JP2004062924A - 半導体記憶装置及びその初期化方法 - Google Patents

半導体記憶装置及びその初期化方法 Download PDF

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村久木 康夫
Hiroshige Hirano
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Abstract

【課題】不揮発性メモリセルを有する半導体記憶装置に格納するチップデータの信頼性を向上すると共に、装置の初期化動作の信頼性を向上できるようにする。
【解決手段】半導体記憶装置は、不揮発性メモリセルを有するメモリセルブロック11〜14を有している。各メモリセルブロック11〜14は、半導体記憶装置の動作パラメータを含むチップデータを格納するチップデータ格納領域11b〜14bと、該チップデータ格納領域ごとに設けられ、格納されたチップデータの有効性を示すパスフラグ格納領域11c〜14cとを有している。各チップデータ格納領域11c〜14cには、すべて同一のチップデータが格納されている。
【選択図】    図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置及びその初期化方法に関し、特に、強誘電体からなる容量膜を持つキャパシタを有する不揮発性半導体記憶装置及びその初期化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、電源がオフにされた状態であっても、記録されたデータを保持し続ける不揮発性メモリ装置は、FLASH、EEPROM、又はFeRAM等のように、多くの半導体記憶装置に利用されるようになってきている。
【0003】
これらの不揮発性メモリ装置及び該不揮発性メモリ装置を用いたシステムにおいては、不揮発性メモリ装置のメモリ部にその動作モードやシステムの動作モードを記憶してシステムの最適化を図ったり、また、メモリ部が冗長救済を行なう構成である場合には、システムが使用するメモリ部に欠陥があれば冗長救済アドレスを保持しておき、保持された冗長救済アドレスを用いてメモリ部の欠陥の救済を行なっている。
【0004】
従来、メモリ部の動作モード、システムの動作モードの最適化及び冗長救済を実現するには、あらかじめ動作モード及び冗長救済アドレス等を含むチップデータを不揮発性メモリ部の所定領域に格納しておき、電源を投入した後に、該所定領域からチップデータを読み出して初期設定を行なうことにより、不揮発性メモリ部の動作モードの初期化、システム動作モードの初期化、及び冗長救済の設定等を行なっている。
【0005】
以下、従来の不揮発性メモリを有する半導体記憶装置について図面を参照しながら説明する。
【0006】
図7は従来の半導体記憶装置の回路構成を示している。
【0007】
図7に示すように、従来の半導体記憶装置は、それぞれが複数の不揮発性メモリセルからなり、行列状に配置された、ユーザデータの格納領域(通常メモリセル)である第1のメモリセルブロック101、第2のメモリセルブロック102、第3のメモリセルブロック103及び第4のメモリセルブロック104を有している。
【0008】
第1のメモリセルブロック101には、通常メモリセル101aの他に、例えば、メモリセルブロックの動作モード及び冗長救済アドレス等を含むチップデータを格納するチップデータ格納領域101bが設けられている。
【0009】
各メモリセルブロック101〜104はメモリ制御回路110と接続されており、メモリ制御回路110は、マイクロコンピュータ120からの外部コマンドをデコードするコマンドデコーダ111から内部制御信号を受信する。また、メモリ制御回路110は、動作モード及び冗長救済アドレスを一次的に格納するシステムレジスタ112と接続されている。
【0010】
このように構成された半導体記憶装置は、その初期化動作として、電源が投入された後に、マイクロコンピュータ120が、メモリ制御回路110を介して、チップデータ格納領域101bからチップデータを読み出してシステムレジスタ112に書き込むことにより、装置の動作モードの設定及び冗長救済処理等を行なっている。ここで、この初期化動作が正常に行なわれるには、チップデータ格納領域101bがメモリ検査工程において必ず合格(パス)している必要があり、該チップデータ格納領域101bに1つのアドレスでも不合格(フェイル)があれば、その半導体チップは不良品とされる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
このように、前記従来の半導体記憶装置は、チップデータ格納領域101bのうち1つのアドレスに欠陥があると、メモリセルブロック101〜104に欠陥がなくても、その半導体チップは不良品と判定されてしまうという第1の問題がある。
【0012】
また、初期化動作は、電源の投入直後に行なわれるため、電源電圧が不安定な状態となる場合があり、通常の動作時と比べて信頼性が高い動作を要求されるものの、従来は、何らの対策も講じられていないという第2の問題がある。
【0013】
また、初期化動作中に、外部コマンドが入力されるとシステムの動作モードの設定、及び冗長救済のアドレス情報が失われるおそれがあり、特に、破壊読み出しを行なうFeRAM装置のような場合は大きな問題(第3の問題)となる。
【0014】
本発明は、前記従来の問題を解決し、不揮発性メモリセルを有する半導体記憶装置に格納するチップデータの信頼性を向上することを第1の目的とし、装置の初期化動作の信頼性を向上することを第2の目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】
前記第1の目的を達成するため、本発明に係る第1の半導体記憶装置は、不揮発性メモリセルを有するメモリセルブロックを備えた半導体記憶装置を対象とし、メモリセルブロックは、半導体記憶装置の動作パラメータを含むチップデータを格納する複数のチップデータ格納領域と、該複数のチップデータ格納領域ごとに設けられ、格納されたチップデータの有効性を示すパスフラグ格納領域とを有し、複数のチップデータ格納領域には、すべて同一のチップデータが格納されている。
【0016】
第1の半導体記憶装置によると、複数のチップデータ格納領域と、該複数のチップデータ格納領域ごとに設けられ、格納されたチップデータの有効性を示すパスフラグ格納領域とを有し、複数のチップデータ格納領域には、すべて同一のチップデータが格納されているため、例えば、n個(但し、nは2以上の整数)のチップデータ格納領域を設けた場合には、そのうちの1つのパスフラグが有効であれば正常なチップデータを読み出すことができるので、従来の半導体記憶装置に対しn倍の信頼性を得ることができる。
【0017】
第1の半導体記憶装置は、メモリセルブロックを複数備えており、複数のチップデータ格納領域は、複数のメモリセルブロックのそれぞれに設けられていることが好ましい。
【0018】
例えば複数のメモリセルブロックのうちの1つに複数のチップデータ格納領域をすべて設けるような場合には、これら複数のチップデータ格納領域をアクセスするワード線及びビット線が共有化される場合もあり、その結果、欠陥までもが共有化されてしまうおそれがある。しかしながら、複数のチップデータ格納領域を複数のメモリセルブロックのそれぞれに分散させて設けることにより、複数のチップデータ格納領域のすべてが同時に欠陥を含むおそれが小さくなる。
【0019】
また、第1の半導体記憶装置において、パスフラグが複数のビットからなるビット列により構成されていることが好ましい。
【0020】
このようにすると、パスフラグを構成する複数のビットのうちの1ビットでもパス状態であれば、該パスフラグの有効性を判定することができる。
【0021】
この場合に、パスフラグは、ビット列を構成する各ビットがすべて0の場合及びすべて1の場合を除くデータからなることが好ましい。
【0022】
このようにすると、例えばビット線と電源線とがショートしたような場合に、複数のビットのすべてのビットが1に変化してしまったような場合であっても、確実にフェイル判定を行なうことができる。
【0023】
また、この場合に、チップデータがコントロールビットを含み、該コントロールビットによって、チップデータを半導体記憶装置の初期化動作を指示するコントロールコマンドとすることが好ましい。
【0024】
このようにすると、チップデータ格納領域にチップデータに代えて、例えば読み出し停止を指示するコントロールコマンドを設定すると、それに続く領域のチップデータをアクセスしなくても済むため、チップデータの読み出し時間及びその書き込み(設定)時間を短縮することができる。
【0025】
この場合のコントロールコマンドは、チップデータ格納領域に対する読み出しを停止する読み出し停止コマンド、又は読み出しアドレスをスキップするジャンプコマンドを含むことが好ましい。
【0026】
第1の半導体記憶装置は、メモリセルブロックにおいて、チップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域は、2つのトランジスタと2つのキャパシタとからなる不揮発性メモリセルを含み、チップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域を除く領域は、1つのトランジスタと1つのキャパシタとからなる不揮発性メモリセルを含むことが好ましい。
【0027】
このように、例えば、ユーザデータを格納するメモリセルが1つのキャパシタ及び1つのトランジスタからなるFeRAMの場合には、チップデータ格納領域のメモリセルを2つのキャパシタ及び2つのトランジスタにより構成すれば、チップデータ格納領域の信頼性を向上することができる。
【0028】
また、第1の半導体記憶装置において、不揮発性メモリセルが、キャパシタの容量膜に強誘電体を用いた強誘電体メモリセルであり、チップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域に対する書き込み時間及び読み出し時の再書き込み時間は、メモリセルブロックにおけるチップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域を除く領域に対する書き込み時間及び読み出し時の再書き込み時間よりも長く設定されることが好ましい。
【0029】
このように、不揮発性メモリセルが破壊読み出しを行なう不揮発性メモリセルの場合には、読み出しサイクル中の再書き込みの時間を相対的に長くすることにより、信頼性の向上を図ることができる。
【0030】
本発明に係る第1の半導体記憶装置の初期化方法は、不揮発性メモリセルを有するメモリセルブロックを備え、メモリセルブロックは、半導体記憶装置の動作パラメータを含むチップデータを格納する複数のチップデータ格納領域と、該複数のチップデータ格納領域ごとに設けられ、格納されたチップデータの有効性を示すパスフラグ格納領域とを有し、複数のチップデータ格納領域には、すべて同一のチップデータが格納される半導体記憶装置の初期化方法を対象とし、複数のチップデータ格納領域のうちの1つに格納されているパスフラグの真偽を判定する第1の工程と、判定したパスフラグが真である場合には、そのチップデータ格納領域に格納されているチップデータに基づいて、半導体記憶装置の動作を決定する初期化を行なう第2の工程と、判定したパスフラグが偽である場合には、残りのうちの1つのチップデータ格納領域に格納されているパスフラグの真偽を判定する第3の工程とを備え、第3の工程は、残りのパスフラグの判定が真となるまで繰り返す。
【0031】
第1の半導体記憶装置の初期化方法によると、複数のパスフラグのうち、判定したパスフラグが偽である場合には、次のチップデータ格納領域に格納されているパスフラグの判定を真となるまで繰り返すため、複数のパスフラグうちの1つのパスフラグが有効であれば正常なチップデータを読み出すことができるので、従来の半導体記憶装置に対し高い信頼性を得ることができる。
【0032】
本発明に係る第2の半導体記憶装置は、前記第2の目的を達成し、不揮発性メモリセルを有するメモリセルブロックと、不揮発性メモリセルの動作を制御する周辺回路と、周辺回路をリセットするための第1の電源電圧と、外部コマンドを受け付け且つ第1の電源電圧よりも高い第2の電源電圧とを検出する電源電圧検出器とを備えている。
【0033】
第2の半導体記憶装置によると、電源電圧が第2の電源電圧を検出するレベルに達した後、電源が停止すると同時に、チップデータの読み出しが開始された場合に、該チップデータの一連の読み出しサイクルが終了するまでに電源電圧が第1の電源電圧の検出レベルを下回らないように第2の電源電圧の検出レベルを設定するか又は電源間容量を設定することができる。これにより、初期化動作が開始された直後に電源が停止した場合であっても、チップデータの破壊を防止できるようになるため、初期化動作時の信頼性を向上することができる。
【0034】
第2の半導体記憶装置において、メモリセルブロックが、半導体記憶装置の動作パラメータを含むチップデータを格納するチップデータ格納領域を有し、第2の半導体記憶装置は、電源電圧検出器が第1の電源電圧を検出するのに同期してチップデータを読み出し、読み出したチップデータにより該半導体記憶装置の動作を決定する初期化を行なう初期化回路をさらに備えていることが好ましい。
【0035】
この場合に、チップデータの読み出しから半導体記憶装置の動作が決定されるまでの間は、外部から入力される外部コマンドを実行しないことが好ましい。
【0036】
このようにすると、パスフラグの真偽判定とチップデータの読み出しとを行なっている場合には外部コマンドが無効にされるため、初期化動作の誤動作を防止することができる。
【0037】
また、この場合に、チップデータの読み出しから半導体記憶装置の動作が決定されるまでの間は、不揮発性メモリセルに対する読み出し動作及び書き込み動作を禁止する信号を出力することが好ましい。
【0038】
このようにすると、初期動作中のメモリセルブロックに対するアクセスの不可状態を外部から判断することができるため、誤作動やデータ破壊を防ぐことができる。
【0039】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
【0040】
図1は本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置であって、強誘電体からなる容量膜を持つキャパシタを有する強誘電体メモリ(FeRAM)装置の回路構成を示している。
【0041】
図1に示すように、本実施形態に係る半導体記憶装置は、それぞれが複数の不揮発性メモリセルからなり、行列状に配置された第1のメモリセルブロック11、第2のメモリセルブロック12、第3のメモリセルブロック13及び第4のメモリセルブロック14を有している。
【0042】
第1〜第4の各メモリセルブロック11〜14には、それぞれ、ユーザデータを格納する第1〜第4の通常メモリセル領域11a〜14aと、例えばメモリセルブロックの動作モード、冗長救済アドレス及びシステムの動作モード等を含み、それぞれ同一のチップデータを格納する第1〜第4のチップデータ格納領域11b〜14bとが設けられている。
【0043】
各チップデータ格納領域11b〜14bには、格納されているチップデータの有効性(パス又はフェイル)を示す複数のビットデータを格納可能なパスフラグ格納領域11c、12c、13c、14cがそれぞれ設けられている。
【0044】
次に、各メモリセルブロック11〜14の周辺回路(内部回路)20を説明する。
【0045】
周辺回路20は、メモリ制御回路21、コマンドデコーダ22、システムレジスタ23、第1の電源電圧検出器24A、第2の電源電圧検出器24B、及び自動初期化回路25により構成されている。
【0046】
メモリ制御回路21は、各メモリセルブロック11〜14にメモリ制御信号を送信する。
【0047】
コマンドデコーダ22は、コマンド外部PAD31から入力される外部コマンド、及び自動初期化回路25から入力される内部コマンドを識別し、識別したコマンドから内部制御信号を生成して出力する。
【0048】
システムレジスタ23は、メモリ制御回路21から読み出し又は書き込み(アクセス)がされ、各メモリセルブロック11〜14及びシステムの動作モード並びに冗長救済アドレスを一次的に記憶する。
【0049】
第1の電源電圧検出器24Aは、初期化動作時に第1の電源電圧Vdet1を検出し、検出したことを第1の検出信号POR1としてコマンドデコーダ22に出力する。
【0050】
第2の電源電圧検出器24Bは、第1の電源電圧Vdet1よりも高い第2の電源電圧Vdet2を検出し、検出したことを第2の検出信号POR2として自動初期化回路25に出力する。
【0051】
自動初期化回路25は、ステートマシンからなり、第2の電源電圧検出器24Bから第2の検出信号POR2を受けると、周辺回路20における初期化が必要な回路に対して初期化を行なう。さらに、外部コマンド受付禁止信号POSをコマンドデコーダ22及びメモリ制御回路22に出力する
また、周辺回路20は、入出力信号を受ける入出力外部PAD32、及びアドレス信号を受けるアドレス外部PADと接続されている。
【0052】
図2(a)に示すように、各通常メモリセル領域11a〜14aに含まれるメモリセル50Aは、1つのトランジスタ51及び1つの強誘電体キャパシタ52とから構成されている。トランジスタ51は、そのゲートがワード線WLと接続され、ドレインがビット線BLと接続され、ソースがキャパシタ52の一方の電極と接続されている。また、強誘電体キャパシタ52の他方の電極はセルプレート線CPと接続されている。
【0053】
また、本実施形態の特徴として、図2(b)に示すように、各チップデータ格納領域11b〜14b及び各パスフラグ格納領域11c〜14cに含まれるメモリセル50Bは、2つのトランジスタ51及び2つの強誘電体キャパシタ52とから構成されている。
【0054】
以下、前記のように構成されたFeRAM装置における各パスフラグの真偽判定を含む自動初期化回路の動作を図面に基づいて説明する。
【0055】
図3に本実施形態に係るFeRAM装置の初期化フローを示す。
【0056】
以下の説明では、あらかじめメモリセル検査の終了後に、第2のパスフラグ格納領域12cには合格(パス)を表わすPASSフラグが格納され、残りの第1、第3及び第4のパスフラグ格納領域11c、13c、14cには不合格(フェイル)を表わすFAILフラグがそれぞれ格納されているとする。
【0057】
ここで、例えば、PASSフラグは、”10100110”とし、FAILフラグは、”11011001”とし、いずれも、全ビットが0でもなく1でもない8ビット構成とする。このようにすると、ビット線と電源線とがショートしたような場合に、パスフラグを構成する8ビットのすべてが1に変化するような場合であっても、確実にフェイル判定を行なうことができるので、パスフラグの信頼性を高めることができる。
【0058】
さらに、パスフラグのデータが破壊されることを防止するため、第1のパスフラグ格納領域11cには2データ分(2レコード)のFAILフラグを格納し、同様に、第2のパスフラグ格納領域12cにも2データ分(2レコード)のPASSフラグを格納しておく。
【0059】
図3に示すように、まず、FeRAM装置の電源が投入されると、待機工程ST1に示すように、第1の検出信号POR1が、電源電圧Vddの第1の電源電圧Vdet1への到達を示すロウ(Low)電位に遷移してから、第2の検出信号POR2が、電源電圧Vddの第2の電源電圧Vdet2への到達を示すロウ電位に遷移するまでの間は、自動読み出し待機状態となる。ここで、第2の検出信号POR2は、電源電圧Vddが第2の電源電圧Vdet2を超えるまでは、ハイ(Hi)電位に設定されている。
【0060】
次に、初期化工程ST2において、第2の検出信号POR2がロウ電位に遷移すると、図1に示す自動初期化回路25は、周辺回路20の初期化を行なう。この初期化が終了すると、スタンバイ工程ST3においてスタンバイ状態となる。
【0061】
本実施形態の特徴として、初期化処理中に電源電圧Vddが低下して、第1の電源電圧Vdet1まで低下すると、第2の検出信号POR2はハイ電位に遷移することにより、初期化待機工程ST1の自動読み出し待機状態に戻る。
【0062】
以下、初期化工程ST2の自動初期化のフローを説明する。
【0063】
まず、第1のパスフラグ判定工程ST21において、自動初期化回路25は、第1のパスフラグ格納領域11cからパスフラグデータを読み出し、読み出したパスフラグの有効性を判定する。前述したように、第1のパスフラグ格納領域11cには、FAILフラグが格納されているため、判定は偽となるので、次の第2のパスフラグ判定工程ST23に移る。なお、パスフラグは2レコード分が格納されているため、2レコードとも判定してもよい。
【0064】
次に、第2のパスフラグ判定工程ST23において、自動初期化回路25は、第2のパスフラグ格納領域12cからパスフラグデータを読み出し、読み出したパスフラグの有効性を判定する。ここでは、PASSフラグが格納されているため、判定は真となるので、第2のチップデータ読み出し工程ST24に移る。なお、ここでもパスフラグは2レコード分が格納されているため、2レコードとも判定してもよい。
【0065】
次に、第2のチップデータ読み出し工程ST24において、第2のチップデータ格納領域12bから1つ以上のチップデータを読み出す。
【0066】
ここで、チップデータの一例を説明する。
【0067】
チップデータは、例えば8ビット構成のうちの1ビットをコントロールビットに設定し、該コントロールビットによってチップデータをコントロールコマンドとして定義する。
【0068】
例えば、コントロールビットを最上位ビットと定義した場合には、
チップデータ = ”0XXXXXXX”
(但し、XXXXXXXはデータ部であり、Xは0又は1である。)
コントロールコマンド = ”1YYYYYYY”
(但し、YYYYYYYはコマンド部であり、Yは0又は1である。)
となり、コントロールコマンドの場合は、2の7乗通りのコマンドを定義することができる。
【0069】
本実施形態においては、コントロールコマンドの一例として、以下のように「読み出し停止コマンド」及び「アドレスジャンプコマンド」を定義する。
【0070】
読出し停止コマンド = ”100YYYYY”
アドレスジャンプコマンド = ”101ZZZZZ”
(但し、ZZZZZはアドレス部であり、Zは0又は1である。)
次に、コントロールビット判定工程ST28において、チップデータのコントロールビットを判定する。例えば、コントロールビットが1であって、読み出し停止コマンドと判定された場合には、スタンバイ工程ST3に直接に移行してスタンバイ状態となる。これにより、冗長救済アドレス等のように、各チップによってチップデータのレコード数が不定の場合であっても、所定数のチップデータのみを読み出すことができるため、チップデータの読み出し及び読み出したチップデータのシステムレジスタ23への書き込み時間を短縮することができる。
【0071】
また、次のアドレスジャンプ判定工程ST30において、コントロールビットが1であって、アドレスジャンプコマンドと判定された場合には、アドレスロード工程ST31において、第2のチップデータ格納領域12b内の指定されたアドレスを取得し、第2のチップデータ読み出し工程ST24において、指定されたアドレスの内容を読み出す。
【0072】
なお、ジャンプアドレスは、相対アドレスでも絶対アドレスでも構わない。例えば、絶対アドレスを設定する場合はアドレス値をロードし、相対アドレスを設定する場合は現時点のアドレス値にジャンプアドレス値(=オフセット値)を加算すれば良い。
【0073】
このように、アドレスジャンプコマンドを用いると、第2のチップデータ格納領域12bの一部に欠陥領域があった場合でも、該欠陥領域を除けて読み出すことができるため、チップデータ格納領域を効率的に利用することができる。
【0074】
これに対し、コントロールビット判定工程ST28において、コントロールビットが0であって、チップデータと判定された場合には、読み出したデータをそのまま、システムレジスタ23のなかのモード設定レジスタ又は冗長アドレスレジスタに書き込む。その後、アドレスインクリメント工程ST33において、読み出しアドレスを次のアドレスに更新する。
【0075】
次に、第2のチップデータ読み出し工程ST24において、更新されたアドレスからチップデータを読み出す。
【0076】
読み出したデータが、データエンド判定工程ST32においてデータ終了を表わすデータ(EOD)と判定されるか、又は前述した読み出し停止コマンドを検出すると、FeRAM装置の初期化が完了して、スタンバイ工程ST3に移る。
【0077】
自動初期化を行なっている間は、自動初期化回路25は、コマンドデコーダ22に対して、外部コマンドの受け付けを禁止するように外部コマンド受付禁止信号POSを出力する。これにより、自動初期化中は外部コマンドが実行されないため、初期化動作の誤動作を防止することができる。
【0078】
また、図2(b)に示したように、第2のチップデータ格納領域12b及び第2のパスフラグ格納領域12cを構成するメモリセル50Bは、いわゆる2トランジスタ2キャパシタ(2T2C)で構成されており、自動初期化中において、外部コマンド受付禁止信号POSが活性化されている間は、メモリ制御回路21は2T2C用の制御モードで動作する。この外部コマンド受付禁止信号POSは、入出力外部PAD32を通して外部に出力可能であり、従って、外部からチップデータの読み出し期間を認識することができる。
【0079】
さらに、図4のタイミングチャートに示すように、本実施形態の特徴として、チップデータ及びパスフラグの読み出しサイクル中において、これらのデータを各メモリセルに再書き込みする再書き込み期間を、通常メモリセル領域11a〜14aにおける各メモリセルに対する再書き込み期間と比べて長くする制御モードを採用している。比較用に、図5に、通常メモリセル領域を対象とする読み出しサイクル中のメモリセルにおける再書き込み期間のタイミングチャートを示す。
【0080】
図4及び図5に示すように、タイミングt2から次のタイミングt3の期間すなわち、センスアンプ活性化信号SEN及びセルプレート線CPの活性期間を、通常メモリセル領域のメモリセルの場合よりも長くすることにより、読み出しサイクル中に再書き込みされる2T2C型のメモリセルに対して十分に書き込みが行なわれるため、チップデータ及びパスフラグのデータ信頼性が大幅に向上する。
【0081】
なお、図示はしていないが、チップデータ及びパスフラグの書き込み動作中においても、その書き込み期間を通常メモリセル領域のメモリセルの場合よりも長くする。
【0082】
以下、本実施形態に係るFeRAM装置における第1の電源電圧検出器24A及び第2の電源電圧検出器24Bの動作について図面を参照しながら詳述する。
【0083】
図6は本実施形態に係るFeRAM装置における電源投入後の電源電圧Vddと第1の検出信号POR1及び第2の検出信号POR2の活性化タイミングとの関係を示している。ここで、横軸は時間を表わし、縦軸は電源電圧Vddを表わしている。
【0084】
一般に、電源の投入直後に行なわれる初期化処理は、その初期化シーケンス中にも電源が停止することを想定する必要がある。
【0085】
そこで、本実施形態においては、初期化動作中に電源が停止したとしても、読み出し中のチップデータの破壊を防止できるように、第1の電源電圧Vdet1を検出する第1の電源電圧検出器24Aと、第1の電源電圧Vdet1よりも高い第2の電源電圧Vdet2を検出する第2の電源電圧検出器24Bとを設けている。
【0086】
図6に示すように、電源が投入されると、電源電圧Vddは時間と共に徐々に上昇し、第1の電源電圧検出器24Aは、電源電圧Vddが第1の検出電圧Vdet1に達したことを検出すると、コマンドデコーダ22に出力している第1の検出信号POR1をハイ電位(=Vdet1)からロウ電位に遷移させる。ここで、電源電圧Vddが第1の検出電圧Vdet1よりも低い場合には、コマンドデコーダ22はハイ電位の第1の検出信号POR1を受けて、リセットが必要な周辺回路(内部回路)20に対してリセット信号を出力する。さらに、電源電圧Vddが第1の検出電圧Vdet1よりも高くなると、ロウ電位の第1の検出信号POR1を受けて、リセット信号が解除される。
【0087】
その後、さらに電源電圧Vddが上昇して、今度は第2の電源電圧検出器24Bが第2の検出電圧Vdet2に達したことを検出すると、第2の電源電圧検出器24Bは、自動初期化回路25に出力している第2の検出信号POR2をハイ電位(=Vdet2)からロウ電位に遷移させる。
【0088】
第2の検出電圧Vdet2は、外部コマンドの受け付けを許可する電圧であり、電源電圧Vddが第2の検出電圧Vdet2以上に上昇すると、コマンドデコーダ22は外部コマンドを受け付けて、FeRAM装置の動作が開始される。
【0089】
本実施形態においては、電源電圧Vddが第2の検出電圧Vdet2に達して始めて、初期化動作が開始される構成としており、自動初期化回路25は、第2の検出信号POR2の立下りエッジを検出して初期化を開始する。より具体的には、自動初期化回路25が、コマンドデコーダ22に対して所定の内部コマンドを出力する。内部コマンドを受けたコマンドデコーダ22は、メモリ制御回路21に対して、チップデータの読み出しと、読み出したチップデータのシステムレジスタ23(モードレジスタ及び冗長アドレスレジスタ)への書き込みを指示する。
【0090】
ここで、第2の検出信号POR2がロウ電位に遷移して活性化すると、次の外部コマンドの受け付けを禁止する構成とすることが重要である。
【0091】
さらに、以下に説明する第2の検出電圧Vdet2と第1の検出電圧Vdet1との差ΔVdet の値を定義することと併せて、自動初期化中のチップデータの破壊を防止することができる。ここで、ΔVdetは、式(1)のように定義する。
【0092】
ΔVdet  > Icc × tCyc /C  …(1)
(但し、Iccはチップデータ読み出しサイクル時の消費電流であり、tCyc はチップデータ読み出しサイクル時間であり、Cは電源間容量である。)
ここで、式(1)の右辺は電圧降下量を表わしている。この右辺の電圧降下量よりも左辺のΔVdet を大きくなるように設定することにより、電源が停止した場合であっても、内部リセットが掛かるよりも前に、チップデータの読み出しが終了するため、自動初期化中に読み出したチップデータのデータ破壊を確実に防ぐことができる。
【0093】
なお、本実施形態においては、第1の電源電圧検出器24A及び第2の電源電圧検出器24Bは、必ずしも分ける必要はない。
【0094】
また、本実施形態においては、4つのメモリセルブロック11〜14のそれぞれに対応して、チップデータ格納領域11b〜14b及びパスフラグ格納領域11c〜14cを設けたが、必ずしもメモリセルブロックごとにチップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域を設ける必要はない。
【0095】
また、1つのメモリセルブロック内に複数のチップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域を設けても良い。但し、この場合には、ビット線又はワード線が共有される配置となる場合もあるため、本実施形態のように各メモリセルブロックに分散する方が好ましい。
【0096】
また、不揮発性半導体記憶装置として、FeRAM装置を用いたが、これに限られず、FLASHメモリ装置、EEPROM装置又はMRAM等の不揮発性メモリ装置、及びこれらのメモリ装置を用いたシステムに適用可能である。
【0097】
また、チップデータ及びコントロールコマンドの定義は、一例であって、これらに限定されないことはいうまでもない。
【0098】
【発明の効果】
本発明に係る第1の半導体記憶装置によると、例えば、メモリブロックにn個(nは2以上の整数)のチップデータ格納領域を設けた場合には、そのうちの1つのパスフラグが有効であれば正常なチップデータを読み出すことができるため、従来の半導体記憶装置に対しn倍の信頼性を得ることができる。
【0099】
本発明に係る第1の半導体記憶装置の初期化方法によると、複数のパスフラグのうち、判定したパスフラグが偽である場合には、次のチップデータ格納領域に格納されているパスフラグの判定を真となるまで繰り返すため、複数のパスフラグうちの1つのパスフラグが有効であれば正常なチップデータを読み出すことができるので、従来の半導体記憶装置に対し高い信頼性を得ることができる。
【0100】
本発明に係る第2の半導体記憶装置によると、初期化動作が開始された直後に電源が停止した場合であっても、チップデータの破壊を防止できるようになるため、初期化動作時の信頼性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置を示す回路構成図である。
【図2】(a)及び(b)は本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルの回路図を示し、(a)は通常メモリセル領域に含まれるメモリセルであり、(b)はチップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域に含まれるメモリセルである。
【図3】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置の初期化動作のフローチャート図である。
【図4】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置におけるチップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域に含まれるメモリセルに対する初期化動作時の再書き込みを示すタイミングチャート図である。
【図5】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置における通常メモリセル領域に含まれるメモリセルに対する再書き込みを示すタイミングチャート図である。
【図6】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置における電源投入後の電源電圧と第1の検出信号及び第2の検出信号の活性化タイミングとの関係を示すグラフである。
【図7】従来の半導体記憶装置を示す回路構成図である。
【符号の説明】
11   第1のメモリセルブロック
12   第2のメモリセルブロック
13   第3のメモリセルブロック
14   第4のメモリセルブロック
11a  第1の通常メモリセル領域
12a  第2の通常メモリセル領域
13a  第3の通常メモリセル領域
14a  第4の通常メモリセル領域
11b  第1のチップデータ格納領域
12b  第2のチップデータ格納領域
13b  第3のチップデータ格納領域
14b  第4のチップデータ格納領域
11c  第1のパスフラグ格納領域
12c  第2のパスフラグ格納領域
13c  第3のパスフラグ格納領域
14c  第4のパスフラグ格納領域
20   周辺回路(内部回路)
21   メモリ制御回路
22   コマンドデコーダ
23   システムレジスタ
24A  第1の電源電圧検出器
24B  第2の電源電圧検出器
25   自動初期化回路
31   コマンド外部PAD
32   入出力外部PAD
33   アドレス外部PAD
POR1 第1の検出信号
POR2 第2の検出信号
POS  外部コマンド受付禁止信号
50A  メモリセル(1T1C)
50B  メモリセル(2T2C)
51   トランジスタ
52   キャパシタ

Claims (13)

  1. 不揮発性メモリセルを有するメモリセルブロックを備えた半導体記憶装置であって、
    前記メモリセルブロックは、前記半導体記憶装置の動作パラメータを含むチップデータを格納する複数のチップデータ格納領域と、該複数のチップデータ格納領域ごとに設けられ、格納されたチップデータの有効性を示すパスフラグ格納領域とを有し、
    前記複数のチップデータ格納領域には、すべて同一のチップデータが格納されていることを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 前記メモリセルブロックを複数備えており、
    前記複数のチップデータ格納領域は、前記複数のメモリセルブロックのそれぞれに設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
  3. 前記パスフラグは、複数のビットからなるビット列により構成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
  4. 前記パスフラグは、前記ビット列を構成する各ビットがすべて0の場合及びすべて1の場合を除くデータからなることを特徴とする請求項3に記載の半導体記憶装置。
  5. 前記チップデータはコントロールビットを含み、該コントロールビットによって、前記チップデータを前記半導体記憶装置の初期化動作を指示するコントロールコマンドとすることを特徴とする請求項3又は4に記載の半導体記憶装置。
  6. 前記コントロールコマンドは、前記チップデータ格納領域に対する読み出しを停止する読み出し停止コマンド、又は読み出しアドレスをスキップするジャンプコマンドを含むことを特徴とする請求項5に記載の半導体記憶装置。
  7. 前記メモリセルブロックにおいて、
    前記チップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域は、2つのトランジスタと2つのキャパシタとからなる不揮発性メモリセルを含み、
    前記チップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域を除く領域は、1つのトランジスタと1つのキャパシタとからなる不揮発性メモリセルを含むことを特徴とする請求項1〜6のうちのいずれか1項に記載の半導体記憶装置。
  8. 前記不揮発性メモリセルは、キャパシタの容量膜に強誘電体を用いた強誘電体メモリセルであり、
    前記チップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域に対する書き込み時間及び読み出し時の再書き込み時間は、前記メモリセルブロックにおける前記チップデータ格納領域及びパスフラグ格納領域を除く領域に対する書き込み時間及び読み出し時の再書き込み時間よりも長く設定されることを特徴とする請求項1〜7のうちのいずれか1項に記載の半導体記憶装置。
  9. 不揮発性メモリセルを有するメモリセルブロックを備え、前記メモリセルブロックは、前記半導体記憶装置の動作パラメータを含むチップデータを格納する複数のチップデータ格納領域と、該複数のチップデータ格納領域ごとに設けられ、格納されたチップデータの有効性を示すパスフラグ格納領域とを有し、前記複数のチップデータ格納領域には、すべて同一のチップデータが格納される半導体記憶装置の初期化方法であって、
    前記複数のチップデータ格納領域のうちの1つに格納されているパスフラグの真偽を判定する第1の工程と、
    判定したパスフラグが真である場合には、そのチップデータ格納領域に格納されているチップデータに基づいて、前記半導体記憶装置の動作を決定する初期化を行なう第2の工程と、
    判定したパスフラグが偽である場合には、残りのうちの1つのチップデータ格納領域に格納されているパスフラグの真偽を判定する第3の工程とを備え、
    前記第3の工程は、残りのパスフラグの判定が真となるまで繰り返すことを特徴とする半導体記憶装置の初期化方法。
  10. 不揮発性メモリセルを有するメモリセルブロックと、
    前記不揮発性メモリセルの動作を制御する周辺回路と、
    前記周辺回路をリセットするための第1の電源電圧と、外部コマンドを受け付け且つ前記第1の電源電圧よりも高い第2の電源電圧とを検出する電源電圧検出器とを備えていることを特徴とする半導体記憶装置。
  11. 前記メモリセルブロックは、前記半導体記憶装置の動作パラメータを含むチップデータを格納するチップデータ格納領域を有し、
    前記電源電圧検出器が前記第1の電源電圧を検出するのに同期して前記チップデータを読み出し、読み出したチップデータにより前記半導体記憶装置の動作を決定する初期化を行なう初期化回路をさらに備えていることを特徴とする請求項10に記載の半導体記憶装置。
  12. 前記チップデータの読み出しから前記半導体記憶装置の動作が決定されるまでの間は、外部から入力される外部コマンドを実行しないことを特徴とする請求項11に記載の半導体記憶装置。
  13. 前記チップデータの読み出しから前記半導体記憶装置の動作が決定されるまでの間は、前記不揮発性メモリセルに対する読み出し動作及び書き込み動作を禁止する信号を出力することを特徴とする請求項11に記載の半導体記憶装置。
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