JPH09157277A - アルコキシシラン化合物の製造方法 - Google Patents
アルコキシシラン化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH09157277A JPH09157277A JP31788895A JP31788895A JPH09157277A JP H09157277 A JPH09157277 A JP H09157277A JP 31788895 A JP31788895 A JP 31788895A JP 31788895 A JP31788895 A JP 31788895A JP H09157277 A JPH09157277 A JP H09157277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tri
- alkoxysilane
- reaction
- formula
- tertiary amine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
せ、高品質なアルコキシシラン化合物を容易に製造する
方法を提供する。 【解決手段】 クロロシラン化合物R1 nSiCl4-nと
アルコールR2OHとを、第3級アミンR3 3Nの存在下
で混合して反応液とし、この反応液を蒸留してアルコキ
シシラン化合物R1 nSi(OR2)4-nを得る。R1は一価
の有機基、アルコキシ基または水素原子であり、同一で
も異なっていても良い。R2は一価の有機基である。R3
は同一または異なった炭素数4以上のアルキル基であ
る。nは0〜3の整数である。
Description
ら高品質のアルコキシシラン化合物を容易に製造する方
法に関するものである。
いはカップリング剤には、アルコキシシラン化合物が有
用であることが知られている。このアルコキシシラン化
合物は、対応するクロロシラン化合物を第3級アミンの
存在下でアルコールと反応させて製造される。第3級ア
ミンには、トリエチルアミン、ピリジンが一般的に使用
される。
対する溶解性が低く、結晶性のトリエチルアミン塩酸塩
あるいはピリジン塩酸塩が大量に生成・析出し、攪拌性
が低下して均一な反応ができなくなる。これを防ぐには
大量の反応溶媒を使用すれば良いが、アルコキシシラン
化合物の生産性が低下してコスト高になる。
液を直接蒸留して目的物であるアルコキシシラン化合物
を単離することは困難である。アルコキシシラン化合物
を単離するためには、反応後、塩を濾過によって取り除
く工程、あるいは水を添加して塩を溶解してから水槽を
分離する工程を経た後、蒸留単離することが必要であっ
た。しかし、これらの操作は工程を長くするためコスト
的に不利である。
必要であり、濾過残渣へアルコキシシラン化合物が吸着
し、収率が低下する。また炉液中に溶解する塩が蒸留時
に昇華してアルコキシシラン化合物に混入し、品質が低
下することがあった。後者の方法では、エステルシラン
化合物が本質的に加水分解性を有するため、適応できる
場合が限られている。適応できる場合でも、水添加によ
って生産性が低下し、水分混入によってアルコキシシラ
ン化合物の品質が低下する。
解決するためなされたもので、クロロシラン化合物とア
ルコールとを反応させ、高品質なアルコキシシラン化合
物を容易に製造する方法を提供することを目的とする。
重ねた結果、クロロシランとアルコールとを反応させる
際に使用する第3級アミンの種類によっては、溶媒を使
用せず、また生成する塩を濾過や水添加・分液によって
除去することなく、容易に高品質のアルコキシシラン化
合物を得ることができるのを見いだし、本発明を完成さ
せた。
造方法は、下記式〔I〕 R1 nSiCl4-n 〔I〕 で表されるクロロシラン化合物と、下記式〔II〕 R2OH 〔II〕 で表されるアルコールとを、下記式〔III〕 R3 3N 〔III〕 で表される第3級アミンの存在下で反応させ、その反応
液を蒸留して下記式〔IV〕 R1 nSi(OR2)4-n 〔IV〕 で表されるアルコキシシラン化合物を得るものである。
るような反応を経て製造される。
機基、アルコキシ基または水素原子であり、nが2また
は3の場合には同一でも異なっても良い。一価の有機基
としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール
基が挙げられる。これらの基は炭素原子の一部が窒素原
子、酸素原子、ケイ素原子、硫黄原子で置換されていて
も良い。
には、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基
が挙げられる。R3は同一または異なった炭素数4以上
のアルキル基である。
は、具体的にテトラクロロシラン、トリクロロシラン、
メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、n
−プロピルトリクロロシラン、イソプロピルトリクロロ
シラン、n−ブチルトリクロロシラン、イソブチルトリ
クロロシラン、sec−ブチルトリクロロシラン、te
rt−ブチルトリクロロシラン、n−ヘキシルトリクロ
ロシラン、テキシルトリクロロシラン、シクロヘキシル
トリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチニル
トリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、フェニル
トリクロロシラン、ベンジルトリクロロシラン、3−ク
ロロプロピルトリクロロシラン、3,3,3−トリフル
オロプロピトリクロロシラン、3−メタクリロキシプロ
ピルトリクロロシラン、3−アクリロキシプロピルトリ
クロロシラン、2−シアノエチルトリクロロシラン、ジ
クロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロ
ロシラン、メチルプロピルジクロロシラン、メチル−t
ert−ブチルジクロロシラン、メチル−n−ヘキシル
ジクロロシラン、メチルテキシルジクロロシラン、シク
ロヘキシルメチルジクロロシラン、メチルビニルジクロ
ロシラン、アリルメチルジクロロシラン、メチルフェニ
ルジクロロシラン、2−シアノエチルメチルジクロロシ
ラン、メチル−イソプロポキシジクロロシラン、メチル
−tert−ブトキシジクロロシラン、ジ−n−プロピ
ルジクロロシラン、ジ−tert−ブチルジクロロシラ
ン、ジシクロペンチルジクロロシラン、ジシクロヘキシ
ルジクロロシラン、ジアリルジクロロシラン、ジフェニ
ルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、トリメチル
クロロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、t
ert−ブチルジメチルクロロシラン、ジメチルテキシ
ルクロロシラン、シクロヘキシルジメチルクロロシラ
ン、トリエチルクロロシラン、トリイソプロピルクロロ
シラン、トリシクロヘキシルクロロシラン、トリフェニ
ルクロロシラン、ジメチルエトキシクロロシランが挙げ
られる。
的にメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ
プロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、se
c−ブタノール、tert−ブタノール、シクロヘキサ
ノール、3,3,3−トリフルオロエタノール、アリル
アルコール、2−メトキシエタノール、フェノール、p
−クロロフェノールが挙げられる。
リ−n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルオクチルアミ
ン、トリ−n−ペンチルアミン、トリ−n−ヘキシルア
ミンおよびトリ−n−オクチルアミンから選ばれる少な
くとも1種であるのが好ましい。その中でも、工業的入
手が容易であること、および価格が安いことからトリ−
n−ブチルアミンが最適である。
反応させることが好ましいが、トルエン、キシレン、ヘ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセ
トニトリル等の非プロトン性溶媒を使用しても良い。反
応温度は任意であるが、0〜100℃が好ましい。
物としては、具体的にテトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−
n−ブトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチル
トリ−n−ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、n−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルト
リエトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、イ
ソブチルトリエトキシシラン、sec−ブチルトリイソ
プロポキシシラン、tert−ブチルトリメトキシシラ
ン、tert−ブチルトリエトキシシラン、n−ヘキシ
ルトリメトキシシラン、テキシルトリメトキシシラン、
テキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメト
キシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリ(2−メトキシメチ
ル)シラン、エチニルトリメトキシシラン、アリルトリ
メトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、3
−クロロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−ト
リフルオロプロピトリ(3,3,3−トリフルオロエト
キシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、2−シアノエチルトリメトキシシラン、2−シアノ
エチルトリエトキシシラン、ジエトキシシラン、メチル
ジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチ
ルジイソプロポキシシラン、ジメチルジ−n−ブトキシ
シラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチル−t
ert−ブチルジメトキシシラン、メチル−tert−
ブチルジエトキシシラン、メチル−n−ヘキシルジメト
キシシラン、メチルテキシルジメトキシシラン、シクロ
ヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチ
ルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、
アリルメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメト
キシシラン、2−シアノエチルメチルジメトキシシラ
ン、メチル−イソプロポキシジメトキシシラン、メチル
−tert−ブトキシジメトキシシラン、ジ−n−プロ
ピルジメトキシシラン、ジ−tert−ブチルジメトキ
シシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ジシク
ロヘキシルジメトキシシラン、ジアリルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキ
シシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシ
シラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキ
シシラン、トリメチルシクロヘキシルオキシシラン、ト
リメチルフェノキシシラン、イソプロピルジメチルエト
キシシラン、tert−ブチルジメチルメトキシシラ
ン、tert−ブチルジメチルエトキシシラン、ter
t−ブチルジメチルシクロヘキシルオキシシラン、te
rt−ブチルジメチルフェノキシシラン、ジメチルテキ
シルメトキシシラン、ジメチルテキシルエトキシシラ
ン、ジメチルテキシルシクロヘキシルオキシシラン、ジ
メチルテキシルフェノキシシラン、シクロヘキシルジメ
チルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリ
エチルエトキシシラン、トリエチルシクロヘキシルオキ
シシラン、トリエチルフェノキシシラン、トリイソプロ
ピルメトキシシラン、トリシクロヘキシルメトキシシラ
ン、トリフェニルメトキシシランが挙げられる。
を回収した後、水酸化ナトリウム等を蒸留釜に添加する
ことによって、残存する第3級アミンを容易に回収する
ことができる。
アルコールとを、炭素数4以上のアルキル基を有する第
3級アミンの存在下で反応させ、その反応液を直接蒸留
して目的物質であるアルコキシシラン化合物を単離して
いる。本案で使用している第3級アミンは、その塩の有
機化合物に対する溶解性が高く、また結晶性が低いた
め、反応系にほとんど析出しない。さらに昇華性が小さ
いので、蒸留時に留分に昇華混入することがない。従っ
て、無溶媒下でも攪拌性が良く、濾過等によって反応液
から塩を除去する必要がないので、工業的に効率良く高
品質のアルコキシシラン化合物を製造できる。
500mlフラスコ中に、トリ−n−ブチルアミン18
9.0g(1.02mol)およびメタノール32.3
g(1.01mol)を仕込んだ。滴下ロートからトリ
メチルクロロシラン108.6g(1.0mol)を5
0〜60℃で2時間かけて攪拌しながら滴下した。攪拌
性は良好であり、反応液に塩の析出はみられなかった。
この反応液を蒸留し、57〜58℃の留分を分取するこ
とによってトリメチルメトキシシラン97.8gを得
た。収率は94%であった。蒸留装置への塩の昇華付着
はみられず、留分へ塩が混入することもなく、釜内残存
物も蒸留終了時まで液状であった。
46.6g(1.01mol)に変更し、その他の条件
を実施例1と同一にして反応を行った。この反応液を蒸
留し、75〜76℃の留分を分取することによってトリ
メチルエトキシシラン108.8gを得た。収率は92
%であった。反応時の攪拌性は良好で、蒸留時の塩の昇
華も見られなかった。
l)をトリ−n−オクチルアミン360.8g(1.0
2mol)に変更し、その他の条件を実施例1と同一に
して反応を行った。この反応液を蒸留し、57〜58℃
の留分を分取することによってトリメチルメトキシシラ
ン96.1gを得た。収率は92%であった。反応時の
攪拌性は良好で、蒸留時の塩の昇華も見られなかった。
ノール60.7g(101mol)、トリメチルクロロ
シランをトリエチルクロロシラン150.7g(1.0
mol)に変更し、その他の条件を実施例1と同一にし
て反応を行った。この反応液を減圧蒸留し、84〜86
℃/50mmHgの留分を分取することによってトリエ
チルイソプロポキシシラン165.7gを得た。収率は
95%であった。反応時の攪拌性は良好で、蒸留時の塩
の昇華も見られなかった。
l)をトリエチルアミン103.2g(1.02mo
l)に変更し、その他の条件を実施例1と同一にして反
応を行った。滴下途中で大量の塩が析出して攪拌不能と
なったが、そのまま滴下を最後まで続けた。この反応液
を蒸留したが塩の昇華が激しくて蒸留装置の閉塞が起こ
った。釜内残存物も固化しており、蒸留を続けることは
困難であった。
l)をトリ−n−プロピルアミン146.2g(1.0
2mol)に変更し、その他の条件を実施例1と同一に
して反応を行った。蒸留は、比較例1と同様、困難なも
のとなった。
l)をピリジン80.7g(1.02mol)に変更
し、その他の条件を実施例1と同一にして反応を行っ
た。蒸留は、比較例1と同様、困難であった。
500mlフラスコ中に、トリ−n−ブチルアミン18
9.0g(0.92mol)およびメタノール29.1
g(0.91mol)を仕込んだ。滴下ロートからアリ
ルトリクロロシラン52.6g(0.3mol)を50
〜60℃で2時間かけて攪拌しながら滴下した。攪拌性
は良好であり、反応液中に塩の析出は見られなかった。
この反応液を減圧蒸留し、83〜85℃/100mmH
gの留分を分取することによりアリルトリメトキシシラ
ン45.3gを得た。収率は93%であった。蒸留装置
への塩の昇華付着は見られず、留分への塩の混入もな
く、釜内残存物も蒸留終了時まで液状であった。
41.9g(0.91mol)に変更し、その他の条件
を実施例5と同一にして反応を行った。この反応液を減
圧蒸留し、77〜80℃/20mmHgの留分を分取す
ることによりアリルトリエトキシシラン55.2gを得
た。収率は90%であった。反応時の攪拌性は良好であ
り、蒸留時の塩の昇華も見られなかった。
テキシルトリクロロシラン65.9g(0.3mol)
に変更し、その他の条件を実施例5と同一にして反応を
行った。この反応液を減圧蒸留し、84〜85℃/27
mmHgの留分を分取することによりテキシルトリメト
キシシラン57.6gを得た。収率は93%であった。
反応時の攪拌性は良好で蒸留時の塩の昇華も見られなか
った。
500mlフラスコ中にトリ−n−ブチルアミン18
9.0g(1.02mol)及びn−ブタノール74.
8g(1.01mol)を仕込んだ。滴下ロートからジ
メチルジクロロシラン64.5g(0.5mol)を5
0〜60℃で2時間かけて攪拌しながら滴下した。攪拌
性は良好であり、反応液中に塩の析出は見られなかっ
た。この反応液を減圧蒸留し、89〜91℃/23mm
Hgの留分を分取することによりジメチルジ−n−ブト
キシシラン94.0gを得た。収率は92%であった。
蒸留装置への塩の昇華付着は見られず、留分への塩の混
入もなく、釜内残存物も蒸留終了時まで液状であった。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記式〔I〕 R1 nSiCl4-n 〔I〕 (式中のR1は同一または異なった一価の有機基または
アルコキシ基または水素原子、nは0〜3の整数)で表
されるクロロシラン化合物と、下記式〔II〕 R2OH 〔II〕 (式中のR2は一価の有機基)で表されるアルコールと
を、下記式〔III〕 R3 3N 〔III〕 (式中のR3は同一または異なった炭素数4以上のアル
キル基)で表される第3級アミンの存在下で反応させ、
その反応液を蒸留することを特徴とする下記式〔IV〕 R1 nSi(OR2)4-n 〔IV〕 で表されるアルコキシシラン化合物の製造方法。 - 【請求項2】 前記第3級アミンがトリ−n−ブチルア
ミン、ジ−n−ブチルオクチルアミン、トリ−n−ペン
チルアミン、トリ−n−ヘキシルアミンおよびトリ−n
−オクチルアミンから選ばれる少なくとも1種であるこ
とを特徴とする請求項1に記載のアルコキシシランの製
造方法。 - 【請求項3】 前記クロロシラン化合物と前記アルコー
ルとを無溶媒下で反応させることを特徴とする請求項1
または2に記載のアルコキシシランの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07317888A JP3128193B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | アルコキシシラン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07317888A JP3128193B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | アルコキシシラン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09157277A true JPH09157277A (ja) | 1997-06-17 |
JP3128193B2 JP3128193B2 (ja) | 2001-01-29 |
Family
ID=18093180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07317888A Expired - Fee Related JP3128193B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | アルコキシシラン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3128193B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100530921B1 (ko) * | 2002-09-17 | 2005-11-23 | 애경유화 주식회사 | 고순도 알콕시실란의 제조방법 |
KR100573784B1 (ko) * | 2002-11-06 | 2006-04-25 | 애경유화 주식회사 | 고순도 알킬알콕시실란의 제조방법 |
KR100744834B1 (ko) * | 2006-05-02 | 2007-08-01 | 한국과학기술연구원 | 함불소알콕시실란 유도체의 제조방법 |
KR100778032B1 (ko) * | 2006-05-29 | 2007-11-28 | 경희대학교 산학협력단 | 함불소알콕시실란 유도체의 제조방법 |
JP2010105918A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Jsr Corp | アルコキシシランの製造方法 |
JP2016138086A (ja) * | 2015-01-22 | 2016-08-04 | 東ソー株式会社 | 第3級アルキルシラン及び第3級アルキルアルコキシシランの製造方法 |
CN106279244A (zh) * | 2016-08-12 | 2017-01-04 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种甲氧基三甲基硅烷醇解工艺 |
US10704191B2 (en) | 2014-11-12 | 2020-07-07 | University Of Houston System | Soil-resistant, stain-resistant coatings and methods of applying on textile or other flexible materials |
US11142867B2 (en) | 2014-11-12 | 2021-10-12 | University Of Houston System | Soil-resistant, stain-resistant fluorine-free coatings and methods of applying on materials |
US11345821B2 (en) | 2014-11-12 | 2022-05-31 | University Of Houston System | Weather-resistant, fungal-resistant, and stain-resistant coatings and methods of applying on wood, masonry, or other porous materials |
-
1995
- 1995-12-06 JP JP07317888A patent/JP3128193B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100530921B1 (ko) * | 2002-09-17 | 2005-11-23 | 애경유화 주식회사 | 고순도 알콕시실란의 제조방법 |
KR100573784B1 (ko) * | 2002-11-06 | 2006-04-25 | 애경유화 주식회사 | 고순도 알킬알콕시실란의 제조방법 |
KR100744834B1 (ko) * | 2006-05-02 | 2007-08-01 | 한국과학기술연구원 | 함불소알콕시실란 유도체의 제조방법 |
KR100778032B1 (ko) * | 2006-05-29 | 2007-11-28 | 경희대학교 산학협력단 | 함불소알콕시실란 유도체의 제조방법 |
JP2010105918A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Jsr Corp | アルコキシシランの製造方法 |
US10704191B2 (en) | 2014-11-12 | 2020-07-07 | University Of Houston System | Soil-resistant, stain-resistant coatings and methods of applying on textile or other flexible materials |
US11142867B2 (en) | 2014-11-12 | 2021-10-12 | University Of Houston System | Soil-resistant, stain-resistant fluorine-free coatings and methods of applying on materials |
US11345821B2 (en) | 2014-11-12 | 2022-05-31 | University Of Houston System | Weather-resistant, fungal-resistant, and stain-resistant coatings and methods of applying on wood, masonry, or other porous materials |
JP2016138086A (ja) * | 2015-01-22 | 2016-08-04 | 東ソー株式会社 | 第3級アルキルシラン及び第3級アルキルアルコキシシランの製造方法 |
CN106279244A (zh) * | 2016-08-12 | 2017-01-04 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种甲氧基三甲基硅烷醇解工艺 |
CN106279244B (zh) * | 2016-08-12 | 2019-04-16 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种甲氧基三甲基硅烷醇解工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3128193B2 (ja) | 2001-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4851558A (en) | Process for producing alkoxysilanes | |
JPH0881478A (ja) | 塩化物貧有もしくは塩化物不含のアミノ官能性オルガノシランおよびその製造法 | |
JPH0586074A (ja) | アルコキシ−オキシイミノシランの製造法 | |
JP3128193B2 (ja) | アルコキシシラン化合物の製造方法 | |
KR20150115642A (ko) | 실라잔 화합물의 제조 방법 | |
JPH06345781A (ja) | オルガノアルコキシシラン化合物の製造方法 | |
JPH0331290A (ja) | 第3級炭化水素基含有ハロゲン化シランの製造方法 | |
JPH10237177A (ja) | ネットワークポリシランの製造方法 | |
JP2002179687A (ja) | オルガノアルコキシシランの製造方法 | |
JP6906424B2 (ja) | アミノシラン類の製造方法 | |
US7459577B2 (en) | Production processes for triorganomonoalkoxysilanes and triorganomonochlorosilanes | |
JP2013170123A (ja) | 無水条件におけるシラノールの製造方法 | |
US5440063A (en) | Concurrent preparation of dimethylchlorosilane and triorganochlorosilane | |
JPH10139784A (ja) | ビニルシリル基含有ケイ素化合物の製造方法 | |
JP2867118B2 (ja) | ケイ素化合物の製造方法 | |
JPH08333374A (ja) | ハロゲン原子の結合したケイ素化合物の製造方法 | |
JP3915875B2 (ja) | N−置換−3−シリルプロピルアミン類及びその誘導体の製造方法 | |
JP4178369B2 (ja) | シリル(メタ)アクリレート化合物の製造方法 | |
JPH0757757B2 (ja) | オキシムシランの着色防止方法 | |
JP2907061B2 (ja) | 有機けい素化合物の製造方法 | |
JPS6396192A (ja) | アルコキシシラン類の製造方法 | |
JP2647239B2 (ja) | γ―メタクリロキシプロピルシラン化合物の製造方法 | |
JP3856087B2 (ja) | 3―アミノプロピルモノオルガノジオルガノオキシシランの製造方法 | |
JPH11315082A (ja) | 嵩高い炭化水素基を有するジオルガノジアルコキシシランの製造方法 | |
JP3175548B2 (ja) | 水素含有環状シロキサンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131110 Year of fee payment: 13 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |