JP3934186B2 - トリクロロシランの再配分方法 - Google Patents
トリクロロシランの再配分方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3934186B2 JP3934186B2 JP30657096A JP30657096A JP3934186B2 JP 3934186 B2 JP3934186 B2 JP 3934186B2 JP 30657096 A JP30657096 A JP 30657096A JP 30657096 A JP30657096 A JP 30657096A JP 3934186 B2 JP3934186 B2 JP 3934186B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trichlorosilane
- tetraethylethylenediamine
- complex
- dichlorosilane
- teeda
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 41
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 title claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- DIHKMUNUGQVFES-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n'-tetraethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN(CC)CC DIHKMUNUGQVFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 65
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 16
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 6
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 5
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- TVONJMOVBKMLOM-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanenitrile Chemical compound CCC(=C)C#N TVONJMOVBKMLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- NKKMVIVFRUYPLQ-NSCUHMNNSA-N crotononitrile Chemical compound C\C=C\C#N NKKMVIVFRUYPLQ-NSCUHMNNSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 2
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C1=CC=[C-]C=C1 IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- BNEROQAYCNAAMV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6-hexamethyltriazinane-4,5,6-triamine Chemical compound CN1N(C)C(C)(N)C(C)(N)C(C)(N)N1C BNEROQAYCNAAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/125—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving both Si-C and Si-halogen linkages, the Si-C and Si-halogen linkages can be to the same or to different Si atoms, e.g. redistribution reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/122—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、N,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミン(TEEDA)の存在下でトリクロロシランの再配分を行ってジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体を形成する方法に関する。このジクロロシランは後にTEEDAから加熱等の方法によりTEEDAから解離させ、次いでジクロロシランを原料物質又は反応体として要求する標準のプロセスに使用する。これに代えて、前記ジクロロシラン及びTEEDAを含む上記錯体はα,β−不飽和オレフィン性ニトリルのヒドロシリル化用の反応体として使用され、又はグリニャール型試薬と反応させてオルガノシランを作る。
【0002】
塩化水素と粒状シリコンの反応のような、クロロシランの製造の典型的なプロセスは、主としてトリクロロシランである生成物を生じる。トリクロロシランをジクロロシランへ再配分できることは、これらのクロロシランの各々に対する要請に応える柔軟性を与える。典型的な無触媒条件下では、トリクロロシランの再配分はトリクロロシランのジクロロシランへの15モル%の再配分をもたらす。本発明方法は、驚くべきことに、本質的に100モル%の再配分を与える。それ故、本発明方法はトリクロロシランのジクロロシランへの再配分の一層効率的な方法である。更に、本発明方法は、固体であり、周囲条件下ではガスであるジクロロシランよりも容易にそして安全に取り扱える、ジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体を与える。
【0003】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
