JP5519006B2 - アミノオルガノシランの製造方法 - Google Patents
アミノオルガノシランの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5519006B2 JP5519006B2 JP2012513587A JP2012513587A JP5519006B2 JP 5519006 B2 JP5519006 B2 JP 5519006B2 JP 2012513587 A JP2012513587 A JP 2012513587A JP 2012513587 A JP2012513587 A JP 2012513587A JP 5519006 B2 JP5519006 B2 JP 5519006B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- group
- base
- amine
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/20—Purification, separation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/582—Recycling of unreacted starting or intermediate materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Description
R′3-nR1 nSi−R2−NR3R4 (1)
のアミノオルガニルトリオルガニルシランを、一般式(2)
H−NR3R4 (2)
の環状もしくは非環状のアミンと、一般式(3)
R′3-nR1 nSi−R2−X (3)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(I)において、
[式中、
R′は、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアシルオキシ基又はアルコキシ基を意味し、
R1は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、
R2は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、
R3、R4は、互いに独立して、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、その際、R3、R4は、互いに結合されていてもよく、かつ得られる環は、更にまた他のヘテロ原子、NH基もしくはNR2a基を有してよく、
R2aは、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、
nは、0、1、2もしくは3の数を意味し、
Xは、塩素、臭素もしくはヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(3)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(2)のアミン1.1〜100モルを0〜250℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(1)のシランの他に、副生成物として一般式(2)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(2)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(2)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法である。
H2NR7 (5)
のアミンと、一般式(6)
(R2)Y1Si−R5−Y2 (6)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(II)において、
[式中、
R5は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子、NH又はNR8基によって中断されていてよい基を意味し、
R6は、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基であって、ハロゲン原子、OH基及び基−NH2−、−NHR8、NR8 2で置換されていてよい基を意味し、
R7は、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基であって、ハロゲン原子、OH基及び基−NH2−、−NHR8、NR8 2で置換されていてよい基を意味し、
Rは、炭化水素基、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアルコキシ基を意味し、
R8は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、かつ
Y1及びY2は、塩素、臭素又はヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(6)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(5)のアミン1.1〜1000モルを0〜300℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(4)のシランの他に、副生成物として一般式(5)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(5)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(5)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法である。
R01 3-tR11 tSi−R12−NR13−R14−SiR02 3-sR15 s (7)
のシリルオルガノアミンを、一般式(8)
H−NR13−R14−SiR02 3-sR15 s (8)
の(アミノオルガニル)シランと、一般式(9)
R01 3-tR11 tSi−R12−Z (9)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(III)において、
[式中、
R01、R02は、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアルコキシ基を意味し、
R11、R15は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、
R12は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子又は硫黄原子によって中断されていてよい基を意味し、
R14は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子、硫黄原子、NH又はNR18基によって中断されていてよい基を意味し、その際、R18は、R11、R15と同じ意味を有し、
R13は、水素、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基又は一般式R03 3-oR16 oSi−R17−の基を意味し、式中、R16は、R11及びR15と同じ意味であり、R17は、R12及びR14と同じ意味であり、かつR03は、R01及びR02と同じ意味であり、かつ
s、t、oは、互いに独立して、0、1、2又は3の数を意味し、かつ
Zは、塩素、臭素又はヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(9)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(8)のアミン1.1〜100モルを0〜250℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(7)のシリルオルガノアミンの他に、副生成物として一般式(8)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(8)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(8)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法である。
例えば2B*H−Hal→B↑+B*2H−Hal
が進行することがある。
a1)工程a)において一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンが過剰に使用される場合には、この過剰量は、更に工程b)での塩基(B)の添加前に完全にもしくは部分的に分離してよい。
・ 工程e)の後の生成物含有相への又はしかしながら工程c)で蒸留されたアミンフラクションへの脂肪族ケトンもしくはアルデヒドの付加的な添加。この措置は、工程b)で添加された塩基(B)が第一級アミノ基を有する化合物である場合には、この相中でなおも含まれる塩基(B)の残留物を相応のイミンへと変換するために用いられる。前記イミンは、しばしば、生成物から、とりわけ過剰に使用されかつ/又は工程b)で再び遊離される一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンから、塩基(B)自体よりも容易に蒸留により分離できる。
・ エチレンジアミンの添加は、工程b)において、一般式(3)、(6)もしくは(9)の(ハロゲンオルガニル)シランの量に対して0.5〜0.8当量の特に好ましいエチレンジアミン量だけが添加されたときに既に十分に完全な塩交換がもたらされる。
4−(トリエトキシシリルメチル)テトラヒドロ−1,4−オキサジンの製造
還流冷却器、KPG撹拌機、温度計を有する1000mlの四ツ口フラスコにおいて、305gの乾モルホリン(pKb 5.67)を加熱還流(127℃)させ、そして60分以内で撹拌しつつ305.8gのクロロメチル−トリエトキシシランを加えた。計量供給の間には還流を保持した。その際、温度は連続的に153℃に上昇した。添加の完了後に、15分にわたり前記温度で後撹拌した。15分以内で、撹拌しつつ46.3gのエチレンジアミン(pKb 4.07)を前記混合物に添加した。その際に、固体のエチレンジアミン−ビスヒドロクロリドが沈殿した。淡ベージュ色の懸濁液を還流条件下(137℃)で60分にわたり撹拌した。次いで、94℃/5hPaまでの低沸点物を留去した。193.9gの無色の澄明なフラクションが得られ、前記フラクションは、GCによれば、90%のモルホリン、5.2%のエタノール、2.45%の4−(トリエトキシシリルメチル)テトラヒドロ−1,4−オキサジン及び1.5%のエチレンジアミンを含有していた。それ故に、95%のモルホリンが回収された。蒸留残滓に、50℃で120gのエチレンジアミンを加え、15分にわたり撹拌した。50gのシクロヘキサンの添加後に、2つの液相が形成した。下方のエチレンジアミン塩酸塩相を抜き取った。上方の相から、92℃/5hPaまでの低沸点物を留去した。61.4gの無色の澄明なフラクションが得られ、前記フラクションは、GCによれば、78.6%のシクロヘキサン、16%のエタノール及び4.6%のモルホリンを含有していた。残留物を濾過した。330.3gの澄明な帯黄色の濾液が得られ、前記濾液は、GCによれば、90%の4−(トリエトキシシリルメチル)テトラヒドロ−1,4−オキサジンを含有していた。分別蒸留によって、98%の4−(トリエトキシシリルメチル)テトラヒドロ−1,4−オキサジン(収率77%)を有する無色の澄明なフラクション289gが得られた。
N−フェニルアミノメチルトリメトキシシランの製造
還流冷却器、KPG撹拌機、温度計を有する500mlの四ツ口フラスコ中で、163.7gの乾アニリン(pKb 9.4)を100℃に加熱し、そして180分以内で撹拌しつつ60gのクロロメチル−トリメトキシシランを加え、そして60分にわたり後撹拌した。10分以内で、撹拌しつつ11.6gのエチレンジアミン(pKb 4.07)を前記混合物に添加した。その際に、エチレンジアミン−ビスヒドロクロリドの白色の沈殿物が生じた。変わらない温度(100℃)で60分にわたり更に撹拌した。引き続き、真空を印加し、そして10hPaで85℃までの温度で124gのアニリンを蒸留した(GCによる純度98.5%;収率95%)。100℃で蒸留残滓に13.7gのエチレンジアミンを加えた。その際に、エチレンジアミン塩酸塩の液相が形成し、それは80℃で分離された。上方の相を、ビグリュー(vigreux)カラムを介して分別蒸留した。10hPaで137℃の沸点で、59.6g(収率72%)のN−フェニルアミノメチルトリメトキシシランが得られ、その純度は96.6%で測定された。
N−フェニルアミノメチルジメトキシメチルシランの製造
還流冷却器、KPG撹拌機、温度計を有する2000mlの五ツ口フラスコ中で、1413gの乾アニリン(pKb 9.4)を100℃に加熱し、そして180分以内で撹拌しつつ450gの(クロロメチル)ジメトキシメチルシランを加え、そして60分にわたり後撹拌した。次いで、10分以内で、撹拌しつつ96.2gのエチレンジアミン(pKb 4.07)を前記混合物に添加した。その際に、エチレンジアミン−ビスヒドロクロリドの沈殿物が形成した。変わらない温度(100℃)で60分にわたり更に撹拌した*)。引き続き、真空を印加し、そして20hPaで110℃までで1141gのアニリンを蒸留した(GCによる純度95.3%+2%のN−フェニルアミノメチルジメトキシメチルシラン;アニリンの収率100%)。100℃及び85hPaの圧力で、蒸留残滓に4分以内で113.6gのエチレンジアミンを加えた。その際に調節する弱い還流によって、装置内の蒸気室中に形成した薄膜をすすぎ落とした。その際に、エチレンジアミン塩酸塩の液相が形成し、それは80℃で分離された。上方の相を10hPaで115℃まで加熱した。残留物として、88.1%のフェニルアミノメチルジメトキシメチルシラン、4.8%のビス[(ジメトキシメチルシリル)メチル]アミン、2.9%の1,3−ビス(N−フェニルアミノメチル)−1,3−ジメトキシ−1,3−ジメチル−ジシロキサンからなる混合物が残留した。目的生成物の収率は、86%であった。
比較試験において、(クロロメチル)ジメトキシメトキシメチルシランとアニリンとの実施例3と同様の反応条件下での反応の後に、アニリン過剰量を、エチレンジアミンを予め添加せずに留去した。反応混合物のDSC測定は、197℃以降で発熱的分解を示した(−1025kJ/kg)。アニリンの留去の後に、分解温度は、168℃に低下し、分解エンタルピーは−1312kJ/kg未満であった。−1312kJ/kgの分解エンタルピーは、約875℃の断熱的な温度上昇に相当する。蒸留過程で慣用のより長期の温度負荷において、分解温度(開始温度)の低下が進行することがある。それは、上記方法でエチレンジアミンを添加しないと、すなわちアニリン塩酸塩をエチレンジアミン−ビスヒドロクロリドに変換しないと、高い安全性リスクを侵すことを意味する。
ビス((3−トリメトキシシリル)プロピル)アミンの製造
還流冷却器、KPG撹拌機、温度計及び30cmのビグリューカラムを有する4000mlの五ツ口フラスコ中で、1906.8gの3−アミノプロピルトリメトキシシラン(Wacker Chemie AG(ドイツ)で購入できるGeniosil(登録商標)GF96)を130℃で初充填し、そして還流下に120分以内で696.3gの3−クロロプロピル−トリメトキシシランを加えた。添加の完了後に、240分にわたり前記温度で後撹拌した。それを110℃に冷却し、3分以内で、撹拌しつつ115.8gのエチレンジアミンを前記混合物に添加した。その際、固体のエチレンジアミン−ビスヒドロクロリドが沈殿した。次いで、ビグリューカラムを介して蒸留した。105℃/10hPaまでで1318.8gの無色の澄明な低沸点フラクションを蒸留し、それは、GCによれば、87.4%の3−アミノプロピルトリメトキシシラン、1%のメタノール及び7.9%のエチレンジアミンを含有していた。135℃/10hPaまでで中間経過を取り出し、それは、GCによれば、74%の3−アミノプロピルトリメトキシシラン、8.3%のビス((3−トリメトキシシリル)プロピル)アミン、11.8%の環化生成物(=1,1−ジメトキシ−1−シラ−2−(3−(トリメトキシシリル)プロピル)アザシクロペンタン)及び1.4%のエチレンジアミンを含有していた。コールドトラップにおいて、メタノールとエチレンジアミンとの1:1混合物27.6gが集まった。従って、3−アミノプロピルシランが定量的に回収された。305.4gのエチレンジアミンを蒸留残滓へと100℃で添加した後に、液状の下方の相が形成し、それを80℃で抜き取った。上方の相を加熱し、蒸留残滓を濾過した。85%のビス((3−トリメトキシシリル)プロピル)アミン、1.4%の環化生成物(=1,1−ジメトキシ−1−シラ−2−(3−(トリメトキシシリル)プロピル)アザシクロペンタン)、7.4%のトリス((3−トリメトキシシリル)プロピル)アミン、1.7%の3−アミノプロピルトリメトキシシランからなる混合物981gが得られた。
Claims (8)
- 一般式(1)
R′3−nR1 nSi−R2−NR3R4 (1)
のアミノオルガニルトリオルガニルシランを、一般式(2)
H−NR3R4 (2)
の環状もしくは非環状のアミンと、一般式(3)
R′3−nR1 nSi−R2−X (3)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(I)において、
[式中、
R′は、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアシルオキシ基又はアルコキシ基を意味し、
R1は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、
R2は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、
R3、R4は、互いに独立して、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、その際、R3、R4は、互いに結合されていてもよく、かつ得られる環は、更にまた他のヘテロ原子、NH基もしくはNR2a基を有してよく、
R2aは、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、
nは、0、1、2もしくは3の数を意味し、
Xは、塩素、臭素もしくはヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(3)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(2)のアミン1.1〜100モルを0〜250℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(1)のシランの他に、副生成物として一般式(2)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(2)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(2)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物を少なくとも90質量%含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物を少なくとも90質量%含む液相を分離する工程と、
を含んでなり、
前記塩基(B)が、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジアザビシクロオクタン、1,2−プロピレンジアミン、2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジアミン及びそれらの混合物から選択される、方法。 - 一般式(4)
H2NR7 (5)
のアミンと、一般式(6)
(R2)Y1Si−R5−Y2 (6)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(II)において、
[式中、
R5は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子、NH又はNR8基によって中断されていてよい基を意味し、
R6は、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基であって、ハロゲン原子、OH基及び基−NH2−、−NHR8、NR8 2で置換されていてよい基を意味し、
R7は、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基であって、ハロゲン原子、OH基及び基−NH2−、−NHR8、NR8 2で置換されていてよい基を意味し、
Rは、炭化水素基、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアルコキシ基を意味し、
R8は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、かつ
Y1及びY2は、塩素、臭素又はヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(6)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(5)のアミン1.1〜1000モルを0〜300℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(4)のシランの他に、副生成物として一般式(5)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(5)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(5)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物を少なくとも90質量%含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物を少なくとも90質量%含む液相を分離する工程と、
を含んでなり、
前記塩基(B)が、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジアザビシクロオクタン、1,2−プロピレンジアミン、2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジアミン及びそれらの混合物から選択される、方法。 - 一般式(7)
R01 3−tR11 tSi−R12−NR13−R14−SiR02 3−sR15 s (7)
のシリルオルガノアミンを、一般式(8)
H−NR13−R14−SiR02 3−sR15 s (8)
の(アミノオルガニル)シランと、一般式(9)
R01 3−tR11 tSi−R12−Z (9)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(III)において、
[式中、
R01、R02は、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアルコキシ基を意味し、
R11、R15は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、
R12は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子又は硫黄原子によって中断されていてよい基を意味し、
R14は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子、硫黄原子、NH又はNR18基によって中断されていてよい基を意味し、その際、R18は、R11、R15と同じ意味を有し、
R13は、水素、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基又は一般式R13 3−oR16 oSi−R17−の基を意味し、式中、R16は、R16及びR15と同じ意味であり、R17は、R12及びR14と同じ意味であり、かつR03は、R01及びR02と同じ意味であり、かつ
s、t、oは、互いに独立して、0、1、2又は3の数を意味し、かつ
Zは、塩素、臭素又はヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(9)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(8)のアミン1.1〜100モルを0〜250℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(7)のシリルオルガノアミンの他に、副生成物として一般式(8)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(8)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(8)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物を少なくとも90質量%含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物を少なくとも90質量%含む液相を分離する工程と、
を含んでなり、
前記塩基(B)が、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジアザビシクロオクタン、1,2−プロピレンジアミン、2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジアミン及びそれらの混合物から選択される、方法。 - 工程d)で添加される塩基(B)の量が、工程b)で使用される塩基(B)の量の20〜200%である、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。
- 工程b)、c)及びd)を、20℃〜250℃の温度で実施する、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。
- 使用されるべき一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンの含水量が、0〜20000ppmである、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 使用されるべき一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンのpKb値が、塩基(B)のpKb値よりも、少なくとも1pKb単位大きい、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。
- 塩基(B)の沸点が、生成物(1)、(4)もしくは(7)の沸点とも、一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンの沸点とも、少なくとも40℃だけ異なる、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102009026755A DE102009026755A1 (de) | 2009-06-04 | 2009-06-04 | Verfahren zur Herstellung von Aminoorganosilanen |
DE102009026755.7 | 2009-06-04 | ||
PCT/EP2010/057582 WO2010139674A1 (de) | 2009-06-04 | 2010-06-01 | Verfahren zur herstellung von aminoorganosilanen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012528823A JP2012528823A (ja) | 2012-11-15 |
JP5519006B2 true JP5519006B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=42286727
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012513587A Expired - Fee Related JP5519006B2 (ja) | 2009-06-04 | 2010-06-01 | アミノオルガノシランの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8981138B2 (ja) |
EP (1) | EP2438074A1 (ja) |
JP (1) | JP5519006B2 (ja) |
KR (1) | KR101368101B1 (ja) |
CN (1) | CN102459287A (ja) |
DE (1) | DE102009026755A1 (ja) |
WO (1) | WO2010139674A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009000500A1 (de) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Bis- und Tris(silylorgano)aminen |
US9337018B2 (en) * | 2012-06-01 | 2016-05-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Methods for depositing films with organoaminodisilane precursors |
US11884609B2 (en) * | 2019-02-13 | 2024-01-30 | Nouryon Chemicals International B.V. | Process for manufacturing ethyleneamine compounds |
WO2021002163A1 (ja) * | 2019-07-02 | 2021-01-07 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン化合物、該化合物を含む組成物及びそれらの製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE503204A (ja) | 1950-06-30 | 1900-01-01 | ||
DE1812564A1 (de) | 1968-12-04 | 1970-06-18 | Bayer Ag | Silylsubstituierte Carbamidsaeurederivate |
JPS56104891A (en) * | 1980-01-28 | 1981-08-20 | Toray Ind Inc | Preparation of (n-aminoethyl)aminoalkylsilane |
US4775415A (en) * | 1986-08-06 | 1988-10-04 | First Brands Corporation | Alcohol-based aluminum corrosion inhibitor compositions comprising polysilyl compounds |
JPH06228165A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物及びその製造方法 |
EP0702017B1 (de) | 1994-09-14 | 2001-11-14 | Degussa AG | Verfahren zur Herstellung von chloridarmen bzw. chloridfreien aminofunktionellen Organosilanen |
DE19941283A1 (de) | 1998-11-06 | 2000-05-11 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von chloridarmen oder chloridfreien Alkoxysilanen |
EP0999214B1 (de) * | 1998-11-06 | 2004-12-08 | Degussa AG | Verfahren zur Herstellung von chloridarmen oder chloridfreien Alkoxysilanen |
DE10049183C1 (de) | 2000-10-05 | 2002-01-17 | Consortium Elektrochem Ind | Cyclische Silazane |
DE10058620A1 (de) * | 2000-11-25 | 2002-05-29 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Aminoalkylsilanen |
US6417381B1 (en) | 2001-11-15 | 2002-07-09 | Crompton Corporation | Process for preparing bis(silylorgano)amines |
US6452033B1 (en) | 2002-02-11 | 2002-09-17 | Dow Corning Corporation | Method of making N-[2-aminoethyl] aminoalkylalkoxysilanes with ethyenediamine salt recycle |
DE10353063B4 (de) * | 2003-11-13 | 2006-03-02 | Wacker-Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von (N-Organylaminoorganyl)- und (N,N-Diorganylaminoorganyl)triorganylsilanen sowie (N-Cyclohexylaminomethyl)trimethoxysilan und [N,N-Bis-(N',N'-dimethylaminopropyl)aminomethyl]triorganylsilan erhältliche mittels dieses Verfahrens |
DE102004060627A1 (de) * | 2004-12-16 | 2006-07-06 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Amino-Gruppen tragenden Silicium-Verbindungen |
DE102007037193A1 (de) | 2007-08-07 | 2009-02-12 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Aminoorganosilanen |
-
2009
- 2009-06-04 DE DE102009026755A patent/DE102009026755A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-06-01 EP EP10721166A patent/EP2438074A1/de not_active Withdrawn
- 2010-06-01 US US13/375,081 patent/US8981138B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-06-01 CN CN2010800246020A patent/CN102459287A/zh active Pending
- 2010-06-01 KR KR1020127000279A patent/KR101368101B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2010-06-01 JP JP2012513587A patent/JP5519006B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-06-01 WO PCT/EP2010/057582 patent/WO2010139674A1/de active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010139674A1 (de) | 2010-12-09 |
EP2438074A1 (de) | 2012-04-11 |
CN102459287A (zh) | 2012-05-16 |
US8981138B2 (en) | 2015-03-17 |
DE102009026755A1 (de) | 2010-12-09 |
KR101368101B1 (ko) | 2014-02-27 |
KR20120032513A (ko) | 2012-04-05 |
JP2012528823A (ja) | 2012-11-15 |
US20120071650A1 (en) | 2012-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20110282088A1 (en) | Process for preparing bis- and tris(silylorgano)amines | |
US7417160B2 (en) | Method for the production of silicon compounds carrying amino groups | |
KR100582878B1 (ko) | 비스(tert-부틸아미노)실란의 제조 및 정제 방법 | |
JP5236731B2 (ja) | アミノオルガノシランの製造方法 | |
JP6356275B2 (ja) | シラノールのアルカリ塩からシロキサンを製造するための方法 | |
JP5519006B2 (ja) | アミノオルガノシランの製造方法 | |
CA1080246A (en) | Method for the preparation of alkoxysilane cluster compounds | |
WO2003091186A2 (en) | Azasilanes and methods for making and using the same | |
EP0488595B1 (en) | Thexyl trialkoxy silanes; method for their preparation; and uses thereof | |
CN107641134B (zh) | 三[3-(烷氧基甲硅烷基)丙基]异氰脲酸酯的制备方法 | |
US10590150B2 (en) | Preparation of fluorosilicon compounds | |
KR100818835B1 (ko) | 2급 아미노이소부틸알콕시실란의 제조 방법 | |
JP2530391B2 (ja) | 立体的に遮蔽されたアミノヒドロカルビルシラン類および製造方法 | |
KR20180103007A (ko) | 트리스[3-(알콕시실릴)프로필] 이소시아누레이트를 제조하는 방법 | |
JPH0559072A (ja) | オレフイン系及びアセチレン系アザシラシクロペンタン並びにその調製方法 | |
US6160151A (en) | Process for production of diphenyl-dialkoxysilane, phenylalkyl-dialkoxysilane, octaphenylcyclotetrasilozane and sym-tetraalkyltetraphenyl-cyclotetrasiloxane | |
JP5420751B2 (ja) | 1,3−ビス(アミノアルキル)ジシロキサンの合成方法 | |
JP2002020392A (ja) | N−アルケニルアザシラシクロペンタン、およびその製造方法 | |
KR100537671B1 (ko) | 3-[n-(2-아미노에틸)]아미노알킬알콕시실란의 제조방법 | |
KR101380264B1 (ko) | 오르가노알콕시 하이드로젠 실란의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20121221 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20121226 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130719 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140307 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140402 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5519006 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |