JP3288722B2 - 再分配反応を利用するオルガノシランの取得法 - Google Patents
再分配反応を利用するオルガノシランの取得法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 45
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 27
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 title description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 36
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 33
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 31
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 25
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 22
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 5
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 4
- -1 3,3, 3- trifluoropropyl Chemical group 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- GJVFBWCTGUSGDD-UHFFFAOYSA-L pentamethonium bromide Chemical compound [Br-].[Br-].C[N+](C)(C)CCCCC[N+](C)(C)C GJVFBWCTGUSGDD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[6-(trimethylazaniumyl)hexyl]azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/125—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving both Si-C and Si-halogen linkages, the Si-C and Si-halogen linkages can be to the same or to different Si atoms, e.g. redistribution reactions
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Description
そして特に本発明は、いわゆる再分配反応が関与するオ
ルガノシランの改良取得法に関する。より具体的に言え
ば、本発明は、反応混合物から蒸留によって抽出される
再分配された塩素化オルガノヒドロシランを含む生成物
を生成するための、塩素化オルガノヒドロシランと有機
置換されそして随意に塩素化されたシランとの間の再分
配反応を包含するオルガノシランの改良取得法に関す
る。
アルキルヒドロクロルシランを含む生成物を生成するた
めにアルキルヒドロジクロルシランとトリアルキルクロ
ルシランとの間の再分配反応に特に向けられているもの
である。この再分配されたジアルキルヒドロクロルシラ
ンは、極めて多くの種々の用途、例えば、有機珪素単量
体又は更に縮合されたペース化合物の製造において高く
評価されている合成反応剤である。
を珪素と銅触媒の存在下に反応させてアルキルクロルシ
ランを生成することよりなる慣用の周知操作に従ったア
ルキルクロルシラン合成の副生物のうちの1つである。
この合成では、ジアルキルジクロルシランが主生成物で
ある。上記の目的とするジアルキルヒドロクロルシラン
副生物の他に、トリアルキルクロルシラン、アルキルト
リクロルシラン及びアルキルヒドロジクロルシランタイ
プの化合物も得られる。
ようなジアルキルヒドロクロルシランの化学におけるこ
れらの化合物に対する産業上の興味のために、これらの
副生物を得る方法に対する多くの提案が現在日の目を見
るようになっている。この点で有効性が立証された数個
の提案のうちの1つは、例えば、アルキルヒドロジクロ
ルシランとトリアルキルクロルシランとの間又はアルキ
ルヒドロジクロルシランとテトラアルキルシランとの間
で再分配反応を実施することよりなるものである。この
再分配反応は、反応媒体から蒸留によって抽出される上
記の目標とするジアルキルヒドロクロルシランをもたら
す。
下に珪素−アルキル、珪素−塩素及び/又は珪素−水素
結合を切断して再分配するオルガノシランの多数の再分
配反応が知られている。フランス特許FR−A−2119477
は、再分配/蒸留によってジアルキルヒドロクロルシラ
ンを製造するためのこの技術を明確に例示している。こ
の特許の教示に従えば、AlCl3よりなる触媒の存在下に
メチルヒドロジクロルシラン及びトリメチルクロルシラ
ンが0.5程度のモル比で反応される。反応混合物は、3
〜5×105Pa程度の自然圧下に反応器に入れられ、そし
て85〜170℃程度の温度において数時間保持される。本
件出願人等はこの従来技術の方法を反復し、そして再分
配されたジメチルヒドロクロルシランを反応混合物から
分離するためにプロセスの終了時に実施される蒸留の収
率は異常な程低く、約71%でピークになることを認め
た。このような結果は、産業上の採算性に関しては不満
足であると考えなければならない。
の1つは、反応混合物から蒸留によって抽出される再分
配された塩素化されたオルガノヒドロシランを含む生成
物をもたらすための、塩素化オルガノヒドロシランと有
機置換されそして随意に塩素化されたシランとの間の再
分配反応を包含するオルガノシランの改良取得法の開発
にある。この方法は、最終目的の生成物である再分配さ
れた塩素化オルガノヒドロシランの蒸留収率が公知の再
分配/蒸留法のものよりも著しく優れていることによっ
て特徴づけられるべきである。
かも経済的である先に特定したタイプの方法を提供する
ことである。
きるようにするために、本件発明者等は、蒸留間に触媒
によって誘発される副反応現象を実証する貢献をなし
た。これは、例えばAlCl3のような通常の再分配触媒が
再分配によって生成される塩素化オルガノヒドロシラン
の不均化反応を触媒することを実証することができたた
めである。かかる不均化は、一方において随意に塩素化
されたオルガノヒドロシランタイプの、そして他方にお
いて塩素化オルガノシランタイプの副生物への該再分配
生成物の転換をもたらす。それは、例えばこの不均化副
反応によってMe2HSiClがMe2SiH2及びMeSiCl2に変換され
る方法である(略語Meは一価CH3基を表わす)。
れた塩素化オルガノシランの収率に全く有害になるだけ
であることが明らかである。
在する技術上の問題についてのこの発見に限定されなか
った。これは、全く驚いたことに且つ予想外にも、再分
配反応が一旦この方法の最初の段階でその役割を果たし
たときに該触媒を抑制することによって不均化反応を減
少させ、実際には排除する手段を見い出したためであ
る。
ヒドロシランと、式(2)(R')cSiCl4-cの有機置換さ
れそして随意に塩素化されたシラン(式中、a=1又は
2、b=1又は2、a+b≦3、c=1、2、3又は
4、記号R及びR'は同種又は異種であって、それぞれ、
線状若しくは分岐状C1〜C6アルキル基又はC6〜C12アリ
ール基を表わす)との間の再分配反応であって、式
(3)M(X)d(式中、Mは、Ti、Fe、Cu、Ag、Zn、
Cd、Hg、Al、Ga、In、B、Sn、Pb、Sb及びBiから選択さ
れる金属を表わし、Xはハロゲン原子を表わし、そして
dは金属Mの原子価を表わす)のルイス酸よりなる有効
量の触媒の存在下に行われる再分配反応、及び ・再分配によって生成された塩素化オルガノヒドロシラ
ンの蒸留による分離、 を含むオルガノシランの取得法において、 再分配後に、再分配触媒を抑制する少なくとも1種の
化合物が導入され、この化合物は、次の規定に該当し、
即ち、 −それは、 (i)式:(R1)eSi(OR2)4-e (4) [式中、 ・記号R1は同種又は異種であって、それぞれ、水素原
子、1つ又はそれ以上のハロゲンによって随意に置換さ
れる線状又は分岐状C1〜C8アルキル基、例えば、メチル
(Me)、エチル、プロピル、ブチル、オクチル又は3,3,
3−トリフルオロプロピル、C5〜C8シクロアルキル基、
例えば、シクロヘキシル又はシクロヘプチル、C6〜C12
アリール基、又はC6〜C12アリール部分及びC1〜C4アル
キル部分を有するアラルキル基であって、芳香族部分が
1つ又はそれ以上のハロゲン、C1〜C3アルキル及び/又
はC1〜C3アルコキシによって随意に置換されたもの、例
えば、フェニル、キシリル、トリル、ベンジル、フェニ
ルエチル、クロルフェニル又は時クロルフェニルを表わ
し、 ・記号R2は同種又は異種であって、それぞれ、線状若し
くは分岐状C1〜C4アルキル基又はC6〜C12アリール基を
表わし、 ・eは、0、1、2又は3である]のシラン、 (2i)25℃においてせいぜい5000mPa・sの粘度を有
し、そして次の特徴を示すシリコーン樹脂: [・それは、その構造中に、式(R3)3SiO0.5(M)、
(R3)2SiO(D)、R3SiO1.5(T)及びSiO2(Q)のも
のから選択される単位を有し、しかもこれらの単位のの
うちの少なくとも1つはT単位又はQ単位であり、そし
て前記式において記号R3は同種又は異種であって、主と
して、記号R1に関して先に与えた規定を有し、 ・100個の珪素原子当たりのT及び/又はQ単位の数に
よって表わしたT及び/又はQ単位の割合が10%よりも
大きく、 ・また、それは、分子当たり、M、D及び/又はT単位
の珪素原子によって担持された−OR4末端基 (ここで、 記号R4は同種又は異種であって、それぞれ、水素原子、
線状若しくは分岐状C1〜C4アルキル基又はC6〜C12アリ
ール基を表わし、 −OR4末端基の割合は、1個の珪素原子当たりのこれら
の末端基の平均数によって表わして0.2〜3である)も
有する]、 から選択され、 −それは、比率: が1.1以下になるような割合で使用される、 ことを特徴とするオルガノシランの改良取得法に関する
ものである。
に該触媒の抑制が利用される。この触媒活性の中和は、
蒸留間に通常行われる不均化副反応をできるだけ減少さ
せ、実際に排除することを可能にする。かくして、蒸留
の終わりに、目的とする再分配された塩素化オルガノヒ
ドロシランが従来よりも良好な収率で生成される。
上記の比率rを特に0.4〜1.1の範囲内にするような割合
で使用されると、他の極めて有益な効果を認めることが
できる。
観を有する)中における固体物質の出現及び沈着の排除
よりなる。抑制剤化合物の不在の場合には、又は抑制剤
化合物の不十分な割合(1.1よりも大きいr値に相当す
る)の使用の場合には、又は抑制剤化合物の過度に高い
割合(0.4よりも小さいr値に相当する)の使用の場合
には、固体物質の出現及び沈着のために二相外観を有す
る蒸留残留物が得られる。本件発明者等は、これらの固
体物質は、抑制剤化合物の不十分な割合の使用の場合に
は触媒粒子であり、そして抑制剤化合物の過度に高い割
合の使用の場合には触媒及び抑制剤シリコーン化合物か
ら形成された錯体の非晶質結晶であろうと考えている。
状C1〜C4アルキル基又はフェニル基を表わし、 ・記号R2は同種であって、それぞれ、線状又は分岐状C1
〜C3アルキル基を表わし、 ・e=1又は2]、 −樹脂(2i)として:25℃においてせいぜい1000mPa・s
の粘度を有するMQ、MDQ、TD及びMDTタイプの樹脂 [この構造中、 ・M、D及びT単位の記号R3は同種又は異種であって、
それぞれ、線状若しくは分岐状C1〜C4アルキル基を表わ
し、 ・T及び/又はQ単位の割合は30%よりも大きく、 ・記号R4が水素原子又は線状C1〜C2アルキル基を表わす
場合に−OR4末端基が存在し(アルコキシ基はそれらの
いくつかが存在するときには、互いに同種である)、そ
して該末端基の割合は0.3〜2である]、 である。
2、MeSi(OC2H5)3、C6H5Si(OC2H5)3、(C6H5)2S
i(OC2H5)2 に相当するアルコキシシラン(i) −TDタイプの樹脂(2i) [その構造中、 ・D単位の記号R3はメチル基であり、これに対してT単
位の記号R3はn−プロピル基であり、 ・100個の珪素原子当たりのT単位の数によって表わし
たT単位の割合は40〜65%の範囲内にあり、そして100
個の珪素原子当たりのD単位の数によって表わしたD単
位の割合が60〜35%の範囲内にあり、 ・記号R4がエチル基を表わす場合の−OR4末端基はD及
びT単位の珪素原子によって担持され、そして0.3〜0.5
の範囲内の割合で存在する]、 である。
は、好ましくは、塩化物及び臭化物である。
l、ZnCl2、AlCl3、SnCl2、BiCl3及びこれらの種々の混
合物である。特に良く適合する触媒はAlCl3である。
ランの総重量を基にして一般には0.1〜10%そして好ま
しくは0.5〜5%の範囲内の重量割合で使用される。特
に好ましい重量割合は、同じ基準を基にして1〜4%の
範囲内のものである。
制剤シリコーン化合物を導入する時に関する。いずれに
しても、再分配反応が完了したときにかかる化合物を導
入するのが好ましい。
益には、自然圧下に)で実施されること、及び反応混合
物は続いて蒸留の前に冷却されることが知られている
が、 ・冷却前に再分配温度において、又は ・反応混合物をこの冷却温度に戻した後に、又は ・かかる冷却の前後、 のいずれかで抑制剤化合物の導入を行うことが可能であ
る。
い具体例を以下に記載する。
の温度で有益下には自然圧下に実施され、 ・反応混合物が、続いて、40℃以下、好ましくは30℃以
下、そしてより好ましくは10〜30℃の温度に冷却され、 ・次いで、抑制剤シリコーン化合物が導入され、 ・そして、最後に、再分配によって生成された目標とす
る塩素化オルガノヒドロシランが蒸留によって分離され
る。
℃の温度で有益下には自然圧下に実施され、 ・抑制剤シリコーン化合物が導入され、これによって再
分配が防止され、 ・反応混合物が、続いて、40℃以下、好ましくは30℃以
下、そしてより好ましくは10〜30℃の温度に冷却され、 ・そして、最後に、再分配によって生成された目標とす
る塩素化オルガノヒドロシランが蒸留によって分離され
る。
関して言えば、本発明の意図を明らかにするために、再
分配温度を例えば90〜120℃程度にし、これに対して理
想圧を3〜105Pa前後にするのが極めて有益であるが特
定されよう。再分配反応の期間は、反応の化学量論並び
に温度に左右される。一例として、それは1〜3時間程
度であることを示すことが可能である。
例えばガス抜きによって大気圧に戻される。
なく、それは、導入しようとする量に依存して、例えば
1分〜数分の範囲にわたる短期間にわたって、又は例え
ば約10分〜数十分の範囲にわたる長い期間にわたって実
施することができる。抑制剤化合物の添加は、一般に
は、僅かな温度上昇をもたらす。
留である。これは、抑制剤シリコーン化合物の使用量に
依存して、所望の再分配された塩素化オルガノヒドロシ
ランを含む蒸留物、及び二相又は均質蒸留残留物をもた
らす。
素化オルガノシラン及び(2)の有機置換されそして随
意に塩素化されたシランに関して言えば、記号R及びR'
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ヘキシル、フェニル、ナフチル及びジフェ
ニルの各基から選択されることができることが理解され
よう。
それぞれ、線状若しくは分岐状C1〜C6アルキル基又はフ
ェニル基を表わす。
は異種であって、それぞれ、メチル又はフェニル基を表
わす。
ルガノヒドロシラン(1)と式R'3SiClの有機置換され
そして塩素化されたシラン(2)(この場合では、a=
1、b=1及びc=3、そして記号R及びR'は、本発明
の記載において式(1)及び(2)に関して先に記載し
た一般的意味を有する)との間の再分配反応の実施に良
く適合する。
ヒドロシラン(1)と式R'3SiClの有機置換されそして
塩素化されたシラン(2)(この場合では、a=1、b
=1及びc=3、そして記号R及びR'は同種又は異種で
あって、それぞれ、線状若しくは分岐状C1〜C6アルキル
基又はフェニル基を表わす)との間の再分配反応の実施
に特に良く適合する。
ヒドロシラン(1)と式R'3SiClの有機置換されそして
塩素化されたシラン(2)(式中、記号R及びR'は同種
又は異種であって、それぞれ、メチル基又はフェニル基
を表わす)との間の再分配反応の実施に特に良く適合す
る。
は、式(1)の塩素化オルガノヒドロシランタイプの反
応体は、式(1)の塩素化オルガノヒドロシラン+式
(2)の有機置換されそして塩素化されたシランの混合
物を基にして少なくとも10モル%の割合で再分配反応媒
体中に存在させることができる。
0.2〜1.2の間、極めて有益には0.3〜1である。
MeHSiCl2及びMe3SiClを出発シラン(1)及び(2)と
して包含する再分配反応に関しては、再分配によって生
成されそしてMe2HSiCl及びMe2SiCl2化合物よりなる塩素
化オルガノヒドロシランが最終的に回収される。このシ
ランMe2SiCl2は本質的には再分配反応の生成物である
が、しかしそれは、上記の不均化副反応が行われるとき
にはその反応から生じることもでき、この場合では、再
分配されたシランMe2HSiClの一部分はMe2SiH2及びMe2Si
Cl2に転換される。
留)を簡素化しながら、再分配された塩素化オルガノヒ
ドロシラン(例えば、Me2HSiCl)の収率を有意に向上さ
せることを可能にする。
全に入る通常の化学工学装置である。
て強調することによって本発明に従った方法の別の形態
及び利益(加工性)のすべてをより良く理解するのを可
能にするであろう。
ン ・SIL 2:式:MeSi(OC2H5)3のアルコキシシラン (B)手順 (I)触媒を抑制しない試験 比較例 窒素で前もってパージした750mlのステンレス鋼製反
応器に、0.505のMeH/Me3モル比を得るために320gのMe3S
iCl及び171gのMeHSiCl2を撹拌下に仕込む。この混合物
に触媒即ち15gの無水塩化アルミニウムを加える。反応
器を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paにそして大気
圧値に調整する。キャビテーションターボミキサーによ
って撹拌を提供する。撹拌速度を1500回転/分に設定す
る。加熱を100℃まで実施すると、圧力はほぼ4〜5×1
05Paに定まる。温度を100℃で2時間維持する。反応器
を20℃に冷却し、そしてガス抜きによって1.5〜2×105
Paの残留圧を除く。大気圧での蒸留によって、68.6gのM
e2HSiCl及び3重量%の塩化アルミニウムを含む473gの
反応混合物を分離する。ジメチルヒドロクロルシランを
含む留出物、及びAlCl3が懸濁した不均質蒸留残留物が
得られる。
分析する。留出物中のMe2HSiCl:48.4g。
応器に、0.505のMeH/Me3モル比を得るために320gのMe3S
iCl及び171gのMeHSiCl2を撹拌下に仕込む。
加える。反応器を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Pa
にそして大気圧に調整する。キャビテーションターボミ
キサーによって撹拌を提供する。撹拌速度を1500回転/
分に設定する。加熱を100℃まで実施すると、圧力はほ
ぼ4〜5×105Paに定まる。温度を100℃で2時間維持す
る。しかる後、反応器に30gの抑制剤化合物SIL 1を約2
分間にわたって導入する。続いて、反応器を20℃に冷却
する。ガス抜きによって1.5〜2×105Paの残留圧を除
く。大気圧での蒸留によって、68.6gのMe2HSiCl及び不
活性触媒を含む500gの反応混合物を分離する。ジメチル
ヒドロクロルシランを含む留出物、及び均質な二相蒸留
残留物が得られる。
分析する。留出物中のMe2HSiCl:68g。
応器に、0.505のMeH/Me3モル比を得るために320gのMe3S
iCl及び171gのMeHSiCl2を撹拌下に仕込む。
加える。反応器を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Pa
に次いで大気圧に調整する。キャビテーションターボミ
キサーによって撹拌を提供する。撹拌速度を1500回転/
分に設定する。加熱を100℃まで実施すると、圧力はほ
ぼ4〜5×105Paに定まる。温度を100℃で2時間維持す
る。反応器に15gの抑制剤化合物SIL 1を約2分間にわた
って導入する。続いて、反応器を20℃に冷却する。ガス
抜きによって1.5〜2×105Paの残留圧を除く。大気圧で
の蒸留によって、68.6gのMe2HSiCl及び不活性触媒を含
む485gの反応混合物を分離する。ジメチルヒドロクロル
シランを含む留出物、及び均質な蒸留残留物が得られ
る。
分析する。留出物中のMe2HSiCl:65.2g。
応器に、0.505のMeH/Me3モル比を得るために320gのMe3S
iCl及び171gのMeHSiCl2を撹拌下に仕込む。
加える。反応器を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Pa
に次いで大気圧に調整する。キャビテーションターボミ
キサーによって撹拌を提供する。撹拌速度を1500回転/
分に設定する。加熱を100℃まで実施すると、圧力はほ
ぼ4〜5×105Paに定まる。温度を100℃で2時間維持す
る。反応器に15gの抑制剤化合物SIL 2を約2分間にわた
って導入する。続いて、反応器を20℃に冷却する。ガス
抜きによって1.5〜2×105Paの残留圧を除く。大気圧で
の蒸留によって、68.5gのMe2HSiCl及び不活性触媒を含
む477gの反応混合物を分離する。ジメチルヒドロクロル
シランを含む留出物、及び均質な蒸留残留物が得られ
る。
分析する。留出物中のMe2HSiCl:56g。
応器に、0.505のMeH/Me3モル比を得るために320gのMe3S
iCl及び171gのMeHSiCl2を撹拌下に仕込む。
加える。反応器を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Pa
に次いで大気圧に調整する。キャビテーションターボミ
キサーによって撹拌を提供する。撹拌速度を1500回転/
分に設定する。加熱を100℃まで実施すると、圧力はほ
ぼ4〜5×105Paに定まる。温度を100℃で2時間維持す
る。反応器に15gの抑制剤化合物SIL 2を約2分間にわた
って導入する。続いて、反応器を20℃に冷却する。ガス
抜きによって1.5〜2×105Paの残留圧を除く。大気圧で
の蒸留によって、68.3gのMe2HSiCl及び不活性触媒を含
む486gの反応混合物を分離する。ジメチルヒドロクロル
シランを含む留出物、及び均質な蒸留残留物が得られ
る。
分析する。留出物中のMe2HSiCl:68g。
表わす。
Claims (12)
- 【請求項1】・式(1)(R)a(H)bSiCl4-a-bの塩
素化オルガノヒドロシランと、式(2)(R')cSiCl4-c
の有機置換されそして随意に塩素化されたシラン(式
中、a=1又は2、b=1又は2、a+b≦3、c=
1、2、3又は4、記号R及びR'は同種又は異種であっ
て、それぞれ、線状若しくは分岐状C1〜C6アルキル基又
はC6〜C12アリール基を表わす)との間の再分配反応で
あって、式(3)M(X)d(式中、Mは、Ti、Fe、C
u、Ag、Zn、Cd、Hg、Al、Ga、In、B、Sn、Pb、Sb及びB
iから選択される金属を表わし、Xはハロゲン原子を表
わし、そしてdは金属Mの原子価を表わす)のルイス酸
よりなる有効量の触媒の存在下に行われる再分配反応、
及び ・再分配によって生成された塩素化オルガノヒドロシラ
ンの蒸留による分離、 を含むオルガノシランの取得法において、 再分配後に、再分配触媒を抑制する少なくとも1種の化
合物が導入され、この化合物は、次の規定に該当し、即
ち、 −それは、 (i)式:(R1)eSi(OR2)4-e (4) [式中、 ・記号R1は同種又は異種であって、それぞれ、水素原
子、1つ又はそれ以上のハロゲンによって随意に置換さ
れる線状又は分岐状C1〜C8アルキル基、C5〜C8シクロア
ルキル基、C6〜C12アリール基、又はC6〜C12アリール部
分及びC1〜C4アルキル部分を有するアラルキル基であっ
て、芳香族部分が1つ又はそれ以上のハロゲン、C1〜C3
アルキル及び/又はC1〜C3アルコキシによって随意に置
換されるものを表わし、 ・記号R2は同種又は異種であって、それぞれ、線状若し
くは分岐状C1〜C4アルキル基又はC6〜C12アリール基を
表わし、 ・eは、0、1、2又は3である]のシラン、 (2i)25℃においてせいぜい5000mPa・sの粘度を有
し、そして次の特徴を示すシリコーン樹脂: [・それは、その構造中に、式(R3)3SiO0.5(M)、
(R3)2SiO(D)、R3SiO1.5(T)及びSiO2(Q)のも
のから選択される単位を有し、しかもこれらの単位のう
ちの少なくとも1つはT単位又はQ単位であり、そして
前記式において記号R3は同種又は異種であって、主とし
て、記号R1に関して先に与えた規定を有し、 ・100個の珪素原子当たりのT及び/又はQ単位の数に
よって表わしたT及び/又はQ単位の割合が10%よりも
大きく、 ・また、それは、分子当たり、M、D及び/又はT単位
の珪素原子によって担持された−OR4末端基 (ここで、 記号R4は同種又は異種であって、それぞれ、水素原子、
線状若しくは分岐状C1〜C4アルキル基又はC6〜C12アリ
ール基を表わし、 −OR4末端基の割合は、1個の珪素原子当たりのこれら
の末端基の平均数によって表わして0.2〜3である)も
有する]、 から選択され、 それは、比率: が1.1以下になるような割合で使用される、 ことを特徴とするオルガノシランの改良取得法。 - 【請求項2】抑制剤シリコーン化合物が、rを0.4〜1.1
の範囲内にするような割合で使用されることを特徴とす
る請求項1記載の方法。 - 【請求項3】抑制剤シリコーン化合物が、 −シラン(i)として:式(4)のアルコキシシラン [式中、 ・記号R1は同種であって、それぞれ、線状若しくは分岐
状C1〜C4アルキル基又はフェニル基を表わし、 ・記号R2は同種であって、それぞれ、線状又は分岐状C1
〜C3アルキルを表わし、 ・e=1又は2] −樹脂(2i)として:25℃においてせいぜい1000mPa・s
の粘度を有するMQ、MDQ、TD及びMDTタイプの樹脂 [この構造中、 ・M、D及びT単位の記号R3は同種又は異種であって、
それぞれ、線状又は分岐状C1〜C4アルキル基を表わし、 ・T及び/又はQ単位の割合が30%よりも大きく、 ・記号R4が水素原子又は線状C1〜C2アルキル基を表わす
場合に−OR4末端基が存在し、そして該末端基の割合が
0.3〜2である] であることを特徴とする請求項1又は2記載の方法。 - 【請求項4】抑制剤シリコーン化合物が、 −次の式:MeSi(OMe)3、C6H5Si(OMe)3、(C6H5)2
Si(OMe)2、MeSi(OC2H5)3、C6H5Si(OC2H5)3、
(C6H5)2Si(OC2H5)2に相当するアルコキシシラン
(i) −TDタイプの樹脂(2i) [その構造中、 ・D単位の記号R3はメチル基であり、これに対してT単
位の記号R3はn−プロピル基であり、 ・100個の珪素原子当たりのT単位の数によって表わし
たT単位の割合が40〜65%の範囲内にあり、そして100
個の珪素原子当たりのD単位の数によって表わしたD単
位の割合が60〜35%の範囲内にあり、 ・記号R4がエチル基を表わす場合の−OR4末端基がD及
びT単位の珪素原子によって担持され、そして0.3〜0.5
の範囲内の割合で存在する]、 であることを特徴とする請求項3記載の方法。 - 【請求項5】触媒として使用されるルイス酸が塩化物及
び臭化物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
か一項記載の方法。 - 【請求項6】触媒が、TiCl4、FeCl3、CuCl、AgCl、ZnCl
2、AlCl3、SnCl2、BiCl3及びこれらの種々の混合物より
なる群から選択されることを特徴とする請求項5記載の
方法。 - 【請求項7】触媒が開始時に仕込まれる式(1)及び
(2)のシランの総重量を基にして0.1〜10重量%の範
囲内の重量比割合で使用されることを特徴とする請求項
1〜6項のいずれか一項記載の方法。 - 【請求項8】・再分配反応が50℃〜200℃の温度でそし
て有益下には自然圧下に実施され、 ・しかる後に、反応混合物が40℃未満の温度に冷却さ
れ、 ・次いで、抑制剤シリコーン化合物が導入され、 ・そして、最後に、再分配によって生成された目標とす
る塩素化オルガノヒドロシランが蒸留によって分離され
る。 ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載の方
法。 - 【請求項9】・再分配反応が50℃〜200℃の温度でそし
て有益下には自然圧下に実施され、 ・抑制剤シリコーン化合物を導入して再分配が防止さ
れ、 ・しかる後に、反応混合物が40℃未満の温度に冷却さ
れ、 ・次いで、抑制剤シリコーン化合物が導入され、 ・そして、最後に、再分配によって生成された目標とす
る塩素化オルガノヒドロシランが蒸留によって分離され
る、 ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載の方
法。 - 【請求項10】反応させる2種類のシラン、即ち、式
(1)の塩素化オルガノヒドロシラン及び式(2)の有
機置換されそして随意に塩素化されたシランに関して、
記号R及びR'は同種又は異種であって、それぞれ、線状
若しくは分岐状C1〜C3アルキル基又はフェニル基を表わ
すことを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項記載の
方法。 - 【請求項11】再分配反応が、式RHSiCl2の塩素化オル
ガノヒドロシラン(1)と、式R'3SiClの有機置換され
そして塩素化されたシラン(2)(この場合に、a=
1、b=1及びc=3)との間で実施されることを特徴
とする請求項1〜10のいずれか一項記載の方法。 - 【請求項12】モル比 が0.1〜2の間であることを特徴とする請求項1〜11の
いずれか一項記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR97/04109 | 1997-03-27 | ||
FR9704019A FR2761360B1 (fr) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | Procede ameliore d'obtention d'organosilanes mettant en oeuvre une reaction de redistribution |
PCT/FR1998/000611 WO1998043985A1 (fr) | 1997-03-27 | 1998-03-26 | Procede d'obtention d'organosilanes mettant en oeuvre une reaction de redistribution |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000509736A JP2000509736A (ja) | 2000-08-02 |
JP3288722B2 true JP3288722B2 (ja) | 2002-06-04 |
Family
ID=9505445
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54123098A Expired - Lifetime JP3288722B2 (ja) | 1997-03-27 | 1998-03-26 | 再分配反応を利用するオルガノシランの取得法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6077967A (ja) |
EP (1) | EP0971933B1 (ja) |
JP (1) | JP3288722B2 (ja) |
AU (1) | AU7051598A (ja) |
DE (1) | DE69806363T2 (ja) |
FR (1) | FR2761360B1 (ja) |
WO (1) | WO1998043985A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2772380B1 (fr) * | 1997-12-12 | 2000-03-10 | Rhodia Chimie Sa | Procede de preparation d'alkylmonohydrogenohalogenosilanes (ahhs) par redistribution puis distillation, dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede |
DE102004014220A1 (de) | 2004-03-23 | 2005-10-13 | Wacker-Chemie Gmbh | Verfahren zum Abtrennen von Aluminiumchlorid aus Organochlorsilanen |
DE102005012694A1 (de) * | 2005-03-18 | 2006-10-05 | Wacker Chemie Ag | Grundiermittel für hitzehärtbare Siliconelastomere |
CN102329427B (zh) * | 2010-07-13 | 2013-03-13 | 黄浩 | 一种支链硅油(mdt)的制备方法 |
CN113480567B (zh) * | 2021-08-20 | 2022-11-22 | 唐山偶联硅业有限公司 | 均相歧化反应制备二甲基氢氯硅烷的方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA977769A (en) * | 1970-12-21 | 1975-11-11 | General Electric Company | Redistribution of alkylhydrosilanes |
FR2279755A1 (fr) * | 1974-07-26 | 1976-02-20 | Rhone Poulenc Ind | Procede de preparation de chlorosilanes et emploi des chlorosilanes ainsi obtenus |
FR2552436B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouveau procede de fabrication d'hydrogeno-silanes par reaction de redistribution |
JP2864973B2 (ja) * | 1993-11-05 | 1999-03-08 | 信越化学工業株式会社 | ジメチルクロロシランとトリオルガノクロロシランの併産方法 |
DE19520737C2 (de) * | 1995-06-07 | 2003-04-24 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Alkylhydrogenchlorsilanen |
FR2749848B1 (fr) * | 1996-06-12 | 1998-08-21 | Rhone Poulenc Chimie | Procede ameliore d'obtention d'organosilanes mettant en oeuvre une reaction de redistribution |
DE19718470A1 (de) * | 1997-04-30 | 1998-11-05 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Si-gebundene Wasserstoffatome aufweisenden Organosiliciumverbindungen |
-
1997
- 1997-03-27 FR FR9704019A patent/FR2761360B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-26 US US09/381,659 patent/US6077967A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-26 EP EP98917239A patent/EP0971933B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-26 JP JP54123098A patent/JP3288722B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-26 WO PCT/FR1998/000611 patent/WO1998043985A1/fr active IP Right Grant
- 1998-03-26 AU AU70515/98A patent/AU7051598A/en not_active Abandoned
- 1998-03-26 DE DE69806363T patent/DE69806363T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69806363T2 (de) | 2003-02-13 |
FR2761360B1 (fr) | 1999-05-21 |
EP0971933B1 (fr) | 2002-07-03 |
US6077967A (en) | 2000-06-20 |
JP2000509736A (ja) | 2000-08-02 |
FR2761360A1 (fr) | 1998-10-02 |
WO1998043985A1 (fr) | 1998-10-08 |
EP0971933A1 (fr) | 2000-01-19 |
AU7051598A (en) | 1998-10-22 |
DE69806363D1 (de) | 2002-08-08 |
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