JPH0673072A - オルガノオキシシラン水素化物の製造方法 - Google Patents
オルガノオキシシラン水素化物の製造方法Info
- Publication number
- JPH0673072A JPH0673072A JP5165332A JP16533293A JPH0673072A JP H0673072 A JPH0673072 A JP H0673072A JP 5165332 A JP5165332 A JP 5165332A JP 16533293 A JP16533293 A JP 16533293A JP H0673072 A JPH0673072 A JP H0673072A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sodium
- chlorosilane
- organooxide
- organooxysilane
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明はオルガノオキシシラン水素化物の製
造方法に関する。 【構成】 この方法は珪素原子に結合した少なくとも１
個の水素原子を有するクロロシランを無水ナトリウムオ
ルガノオキシドと接触することを包含する。好ましい態
様として、無水ナトリウムオルガノオキシドを調整した
割合でクロロシランに加える。この方法は約０℃から約
７０℃の範囲内の温度において行われる。
造方法に関する。 【構成】 この方法は珪素原子に結合した少なくとも１
個の水素原子を有するクロロシランを無水ナトリウムオ
ルガノオキシドと接触することを包含する。好ましい態
様として、無水ナトリウムオルガノオキシドを調整した
割合でクロロシランに加える。この方法は約０℃から約
７０℃の範囲内の温度において行われる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オルガノオキシシラン
水素化物（hydrido organooxysilane ）の製造方法に関
する。本願方法は、珪素原子に結合した少なくとも１個
の水素原子を有するクロロシランを無水ナトリウムオル
ガノオキシドと接触させることを包含する。好ましい態
様として、本願方法は無水ナトリウムオルガノオキシド
を調整した割合でクロロシランに加えることを包含す
る。この方法は０℃から７０℃の範囲内の温度において
行われる。
水素化物（hydrido organooxysilane ）の製造方法に関
する。本願方法は、珪素原子に結合した少なくとも１個
の水素原子を有するクロロシランを無水ナトリウムオル
ガノオキシドと接触させることを包含する。好ましい態
様として、本願方法は無水ナトリウムオルガノオキシド
を調整した割合でクロロシランに加えることを包含す
る。この方法は０℃から７０℃の範囲内の温度において
行われる。
【０００２】本願方法によって得られたオルガノオキシ
シラン水素化物は広範囲のオルガノオキシシランの有用
な先駆物質である。例えば、オルガノオキシシラン水素
化物は珪素原子のオルガノオキシ官能価に影響を与える
ことなくしてオレフィンとヒドロシリル化反応（hydros
ilylation ）を行うことができる。得られたシリル化有
機化合物は繊維の接合表面処理剤として使用され、そし
て次いで珪素原子のオルガノオキシ官能価を加水分解し
て艶を出すことができる。
シラン水素化物は広範囲のオルガノオキシシランの有用
な先駆物質である。例えば、オルガノオキシシラン水素
化物は珪素原子のオルガノオキシ官能価に影響を与える
ことなくしてオレフィンとヒドロシリル化反応（hydros
ilylation ）を行うことができる。得られたシリル化有
機化合物は繊維の接合表面処理剤として使用され、そし
て次いで珪素原子のオルガノオキシ官能価を加水分解し
て艶を出すことができる。
【０００３】
【従来の技術】Ｍｉｌｌｅｒ等はＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．７９巻 ５６０４−５６０６頁（１９５７）に
おいて、ジブロムシランをナトリウムアルコキシドと反
応させて相応するジアルコキシシランを生成する方法を
報告している。Ｍｉｌｌｅｒ等は反応の課程で生成物が
完全に分解しないように、不活性炭化水素溶媒及び乾燥
窒素雰囲気で行うことが必須であると述べている。Ｍｉ
ｌｌｅｒ等はまたモノオルガノブロムシランはアルキル
オキシ基によって置換される臭素に反応性であることを
報告している。しかしながら、Ｍｉｌｌｅｒ等はモノブ
ロムシランはこれらの方法では反応しなかったと報告し
ている。
Ｓｏｃ．７９巻 ５６０４−５６０６頁（１９５７）に
おいて、ジブロムシランをナトリウムアルコキシドと反
応させて相応するジアルコキシシランを生成する方法を
報告している。Ｍｉｌｌｅｒ等は反応の課程で生成物が
完全に分解しないように、不活性炭化水素溶媒及び乾燥
窒素雰囲気で行うことが必須であると述べている。Ｍｉ
ｌｌｅｒ等はまたモノオルガノブロムシランはアルキル
オキシ基によって置換される臭素に反応性であることを
報告している。しかしながら、Ｍｉｌｌｅｒ等はモノブ
ロムシランはこれらの方法では反応しなかったと報告し
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】それ故に、珪素原子に
結合した少なくとも１個の水素原子を有するクロロシラ
ンは溶媒の不存在下ナトリウムオルガノオキシドと反応
して高収率でオルガノオキシシランを生成することを本
発明者は予想外にも発見した。本願方法の収率は、ナト
リウムオルガノオキシドをクロロシランに調整した割合
で加えることによって更に改善される。本願方法はモノ
クロロシランが本発明方法において反応性であるという
点でＭｉｌｌｅｒ等によって開示されたものと区別でき
る。
結合した少なくとも１個の水素原子を有するクロロシラ
ンは溶媒の不存在下ナトリウムオルガノオキシドと反応
して高収率でオルガノオキシシランを生成することを本
発明者は予想外にも発見した。本願方法の収率は、ナト
リウムオルガノオキシドをクロロシランに調整した割合
で加えることによって更に改善される。本願方法はモノ
クロロシランが本発明方法において反応性であるという
点でＭｉｌｌｅｒ等によって開示されたものと区別でき
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はオルガノオキシ
シラン水素化物の製造方法である。この方法は、（Ａ）
式Ｒa Ｈb ＳｉＣｌ4-a-b （１）で示されるクロロシ
ランを式ＮａＯＲ1 （２）で示されるナトリウムオルガ
ノオキシドと約０℃から７０℃の範囲内の温度において
接触させ、そして（Ｂ） 式Ｒa Ｈb Ｓｉ（ＯＲ1 ）
4-a-b （３）で示されるオルガノオキシシラン水素化物
を回収することを含み、ここでいづれのＲは１から２０
個の炭素原子を含むアルキル基、４から２０個の炭素原
子を含むシクロアルキル基、２から２０個の炭素原子を
含むアルケニル基、１から２０個の炭素原子を含むアル
キルオキシ基及びアリール基から成る群から独立して選
ばれ、Ｒ1 は１から６個の炭素原子を含むアルキル基か
ら成る群から選ばれ、ａは０，１又は２、ｂは１，２又
は３、そしてａ＋ｂは１，２又は３である。
シラン水素化物の製造方法である。この方法は、（Ａ）
式Ｒa Ｈb ＳｉＣｌ4-a-b （１）で示されるクロロシ
ランを式ＮａＯＲ1 （２）で示されるナトリウムオルガ
ノオキシドと約０℃から７０℃の範囲内の温度において
接触させ、そして（Ｂ） 式Ｒa Ｈb Ｓｉ（ＯＲ1 ）
4-a-b （３）で示されるオルガノオキシシラン水素化物
を回収することを含み、ここでいづれのＲは１から２０
個の炭素原子を含むアルキル基、４から２０個の炭素原
子を含むシクロアルキル基、２から２０個の炭素原子を
含むアルケニル基、１から２０個の炭素原子を含むアル
キルオキシ基及びアリール基から成る群から独立して選
ばれ、Ｒ1 は１から６個の炭素原子を含むアルキル基か
ら成る群から選ばれ、ａは０，１又は２、ｂは１，２又
は３、そしてａ＋ｂは１，２又は３である。
【０００６】クロロシランとナトリウムオルガノオキシ
ドとの接触は、クロロシランの反応に適した標準的な反
応器において行うことができる。この方法は回分式、半
回分式又は連続式の方法で行うことができる。この方法
は、例えば連続的に攪拌するタンク反応器において行う
ことができる。好ましい態様として、ナトリウムオルガ
ノオキシドはクロロシランを含む反応器の中に調整した
割合で加える。調整した割合とは、ナトリウムオルガノ
オキシドが反応系に加えられると急速にクロロシランの
中に分散して、これによりクロロシラン内においてナト
リウムオルガノオキシドの高濃度が局部的になるのを最
小限にするような加える方法を意味する。任意の調整し
た割合は、クロロシランの容積及び効率的な混合の如き
要因によって決定される。
ドとの接触は、クロロシランの反応に適した標準的な反
応器において行うことができる。この方法は回分式、半
回分式又は連続式の方法で行うことができる。この方法
は、例えば連続的に攪拌するタンク反応器において行う
ことができる。好ましい態様として、ナトリウムオルガ
ノオキシドはクロロシランを含む反応器の中に調整した
割合で加える。調整した割合とは、ナトリウムオルガノ
オキシドが反応系に加えられると急速にクロロシランの
中に分散して、これによりクロロシラン内においてナト
リウムオルガノオキシドの高濃度が局部的になるのを最
小限にするような加える方法を意味する。任意の調整し
た割合は、クロロシランの容積及び効率的な混合の如き
要因によって決定される。
【０００７】クロロシランがナトリウムオルガノオキシ
ドと接触してオルガノオキシシランを形成するのに要す
る時間は、本願方法が行われる温度及び反応体の化学的
組成の如き要因によって決定される。一般に、０．１分
から５時間の範囲内の接触時間が好ましいと考えられ
る。好ましくは、１分から１時間の範囲内の接触時間で
ある。
ドと接触してオルガノオキシシランを形成するのに要す
る時間は、本願方法が行われる温度及び反応体の化学的
組成の如き要因によって決定される。一般に、０．１分
から５時間の範囲内の接触時間が好ましいと考えられ
る。好ましくは、１分から１時間の範囲内の接触時間で
ある。
【０００８】本願方法において有用なクロロシランは式
（１）によって示される。クロロシランは０，１又は２
個の置換基Ｒを有し、ここでいづれのＲは１から２０個
の炭素原子を含むアルキル基、４から２０個の炭素原子
を含むシクロアルキル基、２から２０個の炭素原子を含
むアルケニル基、１から２０個の炭素原子を含むアルキ
ルオキシ基及びアリール基から成る群から独立して選ば
れたものである。置換基Ｒは、例えばメチル、エチル、
プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ビニル、
アリル、１−メチルビニル、メトキシ、エトキシ、フェ
ニル、キシリル又はトリル基である。好ましいものは、
Ｒが１から６個の炭素原子を含むアルキル基であるクロ
ロシランである。最も好ましいクロロシランはＲがメチ
ル基であって、２個の置換基Ｒを有するものである。
（１）によって示される。クロロシランは０，１又は２
個の置換基Ｒを有し、ここでいづれのＲは１から２０個
の炭素原子を含むアルキル基、４から２０個の炭素原子
を含むシクロアルキル基、２から２０個の炭素原子を含
むアルケニル基、１から２０個の炭素原子を含むアルキ
ルオキシ基及びアリール基から成る群から独立して選ば
れたものである。置換基Ｒは、例えばメチル、エチル、
プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ビニル、
アリル、１−メチルビニル、メトキシ、エトキシ、フェ
ニル、キシリル又はトリル基である。好ましいものは、
Ｒが１から６個の炭素原子を含むアルキル基であるクロ
ロシランである。最も好ましいクロロシランはＲがメチ
ル基であって、２個の置換基Ｒを有するものである。
【０００９】本願方法において有用なクロロシランは、
いづれの珪素原子に結合した１，２又は３個の水素原子
を有する。好ましいものは、珪素原子に結合した１個の
水素原子を有するクロロシランである。
いづれの珪素原子に結合した１，２又は３個の水素原子
を有する。好ましいものは、珪素原子に結合した１個の
水素原子を有するクロロシランである。
【００１０】本願方法において有用なクロロシランは、
また珪素原子に結合した少なくとも１個の塩素原子を有
