KR20170010010A - 실라놀의 알칼리 염으로부터 실록산을 제조하는 방법 - Google Patents

실라놀의 알칼리 염으로부터 실록산을 제조하는 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 일반식 (1) [RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)의 환형 실록산의 제조 방법에 관한 것으로서, 일반식 (1)의 환형 실록산은, 일반식 (2) R-Si(OH)3 -m(OM)m (2)의 단위로 이루어진 실라놀의 알칼리 금속 염(소위 알칼리 금속 실리코네이트), 이의 가수분해/축합 생성물, 또는 일반식 (2)의 실라놀의 알칼리 금속 염과 함께 이의 축합 생성물을, 일반식 (3) R1R2R3Si-Hal (3)의 할로겐 실란과 반응시킴으로써 제조되며, 상기 식 (2)에서, 규소에 대한 양이온 M의 몰비는 1 미만이며, 상기 식 (1), (2) 또는 (3)에서, m은 0, 1, 2 또는 3이고, 평균적으로는 0.1 내지 1 미만의 수이며, n은 3, 4, 5, 6, 7 또는 8이며, R은 탄소를 통해 결합된 유기 라디칼을 나타내며, M은 알칼리 금속 양이온을 나타내며, Hal은 할로겐 라디칼을 나타내고, R1, R2 및 R3는 서로 독립적으로 수소 라디칼, 할로겐 라디칼, 또는 탄소 또는 산소를 통해 결합된 유기 라디칼을 나타낸다.

Description

실라놀의 알칼리 염으로부터 실록산을 제조하는 방법{METHOD FOR PRODUCING SILOXANES FROM ALKALI SALTS OF SILANOLS}
본 발명은 유기실라놀의 알칼리 금속 염(또한, 이하 실리코네이트로 지칭됨)으로부터 실록산을 제조하는 방법에 관한 것이며, 여기서, 규소에 대한 알칼리 금속 양이온의 몰비는 1 미만이며, 할로실란이다.
일반식 (1)의 환형 실록산은
[RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)
예를 들어 광학적 적용, 전자적 적용 및 고온 적용을 위한 고도로 반응성인 가교제로서, 예를 들어, 열적으로 안정한 용매로서, 착화제로서, 미용 적용용 유체로서, 및 실록산 수지용의 잠재적인 빌딩 블록으로서 산업적인 큰 관심을 끌고 있다. 현재까지, 이들은 제조 시 비용이 매우 많이 들며 번거로웠으며, 따라서, 이들의 제조는 산업적인 규모에서 비경제적이며 부적합하였다.
US　2567110(Corning Glass, 1947)은 매우 일반적으로, 유기실라놀의 알칼리 금속 염을 클로로실란과 반응시킴으로써 유기실록산을 제조하는 공정을 기술하고 있다. 명세서에서, 사실상 유기실라놀의 염(RSiOO알칼리)n에 대한 환형 구조가 존재하지만, (RSiOSiR'3O)n을 가진, 이로부터 유래될 수 있는 환형 실록산은 존재하지 않는다. 모노-유기실라놀의 염에서, 각각의 경우 알칼리:Si 비율은 1, 2 또는 3이다. 모노유기실라놀 염(예,　1: 소듐 메틸실리코네이트, 예, 2 소듐 페닐실리코네이트)을 이용한 단독 실시예에서, 용매 혼합물에서 트리메틸클로로실란과의 반응은 각각의 경우 고 분자량의 폴리실록산을 초래한다.
JP　2013-241497(Nat. Univ. Corp. Gunma Univ., 2012)은 용매에서 C2-C8 트리알콕시실란 및 소듐 하이드록사이드 또는 포타슘 하이드록사이드 용액으로부터 시작되는 소듐 또는 포타슘 실리코네이트의 제조를 기술하고 있다. 고체 생성물은 필터 케이크(filter cake)의 여과 및 건조에 의해 수득된다. 여기서, 알칼리:Si 비율은 1:1이다. 이들 실리코네이트는 후속적으로, 용매 및 피리딘의 존재 하에 클로로실란(예, HM2-실란)과 반응하여, 상응하는 사이클로실록산(예, [MeSi(OSiMe2H)O]4)을 제공한다.
Shchegolikhina , O.I . et　al., European Journal of Inorganic Chemistry, 2004, 1253-1261에 따르면, 환형 소듐 및 포타슘 페닐실록사놀레이트는, 선택적으로 알코올 및 유기 비극성 용매의 존재 하에, 페닐트리에톡시실란과 소듐 또는 포타슘 하이드록사이드 수용액으로부터 제조된다. 각각의 경우, 알칼리/Si 비율은 1:1이다. 반응 생성물은 피리딘의 존재 하에, 트리메틸클로로실란과 반응하여, 상응하는 환형 유도체(cis-[PhSi(OSiMe3)O]4 또는 cis-[PhSi(OSiMe3)O]3)를 제공한다.
Shchegolikhina , O.I . et　al., Russian Chemical Bulletin, International Edition, Vol.　56, No.　1, pp.　83-90, Jan. 2007은 표적 화합물에 대한 출발 물질로서 알칼리:Si 비율이 1:1인 실리코네이트 염을 기술하고 있다. 이들 염은 용매로서 헥산에서 높은 비율로 희석된 염기로서 피리딘의 존재 하에, 다량(실리코네이트에 대해 8 당량 초과)의 트리메틸클로로실란을 사용하여 상응하는 환형 실록산으로 전환된다. 결정에 결합된 알코올, 및 실리코네이트의 제조로부터의 임의의 부가적인 물은 클로로실란을 일부 소모하여, 작동 비용을 절감시킨다.
Laine , R.M et　al., Comptes Rendus Chimie 13, 270-281, 2010에 따르면, 예를 들어, 부탄올 중 과량의 NaOH를 사용하여 24시간 내지 48시간 이내에 옥타페닐실세스퀴옥산이 절단되어, 상응하는 환형 소듐 실록사놀레이트를 제공한다. 실록사놀레이트는 메탄올 중 메틸트리클로로실란과 반응하여, 다이메톡시실릴 유도체를 제공하며, 이는 가수분해/축합을 받아, 비대칭성 실세스퀴옥산("야누스 실세스퀴옥산 큐브")을 형성할 수 있다.
DE　602004010461 T2(Samsung Electronics Co., 2004)는 이의 명세서에, 다관능성 환형 실록산 화합물, 예를 들어 [MeSiO(SiMe2Cl)O]4 및 [MeSiO(SiMe2-OMe)O]4를 포함한다.
상기 인용된 선행 기술에 따르면, 일반식 (1)의 환형 생성물은:
[RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)
일반식 (2a)의 상응하는 알칼리 금속 실리코네이트 또는 이들의 축합 생성물로부터:
RSi(OH)2OM (2a)
일반식 (3)의 할로실란과의 반응에 의해 수득가능하며:
R1R2R3Si-Hal (3)
상기 식 (1) 또는 (2a)에서, M은 알칼리 금속이며, R은 유기 라디칼이고, n은 3, 4, 5, 6, 7 또는 8이며,
상기 식 (3)에서, Hal은 할로겐 라디칼이고, R 1 , R 2 및 R 3 는 서로 독립적으로 수소 라디칼, 할로겐 라디칼, 또는 선택적으로 산소를 통해 결합된 유기 라디칼이다. 여기서, 일반식 (2a)에서 알칼리:규소 비율(M:Si)은 항상 1:1이다.
이들 실리코네이트는 일반식 (4)의 알콕시실란:
RSi(OR')3 (4)
또는 이의 가수분해물 1 몰 당량과 수성 알칼리 금속 하이드록사이드 1 몰 당량의 반응에 의해 수득된다. 식 (4)에서, R은 상기 정의를 가지며, R'는 저급 알킬 라디칼이다.
실리코네이트의 알칼리 금속 함량이 높은 결과, 일반식 (1)의 표적 생성물로의 완전한 전환은 실리코네이트 1 몰 당량 당 알칼리 금속 염을 1 몰 당량으로 생성하며, 재순환되거나 폐기되어야 하는 염은 비용이 비싸다. 높은 알칼리 금속 함량으로 인한 추가적인 단점은 염의 흡습성(hygroscopicity)이며, 알칼리 금속 함량이 증가함에 따라 흡습성이 증가하며, 이는, 선행 기술에 따라 사용되는 실리코네이트로부터 결정에서 결합되어 있거나 부착되어 있는 알코올 또는 수화 물을 제거하기가 어려움을 의미한다(Shchegolikhina, O.I. et　al., European Journal of Inorganic Chemistry, 2004, 1253-1261 참조). 그러나, 경제적인 이유로 인해, 일반식 (3)의 할로실란과의 반응에서 물-무함유 및 알코올-무함유 실리코네이트를 이용하는 것이 필수적인데, 그렇지 않으면 할로실란의 일부가 OH-관능성 2차 구성성분과의 반응에 소모되며, 실리코네이트와의 요망되는 반응에 이용가능하지 않기 때문이다. 건조가 완전히 수행되지 않는다면, 일반식 (1)의 표적 생성물로의 물-함유(moist) 및 알코올-함유 실리코네이트의 최대 전환에 있어서, 일반식 (3)의 할로실란을 과량으로 사용하는 것이 필수적이지만, 이로 인해 폐기를 필요로 하는 원하지 않는 2차 생성물이 수득되기 때문에 이는 비경제적이다. 또 다른 측면은 실리코네이트의 분해 경향이며, 이는 마찬가지로, 알칼리 금속 함량이 증가함에 따라 더 낮은 온도로 시프트되며, 건조 시간은 연장된다(cf. WO2012/022544). 지금까지 일반식 (2a)의 건조된 실리코네이트와 일반식 (3)의 할로실란과의 반응에 의해 발명에 따른 일반식 (1)의 실록산을 제조하기 위한 기술 문헌에 기재된 공정들은 항상 용매를 사용한다. 그러나, 반응 후, 이들 용매는 일반식 (1)의 표적 생성물로부터 고비용의 불편한 절차에서 다시 제거되어야 한다.
따라서, 본 발명의 목적은, 선행 기술에 기재된 단점들을 가지지 않는 일반식 (1)의 화합물의 제조 방법을 발견하는 것이었다.
본 발명의 주제는 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법으로서,
일반식 (1)의 환형 실록산은,
[RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)
일반식 (2)의 단위로 이루어진 실라놀의 알칼리 금속 염(알칼리 금속 실리코네이트로 알려져 있음), 이의 가수분해/축합 생성물, 또는 일반식 (2)의 실라놀의 알칼리 금속 염과 함께 이의 축합 생성물과:
R-Si(OH)3-m(OM)m (2),
일반식 (3)의 할로실란과의 반응에 의해 제조되며:
R1R2R3Si-Hal (3)
상기 식 (2)에서, 규소에 대한 양이온 M의 몰비는 1 미만이며,
상기 식 (1), (2) 또는 (3)에서,
m은 0, 1, 2 또는 3이고, 평균적으로는 0.1 내지 1 미만의 수이며,
n은 3, 4, 5, 6, 7 또는 8이며,
R은 탄소를 통해 결합된 유기 라디칼이며,
M은 알칼리 금속 양이온이며,
Hal은 할로겐 라디칼이고,
R 1 , R 2 및 R 3 는 서로 독립적으로 수소 라디칼, 할로겐 라디칼, 또는 탄소 또는 산소를 통해 결합된 유기 라디칼이다.
놀랍게도, 일반식 (3)의 할로실란과의 반응에서 알칼리 금속:규소의 비율이 1 미만인 일반식 (2)의 알칼리 금속 실리코네이트 또는 이의 축합 생성물은 일반식 (1)의 환형 실록산을 등몰 비율을 가진 것들과 유사한 수율로 생성한다는 것이 발견되었다. 또한, WO2012/022544에 따라 생성되는 알칼리 금속:규소 비율이 1 미만인 알칼리 금속 실리코네이트의 경우, 형성되는 일반식 (1)의 환형 실록산 구조의 분획은 사실상 등몰 경우에서보다 더 높은 것으로 발견되었다(실시예 1 참조).
본 발명의 공정의 이점은, 일반식 (2)의 실리코네이트에서의 보다 낮은 알칼리 금속 함량으로 인한 것이다. 이들 저-알칼리 실리코네이트는 보다 쉽게 그리고 보다 신뢰할 만하게 건조될 수 있다. 더욱이, 이들은 물 및 알코올과 거의 결합을 하지 않으며, 따라서, 일반식 (3)의 부가적인 양의 할로실란을 소모하지 않는다.
일반식 (2)의 단위로 이루어진, 공정에서 사용되는 실라놀의 알칼리 금속 염 및 이의 축합 생성물은 이하, 수합해서 실리코네이트 A로서 지칭된다.
본원에서, 라디칼 R은 바람직하게는 1개 내지 30개의 탄소 원자를 가진 1가, Si-C-결합된 탄화수소 라디칼이며, 이러한 라디칼은 비치환되거나 또는 할로겐 원자, C1-6 알킬기, C1-6 알콕시기 또는 실릴기에 의해 치환되며, 여기서, 하나 이상의 상호 비인접한(mutually nonadjacent) -CH2- 단위는 -O- 또는 -S- 기에 의해 대체될 수 있었다. 라디칼 R은 선형, 분지형, 환형, 방향족, 포화 또는 불포화될 수 있다.
바람직하게는 R은 1개 내지 18개의 탄소 원자를 가진 1가 탄화수소 라디칼이며, 이러한 라디칼은 비치환되거나 또는 할로겐 원자, 알콕시기 또는 실릴기에 의해 치환된다. 비치환된 알킬 라디칼, 사이클로알킬 라디칼, 알킬아릴 라디칼, 아릴알킬 라디칼 및 페닐 라디칼이 특히 바람직하다. 탄화수소 라디칼 R은 바람직하게는 1개 내지 6개의 탄소 원자를 가진다. 메틸, 에틸, 프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필, 비닐, n-헥실 및 페닐 라디칼이 특히 바람직하며, 매우 바람직하게는 메틸 라디칼 및 비닐 라디칼이고, 보다 특히 메틸 라디칼이다.
라디칼 R의 추가적인 예는:
n-프로필, 2-프로필, 클로로메틸, 메톡시메틸, 3-클로로프로필, 2-(트리메틸실릴)에틸, n-부틸, 2-부틸, 2-메틸프로필, tert-부틸, n-펜틸, 사이클로펜틸, n-헥실, 사이클로헥실, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, n-노닐, n-데실, n-운데실, 10-운데세닐, n-도데실, 이소트리데실, n-테트라데실, n-헥사데실, 비닐, 알릴, 벤질, p-클로로페닐, o-(페닐)페닐, m-(페닐)페닐, p-(페닐)페닐, 1-나프틸, 2-나프틸, 2-페닐에틸, 1-페닐에틸, 3-페닐프로필 라디칼이다. R의 추가적인 예로는, 라디칼 -(CH2O)o-R8, -(CH2CH2O)p-R9 및 CH2CH(CH3)O)q-R10이 있으며, 여기서, o, p 및 q는 1 내지 10, 보다 특히 1,2 또는 3의 값이다. 바람직하게는, R 8 , R 9 및 R 10 은 1개 내지 6개의 탄소 원자를 가진 알킬 라디칼이며, 이러한 라디칼은 비치환되거나 또는 할로겐 원자에 의해 치환된다. 라디칼 R 8 , R 9 및 R 10 의 예로는, 메틸, 에틸, 프로필, 알릴 및 부틸 라디칼이 있으며, 메틸 라디칼이 특히 바람직하다.
M은 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 세슘의 정의를 가지며, 나트륨 및 칼륨이 바람직하고, 칼륨이 특히 바람직하다.
일반식 (2)에서 M:Si의 몰비는 m의 평균값으로 표시되며, 바람직하게는 0.1 이상, 보다 바람직하게는 0.4 이상, 보다 특히 0.5 이상, 0.95 이하, 바람직하게는 0.85 이하, 보다 특히 0.75 이하이다.
M이 나트륨 및 칼륨의 정의를 가지는 경우, 사용되는 실리코네이트 A에서 K:Na의 몰비는 바람직하게는 0.8:0.2 내지 0.4:0.6, 보다 특히 0.7:0.3 내지 0.5:0.5이다.
바람직하게는, n은 4, 5 또는 6의 값을 가진다.
본 발명의 실리코네이트는 바람직하게는 WO2013/041385, WO2012/022544 및 WO2013/075969에 기술된 공정들에 의해 제조된다.
일반식 (3)의 할로실란에서 라디칼 R 1 , R 2 및 R 3 는 바람직하게는 수소 라디칼 또는 할로겐, C1-10 알콕시, C1-20 아릴옥시 라디칼, 또는 1개 내지 18개의 탄소 원자를 가진 1가 탄화수소 라디칼이며, 이러한 라디칼은 비치환되거나 또는 할로겐 원자, 알콕시기 또는 실릴기에 의해 치환된다. 수소, 플루오로, 클로로, 브로모, 요오도, C1-6 알콕시, C1-10 아릴옥시, 비치환된 C1-10 알킬 라디칼, C1-10 사이클로알킬 라디칼, C1-20 알킬아릴 라디칼, C1-20 아릴알킬 라디칼 및 페닐 라디칼이 특히 바람직하다. 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필, 비닐, n-헥실 및 페닐 라디칼이 특히 바람직하며, 특히 메틸 라디칼 및 비닐 라디칼이며, 보다 특히 메틸 라디칼이다.
라디칼 R 1 , R 2 및 R 3 의 추가적인 예는: n-프로필, 2-프로필, 클로로메틸, 메톡시메틸, 3-클로로프로필, 2-(트리메틸실릴)에틸, 2-(트리메톡시실릴)-에틸, 2-(트리에톡시실릴)에틸, 2-(다이메톡시메틸실릴)에틸, 2-(다이에톡시메틸실릴)에틸, n-부틸, 2-부틸, 2-메틸프로필, tert-부틸, n-펜틸, 사이클로펜틸, n-헥실, 사이클로헥실, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, n-노닐, n-데실, n-운데실, 10-운데세닐, n-도데실, 이소트리데실, n-테트라데실, n-헥사데실, 에티닐, 알릴, 벤질, p-클로로페닐, o-(페닐)페닐, m-(페닐)페닐, p-(페닐)페닐, 1-나프틸, 2-나프틸, 2-페닐에틸, 1-페닐에틸, 3-페닐프로필 라디칼이다.
일반식 (3)의 할로실란은 바람직하게는 클로로실란이다.
일반식 (3)의 클로로실란의 예는 SiCl4, HSiCl3, MeSiCl3, ViSiCl3, 알릴-SiCl3, PhSiCl3, HSiMeCl2, H2SiCl2, Me2SiCl2, ViSiMeCl2, PhSiMeCl2, H3SiCl, Me3SiCl, HSiMe2Cl, ViSiMe2Cl, PhSiMe2Cl, 알릴-SiMe2Cl, F3C-CH2CH2-SiMe2Cl, (EtO)3SiCl, (MeO)3SiCl, (EtO)2SiMeCl, (MeO)2SiMeCl, EtOSiMe2Cl, MeOSiMe2Cl, Cl-CH2-SiMe2Cl, Cl-CH2-SiMeCl2, Cl-CH2-SiCl3이다.
Me3SiCl, HSiMe2Cl, ViSiMe2Cl, PhSiMe2Cl, Cl-CH2-SiMe2Cl 및 알릴-SiMe2Cl이 특히 바람직하며, 보다 특히 Me3SiCl, HSiMe2Cl 및 ViSiMe2Cl이다.
할로실란은 바람직하게는 뮐러-로쇼어(Mueller-Rochow) 공정에 따라 메틸클로로실란 합성에서 제조되거나, 공지된 방법들(예, 하이드로실릴화, 친핵성 치환, 라디칼 치환)에 따라 화학 반응에 의해 후속(follow-on) 생성물로서 제조될 수 있으며, 통상 상업적으로 입수가능하다.
일반식 (1)의 화합물은 본 발명의 공정에 따라, 실리코네이트 A와 일반식 (3)의 할로실란과의 반응에 의해 수득된다. 이는, 실리코네이트 A를 할로실란에 첨가하거나, 또는 그 반대로 할로실란을 실리코네이트 A에 첨가함으로써 수행될 수 있다. 본원에서 유리하게는, 하나 이상의 구성성분은 액체 형태이며, 예컨대 현탁액 또는 용액 형태이다. 대기압 하에 실온에서, 대부분의 할로실란은 액체이며, 실리코네이트 A는 고체이다. 따라서, 실리코네이트 A를 불활성 용매에 용해 또는 현탁시키고, 순수한 형태 또는 불활성 용매 중 용액 형태의 액체 할로실란을 계량하여, 완전한 혼합으로 인해 매우 신속한 반응을 보장하는 것이 적절하다. 이용되는 용매는 바람직하게는 반양성자성(aprotic) 극성 및 비극성(unpolar) 유기 용매이며, 예로는, 선형, 분지형 또는 환형 알칸, 예컨대 n-펜탄, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄, 이소헥산, 이소옥탄, 사이클로헥산, 방향족, 예컨대 벤젠, 톨루엔, o-자일렌, m-자일렌, p-자일렌, 에테르, 예컨대 다이에틸 에테르, 다이프로필 에테르, 다이부틸 에테르, 메틸 tert-부틸 에테르, 페닐 메틸 에테르, 다이페닐 에테르, 테트라하이드로푸란, 다이옥산, 테트라하이드로피란, 4-메틸테트라하이드로피란, 에틸렌 글리콜 다이메틸 에테르, 다이에틸렌 글리콜 다이메틸 에테르, 트리에틸렌 글리콜 다이메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 다이부틸 에테르 또는 실록산, 예컨대 헥사메틸다이실록산, 옥타메틸트리실록산, 옥타메틸사이클로테트라실록산, 데카메틸사이클로펜타실록산, 메틸트리스트리메틸실록시실란 또는 서로 다른 용매들의 혼합물이다.
반응에서 형성된 수소 할라이드를 스캐빈지(scavenge)하기 위해, 보조 염기를 첨가하는 것이 가능하다. 사용될 수 있는 보조 염기는 염기성 염 또는 질소-함유 화합물, 예컨대 아민, 우레아, 이민, 구아니딘 및/또는 아미드이다. 염기성 염의 예로는, 소듐 카르보네이트, 소듐 수소카르보네이트, 포타슘 카르보네이트, 포타슘 수소카르보네이트, 칼슘 카르보네이트, 칼슘 수소카르보네이트, 칼슘 옥사이드, 마그네슘 카르보네이트 및 마그네슘 옥사이드가 있다. 질소-함유 화합물의 예로는, 암모니아, 에틸아민, 부틸아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 우레아, 테트라메틸우레아, 구아니딘, 테트라메틸구아니딘, N-메틸이미다졸, N-에틸이미다졸, 피페리딘, 피리딘 및 피콜린이 있다. 바람직하게 이용되는 질소 화합물은 질소 원자가 수소를 갖지 않는 화합물이다.
보조 염기는 바람직하게는, 실리코네이트 A에 대해 적어도 등몰 비율로 사용된다. 실리코네이트 A 중 규소의 각각의 몰 당량에 대해, 보조 염기를 0.5 이상, 보다 바람직하게는 1.0 이상, 보다 특히 2.0 이상의 염기 등량으로 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 첨가되는 보조 염기의 양을 더 많은 양으로 사용하는 것이 가능하긴 하지만, 이러한 양은 일반적으로 임의의 이점을 가져다 주지 않으며, 그 대신에 공간/시간 수율을 감소시키고, 따라서, 공정의 수익성을 저하시킨다. 보조 염기는 바람직하게는, 실리코네이트 A와 초기 차지(initial charge)에서 포함되며, 일반식 (3)의 할로실란이 계량된다. 대안적으로는, 2개의 반응물 둘 다 보조 염기와 평행하게 계량될 수 있으며, 이는 초기 차지에 포함된다. 서로 다른 보조 염기들의 혼합물이 마찬가지로 사용될 수 있다.
본 발명의 공정의 하나의 바람직한 구현예에서, 실리코네이트 A는 보조 염기를 사용하지 않고 용매를 사용하지 않고도, 일반식 (3)의 할로실란과 직접적으로 반응된다. 이러한 경우, 본 발명의 공정의 추가적인 이점이 구현된다: 상대적으로 낮은 알칼리 금속 분획으로 인해, 실리코네이트 A는 유리(free) SiOH 기를 함유하며, 일반식 (3)의 할로실란의 반응에서 기체 수소 할라이드를 발생시킨다. 이러한 수소 할라이드는 예를 들어 조합된 수소 클로라이드 시스템에서 생산 작동으로 쉽게 되돌아갈 수 있으며, 따라서, 저렴하게 재순환될 수 있다. 보조 염기가 존재하지 않는 경우, 실리코네이트 A는 바람직하게는 할로실란으로 계량된다. 바람직하게는, 이러한 공정에서 형성되는 수소 할라이드 기체는 불활성 기체 스트림에 의해 수행되거나, 또는 이것이 형성되자마자 반응 혼합물로부터 감압에 의해 제거되어, 실리코네이트 A와 수소 할라이드 사이에서 원하지 않는 2차 반응이 방지된다.
바람직하게는, 일반식 (3)의 할로실란은 실리코네이트 A에 대해 적어도 등몰 비율로 사용된다. 실리코네이트 규소 각 몰 당량에 대해, 일반식 (3)의 할로실란은 바람직하게는 0.5 이상, 보다 바람직하게는 1.0 이상, 보다 특히 1.5 이상의 몰 당량으로 사용된다.
실리코네이트 A 1 몰 당량 당 할로실란을 30 몰 당량 이하, 보다 바람직하게는 10 몰 당량 이하, 보다 특히 6 몰 당량 이하로 사용하는 것이 바람직하다. 분자간 축합 반응 및 분자내 축합 반응을 방지하기 위해, 일반식 (3)의 실란에서 규소-결합된 할로겐의 비율이 클수록, 일반식 (3)의 할로실란의 선택된 과량이 더 높으며, 이는 비조절된 형태에서 가교된 구조를 초래할 수 있다.
일반식 (3)의 서로 다른 할로실란들과 실리코네이트 A의 혼합물 또한 사용될 수 있다. 또한, 특히 보조 염기를 사용하는 경우, 실리코네이트 A는 일반식 (3)의 할로실란의 서브화학양론적 비율과 우선 연속적으로 반응한 후, 일반식 (3)의 제2 할로실란과 반응하는 것이 가능하다. 이러한 경로에 의해, 서로 다른 단위들 SiR1R2R3를 가진 일반식 (1)의 실록산을 이용(access)하는 것이 또한 가능하다.
실리코네이트 A와 일반식 (3)의 할로실란과의 반응은 바람직하게는 -20℃ 이상, 보다 바람직하게는 0℃ 이상, 보다 특히 10℃ 이상의 온도에서 수행된다. 달성가능한 최대 온도는 부가적으로는, 최저-비점 구성성분의 비점을 가진 생성물이다.
실리코네이트 A의 분해를 방지하기 위해, 반응 온도는 바람직하게는 200℃를 초과하지 않으며, 보다 바람직하게는 반응 온도는 120℃ 이하, 보다 특히 70℃ 이하이다.
이러한 맥락에서, 반응 혼합물은 냉각 및 가열될 수 있으며, 개별 구성성분들은 또한 서로 접촉되기 전에, 특정 온도까지 될 수 있으며, 이로써, 예를 들어 반응열이 이용될 수 있다.
이러한 공정은 예를 들어 교반 메커니즘에서 회분식으로 수행될 수 있거나, 또는 예를 들어 루프 또는 튜브 반응기 또는 유동층 반응기 또는 패들 드라이어(paddle dryer)에서 연속적으로 수행될 수 있다. 실리코네이트 A가 고체 또는 현탁액으로서 계량되는 경우, 이러한 계량은 솔리즈 락(solids lock)(예, 컨베이어 스크류 또는 스타휠 락(starwheel lock))을 통해 발생할 수 있다.
실리코네이트 A와 일반식 (3)의 할로실란과의 반응은 통상 일반식 (1)의 서로 다른 실록산들의 혼합물을 생성하며, 이들은 고리 크기(ring size)(지수 n) 및/또는 입체 배치가 상이할 수 있다. 선택적으로, 환형 구조보다 선형으로 분지화된 구조를 가진 실록산 2차 생성물이 부가적으로는 최소 범위로 형성된다. 많은 경우, 형성된 염 및 존재하는 임의의 용매 또는 다른 보조제들이 제거된 후, 이들 혼합물은 직접 사용될 수 있다. 그러나, 반응 혼합물에서 특정 화학종의 단리 또는 축적이 요망되는 경우, 이는 바람직하게는, 생성되는 염을 반응 혼합물로부터 제거한 후, 분별 증류 또는 결정화에 의해 수행된다.
선택적으로 사용되는 알칼리 금속 실리코네이트 및 보조 염기로부터의 반응에서 형성되는 할라이드 염은 증류 또는 결정화 전 또는 후에, 여과에 의한 제거, 또는 수중 용해 및 수용액 형태에서의 제거를 받을 수 있다. 수성 작업에 있어서, 부가적으로는, 수중 용해도가 극도로 낮은 용매, 보다 특히 25℃에서 5 중량% 이하인 용매를 첨가하는 것이 가능하다. 존재하는 일반식 (3)의 할로실란의 임의의 과량은 바람직하게는, 수성 작업 전에 증류에 의해 제거된다. 그러나, 일반식 (1)의 실록산이 특히 수분-민감성 라디칼, 예컨대 할로겐 라디칼 또는 알콕시 라디칼을 가지거나, 또는 수중 용해도가 높은 경우, 본 발명의 일반식 (1)의 실록산의 제거 전의 수성 작업은 바람직하지 않다. 이러한 경우, 알칼리 금속 염을 여과 및 후속적인 증류 또는 결정화에 의해 제거하는 것이 바람직하다. 여과물의 순도가 본 발명의 일반식 (1)의 실록산의 사용에 충분하다면, 또는 2차 생성물이 반응 혼합물의 사용에 부작용을 미치지 않는다면, 정제를 수행하는 것이 불필요할 수 있다.
선택적으로 여과된 반응 혼합물로부터 또는 비-수성상, 및 선택적으로 수성 작업의 추출물로부터 표적 생성물을 증류하는 것은, 바람직하게는 단기 경로에 의해 반응 용기로부터 직접 수행될 수 있거나, 또는 종래의 증류 장치에서, 예컨대 버블 트레이, 고정식-밸브 트레이 또는 랜덤 또는 구조화된 패킹(packing)이 구비된 정류 컬럼(rectifying column)에서, 또는 낙하-필름 또는 박막 증발기에서, 및 단기-경로 증류 유닛에서, 회분식으로 또는 (준)연속식으로 수행될 수 있다. 또한, 서로 다른 증류 장치들이 연속적으로 이용될 수 있으며; 예를 들어, 과량의 할로실란 또는 용매와 같은 저 비점의 물질들이 다량으로 증류에 의해 반응 용기로부터 제거될 수 있으며, 이후, 잔류물은 증류 장치에서 분별 정제를 받을 수 있다. 본 발명의 일반식 (1)의 실록산의 증류 또는 선택적으로 승화는 단리 또는 정제에 대한 또 다른 가능성을 나타낸다.
가수분해에 대한 할로실란의 민감성의 측면에서, 실리코네이트 A와 일반식 (3)의 할로실란의 반응은 바람직하게는 수분의 부재 하에, 즉, 건조된 분위기에서 또는 감압 하에, 보다 바람직하게는 불활성 기체, 예컨대 질소, CO2, 아르곤 또는 린 에어(lean air) 하에, 바람직하게는 900 hPa 내지 1100　hPa에서 수행된다.
바람직하게는, 일반식 (1)의 하기 실록산이 본 발명의 공정에 의해 제조된다:
[Vi-Si(OSiMe3)O]4, [Me-Si(OSiMe3)O]4, [Ph-Si(OSiMe3)O]4, [Ph-Si(OSiMe2Ph)O]4, [Ph-Si(OSiMe3)O]3, [Ph-Si(OSiMe2Ph)O]3, [Vi-Si(OSiMe2H)O]4, [Me-Si(OSiMe2H)O]4, [Ph-Si(OSiMe2H)O]4, [Ph-Si(OSiMe2H)O]3, [Vi-Si(OSiMe2Vi)O]4, [Me-Si(OSiMe2Vi)O]4, [Ph-Si(OSiMe2Vi)O]4, [Ph-Si(OSiMe2Vi)O]3, [Vi-Si(OSiMe2Cl)O]4, [Me-Si(OSiMe2Cl)O]4, [Ph-Si(OSiMe2Cl)O]4.
상기 식들에서 상기 기호들은 모두 각각 독립적으로 서로 이들의 정의를 가진다. 모든 식들에서, 규소 원자는 4가이다.
하기 본 발명의 실시예 및 비교예에서, 각각의 경우 다르게 명시되지 않는 한, 모든 양에 대한 숫자 및 백분율 숫자는 중량에 의한 것이며, 모든 반응들은 1000　hPa(abs.)의 압력에서 수행된다.
고체 함량은 각각의 경우, 160℃에서 Mettler Toledo사의 HR73 할로겐 모이스처 어낼라이저를 사용하여 확인된다.
실시예 시리즈 1: 실리코네이트 A에서의 알칼리 금속/Si 비율과 형성되는 환형 실록산 비율 사이의 관계를 보여준다(표적 생성물은 단리되지 않음).
a) 실리코네이트 분말의 제조
우선, WO2012/022544 (PCT/EP2011/061766)의 제조예 1에 따라, 실리코네이트 분말을 메틸트리메톡시실란, 서로 다른 비율의 KOH 및/또는 NaOH 및 물로부터 제조하였다. 각각의 경우 고체 함량은 99.5% 이상이었다.
b) 클로로실란과의 반응
Isopar E(비점 범위가 113-143℃인 이소파라핀 탄화수소 혼합물, ExxonMobil사로부터 상업적으로 입수가능함) 10　ml을 20℃에서 트리에틸아민(Aldrich) 4　g (0.04　mol)과 혼합한 후, 각각의 경우에 미분된 실리코네이트 분말(K/Na 함량에 따라 0.008-0.0096　mol) 1 g을 조심스럽게 첨가한다. 10분 동안 교반하고, 트리메틸클로로실란 4　g(0.036　mol)을 계량한다. 혼합물은 온도가 증가하며, 백색 침전물이 형성된다. 교반을 20℃에서 6시간 동안 수행하며, 물 7　g(0.388　mol)을 첨가하고, 교반을 30분 동안 격렬하게 연속적으로 수행한다. 암모늄 클로라이드 침전물을 용해시키고; 용해되지 않은 구성성분을 여과에 의해 제거하고, 칭량하며; 깨끗한 2-상 혼합물의 상부 유기 상(phase)의 조성을 29Si-NMR에 의해 확인한다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예 1.1*) 1.2 1.3 1.4 1.5 1.61) 1.7
알칼리 금속/Si
(몰비)		 1.05
K		 0.75
K		 0.65
K		 0.65
K/Na
0.9/0.1		 0.65
K/Na
0.7/0.3		 0.65
K/Na
0.6/0.4		 0.65
K/Na 0.5/0.5
2)(MT)4 0 57.3 62 69 82 78 74
3)(M2T)2 83 32 34 24 11.5 2.9 3.8
4)　불용성
분획		 8 13 17 17 12 11 14
*) 본 발명이 아님
1) WO2012/022544의 실시예 7로부터 사용된 실리코네이트 분말
2) (+8.4　ppm, -67　ppm에서의 피크들의) 29Si-NMR에 따른 MeSiO3 /2-함유 규소 화합물 중 [MeSi(OSiMe3)O]4의 몰 분획
3)　(7.3　ppm, -66.1　ppm에서의 피크들의) 29Si-NMR에 따른 MeSiO3 /2-함유 규소 화합물 중 [MeSi(OSiMe3)2O1/2]2의 몰 분획
4) 실리코네이트 분말의 초기 질량에 대한 중량%.
이로부터, 반응 혼합물 내 환형 표적 생성물의 비율이 알칼리 금속 함량이 저하됨에 따라 증가하고, 정해진(defined) 나트륨 분획이 선택성을 증가시킴을 알 수 있다.
실시예　2: [MeSi(OSiMe2Vi)O]4
질소를 사용하여 불활성 상태로 되었으며 패들 교반기, 온도계, 솔리즈 락, 및 탑-마운티드 컬럼 부착기(축합기)와 함께 20　cm Vigreux 컬럼이 장착된 0.5　l, 5-목 플라스크에 비닐다이메틸클로로실란(WACKER CHEMIE AG) 181　g(1.5　mol)을 충전한다. 솔리즈 락을 통해, 교반하면서 SILRES BS 분말 S(WACKER CHEMIE AG, K:Si 몰비가 0.65인 포타슘 메틸실리코네이트 분말) 56.5　g(0.5　mol, 0.325　mol 칼륨)을, 반응 혼합물의 온도가 25℃를 초과하지 않게 하는 속도(~3:45　h)에서 계량한다. 후속해서, 기체 발생이 더 이상 확인될 수 없을 때까지(~1　h), 반응 혼합물을 환류에서 가열한다. 교반하면서, 완전히 탈미네랄화된 물 160 g을 첨가한다. 하부 상(bottom phase)을 배수하고, 상부 상(upper phase)을 감압 하에 분별 증류한다. 표적 생성물을 120-128℃의 비점 범위 및 2　hPa에서 수용기(receiver)에 전달한다.
단리된 생성물은 깨끗한 무색 액체 31.2　g이며(=　이론적으로 40%), 이는 1H-NMR, 29Si-NMR 및 GC-MS에 따라 순도가 98.5%인 사이클로실록산 [MeSi(OSiMe2Vi)O]4의 이성질체 혼합물이다.
실시예　3: [MeSi(OSiMe2H)O]4
질소를 사용하여 불활성 상태로 되었으며 패들 교반기, 온도계, 솔리즈 락, 및 탑-마운티드 컬럼 부착기(축합기)와 함께 20　cm Vigreux 컬럼이 장착된 0.5　l, 5-목 플라스크에 다이메틸클로로실란(WACKER CHEMIE AG) 113.1　g(1.19　mol)을 충전한다. 솔리즈 락을 통해, 교반하면서 SILRES BS 분말 S(WACKER CHEMIE AG, K:Si 몰비가 0.65인 포타슘 메틸실리코네이트 분말) 45　g(0.4　mol, 0.26　mol 칼륨)을, 반응 혼합물의 온도가 25℃를 초과하지 않게 하는 속도(~2　h)에서 계량한다. 후속해서, 기체 발생이 더 이상 확인될 수 없을 때까지(~1　h), 반응 혼합물을 환류에서 가열한다. 교반하면서, 완전히 탈미네랄화된 물 68 g을 첨가한다. 하부 상을 배수하고, 상부 상을 감압 하에 분별 증류한다. 표적 생성물을 100-105℃의 비점 범위 및 2　hPa에서 수용기에 전달한다.
단리된 생성물은 깨끗한 무색 액체 34.1g이며(=　이론적으로 64%), 이는 1H-NMR, 29Si-NMR 및 GC-MS에 따라 순도가 98%인 사이클로실록산 [MeSi(OSiMe2H)O]4의 이성질체 혼합물이다.
실시예　4: [ViSi(OSiMe2H)O]4
a)　포타슘 비닐-실리코네이트(K:Si　=　0.65)의 제조
질소를 사용하여 불활성 상태로 되었으며 패들 교반기, 온도계, 2개의 낙하 깔대기, 및 탑-마운티드 컬럼 부착기(축합기)와 함께 물 분리기가 장착된 2　l, 4-목 플라스크에 비닐트리메톡시실란(WACKER CHEMIE AG사의 Geniosil® XL　10) 422　g(2.83　mol) 및 36.6% 강도 포타슘 하이드록사이드 용액(KOH 1.84　mol) 282　g이 든 2개의 낙하 깔대기로부터 교반하면서 동시에 10분 동안 충전하며, 이때, 장치를 22℃까지 조건화시킨다. 방출된 반응열은 혼합물로 하여금 온도 증가를 수행하도록 유발한다. 깨끗한 반응 혼합물을 환류에서 30분 동안 (약 72℃에서) 가열하며, 이후, 증류물 142.9 g을 취한다. 그런 다음, Isopar E(비점 범위가 113-143℃인 이소파라핀 탄화수소 혼합물, ExxonMobil사로부터 상업적으로 입수가능함) 800 g을 첨가한다. 혼합물을 물 증발기 상에서의 환류 하에 가열한다. 증류물은 물 증발기에서 하부 상으로서 분리되어 나온다. 118℃의 비점 이하에서, 깨끗한 무색 증류물 228.8 g이 수합되며, 이를 제1 증류물과 함께 통합한다. 조합된 증류물을 기체 크로마토그래피에 의해 분석하면, 73.2%의 메탄올 함량, 26.6%의 물 함량 및 0.2%의 Isopar E 함량이 수득된다. 따라서, 비닐트리메톡시실란에서 메톡시 라디칼의 가수분해는 정량적이다. 증류 동안, 페이스트유사 백색 고체가 반응 혼합물에서 분리되어 나오며, 미세 입자로 점점 분해되어, 현탁액을 형성한다. 공비(azeotropic) 건조 후, 용매를 120℃에서 증류에 의해 제거하고, 고체 잔류물을 120℃ 및 10　hPa에서 1시간 동안 건조한다. 이로써, 고체 함량이 99.5%(160℃에서 Mettler Toledo사의 HR73 할로겐 모이스처 어낼라이저를 사용하여 확인됨)인 미세한 백색의 자유-유동 분말 326.5　g이 수득된다. 이로부터, 포타슘 비닐실리코네이트에 대한 평균 몰 질량이 115　g/mol인 것으로 계산할 수 있다.
b)　실록산 [ViSi(OSiMe2H)O]4의 제조
질소를 사용하여 불활성 상태로 되었으며 패들 교반기, 온도계, 솔리즈 락, 및 탑-마운티드 컬럼 부착기(축합기)와 함께 20　cm Vigreux 컬럼이 장착된 0.5　l, 5-목 플라스크에 다이메틸클로로실란(WACKER CHEMIE AG) 114.6　g(1.2　mol)을 -15℃에서 충전한다. 솔리즈 락을 통해, 교반하면서 a)로부터의 포타슘 비닐-실리코네이트 50　g(0.43　mol, 0.28　mol 칼륨)을, 반응 혼합물의 온도가 25℃를 초과하지 않게 하는 속도(45분)에서 계량한다. 후속해서, 기체 발생이 더 이상 확인될 수 없을 때까지(~1　h), 반응 혼합물을 환류에서 가열한다. 교반하면서, 완전히 탈미네랄화된 물 112.5 g 중 에탄올 37.5 g의 용액을 첨가한다. 하부 상을 배수하고, 상부 상을 감압 하에 분별 증류한다. 표적 생성물을 135-137℃의 비점 범위 및 4　hPa에서 수용기에 전달한다.
단리된 생성물은 깨끗한 무색 액체 21.6　g이며(=　이론적으로 34%), 이는 1H-NMR 및 29Si-NMR에 따라 순도가 94%인 사이클로실록산 [비닐Si(OSiMe2H)O]4의 이성질체 혼합물이다.
실시예　5: [ViSi(OSiMe2Vi)O]4
질소를 사용하여 불활성 상태로 되었으며 패들 교반기, 온도계, 솔리즈 락, 및 탑-마운티드 컬럼 부착기(축합기)와 함께 20　cm Vigreux 컬럼이 장착된 0.5　l, 5-목 플라스크에 비닐다이메틸클로로실란(WACKER CHEMIE AG) 147.6　g(1.2　mol)을 20℃에서 충전한다. 솔리즈 락을 통해, 교반하면서 실시예 4a)로부터의 포타슘 비닐-실리코네이트 50　g(0.43　mol, 0.28　mol 칼륨)을, 반응 혼합물의 온도가 25℃를 초과하지 않게 하는 속도(85분)에서 계량한다. 후속해서, 기체 발생이 더 이상 확인될 수 없을 때까지(~1　h), 반응 혼합물을 환류에서 가열한다. 교반하면서, 완전히 탈미네랄화된 물 150 g 중 에탄올 20 g의 용액을 첨가한다. 하부 상을 배수하고, 상부 상을 감압 하에 분별 증류한다. 표적 생성물을 120-166℃의 비점 범위 및 4　hPa에서 수용기에 전달한다.
단리된 생성물은 깨끗한 무색 액체 20.3　g이며(=　이론적으로 28%), 이는 1H-NMR 및 29Si-NMR에 따라 순도가 93%인 사이클로실록산 [비닐Si(OSiMe2비닐)O]4의 이성질체 혼합물이다.
실시예　6: [ViSi(OSiMe3)O]4
질소를 사용하여 불활성 상태로 되었으며 패들 교반기, 온도계, 솔리즈 락, 및 탑-마운티드 컬럼 부착기(축합기)와 함께 20　cm Vigreux 컬럼이 장착된 0.5　l, 5-목 플라스크에 트리메틸클로로실란(WACKER CHEMIE AG) 132.9　g(1.2　mol)을 21℃에서 충전한다. 솔리즈 락을 통해, 교반하면서 실시예 4a)로부터의 포타슘 비닐-실리코네이트 50　g(0.43　mol, 0.28　mol 칼륨)을, 반응 혼합물의 온도가 25℃를 초과하지 않게 하는 속도(120분)에서 계량한다. 후속해서, 기체 발생이 더 이상 확인될 수 없을 때까지(~1　h), 반응 혼합물을 환류에서 가열한다. 교반하면서, 완전히 탈미네랄화된 물 150 g 중 에탄올 50 g의 용액을 첨가한다. 하부 상을 배수하고, 상부 상을 감압 하에 분별 증류한다. 표적 생성물을 120-130℃의 비점 범위 및 5　hPa에서 수용기에 전달한다.
단리된 생성물은 깨끗한 무색 액체 24.8　g이며(=　이론적으로 37%), 이는 1H-NMR 및 29Si-NMR에 따라 순도가 97%인 사이클로실록산 [비닐Si(OSiMe3)O]4의 이성질체 혼합물이다.
비교예 C1:
a)　포타슘 비닐-실리코네이트(K:Si　=　1)의 제조
실시예　4a)와 유사한 절차에서, 비닐트리메톡시실란(WACKER CHEMIE AG사의 Geniosil® XL 10) 300　g(2　mol)을 45% 강도 포타슘 하이드록사이드 용액(KOH 2　mol) 251.4　g과 반응시킨다. 후속적으로, 깨끗한 반응 혼합물을 Isopar E(비점 범위가 113-143℃인 이소파라핀 탄화수소 혼합물, ExxonMobil사로부터 상업적으로 입수가능함) 1200 g을 사용하여 공비 건조한다. 이로써, 고체 함량이 98.5%(160℃에서 Mettler Toledo사의 HR73 할로겐 모이스처 어낼라이저를 사용하여 확인됨)인 미세한 백색 자유-유동 분말 260 g이 수득된다. 이로부터, 포타슘 비닐실리코네이트에 대한 평균 몰 질량이 128　g/mol인 것으로 계산할 수 있다.
b)　포타슘 비닐실리코네이트 6a)와 트리메틸클로로실란과의 반응
질소를 사용하여 불활성 상태로 되었으며 패들 교반기, 온도계, 솔리즈 락, 및 탑-마운티드 컬럼 부착기(축합기)와 함께 20　cm Vigreux 컬럼이 장착된 0.5　l, 5-목 플라스크에 트리메틸클로로실란(WACKER CHEMIE AG) 156.4　g(1.44　mol)을 22℃에서 충전한다. 솔리즈 락을 통해, 교반하면서 비교예 C1a)로부터의 포타슘 비닐-실리코네이트 50　g(0.39　mol, 0.39　mol 칼륨)을, 반응 혼합물의 온도가 25℃를 초과하지 않게 하는 속도(120분)에서 계량한다. 후속해서, 기체 발생이 더 이상 확인될 수 없을 때까지(~1　h), 반응 혼합물을 환류에서 가열한다. 교반하면서, 완전히 탈미네랄화된 물 125 g 중 에탄올 125 g의 용액을 첨가한다. 상 분리를 개선하기 위해, 소듐 클로라이드 13.3 g을 첨가한다. 수성 하부 상을 배수한다. 상부 유기 상을 감압 하에 증류할 때, 고체 잔류물이 형성되며, 이러한 잔류물은 증류될 수 없으며, 용융점이 300℃보다 높다.

Claims (8)

  1. 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법으로서,
    일반식 (1)의 환형 실록산은,
    [RSi(OSiR1R2R3)O]n (1)
    일반식 (2)의 단위로 이루어진 실라놀의 알칼리 금속 염(알칼리 금속 실리코네이트로 알려져 있음), 이의 가수분해/축합 생성물, 또는 일반식 (2)의 실라놀의 알칼리 금속 염과 함께 이의 축합 생성물과:
    R-Si(OH)3-m(OM)m (2),
    일반식 (3)의 할로실란과의 반응에 의해 제조되며:
    R1R2R3Si-Hal (3)
    상기 식 (2)에서, 규소에 대한 양이온 M의 몰비는 1 미만이며,
    상기 식 (1), (2) 또는 (3)에서,
    m은 0, 1, 2 또는 3이고, 평균적으로는 0.1 내지 1 미만의 수이며,
    n은 3, 4, 5, 6, 7 또는 8이며,
    R은 탄소를 통해 결합된 유기 라디칼이며,
    M은 알칼리 금속 양이온이며,
    Hal은 할로겐 라디칼이고,
    R 1 , R 2 및 R 3 는 서로 독립적으로 수소 라디칼, 할로겐 라디칼, 또는 탄소 또는 산소를 통해 결합된 유기 라디칼인, 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    R이 1개 내지 30개의 탄소 원자를 가진 1가, Si-C-결합된 탄화수소 라디칼이며, 상기 라디칼은 비치환되거나 또는 할로겐 원자, C1-6 알킬기, C1-6 알콕시기 또는 실릴기에 의해 치환되며, 여기서, 하나 이상의 상호 비인접한(mutually nonadjacent) -CH2- 단위가 -O- 또는 -S- 기에 의해 대체될 수 있었던 것을 특징으로 하는, 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    M이 나트륨 및 칼륨으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 일반식 (2)에서 M:Si의 몰비가 0.4 내지 0.85인 것을 특징으로 하는, 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 일반식 (3)의 할로실란에서, 라디칼 R 1 , R 2 및 R 3 가 수소, C1-10 알콕시 라디칼, C1-20 아릴옥시 라디칼, 또는 1개 내지 18개의 탄소 원자를 가진 1가 탄화수소 라디칼로부터 선택되며, 상기 라디칼은 비치환되거나 또는 할로겐 원자, 알콕시기 또는 실릴기에 의해 치환되는 것을 특징으로 하는, 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 일반식 (3)의 할로실란이 클로로실란인 것을 특징으로 하는, 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반응이 0℃ 내지 120℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반응이 보조 염기(auxiliary base) 없이 수행되는 것을 특징으로 하는, 일반식 (1)의 환형 실록산의 제조 방법.
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