TWI260326B - Process for the production and purification of bis(tertiary-butylamino) silane - Google Patents

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Description

1260326 玖、發明說明: 發明所屬之技術領域 本發明一般涉及生産胺基矽烷的方法和純化方法。更 具體而言,本發明涉及生産胺基矽烷一雙(叔丁胺基)矽 烧的方法和純化方法。 先前技術 採用矽-氮類化合物作爲前驅物,通過化學蒸氣沈積或 類似的方法,沈積可用於半導體器件製造的氮化矽、碳氮 化矽、和氧氮化矽膜。例如由於氮化矽具有優良的絕緣 (barrier)性能和耐氧化性能,它在半導體器件製造方面 具有許多用途。一般在接近8〇(rc的溫度下,利用化學蒸 氣沈積方法,採用Η%* C^iH2混合物沈積氮化矽。揮 發性的氯化銨(“NH4C1” )和該反應的其他氯副産品,可 能導致顆粒和霧膜(hazy film)的生成,它們還能沈積在 反應器的排氣管道中。這些沈積物可能引起晶片和泵的損 壞。 胺基石夕烧—雙(叔丁胺基)我,是用於化學蒸氣沈積 (CVD )氮化矽、氧氮化矽、和二氧化矽均勻膜的液態化 學前驅物。轉讓給本發明受讓人的US-5,874,368和 ,976:991 *述了採用S (叔丁胺基)石夕烧(BTBAS)製 備包含石夕和氧化物的膜的CVD方法。雙(叔丁胺基)石夕燒 具有下列化學式·· “ΆΝΗ) 2SiH2。在較低的工藝溫度 即500- 800。(:下,採用BTBAS作爲前驅物獲得的沈積膜, 1260326 不含氯化銨和氯污染物。訂⑽前驅物也不包含直接的 c鍵’獲彳于的膜基本上不含碳或碳含量非常低。與此相 反包含正丁胺和四(二甲胺基)矽烷等配位體的類似胺 土夕燒’在較低的操作溫度下卻不能沈積不含碳的膜,膜 的均勻性也較差。 現有技術對胺基矽烷化合物一雙(叔丁胺基)矽烷的生 産方去尚無記述。然而,胺基矽烷化合物目前的生産方法 身又包括一種或多種溶劑。在使用之前溶劑必須純化和乾 馀’以防在最終産品中引入雜質,乾燥能防止新生成的化 口物水解成石夕氧烷和其相應的胺。Κ· N· Radhamani等人的 ’文對二(胺基)矽烷一(R2N)3SiH的高産率室溫合成和 光口k 研九’磷、硫、和碎 Q phosphorous,sulfur,αη(ι
Ahc^)’V〇1.66 ( 1992 ),p297—300 (“RadhamaniI,,) 和Κ· Ν· Radhamani等人的“採用三(環己胺基)矽烷胺基 父換南産率室溫合成三(胺基)矽烷混合物的方便方法和 它們的特性”,礴、磁、和矽,v〇1 79 ( 1993 ),p65 一 68 (“Radhamani Π”),分別敍述了合成三胺基矽烷和胺基 石夕烧混合物的類似反應。Radhamani I敍述了使仲胺 (R2NH)與三氯矽烷反應,生成(R2N)3SiH和3R2NH· HC1 鹽。類似地,Radhamani Π敍述了使二環己胺與三氯石夕烧 反應’生成三(二環己胺基)矽烷和二環己胺· HC1鹽。 這兩個反應都是在接近室溫的溫度下,在氮氣氛中採用苯/ 正己院混合物作爲溶劑進行的。苯和正己烧溶劑是採用蒸 餾純化的’是在反應中使用之前採用鈉絲乾燥的。 1260326 彳叔丁胺鹽酸鹽的液體;使該液體通過過濾器,提供叔丁 胺·鹽酸鹽濾餅和濾液;和純化該濾液,提供雙(叔丁胺基) 矽烷産品。 在本發明的另一個方面,提供一種生産氯化物含量$15 PPm的雙(叔丁胺基)石夕烷産品的方法,該方法包括:使 叔丁胺與二氯矽烷在無水條件下充分反應,生成包含雙(叔 丁胺基)矽烷産品和叔丁胺·鹽酸鹽的液體·,使該液體通過 過濾器,提供叔丁胺·鹽酸鹽濾餅和濾液;用叔丁胺洗滌叔 丁胺·鹽酸鹽濾餅,其中採用至少一部分叔丁胺洗滌液作爲 反應步驟的至少一部分叔丁胺;和純化該濾液,提供雙(叔 丁胺基)矽燒産品。 在本發明的另一個方面,提供一種生産雙(叔丁胺基) 矽烷産品的方法,該方法包括使超過化學計算量的叔丁胺 與一乳矽烷在無水條件下充分反應,生成包含雙(叔丁胺 基)秒燒産品的液體。 根據下面的詳細說明,本發明的這些和其他方案是顯而 易見的。 實施方式 本發明是針對著胺基矽烷化合物,特別是雙(叔丁胺基) 矽烷(BTBAS )的生産和純化方法的。與使用溶劑生産胺 基矽烷化合物的現有方法不同,本發明採用一種反應物胺 作爲反應的溶劑。本發明的某些方面還有利於從包含胺基 石夕烧的粗産品液體中除去反應副産物胺·鹽酸鹽,所以減少

Claims (1)

  1. Ϊ260326 (2006年2月修正) 拾、申請專利範圍: 1 · 一種生産胺基矽烷的方法,該方法包括使至少一種 超過化學計算量的胺,與至少一種具有化學式R3nSiCl4_n 的氣秒烷,在無水條件下充分反應,生成包括胺基矽烷産 品和胺·鹽酸鹽的液體,所述的胺選自具有化學式R12NH的 仲胺、具有化學式R2NH2的伯胺、或它們的組合,式中R1 和R2各自可以分別是具有1 一 20個碳原子的直鏈烷基、環 燒基、或支鍵烧基;R3可以是氫原子、胺基、或具有1 — 2〇個碳原子的直鏈烷基、環烷基、或支鏈烷基;和n是i一屬 3的數。 2·如申請專利範圍第1項的方法,還包括: 使液體通過過濾器,提供胺.鹽酸鹽濾餅和濾液;和 純化該濾液,提供胺基矽烷産品。 3·如申請專利範圍第2項的方法’其還包括用胺洗滌 胺·鹽酸鹽濾餅。 如申叫專利範圍第3項的方法,其中反應步驟中的 至少-部分胺是胺洗滌⑨。 · 如申明專利範圍第2項的方法,其中純化步驟是至 乂種選自瘵餾、蒸發、膜分離、萃取、和它們的組合所 組成族群的方法。 6.如申請專利範圍第5項的方法,其中純化方法是蒸 餾。 申明專利$&圍第6項的方法,其中蒸餾是在壓力 40—100托(torr)下進行的。 21 1260326 (2006年2月修正) 8.如申請專利範圍第7項的方法,其中蒸餾是在溫度 70 — 90°C下進行的。 9·如申請專利範圍第1項的方法,其中胺是仲胺。 1 〇·如申請專利範圍第1項的方法,其中胺是伯胺。 1 1 ·如申請專利範圍第1 〇項的方法,其中胺是叔丁胺。 12· —種生産雙(叔丁胺基)矽烷産品的方法,該方法 包括: 使叔丁胺與二氣矽烷在無水條件下充分反應,生成包括 雙(叔丁胺基)矽烷産品和叔丁胺·鹽酸鹽的液體; 使該液體通過過濾器,提供叔丁胺·鹽酸鹽濾餅和濾 液;和 純化該濾液,提供雙(叔丁胺基)矽烷産品。 13· —種生産氣化物含量幺丨5 ρριη的雙(叔丁胺基)矽 院産品的方法,該方法包括: 使叔丁胺與二氣矽烷在無水條件下充分反應,生成包括 雙(叔丁胺基)矽烷産品和叔丁胺·鹽酸鹽的液體; 使該液體通過過濾器,提供叔丁胺·鹽酸鹽濾餅和濾液; 用叔丁胺洗滌叔丁胺·鹽酸鹽濾餅,其中使用至少一部 分叔丁胺洗滌液作爲反應步驟的至少一部分叔丁胺;和 純化該濾液,提供雙(叔丁胺基)矽烷産品。 1 4.如申請專利範圍第1 3項的方法,其中純化步驟是 至少一種選自蒸餾、蒸發、膜分離、萃取、和它們的組合 所組成族群的方法。 1 5 ·如申請專利範圍第1 4項的方法,其中純化方法是 22 1260326 蒸餾。 (2006年2月修正) 其中蒸餾是在壓 其中蒸餾是在溫 其中反應步驟中 16·如申請專利範圍第15項的方法 力4〇一 100 (torr)托下進行的。 I7.如申請專利範圍第項的方法 度7〇一 90°C下進行的。 18·如申請專利範圍第π項的方法 的液體還包括叔丁胺。
    19·如申請專利範圍第18項的方法,其中採用蒸發方 法從該液體中除去叔丁胺。 X 20· —種生産雙(叔丁胺基)矽烷産品的方法,其中包 括使超過化學計算量的叔丁胺與二氯矽烷在無水條件下充 分反應,生成包括雙(叔丁胺基)石夕烧産品的液體。
    23
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7875556B2 (en) 2005-05-16 2011-01-25 Air Products And Chemicals, Inc. Precursors for CVD silicon carbo-nitride and silicon nitride films
US7875312B2 (en) * 2006-05-23 2011-01-25 Air Products And Chemicals, Inc. Process for producing silicon oxide films for organoaminosilane precursors
US8530361B2 (en) 2006-05-23 2013-09-10 Air Products And Chemicals, Inc. Process for producing silicon and oxide films from organoaminosilane precursors
US8318966B2 (en) * 2006-06-23 2012-11-27 Praxair Technology, Inc. Organometallic compounds
US20080044572A1 (en) * 2006-08-15 2008-02-21 Loeffler Stephen D Right-sized vacuum precursor (rsvp) distillation system
US7442822B2 (en) 2006-09-01 2008-10-28 Air Products And Chemicals, Inc. Stabilization of nitrogen-containing and oxygen-containing organosilanes using weakly basic ion-exchange resins
US20080145978A1 (en) * 2006-12-18 2008-06-19 Air Liquide Electronics U.S. Lp Deposition of silicon germanium nitrogen precursors for strain engineering
DE102008002181A1 (de) * 2008-06-03 2009-12-10 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur wässrigen Aufarbeitung eines Ammoniumhalogenide und/oder organische Aminhydrohalogenide enthaltenden aminofunktionellen Organosilans
DE102008002183A1 (de) * 2008-06-03 2009-12-10 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Aufarbeitung salzhaltiger Rückstände aus der Herstellung von aminofunktionellen Organosilanen
KR101040325B1 (ko) 2009-08-25 2011-06-10 (주)디엔에프 알킬아미노실란의 제조방법
CN102442672B (zh) * 2011-09-28 2013-07-24 洛阳晶辉新能源科技有限公司 一种将含杂质的氯硅烷净化回收的方法及其在多晶硅生产中的应用
JP6094994B2 (ja) * 2013-02-04 2017-03-15 大陽日酸株式会社 原料ガス生成供給方法
JP6086250B2 (ja) * 2014-04-25 2017-03-01 大陽日酸株式会社 気液反応方法及びアミノシランの製造方法
KR101525174B1 (ko) * 2014-06-30 2015-06-02 주식회사 유피케미칼 디클로로실란을 이용한 알킬아미노실란의 제조 방법
JP6812855B2 (ja) * 2017-03-10 2021-01-13 Jnc株式会社 ジアルキルアミノシランの製造方法
CN112110948B (zh) * 2020-09-29 2023-07-14 合肥安德科铭半导体科技有限公司 一种液态双氨基取代的乙硅烷制备方法及其产物的应用
CN112661781A (zh) * 2020-12-26 2021-04-16 浙江博瑞电子科技有限公司 一种双(叔丁基氨基)硅烷的制备方法
CN112812134A (zh) * 2020-12-26 2021-05-18 浙江博瑞电子科技有限公司 一种双(叔丁基氨基)硅烷的精制方法
CN114573628A (zh) * 2022-04-13 2022-06-03 洛阳中硅高科技有限公司 胺基硅烷的制备系统和方法
CN115073507A (zh) * 2022-07-04 2022-09-20 浙江博瑞电子科技有限公司 一种无溶剂参与制备二(二乙基氨基)硅烷的方法
CN116036630A (zh) * 2023-01-10 2023-05-02 贵州威顿晶磷电子材料股份有限公司 一种电子级双-二乙氨基-硅烷的制造装置及制造方法
CN116036633B (zh) * 2023-02-13 2024-04-26 贵州威顿晶磷电子材料股份有限公司 一种电子级硼酸三乙酯的环保节能制备方法及配套设备

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4304805A (en) * 1978-12-04 1981-12-08 Joseph J. Packo Sealing leaks by polymerization of volatilized aminosilane monomers
JPS61287930A (ja) * 1985-06-17 1986-12-18 Chisso Corp ポリシラザンの製造方法
US5874368A (en) 1997-10-02 1999-02-23 Air Products And Chemicals, Inc. Silicon nitride from bis(tertiarybutylamino)silane
EP0980375B1 (en) * 1998-01-30 2005-11-09 Boulder Scientific Company N-silylated compound synthesis
US5976991A (en) 1998-06-11 1999-11-02 Air Products And Chemicals, Inc. Deposition of silicon dioxide and silicon oxynitride using bis(tertiarybutylamino) silane
US7084080B2 (en) 2001-03-30 2006-08-01 Advanced Technology Materials, Inc. Silicon source reagent compositions, and method of making and using same for microelectronic device structure

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