JP2907061B2 - 有機けい素化合物の製造方法 - Google Patents
有機けい素化合物の製造方法Info
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- JP2907061B2 JP2907061B2 JP10466795A JP10466795A JP2907061B2 JP 2907061 B2 JP2907061 B2 JP 2907061B2 JP 10466795 A JP10466795 A JP 10466795A JP 10466795 A JP10466795 A JP 10466795A JP 2907061 B2 JP2907061 B2 JP 2907061B2
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Description
【０００１】本発明は、副生成物が少なく、このため単
離精製の容易な下記一般式（３） Ｒ1 2+2m-nＳｉmＸn （３） （式中、Ｒ1は水素原子、非置換又は置換の炭素数１〜
１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ
基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基、Ｘはハロ
ゲン原子を示し、ｎは１以上の整数、ｍは２以上の整数
であり、２＋２ｍ−ｎ≧０である。）で示される有機け
い素化合物の新規な製造方法に関する。
離精製の容易な下記一般式（３） Ｒ1 2+2m-nＳｉmＸn （３） （式中、Ｒ1は水素原子、非置換又は置換の炭素数１〜
１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ
基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基、Ｘはハロ
ゲン原子を示し、ｎは１以上の整数、ｍは２以上の整数
であり、２＋２ｍ−ｎ≧０である。）で示される有機け
い素化合物の新規な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、有機けい素化合物を合成する方法としては、通常ク
ロロシランやアルコキシシランに対して、グリニャール
試薬、有機リチウム、有機アルミニウム等の金属試薬や
各種アルコール類、フェノール類等の試薬を用いて反応
させる方法が知られているが、これらの試薬を用いても
クロロシランやアルコキシシランに所望の有機基を選択
的に導入し得ない場合が多い。
り、有機けい素化合物を合成する方法としては、通常ク
ロロシランやアルコキシシランに対して、グリニャール
試薬、有機リチウム、有機アルミニウム等の金属試薬や
各種アルコール類、フェノール類等の試薬を用いて反応
させる方法が知られているが、これらの試薬を用いても
クロロシランやアルコキシシランに所望の有機基を選択
的に導入し得ない場合が多い。
【０００３】特に、上記一般式（３）で示されるけい素
原子が同一分子内に２個以上含まれるジシラン以上のポ
リシランを容易に得ることは難しく、かかるポリシラン
を製造する場合は、ジアルキルアミン等を用いて予めけ
い素原子をアリール基やジアルキルアミノ基により保護
し、上記有機金属試薬を作用させた後にアリール基やジ
アルキルアミノ基をハロゲン化水素ガスやハロゲン化ア
セチル等の酸ハロゲン化物でハロゲン化することが行わ
れている。しかしながら、この方法では、アミンの塩が
生じたり、反応性の高い副生成物が生じてしまい、その
除去が煩雑であり、また副反応を起こしたりするため、
収率も低く、有機基導入の選択性も低いものであった。
原子が同一分子内に２個以上含まれるジシラン以上のポ
リシランを容易に得ることは難しく、かかるポリシラン
を製造する場合は、ジアルキルアミン等を用いて予めけ
い素原子をアリール基やジアルキルアミノ基により保護
し、上記有機金属試薬を作用させた後にアリール基やジ
アルキルアミノ基をハロゲン化水素ガスやハロゲン化ア
セチル等の酸ハロゲン化物でハロゲン化することが行わ
れている。しかしながら、この方法では、アミンの塩が
生じたり、反応性の高い副生成物が生じてしまい、その
除去が煩雑であり、また副反応を起こしたりするため、
収率も低く、有機基導入の選択性も低いものであった。
【０００４】一方、近年において、有機けい素化学や触
媒化学の分野が急速に発展するにつれて、けい素原子上
に異種の置換基を導入する手法が盛んに試みられ、より
簡便で高収率かつ高純度である上記式（３）で示される
ような官能性有機けい素化合物を得る方法が望まれてい
た。
媒化学の分野が急速に発展するにつれて、けい素原子上
に異種の置換基を導入する手法が盛んに試みられ、より
簡便で高収率かつ高純度である上記式（３）で示される
ような官能性有機けい素化合物を得る方法が望まれてい
た。
【０００５】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、上記式（３）の有機けい素化合物を副生成物が少な
く、高収率でしかも選択的に製造する方法を提供するこ
とを目的とする。
で、上記式（３）の有機けい素化合物を副生成物が少な
く、高収率でしかも選択的に製造する方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、下記一
般式（１）で示されるアミノシラン化合物と下記一般式
（２）で示されるハロゲノシラン化合物とを使用し、ア
ミノシラン化合物のアミノ基とハロゲノシラン化合物の
ハロゲンとを交換反応（再分配反応）させることによ
り、下記一般式（３）で示される有機けい素化合物を、
副生成物が少なく、高収率でしかも選択的に製造するこ
とができること、この反応はけい素―けい素反応に対し
て不活性であり、従って、ジシラン、トリシランおよび
それ以上のポリシランにおいて非常に有用な製造方法で
あることを知見し、本発明をなすに至った。 Ｒ1 2+2m-nＳｉm（ＮＲ2 2）n ＋ Ｒ3 2+2p-qＳｉpＸq （１） （２） ―――――――→ Ｒ1 2+2m-nＳｉmＸn （３） （式中、Ｒ1は水素原子、非置換又は置換の炭素数１〜
１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ
基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基、Ｒ2は非
置換又は置換の炭素数１〜１８の一価炭化水素基、炭素
数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１８のアリール
オキシ基、ピペリジル基、ピロリル基又はモリホリル
基、Ｒ3は水素原子又は非置換又は置換の炭素数１〜１
８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、
又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基、Ｘはハロゲン
原子を示し、ｎは１以上の整数、ｍは２以上の整数であ
り、２＋２ｍ−ｎ≧０であり、ｐは１又は２、ｑは１〜
６の整数であり、２＋２ｐ−ｑ≧０である。）
記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、下記一
般式（１）で示されるアミノシラン化合物と下記一般式
（２）で示されるハロゲノシラン化合物とを使用し、ア
ミノシラン化合物のアミノ基とハロゲノシラン化合物の
ハロゲンとを交換反応（再分配反応）させることによ
り、下記一般式（３）で示される有機けい素化合物を、
副生成物が少なく、高収率でしかも選択的に製造するこ
とができること、この反応はけい素―けい素反応に対し
て不活性であり、従って、ジシラン、トリシランおよび
それ以上のポリシランにおいて非常に有用な製造方法で
あることを知見し、本発明をなすに至った。 Ｒ1 2+2m-nＳｉm（ＮＲ2 2）n ＋ Ｒ3 2+2p-qＳｉpＸq （１） （２） ―――――――→ Ｒ1 2+2m-nＳｉmＸn （３） （式中、Ｒ1は水素原子、非置換又は置換の炭素数１〜
１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ
基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基、Ｒ2は非
置換又は置換の炭素数１〜１８の一価炭化水素基、炭素
数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１８のアリール
オキシ基、ピペリジル基、ピロリル基又はモリホリル
基、Ｒ3は水素原子又は非置換又は置換の炭素数１〜１
８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、
又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基、Ｘはハロゲン
原子を示し、ｎは１以上の整数、ｍは２以上の整数であ
り、２＋２ｍ−ｎ≧０であり、ｐは１又は２、ｑは１〜
６の整数であり、２＋２ｐ−ｑ≧０である。）
【０００７】従って、本発明は、上記式（１）のアミノ
シラン化合物と式（２）のハロゲノシラン化合物とを反
応させることを特徴とする式（３）の有機けい素化合物
の製造方法を提供する。
シラン化合物と式（２）のハロゲノシラン化合物とを反
応させることを特徴とする式（３）の有機けい素化合物
の製造方法を提供する。
【０００８】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明の有機けい素化合物の製造方法は、下記一般式（１）
のアミノシラン化合物と一般式（２）のハロゲノシラン
化合物とを出発物質として使用する。 Ｒ1 2+2m-n Ｓｉm （ＮＲ2 2）n （１） Ｒ3 2+2p-q Ｓｉp Ｘq （２）
明の有機けい素化合物の製造方法は、下記一般式（１）
のアミノシラン化合物と一般式（２）のハロゲノシラン
化合物とを出発物質として使用する。 Ｒ1 2+2m-n Ｓｉm （ＮＲ2 2）n （１） Ｒ3 2+2p-q Ｓｉp Ｘq （２）
【０００９】ここで、Ｒ1は水素原子、非置換又は置換
の炭素数１〜１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０の
アルコキシ基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ
基、Ｒ2は非置換又は置換の炭素数１〜１８の一価炭化
水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１
８のアリールオキシ基、ピペリジル基、ピロリル基又は
モリホリル基、Ｒ3は水素原子又は非置換又は置換の炭
素数１〜１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアル
コキシ基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基の有
機基を示すが、特に非置換又は置換の一価炭化水素基は
炭素数１〜１０、アルコキシ基としては炭素数１〜７、
アリールオキシ基としては炭素数６〜１０のものが挙げ
られる。なお、非置換又は置換の一価炭化水素基として
は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、アラルキル基などや、これら
の基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、ジアル
キルアミノ基、アルコキシ基などで置換した基を挙げる
ことができる。Ｒ1〜Ｒ3として具体的には、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、オクタデシル基、フェニル
基、トリル基、アニシル基、（ジメチルアミノ）フェニ
ル基、ビニル基、エチニル基、３，３，３−トリフルオ
ロプロピル基、クロロメチル基、３−クロロプロピル
基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基等が挙げら
れる。また特に、Ｒ2としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ベンジル基、フェニル基の他に
ピペリジル基、ピロリル基、モリホリル基等が挙げられ
るが、一般的にはメチル基又はエチル基の置換基が好適
に使用される。
の炭素数１〜１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０の
アルコキシ基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ
基、Ｒ2は非置換又は置換の炭素数１〜１８の一価炭化
水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１
８のアリールオキシ基、ピペリジル基、ピロリル基又は
モリホリル基、Ｒ3は水素原子又は非置換又は置換の炭
素数１〜１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアル
コキシ基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基の有
機基を示すが、特に非置換又は置換の一価炭化水素基は
炭素数１〜１０、アルコキシ基としては炭素数１〜７、
アリールオキシ基としては炭素数６〜１０のものが挙げ
られる。なお、非置換又は置換の一価炭化水素基として
は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、アラルキル基などや、これら
の基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、ジアル
キルアミノ基、アルコキシ基などで置換した基を挙げる
ことができる。Ｒ1〜Ｒ3として具体的には、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、オクタデシル基、フェニル
基、トリル基、アニシル基、（ジメチルアミノ）フェニ
ル基、ビニル基、エチニル基、３，３，３−トリフルオ
ロプロピル基、クロロメチル基、３−クロロプロピル
基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基等が挙げら
れる。また特に、Ｒ2としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ベンジル基、フェニル基の他に
ピペリジル基、ピロリル基、モリホリル基等が挙げられ
るが、一般的にはメチル基又はエチル基の置換基が好適
に使用される。
【００１０】また、Ｘはハロゲン原子であり、特に塩素
又は臭素であることが好ましい。更に、ｎは１以上、好
ましくは１〜１０００、より好ましくは１〜１００の整
数、ｍは２以上、好ましくは２〜１０００、より好まし
くは２〜５０の整数である。ｐは１又は２、ｑは１〜６
の整数であり、２＋２ｐ−ｑは０以上、好ましくは１〜
３である。
又は臭素であることが好ましい。更に、ｎは１以上、好
ましくは１〜１０００、より好ましくは１〜１００の整
数、ｍは２以上、好ましくは２〜１０００、より好まし
くは２〜５０の整数である。ｐは１又は２、ｑは１〜６
の整数であり、２＋２ｐ−ｑは０以上、好ましくは１〜
３である。
【００１１】本発明において、上記アミノシラン化合物
はアミノ基が直接けい素原子に結合したものであり、こ
のようなものであればジシラン、トリシラン等のいずれ
でもよく、また鎖状、環状の別を問わない。
はアミノ基が直接けい素原子に結合したものであり、こ
のようなものであればジシラン、トリシラン等のいずれ
でもよく、また鎖状、環状の別を問わない。
【００１２】これらのアミノシラン類化合物としては、
例えば、１−ジエチルアミノ−１，１−ジフェニルトリ
メチルジシラン、１，１−ビス（ジエチルアミノ）−１
−フェニルトリメチルジシラン、１，２−ビス（ジエチ
ルアミノ）−１，２−ジフェニルジメチルジシラン、
１，２−ビス（ジメチルアミノ）−１，２−ジフェニル
ジメチルジシラン、１−ジエチルアミノ−１，１，２−
トリフェニルジメチルジシラン、１，１−ビス（ジエチ
ルアミノ）−１，２−ジフェニルジメチルジシラン、
１，２−ビス（ジエチルアミノ）テトラメチルジシラ
ン、１，１−ビス（ジエチルアミノ）テトラメチルジシ
ラン、１，１−ビス（ジエチルアミノ）−１−フェニル
ペンタメチルトリシラン、１，１−ビス（ジエチルアミ
ノ）−１，３−フェニルテトラメチルトリシラン、１，
３−ビス（ジエチルアミノ）−１，３−フェニルテトラ
メチルトリシランや更には一部のけい素原子がジアルキ
ルアミノ基で置換されたポリシラン類を挙げることもで
きる。
例えば、１−ジエチルアミノ−１，１−ジフェニルトリ
メチルジシラン、１，１−ビス（ジエチルアミノ）−１
−フェニルトリメチルジシラン、１，２−ビス（ジエチ
ルアミノ）−１，２−ジフェニルジメチルジシラン、
１，２−ビス（ジメチルアミノ）−１，２−ジフェニル
ジメチルジシラン、１−ジエチルアミノ−１，１，２−
トリフェニルジメチルジシラン、１，１−ビス（ジエチ
ルアミノ）−１，２−ジフェニルジメチルジシラン、
１，２−ビス（ジエチルアミノ）テトラメチルジシラ
ン、１，１−ビス（ジエチルアミノ）テトラメチルジシ
ラン、１，１−ビス（ジエチルアミノ）−１−フェニル
ペンタメチルトリシラン、１，１−ビス（ジエチルアミ
ノ）−１，３−フェニルテトラメチルトリシラン、１，
３−ビス（ジエチルアミノ）−１，３−フェニルテトラ
メチルトリシランや更には一部のけい素原子がジアルキ
ルアミノ基で置換されたポリシラン類を挙げることもで
きる。
【００１３】一方、ハロゲノシラン化合物としては、エ
チルトリクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、フェ
ニルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、トリ
クロロシラン、トリメチルブロモシラン等が挙げられる
が、特に工業的に製造が容易な四塩化けい素或いはメチ
ルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメ
チルクロロシランや、これらの生産の副生成物である
１，２−ジメチルテトラクロロジシラン、１，１，２−
トリメチルトリクロロジシランを一般的に用いることが
できる。
チルトリクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、フェ
ニルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、トリ
クロロシラン、トリメチルブロモシラン等が挙げられる
が、特に工業的に製造が容易な四塩化けい素或いはメチ
ルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメ
チルクロロシランや、これらの生産の副生成物である
１，２−ジメチルテトラクロロジシラン、１，１，２−
トリメチルトリクロロジシランを一般的に用いることが
できる。
【００１４】本発明においては、上記アミノシラン化合
物とハロゲノシラン化合物とを反応させて、下記式
（３） Ｒ1 2+2m-n Ｓｉm Ｘn （３） （Ｒ1 ，Ｘ，ｎ，ｍは上記と同様の意味を示す。）で示
される有機けい素化合物を製造するものであるが、この
場合、式（１）のアミノシラン化合物のアミノ基と式
（１）のハロゲノシラン化合物のハロゲンとの量がモル
比で１：１又はハロゲンが過剰になるように反応させる
ことが好ましい。これにより、例えば沸点の差の大きな
両化合物を用い、ハロゲンを過剰にすれば、不要となる
アミノシランを蒸留によって分離することにより、容易
に目的物である有機けい素化合物を高純度、高収率で得
ることができるものである。
物とハロゲノシラン化合物とを反応させて、下記式
（３） Ｒ1 2+2m-n Ｓｉm Ｘn （３） （Ｒ1 ，Ｘ，ｎ，ｍは上記と同様の意味を示す。）で示
される有機けい素化合物を製造するものであるが、この
場合、式（１）のアミノシラン化合物のアミノ基と式
（１）のハロゲノシラン化合物のハロゲンとの量がモル
比で１：１又はハロゲンが過剰になるように反応させる
ことが好ましい。これにより、例えば沸点の差の大きな
両化合物を用い、ハロゲンを過剰にすれば、不要となる
アミノシランを蒸留によって分離することにより、容易
に目的物である有機けい素化合物を高純度、高収率で得
ることができるものである。
【００１５】反応温度は、対象となる原料のアミノ基又
はハロゲンの数等によって異なるが、０〜２００℃、よ
り好ましくは室温〜１５０℃で、１０分以上、より好ま
しくは１〜１０時間程度で行うことがよい。
はハロゲンの数等によって異なるが、０〜２００℃、よ
り好ましくは室温〜１５０℃で、１０分以上、より好ま
しくは１〜１０時間程度で行うことがよい。
【００１６】また、本反応は、無溶媒で容易に進行する
ので、溶媒は必ずしも必要はないが、温度調整や相溶性
の向上のために炭化水素やエーテル系の溶媒を用いるこ
ともできる。ただし、アミノ基やハロゲノ基と反応する
ようなアルコール等のプロトン性溶媒やジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドのような強い極性溶媒は
生成物の分解を促進するおそれがあるので避けた方がよ
い。
ので、溶媒は必ずしも必要はないが、温度調整や相溶性
の向上のために炭化水素やエーテル系の溶媒を用いるこ
ともできる。ただし、アミノ基やハロゲノ基と反応する
ようなアルコール等のプロトン性溶媒やジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドのような強い極性溶媒は
生成物の分解を促進するおそれがあるので避けた方がよ
い。
【００１７】本発明では反応が定量的に進行し、また副
生するアミノ（ハロゲノ）シラン類を蒸留によって除去
するだけで目的とする化合物を得ることができるので面
倒な操作を必要とせず、すぐに次の段階の反応に移行で
きる。さらにはその間容器の入れ替え等も不要であり、
目的物の損失も少ない。従ってこの方法を用いることに
より、ポリシランという、比較的反応しやすい結合を有
する化合物のけい素原子上へのハロゲン基の導入が極め
て容易になったものである。
生するアミノ（ハロゲノ）シラン類を蒸留によって除去
するだけで目的とする化合物を得ることができるので面
倒な操作を必要とせず、すぐに次の段階の反応に移行で
きる。さらにはその間容器の入れ替え等も不要であり、
目的物の損失も少ない。従ってこの方法を用いることに
より、ポリシランという、比較的反応しやすい結合を有
する化合物のけい素原子上へのハロゲン基の導入が極め
て容易になったものである。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、上記式（３）の有機け
い素化合物を副生成物が少なく、高純度かつ高収率で容
易に製造できると共に、その精製も容易であり、操作的
にも簡便なものである。
い素化合物を副生成物が少なく、高純度かつ高収率で容
易に製造できると共に、その精製も容易であり、操作的
にも簡便なものである。
【００１９】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明を説明するが、
本発明は下記実施例に制限されるものではない。
本発明は下記実施例に制限されるものではない。
【００２０】［実施例１］還流冷却器、滴下ロート及び
マグネチックスターラーを取り付けた３０ｍｌ三つ口フ
ラスコに１，１−ビス（ジエチルアミノ）−１−フェニ
ルトリメチルジシラン９．７ｇ（０．０３モル）を入れ
た。次に、氷冷下に四塩化ケイ素１７．０ｇ（０．１０
モル）を滴下した。更に、発熱がおさまった後に反応系
を１時間、１２０℃に加熱した。そのまま蒸留（沸点７
２〜７５℃／１ｍｍＨｇ）することによって無色透明の
液体を得た。このものを核磁気共鳴スペクトル、その他
で同定したところ、１，１−ジクロロ−１−フェニルト
リメチルジシラン（６．３ｇ、収率８４％）であった。
マグネチックスターラーを取り付けた３０ｍｌ三つ口フ
ラスコに１，１−ビス（ジエチルアミノ）−１−フェニ
ルトリメチルジシラン９．７ｇ（０．０３モル）を入れ
た。次に、氷冷下に四塩化ケイ素１７．０ｇ（０．１０
モル）を滴下した。更に、発熱がおさまった後に反応系
を１時間、１２０℃に加熱した。そのまま蒸留（沸点７
２〜７５℃／１ｍｍＨｇ）することによって無色透明の
液体を得た。このものを核磁気共鳴スペクトル、その他
で同定したところ、１，１−ジクロロ−１−フェニルト
リメチルジシラン（６．３ｇ、収率８４％）であった。
【００２１】［実施例２］実施例１と同様の反応容器を
用い、１，１−ビス（ジエチルアミノ）−１，３−ジフ
ェニルテトラメチルトリシラン１１．６ｇ（０．０３モ
ル）を入れた。氷冷下にメチルトリクロロシラン１８ｇ
（０．１２モル）を滴下した。次に、３時間、１２０℃
の加熱の後に蒸留し、１，１−ジクロロ−１，３−ジフ
ェニルテトラメチルトリシラン８．９ｇ（収率８０％）
を得た。
用い、１，１−ビス（ジエチルアミノ）−１，３−ジフ
ェニルテトラメチルトリシラン１１．６ｇ（０．０３モ
ル）を入れた。氷冷下にメチルトリクロロシラン１８ｇ
（０．１２モル）を滴下した。次に、３時間、１２０℃
の加熱の後に蒸留し、１，１−ジクロロ−１，３−ジフ
ェニルテトラメチルトリシラン８．９ｇ（収率８０％）
を得た。
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式（１） Ｒ1 2+2m-nＳｉm（ＮＲ2 2）n （１） （式中、Ｒ1は水素原子、非置換又は置換の炭素数１〜
１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ
基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基、Ｒ2は非
置換又は置換の炭素数１〜１８の一価炭化水素基、炭素
数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１８のアリール
オキシ基、ピペリジル基、ピロリル基又はモリホリル基
を示し、ｎは１以上の整数、ｍは２以上の整数であり、
２＋２ｍ−ｎ≧０である。） で示されるアミノシラン化合物と、下記一般式（２） Ｒ3 2+2p-qＳｉpＸq （２） （式中、Ｒ3は水素原子又は非置換又は置換の炭素数１
〜１８の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ
基、又は炭素数６〜１８のアリールオキシ基、Ｘはハロ
ゲン原子を示し、ｐは１又は２、ｑは１〜６の整数であ
り、２＋２ｐ−ｑ≧０である。）で示されるハロゲノシ
ラン化合物とを反応させることを特徴とする下記一般式
（３） Ｒ1 2+2m-nＳｉmＸn （３） （式中、Ｒ1、Ｘ、ｍ、ｎは上記と同様の意味を示
す。）で示される有機けい素化合物の製造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP10466795A JP2907061B2 (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 有機けい素化合物の製造方法 |
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Publications (2)
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|---|---|
| JPH08277292A JPH08277292A (ja) | 1996-10-22 |
| JP2907061B2 true JP2907061B2 (ja) | 1999-06-21 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2907061B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9337018B2 (en) | 2012-06-01 | 2016-05-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Methods for depositing films with organoaminodisilane precursors |
| US9978585B2 (en) | 2012-06-01 | 2018-05-22 | Versum Materials Us, Llc | Organoaminodisilane precursors and methods for depositing films comprising same |
| US11485642B2 (en) | 2016-09-22 | 2022-11-01 | Ddp Specialty Electronic Materials Us 9, Llc | SiH-free vinyldisilanes |
-
1995
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| JPH08277292A (ja) | 1996-10-22 |
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