しなくてはならず、そして珪素原子に結合した１，２又
は３個の塩素原子を有する。好ましいものは、珪素原子
に結合した１個の塩素原子を有するクロロシランであ
る。
また珪素原子に結合した少なくとも１個の塩素原子を有
しなくてはならず、そして珪素原子に結合した１，２又
は３個の塩素原子を有する。好ましいものは、珪素原子
に結合した１個の塩素原子を有するクロロシランであ
る。
【００１１】本願方法において有用なナトリウムオルガ
ノオキシドは式（２）によって示される。ナトリウムオ
ルガノオキシドは置換基Ｒ1 を有し、ここでのＲ1 は１
から６個の炭素原子を含むアルキル基及びアリール基か
ら成る群から選ばれる。置換基Ｒ1 は、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、
ペンチル、ヘキシル及びフェニル基である。好ましいも
のはＲ1 がメチル基である場合である。
ノオキシドは式（２）によって示される。ナトリウムオ
ルガノオキシドは置換基Ｒ1 を有し、ここでのＲ1 は１
から６個の炭素原子を含むアルキル基及びアリール基か
ら成る群から選ばれる。置換基Ｒ1 は、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、
ペンチル、ヘキシル及びフェニル基である。好ましいも
のはＲ1 がメチル基である場合である。
【００１２】本願方法の好ましい態様として、ナトリウ
ムオルガノオキシドとクロロシランとを理論的等量に近
い量で反応工程に加える。“理論的等量”とは、反応工
程に加えるクロロシランに結合した塩素のいづれの各モ
ルに対して１モルのナトリウムオルガノオキシドを反応
工程に加えることを意味する。“理論的等量に近い”と
は、ナトリウムオルガノオキシドが理論的等量の＋１０
％から−１０％の範囲内で反応工程に加えることを意味
する。ナトリウムオルガノオキシド及びクロロシランを
より少なく又はより多く用いることができるが、しかし
所望のオルガノオキシシラン水素化物の収率が減少す
る。
ムオルガノオキシドとクロロシランとを理論的等量に近
い量で反応工程に加える。“理論的等量”とは、反応工
程に加えるクロロシランに結合した塩素のいづれの各モ
ルに対して１モルのナトリウムオルガノオキシドを反応
工程に加えることを意味する。“理論的等量に近い”と
は、ナトリウムオルガノオキシドが理論的等量の＋１０
％から−１０％の範囲内で反応工程に加えることを意味
する。ナトリウムオルガノオキシド及びクロロシランを
より少なく又はより多く用いることができるが、しかし
所望のオルガノオキシシラン水素化物の収率が減少す
る。
【００１３】本願方法は０℃から７０℃の範囲内の温度
において行われる。好ましくは、２０℃から５０℃の範
囲内の温度である。反応工程の温度は、例えば反応器の
部分を覆っているジャケット又は浴の中に存在する熱媒
液の如き標準的な手段によって調整することができる。
において行われる。好ましくは、２０℃から５０℃の範
囲内の温度である。反応工程の温度は、例えば反応器の
部分を覆っているジャケット又は浴の中に存在する熱媒
液の如き標準的な手段によって調整することができる。
【００１４】式（３）によって示されるオルガノオキシ
シラン水素化物は反応工程から回収される。オルガノオ
キシシラン水素化物は、例えば蒸留の如き混合物を分離
する標準的な方法によって回収することができる。オル
ガノオキシシランの回収は、オルガノオキシシラン水素
化物を含む混合物を他の工程に単に供給するとか、又は
将来の使用に対しオルガノオキシシラン水素化物を含む
混合物を貯蔵することを含む。本願方法において回収さ
れる好ましいオルガノオキシシラン水素化物はジメチル
メトキシシランである。
シラン水素化物は反応工程から回収される。オルガノオ
キシシラン水素化物は、例えば蒸留の如き混合物を分離
する標準的な方法によって回収することができる。オル
ガノオキシシランの回収は、オルガノオキシシラン水素
化物を含む混合物を他の工程に単に供給するとか、又は
将来の使用に対しオルガノオキシシラン水素化物を含む
混合物を貯蔵することを含む。本願方法において回収さ
れる好ましいオルガノオキシシラン水素化物はジメチル
メトキシシランである。
【００１５】
【実施例】本発明を説明するために次に実施例を示す。
これらの実施例は、本特許請求の範囲を限定するもので
はない。 例１ ジメチルメトキシシランを生成するために、ナトリウム
メトキシドをジメチルクロロシランに加えた。この方法
は、温度計、滴加漏斗及び磁気攪拌棒を有する１００ml
の三口フラスコの中で行った。フラスコの温度は水浴に
よって調整されている。この方法は２５ml（０．２２９
モル）のジメチルクロロシランをフラスコに加え、そし
て１２．３９ｇ（０．２２９モル）の無水ナトリウムメ
トキシド固体を滴下漏斗を用いてジメチルクロロシラン
に加えて行った。ナトリウムメトキシドを加えるのに約
０．４５時間を要した。フラスコの内容物の温度を水浴
により３１℃に維持した。フラスコの内容物はＶｉｇｒ
ｅａｕｘ塔を用いて３５℃から３６℃で蒸留して、１
９．１ｇの透明な液体を得た。透明な液体は検出器とし
て質量分析計（ＭＳ）を使用したガスクロマトグラフィ
ー（ＧＣ）により分析を行い、そしてＧＣ／ＭＳ痕跡で
の面積から明らかなように約９３．２％のジメチルメト
キシシランを含んでいることが確認された。
これらの実施例は、本特許請求の範囲を限定するもので
はない。 例１ ジメチルメトキシシランを生成するために、ナトリウム
メトキシドをジメチルクロロシランに加えた。この方法
は、温度計、滴加漏斗及び磁気攪拌棒を有する１００ml
の三口フラスコの中で行った。フラスコの温度は水浴に
よって調整されている。この方法は２５ml（０．２２９
モル）のジメチルクロロシランをフラスコに加え、そし
て１２．３９ｇ（０．２２９モル）の無水ナトリウムメ
トキシド固体を滴下漏斗を用いてジメチルクロロシラン
に加えて行った。ナトリウムメトキシドを加えるのに約
０．４５時間を要した。フラスコの内容物の温度を水浴
により３１℃に維持した。フラスコの内容物はＶｉｇｒ
ｅａｕｘ塔を用いて３５℃から３６℃で蒸留して、１
９．１ｇの透明な液体を得た。透明な液体は検出器とし
て質量分析計（ＭＳ）を使用したガスクロマトグラフィ
ー（ＧＣ）により分析を行い、そしてＧＣ／ＭＳ痕跡で
の面積から明らかなように約９３．２％のジメチルメト
キシシランを含んでいることが確認された。
【００１６】例２ ジメチルメトキシシランを生成するために、ジメチルク
ロロシランをナトリウムメトキシドに加えた。この方法
は例１に記載したものと同様にして行った。１２．３９
ｇ（０．２２９モル）の無水ナトリウムメトキシドをフ
ラスコの中に入れた。次いで、２５ml（０．２２９モ
ル）のジメチルクロロシランを０．５時間に渡ってゆっ
くりとフラスコに加えた。フラスコの内容物の温度は３
１℃に調整した。すべてのジメチルクロロシランをフラ
スコに加えた後、得られた混合物を０．５時間加熱して
還流した。得られた混合物は低沸点物質を除くために蒸
留した。透明な液体蒸留物の全重量は１７ｇであった。
この透明液体蒸留物を前に示したようにＧＣ／ＭＳによ
って分析を行い、そして約２３．７％のジメチルメトキ
シシラン及び約５９％のジメチルジメトキシシランを含
んでいることが確認された。
ロロシランをナトリウムメトキシドに加えた。この方法
は例１に記載したものと同様にして行った。１２．３９
ｇ（０．２２９モル）の無水ナトリウムメトキシドをフ
ラスコの中に入れた。次いで、２５ml（０．２２９モ
ル）のジメチルクロロシランを０．５時間に渡ってゆっ
くりとフラスコに加えた。フラスコの内容物の温度は３
１℃に調整した。すべてのジメチルクロロシランをフラ
スコに加えた後、得られた混合物を０．５時間加熱して
還流した。得られた混合物は低沸点物質を除くために蒸
留した。透明な液体蒸留物の全重量は１７ｇであった。
この透明液体蒸留物を前に示したようにＧＣ／ＭＳによ
って分析を行い、そして約２３．７％のジメチルメトキ
シシラン及び約５９％のジメチルジメトキシシランを含
んでいることが確認された。
Claims (7)
- 【請求項１】 （Ａ） 式Ｒa Ｈb ＳｉＣｌ4-a-b で示
されるクロロシランを式ＮａＯＲ1 で示されるナトリウ
ムオルガノオキシドと約０℃から５０℃の範囲内の温度
において接触させ、そして（Ｂ） 式Ｒa Ｈb Ｓｉ（Ｏ
Ｒ1 ）4-a-b で示されるオルガノオキシシラン水素化物
を回収することを含み、ここでいづれのＲは１から２０
個の炭素原子を含むアルキル基、４から２０個の炭素原
子を含むシクロアルキル基、２から２０個の炭素原子を
含むアルケニル基、１から２０個の炭素原子を含むアル
キルオキシ基及びアリール基から成る群から独立して選
ばれ、Ｒ1 は１から６個の炭素原子を含むアルキル基か
ら成る群から選ばれ、ａは０，１又は２、ｂは１，２又
は３、そしてａ＋ｂは１，２又は３である、オルガノオ
キシシラン水素化物の製造方法。 - 【請求項２】 ナトリウムオルガノオキシドはクロロシ
ランを含む反応器に調整された割合で加える請求項１記
載の方法。 - 【請求項３】 ナトリウムオルガノオキシドとクロロシ
ランの接触時間は０．１分から５時間の範囲内である請
求項１記載の方法。 - 【請求項４】 Ｒがメチル基である請求項１記載の方
法。 - 【請求項５】 Ｒ′がメチル基である請求項１記載の方
法。 - 【請求項６】 温度は２０℃から５０℃の範囲内である
請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 オルガノオキシシラン水素化物がジメチ
ルメトキシシランである請求項１記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/909,329 US5189194A (en) | 1992-07-06 | 1992-07-06 | Process for preparation of hydrido organooxysilanes |
| US909329 | 1992-07-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673072A true JPH0673072A (ja) | 1994-03-15 |
Family
ID=25427039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5165332A Pending JPH0673072A (ja) | 1992-07-06 | 1993-07-05 | オルガノオキシシラン水素化物の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5189194A (ja) |
| EP (1) | EP0578443B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0673072A (ja) |
| DE (1) | DE69318765T2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5189194A (en) * | 1992-07-06 | 1993-02-23 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of hydrido organooxysilanes |
| US5374761A (en) * | 1994-04-29 | 1994-12-20 | Corning Corporation | Process for preparation of organooxysilanes |
| CN105131028B (zh) * | 2015-09-06 | 2017-08-15 | 浙江衢州硅宝化工有限公司 | 一种甲基三乙氧基硅烷的制备方法 |
| CN109251220A (zh) * | 2018-10-22 | 2019-01-22 | 浙江衢州正邦有机硅有限公司 | 一种二甲基二甲氧基硅烷的制备方法 |
| CN109503649A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-03-22 | 山东硅科新材料有限公司 | 一种高纯度三甲基甲氧基硅烷的制备工艺 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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