JP2558284B2 - アルコキシシランの製造方法 - Google Patents
アルコキシシランの製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明はアルコキシシランの製造方法に関し、さらに
詳しくは、高い収率で、分子中に少なくとも1個のSi−
H結合を有するアルコキシシランを得ることができるア
ルコキシシランの製造方法に関する。
詳しくは、高い収率で、分子中に少なくとも1個のSi−
H結合を有するアルコキシシランを得ることができるア
ルコキシシランの製造方法に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 従来から、分子中にSi−H結合を有するアルコキシシ
ランの製造方法としては、Si−H結合を有するクロロシ
ランとアルコールとを反応させる方法が知られている。
この方法においては、下記の反応式で示すように反応が
進行する。
ランの製造方法としては、Si−H結合を有するクロロシ
ランとアルコールとを反応させる方法が知られている。
この方法においては、下記の反応式で示すように反応が
進行する。
(CH3)aHbSiCl4-a-b+(4−a−b)ROH →(CH3)aHbSi(OR)4-a-b+(4−a−b)HCl すなわち、上記反応式から明らかなとおり、かかるク
ロロシランとアルコールとの反応ではSi−H結合を有す
るアルコキシシランと共に塩化水素が副生するが、この
副生した塩化水素が生成したアルコキシシラン中に混入
してしまい、除去することが困難であるだけでなく、そ
の存在によりアルコキシシランのSi−H結合部分がアル
コキシ化されてしまうことからSi−H結合を有するアル
コキシシランの収率が低下してしまう。一例を掲げる
と、メチルジクロロシランとメタノールからメチルジメ
トキシシランを製造する場合においては、副生した塩化
水素の存在により、生成したメチルジメトキシシランが
メトキシ化されてメチルトリメトキシシランに変わる結
果、目的とするメチルジメトキシシランの収率が低下し
てしまう。
ロロシランとアルコールとの反応ではSi−H結合を有す
るアルコキシシランと共に塩化水素が副生するが、この
副生した塩化水素が生成したアルコキシシラン中に混入
してしまい、除去することが困難であるだけでなく、そ
の存在によりアルコキシシランのSi−H結合部分がアル
コキシ化されてしまうことからSi−H結合を有するアル
コキシシランの収率が低下してしまう。一例を掲げる
と、メチルジクロロシランとメタノールからメチルジメ
トキシシランを製造する場合においては、副生した塩化
水素の存在により、生成したメチルジメトキシシランが
メトキシ化されてメチルトリメトキシシランに変わる結
果、目的とするメチルジメトキシシランの収率が低下し
てしまう。
このようなアルコキシシランの収率低下を防止する方
法として、予め反応系にピリジンなどのアミンを添加し
ておくことにより、副生する塩化水素を中和し、Si−H
結合のアルコキシ化を防止する方法が知られている。
法として、予め反応系にピリジンなどのアミンを添加し
ておくことにより、副生する塩化水素を中和し、Si−H
結合のアルコキシ化を防止する方法が知られている。
しかしながら、かかる方法では、生成したアミン塩酸
塩の微粉末を過・分離する工程が必要となり、また分
離したアミン塩酸塩からアミンを回収する工程が煩雑に
なる。さらに、上記方法では生成したアルコキシシラン
の一部はアミン塩酸塩中に吸蔵されてしまい、これを回
収するためには多量の溶剤で洗浄処理する必要があるこ
となどの問題点があり、工業的に不利である。また、同
様の目的から、エチレンジアミンやナトリウムメトキシ
ドを用いたアルコキシシランの製造法の場合には、アル
コキシシラン中のSi−H結合がアルコキシ化してしまう
ことから実用的ではない。
塩の微粉末を過・分離する工程が必要となり、また分
離したアミン塩酸塩からアミンを回収する工程が煩雑に
なる。さらに、上記方法では生成したアルコキシシラン
の一部はアミン塩酸塩中に吸蔵されてしまい、これを回
収するためには多量の溶剤で洗浄処理する必要があるこ
となどの問題点があり、工業的に不利である。また、同
様の目的から、エチレンジアミンやナトリウムメトキシ
ドを用いたアルコキシシランの製造法の場合には、アル
コキシシラン中のSi−H結合がアルコキシ化してしまう
ことから実用的ではない。
また、上記以外のクロロシランとアルコールとの反応
によりアルコキシシランを製造する方法としては、例え
ば、アルコールを気相中に存在するクロロシランと接触
させることなく、液状のクロロシラン中にアルコールを
導入し、クロロシランのアルコキシ化を段階的に進行さ
せ、最終のエステル化工程を加熱下で行う方法が提案さ
れている(特開昭54−95518号公報参照)。
によりアルコキシシランを製造する方法としては、例え
ば、アルコールを気相中に存在するクロロシランと接触
させることなく、液状のクロロシラン中にアルコールを
導入し、クロロシランのアルコキシ化を段階的に進行さ
せ、最終のエステル化工程を加熱下で行う方法が提案さ
れている(特開昭54−95518号公報参照)。
しかしながら、かかる方法は、前記公報の実施例から
明らかなとおり、必ず−48〜−82℃までに冷却した還流
冷却器を具備した反応装置を用いなければ、目的とする
Si−H結合を有するアルコキシシランを高収率で得るこ
とはできないものである。すなわち、かかる技術は、最
終のエステル化工程を加熱化で行い、塩化水素の発生速
度及び塩化水素の除去速度を上昇させることにより、生
成したSi−H結合を有するアルコキシシランと塩化水素
の接触時間を短くすること及び冷却器を深冷することに
よって未反応のクロロシランや生成したアルコキシシラ
ンが塩化水素に同伴されて損失してしまうことを防止す
ることにより、収率を高めようとするものであるが、上
記のとおり冷却管を深冷することが必要であることから
エネルギーの消費量が非常に大きく、工業的に不利であ
る。
明らかなとおり、必ず−48〜−82℃までに冷却した還流
冷却器を具備した反応装置を用いなければ、目的とする
Si−H結合を有するアルコキシシランを高収率で得るこ
とはできないものである。すなわち、かかる技術は、最
終のエステル化工程を加熱化で行い、塩化水素の発生速
度及び塩化水素の除去速度を上昇させることにより、生
成したSi−H結合を有するアルコキシシランと塩化水素
の接触時間を短くすること及び冷却器を深冷することに
よって未反応のクロロシランや生成したアルコキシシラ
ンが塩化水素に同伴されて損失してしまうことを防止す
ることにより、収率を高めようとするものであるが、上
記のとおり冷却管を深冷することが必要であることから
エネルギーの消費量が非常に大きく、工業的に不利であ
る。
[発明の目的] 本発明の目的は、上記の問題点を解消し、Si−H結合
を有するアルコキシシランを高収率で製造する方法を提
供することである。
を有するアルコキシシランを高収率で製造する方法を提
供することである。
[発明の構成] 本発明者らは、上記目的を達成するべく研究を行った
結果、Si−H結合を有するクロロシランとアルコールと
の反応を、目的とするアルコキシシランの沸点より高沸
点の溶媒と低沸点の溶媒との共存下に行わせることによ
り、高収率でSi−H結合を有するアルコキシシランが得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
結果、Si−H結合を有するクロロシランとアルコールと
の反応を、目的とするアルコキシシランの沸点より高沸
点の溶媒と低沸点の溶媒との共存下に行わせることによ
り、高収率でSi−H結合を有するアルコキシシランが得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明のアルコキシシランの製造方法は、
一般式(I): (CH3)aHbSiCl4-(a+b) (I) (式中、aは0〜2の数を表わし、bは1〜3の数を表
し、a+bは4未満の数を表す) で示されるクロロシランと、 一般式(II): ROH (II) (式中、Rはアルキル基を表す) で示されるアルコールとを反応させることにより、 一般式(III): (CH3)aHbSi(OR)cCl4-(a+b+c) (III) (式中、a、b及びRは上記と同じ意味であり、cは1
〜3の数を表し、a+b+cは4以下の数を表す) で示されるアルコキシシランの製造方法において、 前記クロロシランとアルコールの反応を(a)目的と
する前記一般式(III)で示されるアルコキシシランの
沸点より低い沸点を有し、その沸点差が4℃以上である
不活性の低沸点溶媒及び(b)前記目的とするアルコキ
シシランの沸点より高い沸点を有し、その沸点差が4℃
以上である不活性の高沸点溶媒、の共存下で行うことを
特徴とする。
一般式(I): (CH3)aHbSiCl4-(a+b) (I) (式中、aは0〜2の数を表わし、bは1〜3の数を表
し、a+bは4未満の数を表す) で示されるクロロシランと、 一般式(II): ROH (II) (式中、Rはアルキル基を表す) で示されるアルコールとを反応させることにより、 一般式(III): (CH3)aHbSi(OR)cCl4-(a+b+c) (III) (式中、a、b及びRは上記と同じ意味であり、cは1
〜3の数を表し、a+b+cは4以下の数を表す) で示されるアルコキシシランの製造方法において、 前記クロロシランとアルコールの反応を(a)目的と
する前記一般式(III)で示されるアルコキシシランの
沸点より低い沸点を有し、その沸点差が4℃以上である
不活性の低沸点溶媒及び(b)前記目的とするアルコキ
シシランの沸点より高い沸点を有し、その沸点差が4℃
以上である不活性の高沸点溶媒、の共存下で行うことを
特徴とする。
本発明で用いるクロロシランは、少なくとも1個のSi
−H結合を有するもので、上記の一般式(I)で示され
るものである。かかるクロロシランとしては、例えば、
モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラ
ン、メチルジクロロシラン及びジメチルクロロシランを
挙げることができる。
−H結合を有するもので、上記の一般式(I)で示され
るものである。かかるクロロシランとしては、例えば、
モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラ
ン、メチルジクロロシラン及びジメチルクロロシランを
挙げることができる。
本発明で用いるアルコールは一般式(II)で示される
ものであり、例えば、メタノール、エタノール、n−プ
ロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール及びイ
ソブタノールなどを挙げることができるが、これらの中
でも生成したアルコキシシランの反応性が大きいメタノ
ール及びエタノールの場合に特に本発明の方法が好まし
い。
ものであり、例えば、メタノール、エタノール、n−プ
ロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール及びイ
ソブタノールなどを挙げることができるが、これらの中
でも生成したアルコキシシランの反応性が大きいメタノ
ール及びエタノールの場合に特に本発明の方法が好まし
い。
クロロシランと反応させるアルコールの量は、クロロ
シランのSi−Cl結合の一部もしくは全部をアルコキシ化
するのに必要な理論量か、やや過剰量を用いる。
シランのSi−Cl結合の一部もしくは全部をアルコキシ化
するのに必要な理論量か、やや過剰量を用いる。
本発明においては、上記のクロロシランとアルコール
を反応させてアルコキシシランを生成せしめる際に、前
記アルコキシシランの沸点より低い沸点を有し、その沸
点差が4℃以上である溶媒(以下、これを単に「低沸点
溶媒」という)及び高い沸点を有し、その沸点差が4℃
以上である溶媒(以下、これを単に「高沸点溶媒」とい
う)を反応系に共存させた状態で前記反応を行うもので
ある。
を反応させてアルコキシシランを生成せしめる際に、前
記アルコキシシランの沸点より低い沸点を有し、その沸
点差が4℃以上である溶媒(以下、これを単に「低沸点
溶媒」という)及び高い沸点を有し、その沸点差が4℃
以上である溶媒(以下、これを単に「高沸点溶媒」とい
う)を反応系に共存させた状態で前記反応を行うもので
ある。
ここで用いる低沸点溶媒及び高沸点溶媒は、いずれも
反応系中における生成するアルコキシシランの安定化、
とりわけ前記アルコキシシランのSi−H結合の保護に有
効に作用するものである。かかる高沸点溶媒及び低沸点
溶媒としては、いずれもクロロシランとアルコールとの
反応に対して不活性であり、生成するアルコキシシラン
の沸点との差が4℃以上であるものを用いる。ここで、
これらの溶媒の沸点差が4℃未満の場合には、反応終了
後に生成したアルコキシシランと前記溶媒とを分離する
ことが困難になる。
反応系中における生成するアルコキシシランの安定化、
とりわけ前記アルコキシシランのSi−H結合の保護に有
効に作用するものである。かかる高沸点溶媒及び低沸点
溶媒としては、いずれもクロロシランとアルコールとの
反応に対して不活性であり、生成するアルコキシシラン
の沸点との差が4℃以上であるものを用いる。ここで、
これらの溶媒の沸点差が4℃未満の場合には、反応終了
後に生成したアルコキシシランと前記溶媒とを分離する
ことが困難になる。
かかる低沸点溶媒及び高沸点溶媒は、得ようとするア
ルコキシシランの沸点に応じて適宜選択して用いる。低
沸点溶媒として使用可能なものとしては、例えば、n−
ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン及びベンゼン
などの炭化水素系溶媒;塩化メチレン、クロロホルムな
どのハロ炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル及びテトラ
ヒドロフランなどのエーテル系溶媒などを挙げることが
でき;高沸点溶媒として使用可能なものとしては、例え
ば、n−ヘプタン、シクロヘキサン、デカリン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン及びエチルベンゼンなどの炭化
水素系溶媒などを挙げることができる。
ルコキシシランの沸点に応じて適宜選択して用いる。低
沸点溶媒として使用可能なものとしては、例えば、n−
ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン及びベンゼン
などの炭化水素系溶媒;塩化メチレン、クロロホルムな
どのハロ炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル及びテトラ
ヒドロフランなどのエーテル系溶媒などを挙げることが
でき;高沸点溶媒として使用可能なものとしては、例え
ば、n−ヘプタン、シクロヘキサン、デカリン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン及びエチルベンゼンなどの炭化
水素系溶媒などを挙げることができる。
低沸点溶媒の使用量は、クロロシラン100重量部に対
して好ましくは10〜200重量部であり、さらに好ましく
は20〜100重量部である。ここで溶媒の使用量が10重量
部未満の場合にはアルコキシシランの収率の向上が小さ
く、200重量部を超えて使用する場合にも収率は変わら
ず、むしろ容積収率が低下して製造コストが上昇してし
まう。
して好ましくは10〜200重量部であり、さらに好ましく
は20〜100重量部である。ここで溶媒の使用量が10重量
部未満の場合にはアルコキシシランの収率の向上が小さ
く、200重量部を超えて使用する場合にも収率は変わら
ず、むしろ容積収率が低下して製造コストが上昇してし
まう。
高収率溶媒の使用量は、クロロシラン100重量部に対
して好ましくは20〜200重量部であり、さらに好ましく
は20〜100重量部である。ここで、溶媒の使用量がこの
範囲外である場合には、目的とするアルコキシシランの
収率が低下する。
して好ましくは20〜200重量部であり、さらに好ましく
は20〜100重量部である。ここで、溶媒の使用量がこの
範囲外である場合には、目的とするアルコキシシランの
収率が低下する。
低沸点溶媒と高沸点溶媒の使用量は上記のとおりであ
るが、これらの低沸点溶媒と高沸点溶媒との比は使用す
る溶媒の種類により異なるものであり、通常は、重量比
で1:10〜10:1の範囲で用いることが好ましく、1:1〜3:1
の範囲で用いることがさらに好ましい。
るが、これらの低沸点溶媒と高沸点溶媒との比は使用す
る溶媒の種類により異なるものであり、通常は、重量比
で1:10〜10:1の範囲で用いることが好ましく、1:1〜3:1
の範囲で用いることがさらに好ましい。
本発明においては、上記のとおり低沸点溶媒及び高沸
点溶媒を、クロロシランとアルコールとの反応系に共存
させるが、ここで反応系とは反応容器中のみならず、反
応容器に接続した冷却器を含む意味である。また、反応
に際しては、発生する塩化水素の一部が反応容器中に残
存するので、これらを中和するために少量のピリジンな
どの弱アミンを用いることができる。
点溶媒を、クロロシランとアルコールとの反応系に共存
させるが、ここで反応系とは反応容器中のみならず、反
応容器に接続した冷却器を含む意味である。また、反応
に際しては、発生する塩化水素の一部が反応容器中に残
存するので、これらを中和するために少量のピリジンな
どの弱アミンを用いることができる。
本発明におけるクロロシランとアルコールとの反応条
件は特に制限されるものではなく、常温で又は低沸点溶
媒の還流温度までの所望の温度に加熱することもでき
る。
件は特に制限されるものではなく、常温で又は低沸点溶
媒の還流温度までの所望の温度に加熱することもでき
る。
反応終了後、反応液を蒸留することにより、目的とす
るアルコキシシラン、低沸点溶媒及び高沸点溶媒を別々
に分離・回収することができる。ここで、回収した低沸
点溶媒及び高沸点溶媒は再使用することができる。
るアルコキシシラン、低沸点溶媒及び高沸点溶媒を別々
に分離・回収することができる。ここで、回収した低沸
点溶媒及び高沸点溶媒は再使用することができる。
本発明は、一般式(III)で示されるアルコキシシラ
ン、例えば、モノメトキシシラン、ジメトキシシラン、
トリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン及びジメ
チルメトキシシラン又はこれらに対応する他のアルコシ
シランの製造方法として適用することができ、さらに、
アルコールの量を調節することにより、クロロジメトキ
シシラン、ジクロロメトキシシラン及びメチルクロロメ
トキシシラン及び対応する他の部分アルコキシ化クロロ
シランの製造方法としても適用できる。
ン、例えば、モノメトキシシラン、ジメトキシシラン、
トリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン及びジメ
チルメトキシシラン又はこれらに対応する他のアルコシ
シランの製造方法として適用することができ、さらに、
アルコールの量を調節することにより、クロロジメトキ
シシラン、ジクロロメトキシシラン及びメチルクロロメ
トキシシラン及び対応する他の部分アルコキシ化クロロ
シランの製造方法としても適用できる。
[発明の効果] 本発明の製造方法によれば、例えば、反応容器に接続
した還流冷却器を深冷することなどの、特に限定された
製造条件を設定することなく、高い収率でSi−H結合を
有するアルコシシランを得ることができ、その精製も容
易である。
した還流冷却器を深冷することなどの、特に限定された
製造条件を設定することなく、高い収率でSi−H結合を
有するアルコシシランを得ることができ、その精製も容
易である。
本発明の製造方法により得られるアルコキシシラン
は、分子中にSi−H結合及びアルコキシ基を有すること
から、反応性がよく、各種の有機ケイ素化合物やケイ素
官能性ポリマーなどの製造中間体として有用である。
は、分子中にSi−H結合及びアルコキシ基を有すること
から、反応性がよく、各種の有機ケイ素化合物やケイ素
官能性ポリマーなどの製造中間体として有用である。
[実施例] 以下、実施例及び比較例を掲げて、本発明をさらに詳
しく説明する。なお、以下において部は全て重量部を表
す。
しく説明する。なお、以下において部は全て重量部を表
す。
実施例1〜3 冷却器、撹拌機、仕込んだクロロシラン及び溶媒の液
面下にメタノールを導入しうる導入管及び温度計を備え
た反応容器中に、第1表に示す量のメチルジクロロシラ
ン、n−ペンタン及びトルエンを添加したのち、常温で
均一になるように撹拌しながら、導入管からメタノール
を1部/分の割合で供給した。その後、メタノールの供
給量が第1表に示す第1次供給量に達したのち、供給を
いったん停止した。次いで、冷媒としてメタノールを用
いて冷却器の温度を−10℃に保持しながら、容器内を約
40℃で1時間加熱還流させた。その後、さらに残部のメ
タノールを同じ供給速度で供給したのち、さらに40℃で
20分間加熱を続けて反応を完結させた。
面下にメタノールを導入しうる導入管及び温度計を備え
た反応容器中に、第1表に示す量のメチルジクロロシラ
ン、n−ペンタン及びトルエンを添加したのち、常温で
均一になるように撹拌しながら、導入管からメタノール
を1部/分の割合で供給した。その後、メタノールの供
給量が第1表に示す第1次供給量に達したのち、供給を
いったん停止した。次いで、冷媒としてメタノールを用
いて冷却器の温度を−10℃に保持しながら、容器内を約
40℃で1時間加熱還流させた。その後、さらに残部のメ
タノールを同じ供給速度で供給したのち、さらに40℃で
20分間加熱を続けて反応を完結させた。
ガスクロマトグラフィーによって生成したメトキシシ
ランの収率(溶媒のピークを無視)を求めたところ第1
表のとおりであった。反応生成物を精留して沸点61℃の
メチルジメトキシシランと沸点102℃のメチルトリメト
キシシランを単離した。
ランの収率(溶媒のピークを無視)を求めたところ第1
表のとおりであった。反応生成物を精留して沸点61℃の
メチルジメトキシシランと沸点102℃のメチルトリメト
キシシランを単離した。
実施例4〜6 低沸点溶媒と高沸点溶媒の種類と仕込量を第2表に示
すようにしたほかは実施例1と同様にして、メチルジク
ロロシランとメタノールの反応を行った。ただし、還流
温度は用いる低沸点溶媒の相違から、実施例4では45℃
とした。反応の結果、メトキシシランの収率は第2表の
とおりであった。
すようにしたほかは実施例1と同様にして、メチルジク
ロロシランとメタノールの反応を行った。ただし、還流
温度は用いる低沸点溶媒の相違から、実施例4では45℃
とした。反応の結果、メトキシシランの収率は第2表の
とおりであった。
比較例1〜5 溶媒を全く用いないか又は高沸点溶媒もしくは低沸点
溶媒の一方のみを用い、それぞれの溶媒に応じた還流温
度で反応を行ったほかは実施例1と同様にして、メチル
ジクロロシランとメタノールの反応を行った。ここで、
比較例1、2は高沸点溶媒、比較例3、4は低沸点溶媒
を用いた例で、比較例5は溶媒を用いなかった例であ
る。用いた溶媒の種類と量、及び得られたシランの収率
は第3表のとおりであった。
溶媒の一方のみを用い、それぞれの溶媒に応じた還流温
度で反応を行ったほかは実施例1と同様にして、メチル
ジクロロシランとメタノールの反応を行った。ここで、
比較例1、2は高沸点溶媒、比較例3、4は低沸点溶媒
を用いた例で、比較例5は溶媒を用いなかった例であ
る。用いた溶媒の種類と量、及び得られたシランの収率
は第3表のとおりであった。
実施例7、比較例6〜8 第4表に示す量のトリクロロシラン、溶媒及びメタノ
ールを用いたほかは実施例1と同様にして、沸点84℃の
トリメトキシシラン及び沸点121℃のテトラメトキシシ
ランを得た。収率は第4表のとおりであった。
ールを用いたほかは実施例1と同様にして、沸点84℃の
トリメトキシシラン及び沸点121℃のテトラメトキシシ
ランを得た。収率は第4表のとおりであった。
実施例8 高沸点溶媒として38部のデカリンを用い、メタノール
の代わりにエタノールを用い、その供給速度を1.5部/
分とし、エタノールの量を第1次46部、全量101部とし
た以外は実施例3と同様にして、沸点95℃のメチルジエ
トキシシラン(収率88%)および沸点143℃のメチルト
リエトキシシラン(収率7%)を得た。
の代わりにエタノールを用い、その供給速度を1.5部/
分とし、エタノールの量を第1次46部、全量101部とし
た以外は実施例3と同様にして、沸点95℃のメチルジエ
トキシシラン(収率88%)および沸点143℃のメチルト
リエトキシシラン(収率7%)を得た。
以上、第1〜4表および実施例8の結果から明らかな
とおり、生成したメチルジメトキシシラン又はトリメト
キシシランの沸点より低い沸点を有する溶媒と高い沸点
を有する溶媒(いずれも、前記シランとの沸点差は4℃
以上である)を反応系に共存させた実施例1〜8の場合
には77〜90%の収率で目的とするSi−H結合を有するシ
ランを得ることができた。これに対して、いずれか一方
の溶媒の存在下で反応を行った比較例1〜4、6及び7
の場合は、63〜74%の収率であり、溶媒を全く使用しな
かった比較例5の場合は40%、比較例8の場合は65%で
あり、実施例の場合に比べて大幅に収率が低下した。
とおり、生成したメチルジメトキシシラン又はトリメト
キシシランの沸点より低い沸点を有する溶媒と高い沸点
を有する溶媒(いずれも、前記シランとの沸点差は4℃
以上である)を反応系に共存させた実施例1〜8の場合
には77〜90%の収率で目的とするSi−H結合を有するシ
ランを得ることができた。これに対して、いずれか一方
の溶媒の存在下で反応を行った比較例1〜4、6及び7
の場合は、63〜74%の収率であり、溶媒を全く使用しな
かった比較例5の場合は40%、比較例8の場合は65%で
あり、実施例の場合に比べて大幅に収率が低下した。
すなわち、かかる結果から、Si−Hを結合を有するク
ロロシランとアルコールの反応に際して、溶媒を使用し
ない場合はもちろんのこと単に溶媒を存在させただけで
は、Si−H結合を有するアルコキシシランを充分な収率
で得ることができないことがわかる。
ロロシランとアルコールの反応に際して、溶媒を使用し
ない場合はもちろんのこと単に溶媒を存在させただけで
は、Si−H結合を有するアルコキシシランを充分な収率
で得ることができないことがわかる。
Claims (2)
- 【請求項1】一般式(I): (CH3)aHbSiCl4-(a+b) (I) (式中、aは0〜2の数を表わし、bは1〜3の数を表
し、a+bは4未満の数を表す) で示されるクロロシランと、 一般式(II): ROH (II) (式中、Rはアルキル基を表す) で示されるアルコールとを反応させることにより、 一般式(III): (CH3)aHbSi(OR)cCl4-(a+b+c) (III) (式中、a、b及びRは上記と同じ意味であり、cは1
〜3の数を表し、a+b+cは4以下の数を表す) で示されるアルコキシシランの製造方法において、 前記クロロシランとアルコールの反応を(a)目的とす
る前記一般式(III)で示されるアルコキシシランの沸
点より低い沸点を有し、その沸点差が4℃以上である不
活性の低沸点溶媒及び(b)前記目的とするアルコキシ
シランの沸点より高い沸点を有し、その沸点差が4℃以
上である不活性の高沸点溶媒、の共存下で行うことを特
徴とするアルコキシシランの製造方法。 - 【請求項2】前記一般式(II)で示されるROH中におい
て、Rがメチル基又はエチル基である特許請求の範囲第
1項記載の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62145378A JP2558284B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | アルコキシシランの製造方法 |
KR1019880005363A KR900003953B1 (ko) | 1987-06-12 | 1988-05-07 | 알콕시 실란의 제조방법 |
US07/199,562 US4851558A (en) | 1987-06-12 | 1988-05-27 | Process for producing alkoxysilanes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62145378A JP2558284B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | アルコキシシランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63310893A JPS63310893A (ja) | 1988-12-19 |
JP2558284B2 true JP2558284B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=15383851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62145378A Expired - Lifetime JP2558284B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | アルコキシシランの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JP2558284B2 (ja) |
KR (1) | KR900003953B1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5084588A (en) * | 1990-07-05 | 1992-01-28 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Reducing halide contamination in alkoxy silanes |
US5084589A (en) * | 1991-07-15 | 1992-01-28 | Dow Corning Corporation | Process for synthesis of methoxy substituted methylsilanes |
US5210254A (en) * | 1992-03-31 | 1993-05-11 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Acidic halide neutralization in alkoxysilanes |
US5189194A (en) * | 1992-07-06 | 1993-02-23 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of hydrido organooxysilanes |
US5493044A (en) * | 1994-10-20 | 1996-02-20 | Fmc Corporation | Process for preparing alkylsilyl or arylsilyl ethers |
US5596118A (en) * | 1994-11-29 | 1997-01-21 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Method for the preparation of organoxy-functional silanes |
BE1010603A3 (fr) * | 1995-09-08 | 1998-11-03 | Kaneka Corp | Procede de purification de composes du type silane. |
DE19755597A1 (de) * | 1997-12-15 | 1999-06-17 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen |
EP1985181A3 (en) * | 2000-06-06 | 2013-01-23 | Dow Corning Corporation | Preservative compositions for wood products |
US8721783B2 (en) * | 2000-06-06 | 2014-05-13 | Dow Corning Corporation | Compositions for treating materials and methods of treating same |
US7964031B2 (en) * | 2000-06-06 | 2011-06-21 | Dow Corning Corporation | Compositions for treating materials and methods of treating same |
US7192470B2 (en) | 2003-05-27 | 2007-03-20 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for materials and method of preserving same |
CN1293082C (zh) * | 2003-04-30 | 2007-01-03 | 樊中华 | 三甲氧基硅烷的工业化制备方法 |
US7191673B2 (en) * | 2003-08-11 | 2007-03-20 | Hathorn Corporation | Apparatus for inspecting a lateral conduit |
KR101015204B1 (ko) * | 2006-05-30 | 2011-02-18 | 넥스탑 주식회사 | 파력을 이용한 공기압축기 |
CN101646716B (zh) * | 2006-07-27 | 2012-07-18 | 陶氏康宁公司 | 制备硅氧烷树脂的方法 |
US20080276970A1 (en) * | 2007-05-09 | 2008-11-13 | John Christopher Cameron | Apparatus and method for treating materials with compositions |
US9157190B2 (en) | 2011-01-18 | 2015-10-13 | Petra International Holdings, Llc | Method for treating substrates with halosilanes |
CN104610335B (zh) * | 2015-01-27 | 2018-02-06 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种三甲氧基氢硅烷的工业化连续制备方法 |
CN105131028B (zh) * | 2015-09-06 | 2017-08-15 | 浙江衢州硅宝化工有限公司 | 一种甲基三乙氧基硅烷的制备方法 |
CN105111232B (zh) * | 2015-09-23 | 2018-03-30 | 浙江中天氟硅材料有限公司 | 一种甲基三乙氧基硅烷的制备工艺 |
CN105906661B (zh) * | 2016-05-19 | 2018-11-23 | 浙江中天氟硅材料有限公司 | 一种甲基三甲氧基硅烷的制备工艺 |
CN113956275B (zh) * | 2021-10-08 | 2023-10-27 | 浙江衢州硅宝化工有限公司 | 一种有机硅副产物制备烷氧基硅烷的方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2800017C2 (de) * | 1978-01-02 | 1983-05-26 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur Herstellung von Organoalkoxysilanen |
US4421926A (en) * | 1982-06-28 | 1983-12-20 | General Electric Company | Process for co-alkoxylation of halosilanes and separation of the resulting products |
DE3431839A1 (de) * | 1984-08-30 | 1986-03-06 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur herstellung von trialkylorganoxysilanen |
-
1987
- 1987-06-12 JP JP62145378A patent/JP2558284B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-05-07 KR KR1019880005363A patent/KR900003953B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-05-27 US US07/199,562 patent/US4851558A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR890000503A (ko) | 1989-03-15 |
KR900003953B1 (ko) | 1990-06-05 |
US4851558A (en) | 1989-07-25 |
JPS63310893A (ja) | 1988-12-19 |
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