JP6356275B2 - シラノールのアルカリ塩からシロキサンを製造するための方法 - Google Patents
シラノールのアルカリ塩からシロキサンを製造するための方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6356275B2 JP6356275B2 JP2016575838A JP2016575838A JP6356275B2 JP 6356275 B2 JP6356275 B2 JP 6356275B2 JP 2016575838 A JP2016575838 A JP 2016575838A JP 2016575838 A JP2016575838 A JP 2016575838A JP 6356275 B2 JP6356275 B2 JP 6356275B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- group
- siliconate
- alkali metal
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 title claims description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 35
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 claims description 25
- 229910052700 potassium Chemical group 0.000 claims description 25
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 17
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 10
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 3
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005625 siliconate group Chemical group 0.000 description 50
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 22
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 15
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 13
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 12
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 12
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 5
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 2
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001283 organosilanols Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDFHWZHHOSSGR-UHFFFAOYSA-N 1-ethylimidazole Chemical compound CCN1C=CN=C1 IWDFHWZHHOSSGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVRKATYHWPCGPZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyloxane Chemical compound CC1CCOCC1 OVRKATYHWPCGPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGMZNZABJYWAEC-UHFFFAOYSA-N Methyltris(trimethylsiloxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C RGMZNZABJYWAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N Phenanthrene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKWPZUCBCARRDP-UHFFFAOYSA-L calcium bicarbonate Chemical compound [Ca+2].OC([O-])=O.OC([O-])=O NKWPZUCBCARRDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000020 calcium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000011552 falling film Substances 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000001640 fractional crystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 210000003739 neck Anatomy 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBXJHRABGYYAFC-UHFFFAOYSA-N octaphenylsilsesquioxane Chemical compound O1[Si](O2)(C=3C=CC=CC=3)O[Si](O3)(C=4C=CC=CC=4)O[Si](O4)(C=5C=CC=CC=5)O[Si]1(C=1C=CC=CC=1)O[Si](O1)(C=5C=CC=CC=5)O[Si]2(C=2C=CC=CC=2)O[Si]3(C=2C=CC=CC=2)O[Si]41C1=CC=CC=C1 KBXJHRABGYYAFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007347 radical substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBPOWOIWSYUZMH-UHFFFAOYSA-N sodium;trihydroxy(methyl)silane Chemical compound [Na+].C[Si](O)(O)O GBPOWOIWSYUZMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010518 undesired secondary reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
[RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)
の環式シロキサンには、例えば光学用途、電子用途および高温用途向けの反応性の高い架橋剤として工業的に大きな関心が寄せられており、例えば、熱安定な溶媒、錯化剤、化粧品用途向けの流体および潜在的なシロキサン樹脂の構成要素として工業的に大きな関心が寄せられている。現在に至るまで、上記環式シロキサンは、製造に多額のコストがかかる不都合なものであり、したがって、上記環式シロキサンの製造は非経済的で工業規模には適合しないとされてきた。
[RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)
の環式生成物は、一般式(2a)
RSi(OH)2OM (2a)
(式中、Mが、アルカリ金属であり、Rが、有機基であり、nが、3、4、5、6、7または8である。)の対応するアルカリ金属シリコネートまたはこのアルカリ金属シリコネートの縮合生成物から一般式(3)
R1R2R3Si−Hal (3)
(式中、Halが、ハロゲン基であり、R1、R2およびR3が互いに独立に、場合により酸素を介して結合していることもある水素基、ハロゲン基または有機基である。)のハロシランとの反応により、入手することができる。
RSi(OR’)3 (4)
のアルコキシシランまたはこのアルコキシシラン加水分解物と、1モル当量の水性アルカリ金属水酸化物との反応によって得られる。Rは、上記規定を有し、式(4)中のR’は、低級アルキル基である。
カチオンMのケイ素に対するモル比が<1である、一般式(2)
R−Si(OH)3−m(OM)m (2)
の単位からなるシラノールのアルカリ金属塩(アルカリ金属シリコネートとして公知)、それらの加水分解/縮合生成物、またはそれらの縮合物一緒にした一般式(2)のシラノールのアルカリ金属塩と、一般式(3)
R1R2R3Si−Hal (3)
のハロシランとの反応によって、
一般式(1)
[RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)
の環式シロキサンを調製するための方法である
(式中、
mが、0、1、2または3であり、平均で0.1から<1までの数であり、
nが、3、4、5、6、7または8であり、
Rが、炭素を介して結合した有機基であり、
Mが、アルカリ金属カチオンであり、
Halが、ハロゲン基であり、
R1、R2およびR3が互いに独立に、水素基、ハロゲン基、または炭素もしくは酸素を介して結合している有機基である。)。
a)シリコネート粉末の調製
最初に、WO2012/022544(PCT/EP2011/061766)の調製例1に従って、メチルトリメトキシシラン、相異なる比率のKOHおよび/またはNaOHならびに水からシリコネート粉末を調製する。固形分はいずれの場合においても、少なくとも99.5%だった。
10mlのIsopar E(113℃から143℃までの沸点範囲を有するイソパラフィン系炭化水素混合物、ExxonMobilから市販)を20℃において、4g(0.04mol)のトリエチルアミン(Aldrich)と混合した後、いずれの場合においても、細かく粉砕した1gのシリコネート粉末(K/Na含量に応じて0.008molから0.0096molまで)を慎重に添加する。10分にわたって、撹拌しながら4g(0.036mol)のトリメチルクロロシランを量り入れる。混合物の温度が上昇すると、白色沈殿物が形成される。20℃で6時間撹拌し、7g(0.388mol)の水を添加し、30分激しく撹拌し続ける。塩化アンモニウム沈殿物を溶解させ、溶解しなかった成分は、ろ過によって除去し、秤量しておき、透き通った二相混合物の有機上相の組成を29Si−NMRによって決定する。この29Si−NMRの結果を表1にまとめている。
パドル型撹拌器と、温度計と、固形物仕切り機構と、カラム型アタッチメント(凝縮器)が頂部に付いた20cm Vigreuxカラムとを装着しており、窒素を使用して不活性化済みの5つ口0.5lフラスコに、181g(1.5mol)のビニルジメチルクロロシラン(WACKER CHEMIE AG)を装入する。固形物仕切り機構を用いて、撹拌しながら56.5g(0.5mol、0.325molのカリウム)のSILRES BS Powder S(WACKER CHEMIE AG、0.65のK:Siモル比を有するカリウムメチルシリコネート粉末)を、反応混合物の温度が25℃を超過しないような速度で量り入れる(約3:45時間)。続いて、反応混合物を、気体の発生がもはや測定できなくなるまで(約1時間)加熱還流する。撹拌しながら、160gの完全脱塩水を添加する。下相を抜き出し、上相を減圧下で分別蒸留する。目的生成物は、120℃から128℃の沸点範囲および2hPaにおいて受器に入り込む。
パドル型撹拌器と、温度計と、固形物仕切り機構と、カラム型アタッチメント(凝縮器)が頂部に付いた20cm Vigreuxカラムとを装着しており、窒素を使用して不活性化済みの5つ口0.5lフラスコに、113.1g(1.19mol)のジメチルクロロシラン(WACKER CHEMIE AG)を装入する。固形物仕切り機構を用いて、撹拌しながら45g(0.4mol、0.26molのカリウム)のSILRES BS Powder S(WACKER CHEMIE AG、0.65のK:Siモル比を有するカリウムメチルシリコネート粉末)を、反応混合物の温度が25℃を超過しないような速度で量り入れる(約2時間)。続いて、反応混合物を、気体の発生がもはや測定できなくなるまで(約1時間)加熱還流する。撹拌しながら、68gの完全脱塩水を添加する。下相を抜き出し、上相を減圧下で分別蒸留する。目的生成物は、100℃から105℃までの沸点範囲および2hPaにおいて受器に入り込む。
a)カリウムビニルシリコネート(K:S=0.65)の調製
パドル型撹拌器と、温度計と、2個の滴下漏斗と、カラム型アタッチメント(凝縮器)が頂部に付いた水分離器とを装着しており、窒素を用いて不活性化済みの4つ口2lフラスコに、2個の滴下漏斗から並行して出てくる422g(2.83mol)のビニルトリメトキシシラン(WACKER CHEMIE AG製のGeniosil(R)XL10)および282gの濃度36.6%の水酸化カリウム溶液(1.84molのKOH)を撹拌しながら10分にわたって装入するが、このとき、装置は、22℃に調整しておく。放出された反応熱により、混合物の温度が上昇する。透き通った反応混合物を30分(約72℃)加熱還流した後、142.9gの蒸留物を取り出す。次いで、800gのIsopar E(113℃から143℃までの沸点範囲を有するイソパラフィン系炭化水素混合物、ExxonMobilから市販)を添加する。混合物を水分離器上で加熱還流する。蒸留物は、水分離器内で下相として分離してくる。118℃の沸点に至ったら、228.8gの透き通った無色蒸留物を収集し、第1の蒸留物と一緒にする。合わせた蒸留物をガスクロマトグラフィーによって分析すると、73.2%のメタノール含量、26.6%の水含量および0.2%のIsopar E含量が提示される。したがって、ビニルトリメトキシシラン中のメトキシ基の加水分解は、定量的なものである。蒸留中、ペースト状の白色固体が反応混合物中で分離し、次々に砕けて微粒子になっていくと、懸濁液が形成される。共沸乾燥後、溶媒を120℃における蒸留によって除去し、固体残留物を120℃、10hPaで1時間乾燥させる。この乾燥により、99.5%の固形分(Mettler Toledo製のHR73 Halogen Moisture Analyzerを160℃で使用して測定した。)を有する自由に流動する326.5gの白色微粉が得られる。これから、カリウムビニルシリコネートの平均モル質量が115g/molであると算定できる。
パドル型撹拌器と、温度計と、固形物仕切り機構と、カラム型アタッチメント(凝縮器)が頂部に付いた20cm Vigreuxカラムとを装着しており、窒素を使用して不活性化済みの5つ口0.5lフラスコに、−15℃で114.6g(1.2mol)のジメチルクロロシラン(WACKER CHEMIE AG)を装入する。固形物仕切り機構を用いて、撹拌しながらa)の50g(0.43mol、0.28molのカリウム)のカリウムビニルシリコネートを、反応混合物の温度が25℃を超過しないような速度で量り入れる(45分)。続いて、反応混合物を、気体の発生がもはや測定できなくなるまで(約1時間)加熱還流する。撹拌しながら、112.5gの完全脱塩水に溶かした37.5gのエタノールの溶液を添加する。下相を抜き出し、上相を減圧下で分別蒸留する。目的生成物は、135℃から137℃までの沸点範囲および4hPaにおいて受器に入り込む。
パドル型撹拌器と、温度計と、固形物仕切り機構と、カラム型アタッチメント(凝縮器)が頂部に付いた20cm Vigreuxカラムとを装着しており、窒素を使用して不活性化済みの5つ口0.5lフラスコに、20℃で147.6g(1.2mol)のビニルジメチルクロロシラン(WACKER CHEMIE AG)を装入する。固形物仕切り機構を用いて、撹拌しながら実施例4a)からの50g(0.43mol、0.28molのカリウム)のカリウムビニルシリコネートを、反応混合物の温度が25℃を超過しないような速度で量り入れる(85分)。続いて、反応混合物を、気体の発生がもはや測定できなくなるまで(約1時間)加熱還流する。撹拌しながら、150gの完全脱塩水に溶かした20gのエタノールの溶液を添加する。下相を抜き出し、上相を減圧下で分別蒸留する。目的生成物は、120℃から166℃までの沸点範囲および4hPaにおいて受器に入り込む。
パドル型撹拌器と、温度計と、固形物仕切り機構と、カラム型アタッチメント(凝縮器)が頂部に付いた20cm Vigreuxカラムを装着しており、窒素を使用して不活性化済みの5つ口0.5lフラスコに、21℃で132.9g(1.2mol)のトリメチルクロロシラン(WACKER CHEMIE AG)を装入する。固形物仕切り機構を用いて、撹拌しながら実施例4a)kらの50g(0.43mol、0.28molのカリウム)のカリウムビニルシリコネートを、反応混合物の温度が25℃を超過しないような速度で量り入れる(120分)。続いて、反応混合物を、気体の発生がもはや測定できなくなるまで(約1時間)加熱還流する。撹拌しながら、150gの完全脱塩水に溶かした50gのエタノールの溶液を添加する。下相を抜き出し、上相を減圧下で分別蒸留する。目的生成物は、120℃から130℃までの沸点範囲および5hPaにおいて受器に入り込む。
a)カリウムビニルシリコネート(K:Si=1)の調製
実施例4a)の手順と同様の手順により、300g(2mol)のビニルトリメトキシシラン(WACKER CHEMIE AG製のGeniosil(R)XL10)を、251.4gの濃度45%の水酸化カリウム溶液(2molのKOH)と反応させる。続いて、透き通った反応混合物を、1200gのIsopar E(113℃から143℃までの沸点範囲を有するイソパラフィン系炭化水素混合物、ExxonMobilから市販)によって共沸乾燥させる。この共沸乾燥により、98.5%の固形分(Mettler Toledo製のHR73 Halogen Moisture Analyzerを160℃で使用して測定した。)を有する自由に流動する260gの白色微粉が得られる。これから、カリウムビニルシリコネートの平均モル質量が128g/molであると算定できる。
パドル型撹拌器と、温度計と、固形物仕切り機構と、カラム型アタッチメント(凝縮器)が頂部に付いた20cm Vigreuxカラムとを装着しており、窒素を使用して不活性化済みの5つ口0.5lフラスコに、22℃で156.4g(1.44mol)のトリメチルクロロシラン(WACKER CHEMIE AG)を装入した。固形物仕切り機構を用いて、撹拌しながら比較例C1a)からの50g(0.39mol、0.39molのカリウム)のカリウムビニルシリコネートを、反応混合物の温度が25℃を超過しないような速度で量り入れる(120分)。続いて、反応混合物を、気体の発生がもはや測定できなくなるまで(約1時間)加熱還流する。撹拌しながら、125gの完全脱塩水に溶かした125gのエタノールの溶液を添加する。相分離を改良するために、13.3gの塩化ナトリウムを添加する。水性下相を抜き出す。減圧下での有機上相の蒸留を試みると、>300℃の融点を有する蒸留できない固体残留物が形成される。
Claims (6)
- カチオンMのケイ素に対するモル比が<1である、一般式(2)
R−Si(OH)3−m(OM)m (2)
の単位からなるシラノールのアルカリ金属塩(アルカリ金属シリコネートとして公知)、それらの加水分解/縮合生成物、またはそれらの縮合生成物と一緒にした一般式(2)のシラノールのアルカリ金属塩と、
一般式(3)
R1R2R3Si−Hal (3)
のハロシランとの反応によって、
一般式(1)
[RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)
の環式シロキサンを調製するための方法。
(式中、
mが、0、1、2または3であり、平均で0.1から<1までの数であり、
nが、3、4、5、6、7または8であり、
Rが、無置換である、またはハロゲン原子、C 1−6 アルキル基、C 1−6 アルコキシ基もしくはシリル基によって置換されている1個から30個までの炭素原子を有する一価の炭化水素基であり、この一価の炭化水素基中にある1個の−CH 2 −単位または互いに隣接していない複数の−CH 2 −単位が−O−基または−S−基によって置きかえられていてもよく、この一価の炭化水素基は、該基中の炭素を介してSiに結合しており、
Mが、アルカリ金属カチオンであり、
Halが、ハロゲン基であり、
R1、R2およびR3が、水素、C1−10アルコキシ基、C1−20アリールオキシ基、または、無置換であるもしくはハロゲン原子あるいはアルコキシ基によって置換されている1個から18個までの炭素原子を有する一価の炭化水素基から選択される。) - Mが、ナトリウムおよびカリウムから選択される、請求項1に記載の方法。
- 一般式(2)中のカチオンMのケイ素に対するモル比が、0.4から0.85である、請求項1または2に記載の方法。
- 一般式(3)のハロシランが、クロロシランである、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 反応が、0℃から120℃において、実施される、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 反応が、補助的な塩基なしで実施される、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102014212698.3 | 2014-07-01 | ||
DE102014212698.3A DE102014212698A1 (de) | 2014-07-01 | 2014-07-01 | Verfahren zur Herstellung von Siloxanen aus Alkalisalzen von Silanolen |
PCT/EP2015/064719 WO2016001154A1 (de) | 2014-07-01 | 2015-06-29 | Verfahren zur herstellung von siloxanen aus alkalisalzen von silanolen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017520581A JP2017520581A (ja) | 2017-07-27 |
JP6356275B2 true JP6356275B2 (ja) | 2018-07-11 |
Family
ID=53489971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016575838A Expired - Fee Related JP6356275B2 (ja) | 2014-07-01 | 2015-06-29 | シラノールのアルカリ塩からシロキサンを製造するための方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10017526B2 (ja) |
EP (1) | EP3164407B1 (ja) |
JP (1) | JP6356275B2 (ja) |
KR (1) | KR101907493B1 (ja) |
CN (1) | CN106471002B (ja) |
DE (1) | DE102014212698A1 (ja) |
WO (1) | WO2016001154A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015224732A1 (de) * | 2015-12-09 | 2017-06-14 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Siloxanolen aus Metallsalzen von Silanolen |
JP2017145229A (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 国立大学法人群馬大学 | ルイス酸を用いた環状シロキサンの製造方法 |
JP6786716B2 (ja) | 2017-04-04 | 2020-11-18 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | 反応性シロキサンおよびその製造方法 |
KR101972761B1 (ko) | 2017-10-31 | 2019-04-29 | 한국과학기술연구원 | 가교제용 실릴카보실록산 유도체와 이의 제조방법 |
WO2020025144A1 (de) | 2018-08-03 | 2020-02-06 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur herstellung von triorganosilyloxygruppen aufweisenden organosiloxanen |
US20210309856A1 (en) * | 2018-08-17 | 2021-10-07 | Wacker Chemie Ag | Crosslinkable organopolysiloxane compositions |
RU2766218C1 (ru) * | 2020-12-30 | 2022-02-09 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт элементоорганических соединений им. А.Н. Несмеянова Российской академии наук (ИНЭОС РАН) | Способ получения несимметричных циклотетрасилоксанов |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2567110A (en) | 1947-07-12 | 1951-09-04 | Corning Glass Works | Organopolysiloxanes prepared by the reaction of salts of silanols with halosilanes |
US7294732B2 (en) * | 2002-08-07 | 2007-11-13 | Chisso Corporation | Silicon compound |
JP4887626B2 (ja) * | 2002-09-17 | 2012-02-29 | Jnc株式会社 | ケイ素化合物 |
JP4483344B2 (ja) * | 2003-03-13 | 2010-06-16 | チッソ株式会社 | シルセスキオキサン骨格を有する化合物およびその重合体 |
JP4465233B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2010-05-19 | 三星電子株式会社 | 多官能性環状シロキサン化合物、この化合物から製造されたシロキサン系重合体及びこの重合体を用いた絶縁膜の製造方法 |
JP4882270B2 (ja) * | 2004-05-07 | 2012-02-22 | Jnc株式会社 | ケイ素化合物 |
US7256243B2 (en) * | 2004-05-07 | 2007-08-14 | Chisso Corporation | Silicon compound |
KR20060057778A (ko) * | 2004-11-24 | 2006-05-29 | 삼성코닝 주식회사 | 저유전성 메조포러스 박막의 제조방법 |
DE102010031624A1 (de) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | Wacker Chemie Ag | Wasserlösliche Organosiliconatpulver |
DE102011083109A1 (de) | 2011-09-21 | 2013-03-21 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Pulvern aus Alkalisalzen von Silanolen |
DE102011086812A1 (de) | 2011-11-22 | 2013-05-23 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Feststoffen aus Alkalisalzen von Silanolen |
JP2013241497A (ja) | 2012-05-18 | 2013-12-05 | Gunma Univ | ポリシルセスキオキサン化合物、光素子封止材及びその用途 |
-
2014
- 2014-07-01 DE DE102014212698.3A patent/DE102014212698A1/de not_active Withdrawn
-
2015
- 2015-06-29 JP JP2016575838A patent/JP6356275B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2015-06-29 US US15/322,775 patent/US10017526B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-06-29 KR KR1020167036673A patent/KR101907493B1/ko active IP Right Grant
- 2015-06-29 WO PCT/EP2015/064719 patent/WO2016001154A1/de active Application Filing
- 2015-06-29 EP EP15731963.3A patent/EP3164407B1/de not_active Not-in-force
- 2015-06-29 CN CN201580036153.4A patent/CN106471002B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101907493B1 (ko) | 2018-10-12 |
EP3164407B1 (de) | 2018-08-15 |
DE102014212698A1 (de) | 2016-01-07 |
CN106471002B (zh) | 2019-05-10 |
US20170166595A1 (en) | 2017-06-15 |
JP2017520581A (ja) | 2017-07-27 |
CN106471002A (zh) | 2017-03-01 |
WO2016001154A1 (de) | 2016-01-07 |
US10017526B2 (en) | 2018-07-10 |
EP3164407A1 (de) | 2017-05-10 |
KR20170010010A (ko) | 2017-01-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6356275B2 (ja) | シラノールのアルカリ塩からシロキサンを製造するための方法 | |
JPH0639478B2 (ja) | アルコキシ−オキシイミノシランの製造法 | |
US20150284413A1 (en) | Method for producing solids from alkali metal salts of silanols | |
EP3684778A1 (en) | Integrated process for the manufacture of methylchlorohydridomonosilanes | |
JP6479996B2 (ja) | シラノールの金属塩からのシロキサノールの製造方法 | |
CN106029681A (zh) | 添加有机盐的氢化硅烷化方法 | |
JP6786716B2 (ja) | 反応性シロキサンおよびその製造方法 | |
JP6044361B2 (ja) | ジクロロモノヒドロシラン化合物の製造方法 | |
US3168542A (en) | Process for separating mixtures of chlorosilanes | |
US3658865A (en) | Process for the alkylation of organosilicon halides | |
JP6665437B2 (ja) | 第3級アルキルシラン及び第3級アルキルアルコキシシランの製造方法 | |
US2945873A (en) | Process for separating mixtures of chlorosilanes | |
US3686252A (en) | Preparation of organosilicon compounds with silylphenyl groups | |
US20220169520A1 (en) | Low temperature process for the safe conversion of the siemens process side-product mixture to chloromonosilanes | |
RU2785123C2 (ru) | Интегрированный способ получения метилхлоргидридмоносиланов | |
JPH0344079B2 (ja) | ||
Gunji et al. | Syntheses and Properties of Sila-Functional Oligosiloxanes—Linear and Cyclic Tetrasiloxanes with Methyl and Vinyl Groups— | |
TW202021906A (zh) | 用於降低含鹵矽烷的組合物中之硼化合物含量的方法 | |
JP4288463B2 (ja) | クロロ原子含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JPH032188A (ja) | モノハイドロジェン(トリオルガノシロキシ)オルガノシランの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A529 | Written submission of copy of amendment under article 34 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A529 Effective date: 20170224 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170224 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180515 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180613 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6356275 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |