JP2004217659A - アミノシラン製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の一つの側面によれば、ビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物を含む液を生成するような十分な無水条件下で化学量論的に過剰のtert−ブチルアミンをジクロロシランと反応させることを含む、ビス(第三ブチルアミノ)シラン製造方法が提供される。
【選択図】 なし
Description
溶媒としてTHFを使用するビス(第三ブチルアミノ)シランの合成を説明する。
溶媒のテトラヒドロフラン(THF)を150ml及びTBAを50ml含む反応混合物を、電磁撹拌機を備えた米国イリノイ州MolineのParr Instrument Co.製の300mlのステンレス鋼反応器に入れた。反応器を、二つの300cm3のステンレス鋼バラスト、圧力計、ソーダ石灰のトラップ、及び真空ポンプを装備したステンレス鋼の真空配管に接続した。反応器を窒素でパージし、反応の間ずっと24℃の温度に冷却して保持した。連続量の高純度(例えば99.8%)ジクロロシラン(DCS)を蒸気として、液面下の浸漬管を通し反応混合物中に供給した。反応中に消費されたDCSの総量は10.1gであった。反応器を密閉して、撹拌しながら室温まで温まらせた。反応完了後、反応器の通気口をあけ、そしてN2でパージした。
TBA反応物を溶媒として使用するビス(第三ブチルアミノ)シラン(BTBAS)の合成を説明する。
250mlの量の無水の液体tert−ブチルアミン(TBA)を、電磁撹拌機を備えた米国イリノイ州MolineのParr Instrument Co.製の300mlのステンレス鋼反応器に入れた。反応器はTBA反応物を導入する前に窒素でパージした。反応器を、二つの300cm3のステンレス鋼バラスト、圧力計、ソーダ石灰のトラップ、及び真空ポンプを装備したステンレス鋼の真空配管に接続した。反応器をドライアイス/アセトン浴で−5℃に冷却した。連続量の高純度DCS(例えば99.8%)を蒸気として、液面下の浸漬管を通しTBA液中に供給して反応混合物を得た。反応中に消費されたDCSの総量は8.2gであった。反応の間ずっと反応混合物を撹拌した。反応器は密閉して、発熱反応による熱を反応器の壁を通して除去した。反応完了後、反応器の通気口をあけ、そしてN2でパージした。
ここではBTBAS粗製物の蒸留を説明する。
例1で説明した方法により粗BTBASを調製した。この粗BTBASを、ステンレス鋼の0.16インチ(約4mm)のPROPACK(商標)を充填したおよそ7段の、1インチ(25mm)×7インチ(178mm)の蒸留塔でもって100℃未満の温度と100torr(13.3kPa)未満の圧力で蒸留して、粗製液から純粋なBTBASを得た。蒸留温度と圧力において、粗製物中に含まれるTBA・HCl塩が解離して蒸留装置の様々な部分に被着し、それにより運転上の問題を引き起こすことが分かった。留出物のいろいろな画分が多量の、又は1,500ppmを超える塩化物を含むことが分かった。このように、この蒸留処理はTBA・HCl塩の存在によって悪影響を受け、得られたBTBAS生成物には好ましくないレベルの塩化物不純物が残存していた。
ここではろ過したBTBAS粗製物の蒸留を説明する。
例1で説明した方法により粗BTBASを調製した。この粗BTBASにAce Glass社製の0.45μmのガラスフリットフィルターを通過させて液からTBA・HCl塩を除去した。TBA洗浄液を使ってTBA・HClフィルターケーキから残留粗製物を除去した。TBA洗浄液はその後の反応で使用するために回収した。
ここでは圧力50torr(6.7kPa)でのBTBAS粗製物の蒸留を説明する。
例1で説明した方法により調製し0.45μmのフリットガラスフィルターを通過させた250mlのBTBAS粗製物を使ってバッチ蒸留を行った。蒸留は、例2及び3と同じ蒸留装置で行った。蒸留塔を全還流で運転して均一条件を確立後、還流比を0.5にした。この蒸留塔を50torr(6.7kPa)の圧力で運転した。リボイラーの温度は蒸留の終わりまでに30℃から86℃に上昇した。全ての生成物留分がGC分析により測定して99.3質量%を超えるBTBASを含んでいた。熱分解は認められなかった。
ここでは事前の反応からのTBAのリサイクルを説明する。
撹拌機を備えた100ガロン(380リットル)のステンレス鋼のタンク反応器に600ポンド(272kg)のtert−ブチルアミン(TBA)を投入した。投入物のうちのおよそ半分は事前の合成反応から回収したリサイクルt−ブチルアミンであり、残りは新しい原料であった。反応器を5〜10℃に冷却した。気体のジクロロシランを液面下の浸漬管を通し5.25時間にわたり反応器へ供給した。全部で45ポンド(20.4kg)のジクロロシランが反応した。生成物をRosenmundフィルター/ドライヤーを使ってろ過した。次の反応のために、t−ブチルアミンの投入物を利用してフィルターケーキを洗浄した。フィルターケーキを減圧下で乾燥させて、その結果得られた凝縮液を集めた。生成物をフラッシュ容器で集め、そこで過剰のt−ブチルアミンを真空ストリッピングした。1μmのポリプロピレンバッグフィルターとこの後の0.45μmのポリプロピレンフィルターカートリッジにより、生成物をろ過した。最終的なBTBASの分析ではt−ブチルアミンを含まないとして99.5%の数値が示され、TBA含有量は10%未満であった。この生成物は最終的な精製の蒸留を受ける準備ができていた。
20…反応容器
30…受け器
40…フラッシュ容器
50…DCSボンベ
60…TBA供給タンク
70、80…フィルター
Claims (16)
- 式R12NHを有する第二アミン、式R2NH2を有する第三アミン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる、化学量論的に過剰である少なくとも1種のアミンと、式R3nSiCl4-nを有する少なくとも1種のクロロシランとを、アミノシラン生成物及びアミン塩酸塩を含む液を生じるような十分な無水条件下で反応させることを含み、上式中のR1及びR2はおのおの独立に、炭素原子数1〜20の直鎖、環式又は枝分かれしたアルキル基であることができ、R3は水素原子、アミン基、又は炭素原子数1〜20の直鎖、環式又は枝分かれしたアルキル基であることができ、nは1〜3の範囲の数である、アミノシラン製造方法。
- 前記液にフィルターを通過させてアミン塩酸塩ケーキとろ液とを得ること、及び当該ろ液を精製して前記アミノシラン生成物を得ることを更に含む、請求項1記載の方法。
- 前記アミン塩酸塩ケーキをアミンで洗浄することを更に含む、請求項2記載の方法。
- 前記反応工程における前記アミンのうちの少なくとも一部分が前記アミンの洗浄液である、請求項3記載の方法。
- 前記アミンが第二アミンである、請求項1記載の方法。
- 前記アミンが第三アミンである、請求項1記載の方法。
- 前記アミンがtert−ブチルアミンである、請求項6記載の方法。
- ビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物とtert−ブチルアミン塩酸塩とを含む液を生成するような十分な無水条件下で、tert−ブチルアミンをジクロロシランと反応させること、
上記液にフィルターを通過させてtert−ブチルアミン塩酸塩ケーキとろ液とを得ること、及び
上記ろ液を精製して上記ビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物を得ること、
を含む、ビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物製造方法。 - ビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物とtert−ブチルアミン塩酸塩とを含む液を生成するような十分な無水条件下で、tert−ブチルアミンをジクロロシランと反応させること、
上記液にフィルターを通過させてtert−ブチルアミン塩酸塩ケーキとろ液とを得ること、
上記tert−ブチルアミン塩酸塩ケーキをtert−ブチルアミンで洗浄し、このtert−ブチルアミン洗浄液のうちの少なくとも一部分を上記反応工程におけるtert−ブチルアミンのうちの少なくとも一部分として使用すること、及び
上記ろ液を精製して上記ビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物を得ること、
を含む、塩化物レベルが15ppm以下のビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物製造方法。 - 前記精製工程が、蒸留、蒸発、膜分離、抽出、及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる少なくとも一つの処理工程である、請求項2又は9記載の方法。
- 前記精製処理が蒸留である、請求項10記載の方法。
- 前記蒸留を40〜100torr(5.3〜13.3kPa)の範囲の圧力で行う、請求項11記載の方法。
- 前記蒸留を70〜90℃の範囲の温度で行う、請求項12記載の方法。
- 前記反応工程における液がtert−ブチルアミンを更に含む、請求項9記載の方法。
- 前記tert−ブチルアミンを前記液から蒸発により除去する、請求項14記載の方法。
- ビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物を含む液を生成するような十分な無水条件下で、化学量論的に過剰のtert−ブチルアミンをジクロロシランと反応させることを含む、ビス(第三ブチルアミノ)シラン生成物製造方法。
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