシアニン、クロムフタロシアニン、
鉄フタロシアニン、その他　金フタロシアニン等、次Ｉ
：又、本発明において中間保護膜を形成する材料として
は、たとえば耐熱性、耐桑品性等に富むポリウレタン樹
脂、ポリカーボネート樹脂シリコーン樹脂、ガラスレジ
ン、ポリパラキシレン樹脂、ポリフロロエチレンプロピ
レンの樹脂を使用することができる。

次δ二″又、上記の本発明においてガラス基板等の透明
基板と着色薄膜層の接着性を増す必要がある場合は、ガ
ラス板等の透明基板にポリウレタン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ケイ皮酸エステル系の如き感光性樹脂類、シ
ランカップリング剤等を薄く塗布してから青色薄膜層を
形成せしめると効果がある。この効果は第２層目以上の
場合の中間保護膜と着色薄膜層との接着性が不適当であ
る組合わせＣ：対しても中間的接着増加膜を形成させる
ためＣ；適当に選択して接置効果を増大させることがで
きる。

〔作　用〕

本発明において条間干渉膜パターンは前記したような無
機材料からなり耐熱性に富み、又、ドライエツデング加
工にも耐えるものである。

又、多層干渉膜パターンと組合わせて耐熱性着色剤より
なる着色薄膜パターンを形成してなる多色光学的フィル
ター素子は真空蒸着法による透明導電膜の作製中の温度
条件（２００〜ｓｏｏ’ｃ）ζ二対え品質を損なうこと
のないものでおり。

ンシーＹ−Ｌ−肩ト咄１て力・＼）て、七Ｖ′簡Ａ升、
ξ配月呪＋１Ｌ’芒１°ｐタブイＩレターＩＪ！ｏｔ４
．ｘ（−ｒｔｔｆｆｉｒ’＜　Ｋ　ｊｎｌｔ’ｉ　袴Ｔ
’ｌｂ　−コ上　ごでｑも−Ｚ”ｔり。

１−麺う） 〔実施例〕 ガラス板上にシアンの多層干渉膜をガラス板上にストラ
イプ状に加工したシアンストライプフィルターを出発材
とし、その上に次の方法でシアンストライプに交叉する
様に黄色ストライプを形成させた。

表面を清浄化したシアンストライプフィルターを蒸１１
Ｍ内に設置し蒸発源ポート内にはスミラー７７２トイ：
ｃａ−ａ　（ｃ、　ｘ、　Ｎｏ、　１１６ａｏ、大日本
インキ化学ＫＫ裂）を入れ、真空吸引し、真空度１０−
５〜１０−’　Ｔｏｒｒとして色材を加熱蒸発させガラ
ス板上に３０００〜４００ＯＮの厚さに付着させた。得
られた黄色ガラス板の透過率は５３０ｍμにおい工８５
僑〜９０％であった。

ついで黄色薄膜層上ｔ；ｘｒｙｕ（コダックシンフイル
ムレジスト）を５０００〜６０００ムの厚さに回転塗布
し処理法に従って乾燥、プリベーキングをしたのち写真
原版からストライプ状パターンを焼付転写して現像乾燥
した。

この製版扱をプラズマを利用した灰化装置（Ｔｒａｐｓ
Ｌｏ社製ン内に設置しプラズマエツチングを行なった。

使用ガスはアルゴンで約１５分でエツチングが完了し、
その時点でＫＴＦＨの残留層が黄色層上に若干存在した
。

以上のようζ：して黄色着色薄膜ストライプを形成した
上Ｃニボリクレタン樹脂答液（粘度１０〜１５センチポ
イズ）をエツチング面上に回転堂布によりａ５〜２．０
μの厚さに盆石し１００〜１５０’ｃで２時間以上硬化
させたのち放冷して中間薄膜を形成した。次いで再び蒸
Ｓ装置内に設置し、蒸発源ボート内には酸化インジウム
（Ｉｎｚ（＋ｓ）を入れ、黄色単色フィルターの温度を
２００〜２３０”Ｃとし、真空度約１０−４〜１Ｏ−５
Ｔａｒ−酸化インジウムを蒸着した。蒸着後の酸化イン
ジウム透明導電層の電気抵抗は一般≦ニア００〜３５０
０Ω／ｌであった。

以上のようにして得られたものはシアン多層干渉膜スト
ライプ加工で生じるガラス板面とストライプ面の約１μ
の凹凸をうめる効果がありより高品位の色分離フィルタ
ー部が得られた。

〔発明の効果〕

以上の説明で明らかの如く、本発明の方法は、光学的フ
ィルター素子面にこれを保護する中間保護膜を介して直
接的に透明導電−を形成し得るのでその作慣性は優れか
つ極めて簡便に行なうことができるものである。

又、本発明において、中間保護膜を極めて薄膜にするこ
とができるのでその厚さをほとんど無視することができ
、フィルターとして色分解情報を解像力よく受けること
ができるものである。

而して、本発明に：？いて、本発明の方法で光学的フィ
ルター素子面上に透明４１！膜を設けたものは、該透明
導Ｕ膜の上に光導電１を設けてカラー撮像管等に使用す
ることができるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図と第２図とは、従来法によるカラー撮像管に使用
する色分離フィルターの要部拡大断面図、’３３図と第
４図とは、本発明の方法における各工程の構成な示す拡
大断面図である。 ２１・・・・・・・・・・・・・・・・・・透明基板２
２・・・・・・・・・・・・・・・・・・光学的フィル
ター素子２３・・・・・・・・・・・・・・・・・・中
間保護膜２４・・・・・・・・・・・・・・・・連間導
電膜特許出願人　　大日本印刷株式会社 代　　理　　人　　　　　小　　西　　淳　　美第１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 透明基板上に光学的フィルター素子及び透明導電膜を設
   けてなるカラー撮像管の色分離フィルター部の製造法に
   おいて、透明基板上に多層干渉膜をパターン状に加工し
   て多層干渉膜パターンを形成し、その上に耐熱性着色剤
   を真空蒸着又はスパッタリングして着色薄膜層を形成し
   、ついで該着色薄膜層上に写真製版的方法によりレジス
   トパターンを形成し、ついでレジストパターンで被覆さ
   れていない着色薄膜層領域をプラズマ食刻、或いは逆ス
   パッタリングにより乾式食刻して該着色薄膜層領域の着
   色薄膜層を除去すると共に上記のレジストパターンを同
   時に除去して多層干渉膜パターンと着色薄膜パターンよ
   りなる多色光学的フィルター素子を形成しついで上記の
   多色光学的フィルター素子面に耐熱性、耐薬品性に富む
   樹脂を回転塗布法や真空装置内塗布法などにより５００
   ０〜２００００Å程度の厚さに塗布乾燥し、十分に硬化
   させて中間保護膜を形成し、次に中間保護膜上に真空蒸
   着法により透明導電膜を形成することを特徴とする色分
   離フィルター部の製造法。