ある種の窒素含有化合物が、クロロハイドロジェンシラン類の再配分を触媒することは公知である。例えば、米国特許No.3044845は、最初にトリクロロシラン、ヘキサメチルトリアミノトリアジン及び触媒としてのピリジン(又は炭化水素置換ピリジン)の混合物を形成することにより、トリクロロシランからジクロロシランが製造できることを教えている。その後、その中にトリクロロシランが溶解性の液体炭化水素のような触媒用の促進剤が前記混合物に加えられ、次いで、得られた混合物は加熱される。
【0004】
米国特許No.4038371は、トリクロロシランを触媒としてのテトラアルキル尿素の存在下にジクロロシランに再配分することを特許請求している。
【0005】
米国特許No.4746752は、(i)第四級アンモニウム塩もしくは第四級ホスホニウム塩、(ii)第三級アミン、又は(iii)第三級アミン基もしくは第四級アミン基を含むイオン交換樹脂を含む触媒の存在下に、シラン類が再配分されることを開示している。
【0006】
米国特許No.5026533は、担体上に化学的に結合したアルキルアミノトリアルコキシシランは、トリクロロシランのジクロロシランへの再配分に対して触媒作用をすることを示している。
【0007】
しかしながら、上に引用した技術は、TEEDAがトリクロロシランを再配分してジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体を形成することを認識していない。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、トリクロロシランの再配分の方法である。この方法は、(A)トリクロロシランをN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンと接触させて、ジクロロシランとN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンを含む錯体を形成し、そして(B)ジクロロシランとN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンを含む錯体を回収することを含む。
【0009】
四塩化珪素も、本発明方法の再配分生成物として形成される。この四塩化珪素も蒸留のような標準の方法により回収され、次に、四塩化珪素を必要とする標準のプロセスに使用される。
【0010】
本発明方法は気相で実施できるが、液相で行うのが好ましい。このトリクロロシランは、第二の反応体と混合物をなしてクロロシランと接触するのに適した標準的な反応器であればどんなものであれ、その中でTEEDAと接触させられる。この反応器は、例えば連続攪拌バッチタイプ反応器、セミバッチタイプ反応器又は連続型反応器であり得る。
【0011】
本発明方法は、本質的に無水の状態で行うのが好ましい。それ故、反応器を乾燥不活性ガス、例えば窒素でパージし、反応器中にそのようなガスのブランケットを維持するのが有益である。
【0012】
トリクロロシラン対TEEDAのモル比は、本発明にとって重大なものではなく、広い範囲で変化することができる。一般に、トリクロロシラン対TEEDAモル比は0.1:1〜10:1の範囲が有用である。好ましいのはトリクロロシラン対TEEDAのモル比が化学量論的量より大きいときである。より好ましいのは、トリクロロシラン対TEEDAのモル比が2:1〜5:1の範囲にあるときである。
【0013】
本発明は、希釈剤としての有機溶媒の存在下で実施されるのが好ましい。トリクロロシランの再配分、及びジクロロシランとTEEDAを含む錯体の形成を阻害しない有機溶媒ならば何でもここで使用できる。トリクロロシランとTEEDAの接触は、ジクロロシランとTEEDAを含む錯体もその中に溶解する有機溶媒の存在下に行うのが好ましい。本発明方法における希釈剤として有用な有機溶媒の例は、ジクロロメタン及び1,2−ジクロロエタンを含む。希釈剤として使用される好ましい極性有機溶媒はジクロロメタンである。希釈剤として使用される有機溶媒の体積は、溶媒のない状態から、トリクロロシラン及びTEEDAの合計の全体積の2倍以上の範囲である。好ましいのは、有機溶媒の体積が、トリクロロシラン及びTEEDAの合計の全体積の0.3体積ないし等体積である。
【0014】
次いで、ジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体が、この方法から回収される。この錯体の回収は、この反応生成物が作られたときのままで単に貯蔵することからなる。この錯体は、室温で、及び空気に曝されたとき限定された安定性を有する。しかしながら、空気がなく、低い温度では、この錯体は数週間安定で存在することができる。好ましいプロセスにおいては、トリクロロシランとTEEDAの接触の後、そして溶解性有機溶媒の存在又は非存在の下で、第2の有機溶剤を加えて、ジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体を溶液から沈殿させる。ジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体の沈殿を行い、前記錯体と反応しない、どんな有機溶剤も本発明方法において使用できる。この錯体の沈殿用の有用な有機溶剤は、例えばペンタン、ヘキサン、及びテトラヒドロフランを含む。この錯体の沈殿用の好ましい有機溶剤は、ペンタンである。
【0015】
好ましい方法において、トリクロロシランをTEEDAと、トリクロロシラン対TEEDAのモル比2:1〜5:1で、ジクロロメタンのような希釈用有機溶媒の存在下に、接触させ、次いで、第2の有機溶剤、例えばペンタンの添加により、ジクロロシラン及びTEEDAの錯体を沈殿させる。
【0016】
本発明方法は、0℃ないしトリクロロシランの沸点の温度範囲で実施できる。好ましいのは、この方法が15℃〜30℃の温度範囲で行われるときである。
【0017】
本発明方法で調製されたジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体は加熱により解離し、この錯体からジクロロシランを回収することができる。次いで、このジクロロシランは、ジクロロシランを原料物質又は反応体として必要とする標準の反応及びプロセス中で使用される。
【0018】
ジクロロシランとTEEDAを含む本発明の錯体は、一般式RMgCl(ここにRはアルキル基又はアリール基である)で示されるグリニャール型試薬と反応させることもできる。前記R基は、メチル、エチル、プロピル、t−ブチル又はフェニルであり得る。ジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体とグリニャール型試薬との反応は、クロロシランとグリニャール型試薬とを反応させるための当技術分野において公知の標準の方法によって行われる。
【0019】
ジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体は、更に次式で示されるα,β−不飽和オレフィン性ニトリルと反応させて:
【0020】
【化1】
【0021】
(ここに、各Yは独立に水素原子及び炭素原子数1〜8の低級アルキル基から選ばれる)シアノアルキルシランを形成することができる。前記不飽和オレフィン性ニトリルは、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、クロトノニトリル、エチルアクリロニトリル、1−シアノブテン−1又は2−シアノオクテン−1である。このジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体は、0℃〜ジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体の解離温度の範囲内の温度で、α,β−不飽和オレフィン性ニトリルと反応してシアノアルキルシランを形成する。好ましいのは、この反応が20℃〜50℃の範囲内の温度で行われるときである。
【0022】
【実施例】
(例1)
トリクロロシランがTEEDA及び塩化メチレンの存在下に再配分してジクロロシラン及びTEEDAを形成する能力を評価した。全ての反応は乾燥窒素のブランケットの下でガラスフラスコ中で行った。トリクロロシランは使用前に蒸留した。TEEDAはCaH2 の上で還流させ、次いで蒸留した。ジクロロメタンは使用の直前にP2 O5 から蒸留した。フラスコ中に入れた物質の体積を表1に示す。諸物質はゴム隔膜を通して注射器によりフラスコに入れた。
【0023】
ジクロロメタンを最初にフラスコに入れ、次いでトリクロロシランを入れた。次いで、TEEDAをフラスコに入れ、フラスコ内容物を室温に冷却した。フラスコに入れたトリクロロシラン、TEEDA及びジクロロメタンの体積も表1に示す。次いで、ペンタンをフラスコに入れ、このフラスコ及びその内容物を−20℃で16時間貯蔵した。フラスコに入れたペンタンの体積を表1に示す。ペンタンの添加の間に結晶性沈殿が形成された。16時間後に、この液体を沈殿から除いた。この沈殿は融点101〜102℃であることが見いだされた。この沈殿は次のデータからジクロロシラン及びTEEDAの錯体であることが同定された: 1H NMR δ4.99(s,2H,SiH),δ2.91(q,8H,J=7.2Hz,CH2 CH3 ),δ2.78(s,4H,CH2 CH2 ),δ1.13(t,12H,J=7.2z,CH3 );13C NMR 48.5(br,CH2 CH3 ),47.57(m,CH2 CH2 ),10.0(b,CH2 CH3 );29Si NMR (−30℃),δ−120.2(d, JSiH=404 H3 )。
【0024】
ジクロロシランとTEEDAを含む錯体の収率%を表1に、添加したTEEDAがジクロロシランと錯体形成した%として表す。
【0025】
ジクロロシランとTEEDAを含む錯体をX線分析により測定すると、ジクロロシランの6配位体付加物で、TEEDAの両方の窒素がケイ素にキレートしていることが分かった。このジクロロシランとTEEDAを含む錯体は、窒素の下、室温で少なくとも2か月安定であり、ジクロロメタン及び1,2−ジクロロエタンの溶解性で、テトラヒドロフランに少し溶解性で、ペンタン及びヘキサンに不溶性であることが見いだされた。
【0026】
【0027】
(例2)
ジクロロシランとTEEDAを含む錯体がアクリロニトリルをヒドロシリル化する能力を評価した。乾燥箱中で、例1に記載したようにして調製したジクロロシランとTEEDAを含む錯体を10mLの一口フラスコ中に入れた。このフラスコの口にゴム隔膜をはめ、このフラスコを乾燥箱から取り出した。ジクロロメタン(4.0mL)を、このフラスコに入れてジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体を溶解し、次いで0.18mLのアクリロニトリルを加えた。この反応混合物を室温で攪拌し、表2に示す時期にNMRによる分析のために、サンプルを抜き出した。アクリロニトリル信号対生成物ピークを積分することにより、収率%を計算した。「転化%」の印を付けた欄はアクリロニトリルが生成物に転化した%を与える。表2において、生成物AはCl3 SiCH2 CH2 CNであり、生成物BはCl2 HSiCH2 CH2 CNであり、生成物CはClH2 SiCH2 CH2 CNである。
【0028】
【0029】
(例3)
ジクロロシランとTEEDAを含む錯体がPhMgClと反応する能力を評価した。乾燥した箱の中で、例1に述べたようにして調製したジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体3gを250mL2口フラスコ中に入れた。このフラスコを乾燥箱から取り出し、攪拌棒、コンデンサー及びゴム隔膜をはめた。次いで、10mLのCH2 Cl2 及び30mLのテトラヒドロフランを前記隔膜を通してフラスコ中に入れた。13.2mLのPhMgCl(Ph=フェニル)を含むグリニャール型試薬を、5分かけてこのフラスコに入れた。この反応を一夜混合し、次いで溶媒を蒸発により除いた。エーテル(30mL)を加えて生成物を溶解し、次いでHClを加えて未反応出発物質を分解し、水溶性TEEDA・2HClを形成した。得られた液体混合物をエーテルで抽出し、抽出物を蒸留して収量1.51gのPh2 SiH2 を得た。この同定は 1H NMR及び29Si NMRで測定した。
【0030】
(例4)
トリクロロシランとTEEDAの反応からの四塩化珪素の分離。100mL1口フラスコ中で、20mLのジクロロシラン及び11.4mLのトリクロロシランからなる混合物を形成した。次いで、6.0mLのTEEDAをこのフラスコに入れた。ペンタン(20mL)をこのフラスコに入れ、結晶性沈殿を形成させた。−20℃で16時間貯蔵した後、5.7gの沈殿を単離し、例1に記載した方法によりジクロロシラン及びTEEDAを含む錯体であることを同定した。反応フラスコから取り出した液体から揮発物を蒸留した。ペンタン、CH2 Cl2 及びHSiCl3 を、集めた揮発物から蒸留し、5.56gの残留液体を残した。残留液体の 1H NMR及び29Si NMRは、それがモル比約103:38:1のSiCl4 :CH2 Cl2 :ペンタンを含んでいることを示した。
Claims (10)
- 次のことを含むトリクロロシランの再配分方法:
(A)トリクロロシランをN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンと接触させて、ジクロロシランとN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンを含む錯体を形成し、そして
(B)ジクロロシランとN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンを含む錯体を回収すること。 - 前記方法が液相中で行われる請求項1の方法。
- 前記方法に加えられるトリクロロシラン対N,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンのモル比が0.1:1〜10:1の範囲にある請求項1又は2の方法。
- 前記トリクロロシランをN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンと、得られる錯体が溶解するジクロロメタン又は1,2−ジクロロエタンから選ばれる有機溶媒の存在下で接触させる請求項2の方法。
- 前記方法に加えられる有機溶媒の体積が、トリクロロシラン及びN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンの合計全体積の0.3体積ないし等しい体積である請求項4の方法。
- ジクロロシラン及びN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンを含む前記錯体の回収が、前記錯体の沈殿を行わせるヘキサン、ペンタン及びテトラヒドロフランからなる群から選ばれる有機溶剤を用いて沈殿させることにより行われる請求項2の方法。
- 前記トリクロロシランを、0℃ないしトリクロロシランの沸点の範囲内の温度でN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンと接触させる請求項1の方法。
- ジクロロシラン及びN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンを含む錯体を、式RMgCl(ここに、Rはアルキル基又はアリール基である)で示される試薬と接触させることを含む、オルガノシランの形成方法。
- ジクロロシラン及びN,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミンを含む錯体を、式YCH=C(Y)CN(ここに、各Yは独立に水素原子及び炭素原子数1〜8の低級アルキル基から選ばれる)で示されるα,β−不飽和オレフィン性ニトリルと接触させることを含む、シアノアルキルシランを形成する方法。
- 前記不飽和オレフィン性ニトリルが、アクリルニトリル、メタクリロニトリル、クロトノニトリル、エチルアクリロニトリル、1−シアノブテン−1及び2−シアノオクテン−1からなる群から選ばれる請求項9の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/560,456 US5550269A (en) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | Method for redistribution of trichlorosilane |
US08/560456 | 1995-11-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09255689A JPH09255689A (ja) | 1997-09-30 |
JP3934186B2 true JP3934186B2 (ja) | 2007-06-20 |
Family
ID=24237899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30657096A Expired - Fee Related JP3934186B2 (ja) | 1995-11-17 | 1996-11-18 | トリクロロシランの再配分方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5550269A (ja) |
EP (1) | EP0774467B1 (ja) |
JP (1) | JP3934186B2 (ja) |
DE (1) | DE69620713T2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005019252A1 (de) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Organylhydrogensilanen |
US20100150809A1 (en) * | 2008-12-11 | 2010-06-17 | Bill Jr Jon M | enhancements for a chlorosilane redistribution reactor |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3147071A (en) * | 1964-09-01 | Process of manufacturing dichloro- | ||
US2834648A (en) * | 1953-03-25 | 1958-05-13 | Union Carbide Corp | Disproportionation of chlorosilanes employing amine-type catalysts |
US3044845A (en) * | 1958-09-30 | 1962-07-17 | Union Carbide Corp | Process for producing dichlorosilane |
FR2290448A1 (fr) * | 1974-11-07 | 1976-06-04 | Rhone Poulenc Ind | Dismutation du trichlorosilane en presence de tetraalcoyluree |
US4395389A (en) * | 1982-03-01 | 1983-07-26 | Ethyl Corporation | Chlorosilane disproportionation process |
FR2552436B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouveau procede de fabrication d'hydrogeno-silanes par reaction de redistribution |
US4613491A (en) * | 1984-05-17 | 1986-09-23 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology | Redistribution catalyst and methods for its preparation and use to convert chlorosilicon hydrides to silane |
DE3711444A1 (de) * | 1987-04-04 | 1988-10-13 | Huels Troisdorf | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan |
-
1995
- 1995-11-17 US US08/560,456 patent/US5550269A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-10-28 EP EP96307783A patent/EP0774467B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-28 DE DE69620713T patent/DE69620713T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-11-18 JP JP30657096A patent/JP3934186B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0774467A2 (en) | 1997-05-21 |
DE69620713T2 (de) | 2002-11-28 |
EP0774467B1 (en) | 2002-04-17 |
DE69620713D1 (de) | 2002-05-23 |
EP0774467A3 (en) | 1998-05-13 |
JPH09255689A (ja) | 1997-09-30 |
US5550269A (en) | 1996-08-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4276424A (en) | Methods for the production of organic polysilanes | |
US6963006B2 (en) | Process for the production and purification of bis(tertiary-butylamino)silane | |
JPH0458478B2 (ja) | ||
KR20130010111A (ko) | 시클로헥사실란 화합물의 제조 방법 | |
US4400527A (en) | Producing oximinosilanes, oximinogermanes and oximinostannanes | |
US5235083A (en) | Bis(silyl)alkanes and method for their preparation | |
JP5236731B2 (ja) | アミノオルガノシランの製造方法 | |
JP3934186B2 (ja) | トリクロロシランの再配分方法 | |
EP0405560A2 (en) | Preparation of tertiary-hydrocarbylsilyl compounds | |
JP5519006B2 (ja) | アミノオルガノシランの製造方法 | |
JP5474945B2 (ja) | 直線状や環状トリシラアルカンの製造方法 | |
JPH0635466B2 (ja) | ジオルガノハロゲノシランの製造方法 | |
JPS6332336B2 (ja) | ||
JP2775239B2 (ja) | 接触アルキル化方法 | |
CA1140144A (en) | Preparation of trialkoxysilanols | |
JP2511244B2 (ja) | トリス(シリル)アルカンとその製造方法 | |
JPH0673072A (ja) | オルガノオキシシラン水素化物の製造方法 | |
JPH04159286A (ja) | オキシムシランの着色防止方法 | |
KR100899055B1 (ko) | 불포화 유기 화합물의 그리냐르 제조방법 | |
JPH06107671A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
US3565935A (en) | Method of forming mercaptoalkyl substituted organosilicon compounds | |
US20020065426A1 (en) | Method for producing fluoroaryl metal compound | |
JPS6219433B2 (ja) | ||
EP0902031A2 (en) | Aminosilanes and method of preparation | |
JPS6322096A (ja) | アルキルクロロシラン類の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061020 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070315 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130330 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140330 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |