JP2003050298A - 放射線像変換パネルおよびその製造方法 - Google Patents

放射線像変換パネルおよびその製造方法

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厚徳 高須
Yuichi Hosoi
雄一 細井
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高画質の放射線画像を与える放射線像変換パ
ネル、その製造方法および放射線画像情報読取方法を提
供する。 【解決手段】 母体成分と付活剤成分とからなる蛍光体
からなる蛍光体層を有する放射線像変換パネルを製造す
る方法であって、気相堆積法により、蛍光体の母体成分
からなる柱状結晶構造を形成し、次いで該柱状結晶構造
の上に該蛍光体の母体成分と付活剤成分とからなる柱状
結晶構造を気相堆積法によって積層することにより蛍光
体層を形成する工程を含む製法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、蓄積性蛍光体を利
用する放射線画像記録再生方法に用いられる放射線像変
換パネル、その製造方法および放射線画像情報読取方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】X線などの放射線が照射されると、放射
線エネルギーの一部を吸収蓄積し、そののち可視光線や
赤外線などの電磁波(励起光)の照射を受けると、蓄積
した放射線エネルギーに応じて発光を示す性質を有する
蓄積性蛍光体(輝尽発光を示す輝尽性蛍光体等)を利用
して、この蓄積性蛍光体を含有するシート状の放射線像
変換パネルに、被検体を透過したあるいは被検体から発
せられた放射線を照射して被検体の放射線画像情報を一
旦蓄積記録した後、パネルにレーザ光などの励起光を走
査して順次発光光として放出させ、そしてこの発光光を
光電的に読み取って画像信号を得ることからなる、放射
線画像記録再生方法が広く実用に共されている。読み取
りを終えたパネルは、残存する放射線エネルギーの消去
が行われた後、次の撮影のために備えられて繰り返し使
用される。
【0003】放射線画像記録再生方法に用いられる放射
線像変換パネル(蓄積性蛍光体シートともいう)は、基
本構造として、支持体とその上に設けられた蓄積性蛍光
体層とからなるものである。ただし、蓄積性蛍光体層が
自己支持性である場合には必ずしも支持体を必要としな
い。また、蓄積性蛍光体層の上面(支持体に面していな
い側の面)には通常、保護層が設けられていて、蛍光体
層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護してい
る。
【0004】蛍光体層としては、蓄積性蛍光体とこれを
分散状態で含有支持する結合剤とからなるもの、蒸着法
や焼結法によって形成される結合剤を含まないで蓄積性
蛍光体の凝集体のみから構成されるもの、および蓄積性
蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されているも
のなどが知られている。
【0005】また、上記放射線画像記録再生方法の別法
として本出願人による特願2000−400426号明
細書には、従来の蓄積性蛍光体における放射線吸収機能
とエネルギー蓄積機能とを分離して、少なくとも蓄積性
蛍光体(エネルギー蓄積用蛍光体)を含有する放射線像
変換パネルと、放射線を吸収して紫外乃至可視領域に発
光を示す蛍光体(放射線吸収用蛍光体)を含有する蛍光
スクリーンとの組合せを用いる放射線画像形成方法が提
案されている。この方法は、被検体を透過などした放射
線をまず、該スクリーンまたはパネルの放射線吸収用蛍
光体により紫外乃至可視領域の光に変換した後、その光
をパネルのエネルギー蓄積用蛍光体にて放射線画像情報
として蓄積記録する。次いで、このパネルに励起光を走
査することにより、発光光を放出させ、この発光光を光
電的に読み取って画像信号を得るものである。このよう
な放射線像変換パネルおよび蛍光スクリーンも、本発明
に包含される。
【0006】放射線画像記録再生方法(および放射線画
像形成方法)は上述したように数々の優れた利点を有す
る方法であるが、この方法に用いられる放射線像変換パ
ネルにあっても、できる限り高感度であってかつ画質
(鮮鋭度、粒状性など)の良好な画像を与えるものであ
ることが望まれている。
【0007】感度および画質を高めることを目的とし
て、例えば特公平6−77079号公報に記載されてい
るように、蛍光体層を気相堆積法により形成することか
らなる放射線像変換パネルの製造方法が提案されてい
る。気相堆積法には蒸着法やスパッタ法などがあり、例
えば蒸着法は、蛍光体またはその原料からなる蒸発源を
抵抗加熱器や電子線の照射により加熱して蒸発源を蒸
発、飛散させ、金属シートなどの基板表面にその蒸発物
を堆積させることにより、蛍光体の柱状結晶からなる蛍
光体層を形成するものである。
【0008】気相堆積法により形成された蛍光体層は、
結合剤を含有せず、蛍光体のみからなり、蛍光体の柱状
結晶と柱状結晶の間には空隙(クラック)が存在する。
このため、励起光の進入効率や発光光の取出し効率を上
げることができるので高感度であり、また励起光の平面
方向への散乱を防ぐことができるので高鮮鋭度の画像を
得ることができる。
【0009】上記特公平6−77079号、同7−27
079号および特開昭62−105098号公報には、
予め支持体表面に凹凸を設けることによって、その上に
形成された輝尽性蛍光体の柱状ブロックが相互に結晶的
に不連続となり、光学的に独立した構造になると記載さ
れている。
【0010】特開平61−245099公報には、支持
体表面に島状に離散した多数の層分素(凸部)とその周
囲を相互に分断する凹部または亀裂状の間隙とからなる
素地層を設けることにより、輝尽性蛍光体の柱状ブロッ
クからなる蛍光体層が層分素上に形成され、素地層の間
隙が蛍光体層においてもクレパス乃至境界として維持さ
れて、光学的に独立した構造となると記載されている。
素地層としては、レジスト樹脂をパターニングして形成
する他に、輝尽性蛍光体やアルカリハライド結晶を気相
堆積させてこれら化合物の微粒を一面に敷きつめた形態
としてもよいと記載されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、気相堆積
法により蛍光体層を形成する操作について詳しく検討し
た結果、蛍光体の母体成分と付活剤成分など添加物との
組合せに依っては(例えば、CsBr:Eu)、付活剤
成分で付活した蛍光体またはその原料混合物などをその
まま蒸着などにより気相堆積させると、付活剤成分など
添加物の存在によって柱状結晶の形状が悪くなることが
分かった。これは、一価金属化合物からなる蛍光体母体
成分中に価数の異なる添加物、この場合には二価乃至三
価金属のEuを含有させることになるために、その価数
の違いから柱状結晶が乱れるという物理的な要因による
ものと考えられる。
【0012】そこで、気相堆積法により蛍光体の柱状結
晶を形成するに先立って、付活剤成分など添加物を含ま
ない蛍光体母体成分のみからなる柱状結晶を形成し、次
いでこの柱状結晶それぞれの上に、蛍光体の柱状結晶を
一対一で対応させて成長させることにより、形状の良好
な柱状結晶が得られると同時に、その結晶面を制御でき
ることを見い出し、本発明に至ったものである。
【0013】従って、本発明は、柱状結晶性の優れた蛍
光体層を有する放射線像変換パネルおよびその製造方法
を提供することにある。すなわち、本発明は、高画質の
放射線画像を与える放射線像変換パネルおよびその製造
方法を提供することにある。また、本発明は、高画質の
放射線画像を与える放射線画像情報読取方法を提供する
ことにもある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、母体成分と付
活剤成分とからなる蛍光体からなる蛍光体層を有する放
射線像変換パネルを製造する方法であって、気相堆積法
により、蛍光体の母体成分からなる柱状結晶構造を形成
し、次いで該柱状結晶構造の上に該蛍光体の母体成分と
付活剤成分とからなる柱状結晶構造を気相堆積法により
積層することによって蛍光体層を形成する工程を含む放
射線像変換パネルの製造方法にある。
【0015】また、本発明は、母体成分と付活剤成分と
を含み、柱状結晶構造を持つ蛍光体層を有する放射線像
変換パネルにおいて、該蛍光体層の下面側の全層厚の1
/100の領域における蛍光体の付活剤成分の濃度a、
および上面側の全層厚の1/100の領域における蛍光
体の付活剤成分の濃度bが、関係式: 0≦a/b<1 を満足することを特徴とする放射線像変換パネルにもあ
る。
【0016】ここで、蛍光体層の下面側とは、気相堆積
法により基板上に蛍光体層を形成する際の基板側(基板
が支持体を兼ねる場合には、支持体側)を意味し、上面
側とは、基板とは反対の側を意味する。
【0017】さらに、本発明は、上記の放射線像変換パ
ネルであって、放射線画像情報が蓄積記録された放射線
像変換パネルを平面方向に移動させながら、該パネルの
支持体側裏面に励起光を該移動方向と異なる方向に線状
に照射し、該パネルの励起光照射部分から放出される発
光光を逐次光電検出して、放射線画像情報を電気的画像
信号として得ることからなる放射線画像情報読取方法に
もある。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の方法において、電子線蒸
着法により、蛍光体の母体成分からなる柱状結晶構造お
よび蛍光体の母体成分と付活剤成分とからなる柱状結晶
構造を積層することが好ましい。蛍光体母体成分からな
る柱状結晶構造の厚みと蛍光体からなる柱状結晶構造の
厚みとの比率(前者:後者)が、1:100乃至1:1
の範囲にあることが好ましい。また、気相堆積後に、積
層された両柱状結晶構造を熱処理することが好ましい。
蛍光体は、蓄積性蛍光体であることが好ましく、特に下
記基本組成式(I)を有するアルカリ金属ハロゲン化物
系輝尽性蛍光体であることが好ましい。そして、アルカ
リ金属ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は、下記の基本組成
式(I)においてAがEuであることが好ましい。
【0019】 MIX・xMIIX’2・yMIIIX”3:zA ‥‥(I) [但し、MIはLi、Na、K、Rb及びCsからなる
群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表し;
IIはBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Ni、Cu、Z
n及びCdからなる群より選ばれる少なくとも一種のア
ルカリ土類金属又は二価金属を表し;MIIIはSc、
Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、G
d、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、A
l、Ga及びInからなる群より選ばれる少なくとも一
種の希土類元素又は三価金属を表し;X、X’及びX”
はそれぞれ、F、Cl、Br及びIからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンを表し;AはY、Ce、
Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、E
r、Tm、Yb、Lu、Na、Mg、Cu、Ag、Tl
及びBiからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土
類元素又は金属を表し;そしてa、b及びzはそれぞ
れ、0≦x<0.5、0≦y<0.5、0<z≦0.2
の範囲内の数値を表す]
【0020】また、本発明の放射線像変換パネルにおい
て、蛍光体層の下面側の全層厚の1/100の領域にお
ける蛍光体の付活剤成分の濃度a、および上面側の全層
厚の1/100の領域における蛍光体の付活剤成分の濃
度bが、関係式: 0≦a/b<0.1 を満足することが好ましい。
【0021】以下に、本発明の放射線像変換パネルの製
造方法について、蓄積性蛍光体からなる蛍光体層を形成
する場合を例にとって詳細に述べる。
【0022】蒸着膜形成のための基板は、通常は放射線
像変換パネルの支持体を兼ねるものであり、従来の放射
線像変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選
ぶことができるが、特に好ましい基板は、石英ガラスシ
ート、サファイアガラスシート;アルミニウム、鉄、ス
ズ、クロムなどからなる金属シート;アラミドなどから
なる樹脂シートである。公知の放射線像変換パネルにお
いて、パネルとしての感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状
性)を向上させるために、二酸化チタンなどの光反射性
物質からなる光反射層、もしくはカーボンブラックなど
の光吸収性物質からなる光吸収層などを設けることが知
られている。本発明で用いられる基板についても、これ
らの各種の層を設けることができ、それらの構成は所望
の放射線像変換パネルの目的、用途などに応じて任意に
選択することができる。さらに特開昭58−20020
0号公報に記載されているように、得られる画像の鮮鋭
度を向上させる目的で、基板の蛍光体層側の表面(支持
体の蛍光体層側の表面に下塗層(接着性付与層)、光反
射層あるいは光吸収層などの補助層が設けられている場
合には、それらの補助層の表面であってもよい)には微
小な凹凸が形成されていてもよい。
【0023】蓄積性蛍光体としては、波長が400〜9
00nmの範囲の励起光の照射により、300〜500
nmの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が好まし
い。そのような輝尽性蛍光体の例は、特公平7−845
88号、特開平2−193100号および特開平4−3
10900号の各公報に詳しく記載されている。
【0024】これらのうちでも、基本組成式(I): MIX・xMIIX’2・yMIIIX”3:zA ‥‥(I) で代表されるアルカリ金属ハロゲン化物系輝尽性蛍光体
は特に好ましい。但し、MIはLi、Na、K、Rb及
びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属を表し、MIIはBe、Mg、Ca、Sr、Ba、
Ni、Cu、Zn及びCdからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ土類金属又は二価金属を表し、M
IIIはSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、S
m、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Y
b、Lu、Al、GaおよびInからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の希土類元素又は三価金属を表し、そ
してAはY、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、T
b、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Na、M
g、Cu、Ag、Tl及びBiからなる群より選ばれる
少なくとも一種の希土類元素又は金属を表す。X、X’
およびX”はそれぞれ、F、Cl、Br及びIからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わす。
a、bおよびzはそれぞれ、0≦x<0.5、0≦y<
0.5、0<z≦0.2の範囲内の数値を表す。
【0025】上記基本組成式(I)中のMIとしては少
なくともCsを含んでいることが好ましい。Xとしては
少なくともBrを含んでいることが好ましい。Aとして
は特にEu又はBiであることが好ましい。また、基本
組成式(I)には、必要に応じて、酸化アルミニウム、
二酸化珪素、酸化ジルコニウムなどの金属酸化物を添加
物として、MI1モルに対して、0.5モル以下の量で
加えてもよい。
【0026】また、基本組成式(II): MIIFX:zLn ‥‥(II) で代表される希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン
化物系輝尽性蛍光体も好ましい。ただし、MIIはBa、
Sr及びCaからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ土類金属を表し、LnはCe、Pr、Sm、E
u、Tb、Dy、Ho、Nd、Er、Tm及びYbから
なる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素を表
す。Xは、Cl、Br及びIからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンを表す。zは、0<z≦0.2
の範囲内の数値を表す。
【0027】上記基本組成式(II)中のMIIとしては、
Baが半分以上を占めることが好ましい。Lnとして
は、特にEu又はCeであることが好ましい。また、基
本組成式(II)では表記上F:X=1:1のように見え
るが、これはBaFX型の結晶構造を持つことを示すも
のであり、最終的な組成物の化学量論的組成を示すもの
ではない。一般に、BaFX結晶においてX-イオンの
空格子点であるF+(X-)中心が多く生成された状態
が、600〜700nmの光に対する輝尽効率を高める
上で好ましい。このとき、FはXよりもやや過剰にある
ことが多い。
【0028】なお、基本組成式(II)では省略されてい
るが、必要に応じて下記のような添加物を一種もしくは
二種以上を基本組成式(II)に加えてもよい。 kA, pNI, qNII, rNIII ただし、AはAl23、SiO2及びZrO2などの金属
酸化物を表す。MIIFX粒子同士の焼結を防止する上で
は、一次粒子の平均粒径が0.1μm以下の超微粒子で
IIFXとの反応性が低いものを用いることが好まし
い。NIは、Li、Na、K、Rb及びCsからなる群
より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属の化合物を
表し、NIIは、Mg及び/又はBeからなるアルカリ土
類金属の化合物を表し、NIIIは、Al、Ga、In、
Tl、Sc、Y、La、Gd及びLuからなる群より選
ばれる少なくとも一種の三価金属の化合物を表す。これ
らの金属化合物としては、特開昭59−75200号公
報に記載のようなハロゲン化物を用いることが好ましい
が、それらに限定されるものではない。
【0029】また、k、p、q及びrはそれぞれ、MII
FXのモル数を1としたときの仕込み添加量であり、0
≦k≦0.5、0≦p≦2、0≦q≦0.3、0≦r≦
0.3の各範囲内の数値を表す。これらの数値は、焼成
やその後の洗浄処理によって減量する添加物に関しては
最終的な組成物に含まれる元素比を表しているわけでは
ない。また、上記化合物には最終的な組成物において添
加されたままの化合物として残留するものもあれば、M
IIFXと反応する、あるいは取り込まれてしまうものも
ある。
【0030】その他、上記基本組成式(II)には更に必
要に応じて、特開昭55−12145号公報に記載のZ
n及びCd化合物;特開昭55−160078号公報に
記載の金属酸化物であるTiO2、BeO、MgO、C
aO、SrO、BaO、ZnO、Y23、La23、I
23、GeO2、SnO2、Nb25、Ta25、Th
2;特開昭56−116777号公報に記載のZr及
びSc化合物;特開昭57−23673号公報に記載の
B化合物;特開昭57−23675号公報に記載のAs
及びSi化合物;特開昭59−27980号公報に記載
のテトラフルオロホウ酸化合物;特開昭59−4728
9号公報に記載のヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオ
ロチタン酸、及びヘキサフルオロジルコニウム酸の1価
もしくは2価の塩からなるヘキサフルオロ化合物;特開
昭59−56480号公報に記載のV、Cr、Mn、F
e、Co及びNiなどの遷移金属の化合物などを添加し
てもよい。さらに、本発明においては上述した添加物を
含む蛍光体に限らず、基本的に希土類付活アルカリ土類
金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体とみなされる組成
を有するものであれば如何なるものであってもよい。
【0031】ただし、本発明において蛍光体は蓄積性蛍
光体に限定されるものではなく、X線などの放射線を吸
収して紫外乃至可視領域に(瞬時)発光を示す蛍光体で
あってもよい。そのような蛍光体の例としては、LnT
aO4:(Nb,Gd)系、Ln2SiO5:Ce系、L
nOX:Tm系(Lnは希土類元素である)、CsX系
(Xはハロゲンである)、Gd22S:Tb、Gd22
S:Pr,Ce、ZnWO4、LuAlO3:Ce、Gd
3Ga512:Cr,Ce、HfO2等を挙げることがで
きる。
【0032】まず、上記蓄積性蛍光体の母体成分からな
る層を、気相堆積法の一種である電子線蒸着法を用いて
以下のようにして支持体上に形成する。電子線蒸着法に
よれば、形状が良好で配列の整った柱状結晶が得られ
る。
【0033】蒸発源である蓄積性蛍光体の母体化合物、
および被蒸着物である基板を蒸着装置内に設置し、装置
内を排気して1×10-5〜1×10-2Pa程度の真空度
とする。このとき、真空度をこの程度に保持しながら、
Arガス、Neガスなどの不活性ガスを導入してもよ
い。
【0034】蓄積性蛍光体の母体化合物は、加圧圧縮に
より錠剤(ペレット)の形状に加工しておくことが好ま
しい。加圧圧縮は、一般に800〜1000kg/cm
2の範囲の圧力を掛けて行う。圧縮の際に、50〜20
0℃の範囲の温度に加温してもよく、また圧縮後、得ら
れた錠剤を減圧下で加熱することなどにより脱水、脱ガ
ス処理を施してもよい。タブレットの相対密度は80%
以上98%以下であることが好ましい。また、タブレッ
トの含水量は0.5重量%以下であることが好ましい。
さらに、蛍光体母体化合物の代わりにその原料もしくは
原料混合物を用いることも可能である。
【0035】電子銃から電子線を発生させて、蒸発源に
照射する。このとき、装置内の雰囲気中の水分圧を7.
0×10-3Pa以下にすることが望ましい。また、電子
線の加速電圧を1.5kV以上で、5.0kV以下に設
定することが望ましい。電子線の照射により、蒸発源で
ある蓄積性蛍光体は加熱されて蒸発、飛散し、基板表面
に堆積する。蛍光体の堆積する速度、すなわち蒸着速度
は一般には0.1〜1000μm/分の範囲にあり、好
ましくは1〜100μm/分の範囲にある。さらに、蒸
着の際に必要に応じて被蒸着物(基板)を冷却または加
熱してもよい。
【0036】このようにして、蓄積性蛍光体母体成分か
らなる柱状結晶がほぼ厚み方向に成長した層が得られ
る。この蛍光体母体成分層は、結合剤を含有せず、蛍光
体母体成分のみからなり、蛍光体母体成分の柱状結晶と
柱状結晶の間には空隙(クラック)が存在する。
【0037】次に、蒸発源として蓄積性蛍光体を蒸着装
置内に設置する。この蓄積性蛍光体も、上記したように
タブレットの形状であることが好ましい。そして、上記
と同様にして蒸発源に電子線を照射することにより、蛍
光体母体成分層の上に蛍光体の柱状結晶からなる層を形
成する。この蛍光体からなる層は、蒸発源として蛍光体
原料混合物(組成物)、例えば蛍光体母体成分と付活剤
成分とからなる混合物(組成物)を用いて、一つの電子
線により一元蒸着(疑似一元蒸着)により形成してもよ
いし、あるいは母体成分と付活剤成分とからなる少なく
とも二個の蒸発源と二つの電子線を用いて多元蒸着によ
り形成してもよい。いずれの場合にも、蛍光体が合成さ
れると同時に蛍光体からなる層が形成される。なお、電
子線の照射を複数回に分けて行って二層以上の蛍光体か
らなる層を形成してもよい。蒸着終了後に、これらの層
を加熱処理(アニール処理)することが望ましい。
【0038】このようにして、図1に示すように、蓄積
性蛍光体母体成分からなる柱状結晶構造の上に、更に蓄
積性蛍光体からなる柱状結晶構造が積層された構成の蛍
光体層が得られる。蛍光体層の層厚は、通常は50〜1
000μmの範囲にあり、好ましくは200μm〜70
0mmの範囲にある。
【0039】図1の(a)は、本発明の方法に従って製
造された放射線像変換パネルの代表例を概略的に示す部
分断面図である。図1の(a)において、放射線像変換
パネル10は支持体11、蛍光体層12、および保護層
13からなり、支持体11と蛍光体層12との間には反
射層14が設けられている。蛍光体層12は、支持体側
(すなわち、裏面側)の蛍光体母体成分からなる層12
aと表面側の蛍光体成分(母体成分と付活剤成分とを含
む)からなる層12bとからなる。反射層14を設けな
いこともある。図1の(b)も、本発明の方法に従って
製造された放射線像変換パネルの別の例を概略的に示す
部分断面図である。図1の(b)において、放射線像変
換パネル10は支持体11、蛍光体層12、および反射
層13からなる。蛍光体層12は、支持体側(すなわ
ち、裏面側)の蛍光体母体成分からなる層12aと表面
側の蛍光体成分(母体成分と付活剤成分とを含む)から
なる層12bとからなる。反射層14の上には保護層を
設けてもよい。
【0040】蛍光体の母体成分からなる層12aの厚み
と蛍光体成分(母体成分と付活剤成分とを含む)からな
る層12bの厚みとの比率(前者:後者)は、一般には
1:100乃至1:1の範囲にある。また、各柱状結晶
の直径(粒界)は、一般に、0.1乃至数十μmの範囲
にあり、好ましくは、0.1乃至20μmの範囲にあ
る。柱状結晶間の空隙は、一般に0乃至数μmの範囲に
ある。
【0041】本発明においては、蛍光体母体成分からな
る層12aおよび蛍光体からなる層(母体成分と付活剤
成分とを含む層)12bが共に柱状結晶構造を有し、か
つ蛍光体母体成分からなる多数の柱状結晶の上に、一対
一で対応して蛍光体の母体成分と付活剤成分との組成物
からなる柱状結晶が成長した構造となっている。このた
めに、蛍光体が価数の異なる付活剤成分など添加物を含
有する蛍光体であっても、蛍光体母体成分による柱状結
晶の良好な形状を維持しながら、その上に更に蛍光体の
柱状結晶を成長させることができる。よって、構造的乱
れが顕著に低減した、構造モトルの優れた蛍光体層を得
ることができる。また、実施例(図4、5)にて後述す
るように、両層は蛍光体の母体成分が共通であるので、
柱状結晶の結晶面を揃えることが可能となり、より一層
構造モトルの優れた蛍光体層を得ることができる。さら
に、母体成分組成が同じであるので屈折率も同一であ
り、このことは、両層間で屈折率の変化による励起光や
発光光の拡散、すなわち励起効率や発光効率の減少が無
いことを意味するから、放射線像変換パネルの裏面側
(支持体側)からの読み取りを有利に行うことができ
る。
【0042】蛍光体からなる層12b中の付活剤成分な
ど添加物は、特に蒸着時の加熱および/または蒸着後の
加熱処理によって、蛍光体の母体成分層12a中に拡散
するために、両者の境界は必ずしも明確ではない。よっ
て、このようにして得られた蛍光体層12においては、
付活剤成分はその厚み方向に濃度分布を有する。本発明
において、下面側(支持体側)の全層厚の1/100の
領域における蛍光体の付活剤成分の濃度aと表面側の全
層厚の1/100の領域における蛍光体の付活剤成分の
濃度bとは、 関係式: 0≦a/b<1 を満足する。好ましくは、 関係式: 0≦a/b<0.1 を満足する。
【0043】なお、本発明において、気相堆積法は上記
電子線蒸着法に限られるものではなく、抵抗加熱法、ス
パッタ法、化学蒸着(CVD)法など公知の他の方法を
利用することも可能である。これら他の蒸着法および気
相堆積法の詳細は、特許公報を含む公知の各種の文献に
記載されており、それらを参照することができる。
【0044】なお、基板は必ずしも放射線像変換パネル
の支持体を兼ねる必要はなく、蛍光体層形成後、蛍光体
層を基板から引き剥がし、別に用意した支持体上に接着
剤を用いるなどして接合して、支持体上に蛍光体層を設
ける方法を利用してもよい。
【0045】この蛍光体層の表面(上面)には、放射線
像変換パネルの搬送および取扱い上の便宜や特性変化の
回避のために、図1に示したように、保護層を設けるこ
とが望ましい。保護層は、励起光の入射や発光光の出射
に与える影響を少なくするために、透明であることが望
ましく、また外部から与えられる物理的衝撃や化学的影
響から放射線像変換パネルを充分に保護することができ
るように、化学的に安定で防湿性が高く、かつ高い物理
的強度を持つことが望ましい。
【0046】保護層としては、セルロース誘導体、ポリ
メチルメタクリレート、有機溶媒可溶性フッ素系樹脂な
どのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解し
て調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成さ
れたもの、あるいはポリエチレンテレフタレートなどの
有機高分子フィルムや透明なガラス板などの保護層形成
用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適当な接着剤
を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などに
よって蛍光体層上に成膜したものなどが用いられる。ま
た、保護層中には酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化
チタン、アルミナ等の光散乱性微粒子、パーフルオロオ
レフィン樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末等の滑り剤、お
よびポリイソシアネート等の架橋剤など各種の添加剤が
分散含有されていてもよい。保護層の層厚は一般に、高
分子物質からなる場合には約0.1〜20μmの範囲に
あり、ガラス等の無機化合物からなる場合には100〜
1000μmの範囲にある。
【0047】保護層の表面にはさらに、保護層の耐汚染
性を高めるためにフッ素樹脂塗布層を設けてもよい。フ
ッ素樹脂塗布層は、フッ素樹脂を有機溶媒に溶解(また
は分散)させて調製したフッ素樹脂溶液を保護層の表面
に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
フッ素樹脂は単独で使用してもよいが、通常はフッ素樹
脂と膜形成性の高い樹脂との混合物として使用する。ま
た、ポリシロキサン骨格を持つオリゴマーあるいはパー
フルオロアルキル基を持つオリゴマーを併用することも
できる。フッ素樹脂塗布層には、干渉むらを低減させて
更に放射線画像の画質を向上させるために、微粒子フィ
ラーを充填することもできる。フッ素樹脂塗布層の層厚
は通常は0.5μm乃至20μmの範囲にある。フッ素
樹脂塗布層の形成に際しては、架橋剤、硬膜剤、黄変防
止剤などのような添加成分を用いることができる。特に
架橋剤の添加は、フッ素樹脂塗布層の耐久性の向上に有
利である。
【0048】上述のようにして本発明の放射線像変換パ
ネルが得られるが、本発明のパネルの構成は、公知の各
種のバリエーションを含むものであってもよい。たとえ
ば、得られる画像の鮮鋭度を向上させることを目的とし
て、上記の少なくともいずれかの層を、励起光を吸収し
発光光は吸収しないような着色剤によって着色してもよ
い。
【0049】次に、上記の放射線像変換パネルを用いる
本発明の放射線画像情報読取方法について、ライン光源
とラインセンサを用いる線検出の場合を例にとって、図
面を参照しながら説明する。
【0050】図2は、本発明の方法に用いる放射線画像
情報読取装置の例を示す構成図であり、図3は、図2の
I−I線に沿った断面図である。図2および図3におい
て、放射線像変換パネル10は、図1に示したように、
支持体11、蛍光体層12(蛍光体母体成分層12a、
蛍光体の層12b)および保護層13から構成され、そ
して被写体を透過したX線等の放射線が照射されるなど
して被写体の放射線画像情報が蓄積記録されている。走
査ベルト40上に支持体11側(裏面側)を上にして載
置された放射線像変換パネル10は、走査ベルト40が
矢印Y方向に移動することにより矢印Y方向に搬送され
る。パネル10の搬送速度はベルト40の移動速度に等
しく、ベルト40の移動速度は画像読取手段30に入力
される。
【0051】一方、ブロードエリアレーザ(以下、BL
Dという)21から、パネル10表面に対して略平行に
発せられた線状の励起光Lは、その光路上に設けられた
コリメータレンズとトーリックレンズとからなる光学系
22により平行ビームとされ、パネル10に対して45
度の角度で傾けて配された、励起光を反射し発光光を透
過するように設定されてなるダイクロイックミラー24
により、反射されてパネル10表面に対して垂直に入射
する方向に進行し、屈折率分布形レンズアレイ(多数の
屈折率分布形レンズが配列されてなるレンズであり、以
下、第一のセルフォックレンズアレイという)25によ
り、パネル10上に矢印X方向に沿って延びる線状に集
光される。
【0052】パネル10に垂直に入射した線状の励起光
Lの励起により、パネル10の集光域およびその近傍か
ら、蓄積記録されている放射線画像情報に応じた強度の
発光光Mが発せられる。この発光光Mは、第一のセルフ
ォックレンズアレイ25により平行光束とされ、ダイク
ロイックミラー24を透過し、第二のセルフォックレン
ズアレイ26により、励起光Lの集光域の真上に配置さ
れたラインセンサ28を構成する各光電変換素子29の
受光面に集光される。ラインセンサ28は、少なくとも
上記線状の励起光照射部分の長さに整列配置された多数
の光電変換素子29を有するものであり、各素子が一画
素に対応している。なおこの際、第二のセルフォックレ
ンズアレイ26を透過した発光光Mに僅かに混在する、
パネル10表面で反射した励起光Lは、励起光をカット
し発光光を透過する励起光カットフィルタ27によりカ
ットされる。
【0053】各光電変換素子29により受光された発光
光Mは光電変換され、そして光電変換して得られた各信
号Sは、画像情報読取手段30に入力される。画像情報
読取手段30にて各信号Sは、走査ベルト40の移動速
度に基づいてパネル10の部位に対応して演算処理さ
れ、画像データとして画像処理装置(図示なし)に出力
される。
【0054】なお、本発明に用いる放射線画像情報読取
装置は、図2および図3に示した態様に限定されるもの
ではなく、光源、光源とパネルとの間の集光光学系、パ
ネルとラインセンサとの間の光学系、およびラインセン
サはそれぞれ、公知の種々の構成を採用することができ
る。
【0055】ライン光源は、光源自体がライン状であっ
てもよく、蛍光灯、冷陰極蛍光灯、LED(発光ダイオ
ード)アレイなども用いることができる。ライン光源か
ら発せられる励起光は、連続的に出射するものであって
もよいし、あるいは出射と停止を繰り返すパルス光であ
ってもよい。ノイズ低減の観点からは、高出力のパルス
光であることが好ましい。ラインセンサとしては、アモ
ルファスシリコンセンサ、CCDセンサ、バックイルミ
ネータ付きのCCD、MOSイメージセンサなどを用い
ることができる。また、ラインセンサは光電変換素子が
一列で配置されたもののみならず、二、三列で配置され
たものであってもよい。
【0056】放射線像変換パネルを移動させる方向は、
ライン光源およびラインセンサの長さ方向に略直交する
方向であることが望ましいが、例えばパネルの略全面に
渡って均一に励起光を照射することができる範囲内で、
長さ方向から外れた斜め方向やジグザグ状に方向を変化
させて移動させてもよい。
【0057】上記態様においては説明を簡単化するため
に、パネルとラインセンサとの間の光学系を1:1結像
系に設定したが、拡大縮小光学系を利用してもよい。た
だし、集光効率を高めるためには等倍または拡大光学系
を用いることが好ましい。また、上記態様では励起光L
の光路と発光光Mの光路とが一部分重複するような構成
として、装置のコンパクト化を図ったが、励起光Lの光
路と発光光Mの光路が全く異なる構成を採用してもよ
い。
【0058】また、上記態様では放射線像変換パネルを
移動させて読み取りを行う構成であったが、パネルを静
置して光学系とラインセンサをパネル表面に沿って移動
させる構成を採用してもよい。
【0059】さらに、上記においては画像情報の読み取
りをライン光源とラインセンサとの組合せからなる構成
を採用しているが、レーザ等の点光源とフォトマルチプ
ライヤ(光電子増倍管)の組合せからなる構成(点検
出)や、二次元励起手段と二次元固体撮像素子の組合せ
からなる構成を採用することもできる。また、画像情報
読取手段から出力された画像データ信号に対して種々の
信号処理を施す画像処理手段、画像信号が表す可視像を
CRTやドライフィルムなどに出力表示する各種の画像
出力手段、カセッテ内部に収容された蓄積性蛍光体シー
トをカセッテから引き出す吸着手段、あるいは読み取り
終了後のシートになお残存する放射線エネルギーを適切
に放出させる消去手段などを更に備えた構成を採用する
こともできる。
【0060】
【実施例】[実施例1] (1)原料 原料として、純度4N以上の臭化セシウム(CsB
r)、および純度3N以上の臭化ユーロピウム(EuB
x、x≒2.2)を使用した。各原料中の微量元素を
ICP−MS法(誘導結合高周波プラズマ分光分析−質
量分析法)により分析した結果、CsBr中のCs以外
のアルカリ金属(Li、Na、K、Rb)は各々10p
pm以下であり、アルカリ土類金属(Mg、Ca、S
r、Ba)など他の元素は2ppm以下であった。ま
た、EuBrx中のEu以外の希土類元素は各々20p
pm以下であり、他の元素は10ppm以下であった。
これらの原料は、吸湿性が高いので露点−20℃以下の
乾燥雰囲気を保ったデシケータ内で保管し、使用直前に
取り出すようにした。
【0061】(2)CsBr蒸発源の作製 CsBr粉末31gをジルコニア製粉末成形用ダイス
(内径:25mm)に入れ、粉末金型プレス成形機(テ
ーブルプレスTB−5型、エヌピーエーシステム(株)
製)にて40kNの圧力で加圧し、タブレット(直径:
25mm、厚さ:15mm)として成形した。このと
き、CsBr粉末に掛かった圧力は約80MPaであっ
た。得られたタブレットの密度は4.2g/cm3、含
水量は0.6重量%であった。さらに、このタブレット
を真空乾燥機にて温度200℃で2時間真空乾燥処理し
た。真空乾燥処理後のタブレットの含水量は0.3重量
%であった。
【0062】なお、試料の含水量は、熱重量分析法によ
り、示差熱熱重量同時測定装置(TG/DTA320
型、セイコー電子工業(株)製)を用いて、窒素フロー
(200cc/分)雰囲気中、昇温速度10℃/分で室
温から300℃まで温度を上げて試料の重量減少を測定
することにより求めた。
【0063】(3)CsBr:Eu蒸発源の作製 CsBr15g(0.07モル)及びEuBr30.2
761g(7×10-4モル)を秤量し、ミキサーで混合
した。得られた混合物を石英容器に入れ、これを電気炉
の炉芯に入れて、初期真空引き後、窒素ガスを大気圧ま
で導入し、温度525℃にて1時間焼成した。次いで、
5分間中間真空引きした後、酸素を133Paまで導入
し、更に窒素ガスを導入して大気圧にした状態で、1時
間焼成を行った。焼成後、真空状態で室温まで冷却し
た。得られたCsBr:0.01Eu蛍光体を用いて、実施
例1と同様にしてタブレットを作製した。タブレットの
密度は4.1g/cm3、含水量は0.4重量%であっ
た。
【0064】(4)蛍光体層の形成 支持体として、順にアルカリ洗浄、純水洗浄、およびI
PA(イソプロパノール)洗浄を施した合成石英基板を
用意し、蒸着装置内の基板ホルダに設置した。上記Cs
Br蒸発源およびCsBr:Eu蒸発源を装置内の所定
位置に配置した後、装置内を排気して1×10-3Paの
真空度とした。このとき、真空排気装置としてロータリ
ーポンプ、メカニカルブースタ、ターボ分子ポンプの組
合せを用いた。次いで、石英基板の温度を室温に保った
まま、まずCsBr蒸発源に電子銃で加速電圧4.0k
Vの電子線を照射して、10μm/分の速度で4分30
秒間かけてCsBr蛍光体母体成分を堆積させた。次
に、CsBr:Eu蒸発源に同様にして電子線を照射し
て、CsBr母体成分の蒸着膜上にCsBr:Eu蛍光
体を10分30秒間かけて堆積させた。蒸着装置内の雰
囲気ガスを質量分析器を用いて測定、算出したところ、
蒸着雰囲気中の水分圧は4.0×10-3Paであった。
【0065】蒸着終了後、装置内を大気圧に戻し、装置
から石英基板を取り出した。この蒸着膜を有する石英基
板を石英ボートの中に置き、これをチューブ炉の炉芯に
挿入して、窒素雰囲気下、200℃の温度で2時間熱処
理した。熱処理前および熱処理中、炉芯内をロータリー
ポンプで約10Paまで真空に引いて、蒸着膜に吸着し
ている水分などを除去した。真空下で蒸着膜および石英
基板を冷却し、十分に温度が下がった時点で炉芯から取
り出した。石英基板上には、蛍光体の柱状結晶がほぼ垂
直方向に密に林立した構造の蛍光体層(層厚:約400
μm、面積10cm×10cm)が形成されていた。こ
のようにして、支持体と蛍光体層とからなる本発明の放
射線像変換パネルを製造した。
【0066】[実施例2]実施例1において、蛍光体層
形成の際に石英基板の温度を基板の蒸着とは反対側に位
置したシーズヒータで200℃に加熱したこと以外は実
施例1と同様にして、本発明の放射線像変換パネルを製
造した。
【0067】[比較例1]蛍光体層形成の際にCsB
r:Eu蒸発源のみを用いたこと以外は実施例1と同様
にして、比較用の放射線像変換パネルを製造した。
【0068】[実施例3]石英基板をシーズヒータで2
00℃に加熱し、まずCsBr蒸発源に電子銃で加速電
圧4.0kVの電子線を照射して、10μm/分の速度
で4分30秒間かけてCsBr蛍光体母体成分を堆積さ
せた。次に、CsBr及びEuBrx(x≒2.2)を
別々の蒸発源容器に入れて、それぞれ電子銃で加速電圧
4.0kVの電子線を照射し、CsBrは5μm/分の
速度で、そしてEuBrは0.05μm/分の速度にて
15分間かけて共蒸着して、石英基板上にCsBr:E
uを堆積させた。
【0069】[比較例2]石英基板上に直接、CsB
r:Euを堆積させたこと以外は実施例3と同様にし
て、比較用の放射線像変換パネルを製造した。
【0070】[放射線像変換パネルの性能評価]得られ
た各放射線像変換パネルの蛍光体層の柱状結晶構造につ
いて、下記の方法により評価を行なった。放射線像変換
パネルの蛍光体層を支持体ごと、厚み方向に切断し、チ
ャージアップ防止のためにイオンスパッタにより金(厚
み:300オングストローム)で被覆した後、走査型電
子顕微鏡(JSM−5400型、日本電子(株)製)を用
いて、蛍光体層の表面および切断面を観察した。得られ
た結果を図4〜8にそれぞれ示す。
【0071】図4〜8はそれぞれ、放射線像変換パネル
の切断面の電子顕微鏡写真(倍率:500倍)である。
図4は、実施例1の放射線像変換パネルについて柱状結
晶の(100)面を示す写真である。図5は、実施例2
の放射線像変換パネルについて柱状結晶の(110)面
を示す写真である。図6は、比較例1の放射線像変換パ
ネルについて柱状結晶のランダムな面を示す写真であ
る。図7は、実施例3の放射線像変換パネルについて柱
状結晶の(100)面を示す写真である。図8は、比較
例2の放射線像変換パネルについて柱状結晶のランダム
な面を示す写真である。
【0072】図4〜8に示した写真から明らかなよう
に、本発明の方法に従って蛍光体母体成分からなる蒸着
膜および蛍光体の母体成分と付活剤成分とからなる蒸着
膜を設けて製造した放射線像変換パネル(実施例1、
2、3)は、形状の良好な柱状結晶構造を有し、かつそ
の結晶面が揃っていた。一方、単に蛍光体の母体成分と
付活剤成分の蒸着膜のみを設けて製造した比較のための
放射線像変換パネル(比較例1、2)は、結晶面が揃わ
ず、しかも柱状結晶の形状が損なわれていた。
【0073】
【発明の効果】本発明によれば、蒸着法などの気相堆積
法により柱状結晶構造の蛍光体母体成分層を形成した
後、母体成分層上に更に柱状結晶構造の蛍光体の母体成
分と付活剤成分とからなる層を形成することにより、全
体として柱状結晶性の優れた蛍光体層を形成することが
できる。また、柱状結晶の結晶面を制御することが可能
となる。よって、従来のように支持体の表面を加工した
り、支持体上に特別な材料を用いて下地層を設ける必要
が無いばかりか、極めて柱状結晶性の優れた蛍光体層を
得ることができる。これにより、本発明の方法に従って
製造された放射線像変換パネルは、鮮鋭度、粒状性など
画質の優れた放射線画像を与えることができる。
【0074】また、本発明の放射線画像情報読取方法に
よれば、上記の放射線像変換パネルを用いて裏面側から
効率良く読み取りを行うことができる。従って、本発明
の読取方法では、放射線撮影をパネルの表面側から行っ
て画像情報の読み取りを裏面側から行うことができるの
で、ビルトインタイプの放射線画像情報記録再生装置に
おいて有利に利用することができる。このため、本発明
の放射線像変換パネルおよび読取方法は、医療診断用ラ
ジオグラフィーや工業用ラジオグラフィー、並びにフル
オロスコピーに利用した場合に有利となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)と(b)のいずれも、本発明の放射線像
変換パネルの構成の例を示す概略断面図である。
【図2】本発明の方法に用いる放射線画像情報読取装置
の例を示す構成図である。
【図3】図2に示した放射線画像情報読取装置のI−I
線に沿った断面図である。
【図4】実施例1の放射線像変換パネルの切断面の電子
顕微鏡写真である。
【図5】実施例2の放射線像変換パネルの切断面の電子
顕微鏡写真である。
【図6】比較例1の放射線像変換パネルの切断面の電子
顕微鏡写真である。
【図7】実施例3の放射線像変換パネルの切断面の電子
顕微鏡写真である。
【図8】比較例2の放射線像変換パネルの切断面の電子
顕微鏡写真である。
【符号の説明】
10 放射線像変換パネル 11 支持体 12 蛍光体層 12a 蛍光体母体成分層 12b 蛍光体成分の層 13 保護層 14 反射層 21 ブロードエリアレーザ(BLD) 22 コリメータレンズとトーリックレンズからなる光
学系 24 ダイクロイックミラー 25、26 セルフォックレンズアレイ 27 励起光カットフィルタ 28 ラインセンサ 29 光電変換素子 30 画像情報読取手段 40 走査ベルト L 励起光 M 発光光 S 信号
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高須 厚徳 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 細井 雄一 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2G083 AA03 BB01 CC02 DD02 DD12 4H001 CA04 CA08 XA03 XA04 XA09 XA11 XA12 XA13 XA17 XA19 XA20 XA21 XA28 XA29 XA30 XA31 XA35 XA37 XA38 XA39 XA48 XA49 XA53 XA55 XA56 XA57 XA58 XA59 XA60 XA61 XA62 XA63 XA64 XA65 XA66 XA67 XA68 XA69 XA70 XA71 YA11 YA12 YA29 YA39 YA47 YA58 YA59 YA60 YA62 YA63 YA64 YA65 YA66 YA67 YA68 YA69 YA70 YA71 YA81 YA83

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 母体成分と付活剤成分とからなる蛍光体
    からなる蛍光体層を有する放射線像変換パネルを製造す
    る方法であって、気相堆積法により、蛍光体の母体成分
    からなる柱状結晶構造を形成し、次いで該柱状結晶構造
    の上に該蛍光体の母体成分と付活剤成分とからなる柱状
    結晶構造を気相堆積法により積層することによって蛍光
    体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方
    法。
  2. 【請求項2】 気相堆積法により柱状結晶構造を形成す
    る操作のいずれも、電子線蒸着法によって行なう請求項
    1に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
  3. 【請求項3】 蛍光体母体成分からなる柱状結晶構造の
    厚みと、蛍光体の母体成分と付活剤成分からなる柱状結
    晶構造の厚みとの比率(前者:後者)が、1:100乃
    至1:1の範囲にある請求項1または2に記載の放射線
    像変換パネルの製造方法。
  4. 【請求項4】 柱状結晶構造積層体を熱処理する請求項
    1乃至3のうちのいずれかの項に記載の放射線像変換パ
    ネルの製造方法。
  5. 【請求項5】 蛍光体が蓄積性蛍光体である請求項1乃
    至4のうちのいずれかの項に記載の放射線像変換パネル
    の製造方法。
  6. 【請求項6】 蓄積性蛍光体が、基本組成式(I): MIX・xMIIX’2・yMIIIX”3:zA ‥‥(I) [ただし、MIはLi、Na、K、Rb及びCsからな
    る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表
    し;MIIはBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Ni、C
    u、Zn及びCdからなる群より選ばれる少なくとも一
    種のアルカリ土類金属又は二価金属を表し;MIIIはS
    c、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、
    Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、A
    l、Ga及びInからなる群より選ばれる少なくとも一
    種の希土類元素又は三価金属を表し;X、X’及びX”
    はそれぞれ、F、Cl、Br及びIからなる群より選ば
    れる少なくとも一種のハロゲンを表し;AはY、Ce、
    Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、E
    r、Tm、Yb、Lu、Na、Mg、Cu、Ag、Tl
    及びBiからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土
    類元素又は金属を表し;そしてa、b及びzはそれぞ
    れ、0≦x<0.5、0≦y<0.5、0<z≦0.2
    の範囲内の数値を表す]を有するアルカリ金属ハロゲン
    化物系輝尽性蛍光体である請求項5に記載の放射線像変
    換パネルの製造方法。
  7. 【請求項7】 基本組成式(I)において、AがEuで
    ある請求項6に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
  8. 【請求項8】 基本組成式(I)において、MIがCs
    であって、XがBrである請求項7に記載の放射線像変
    換パネルの製造方法。
  9. 【請求項9】 母体成分と付活剤成分とを含み、柱状結
    晶構造を持つ蛍光体層を有する放射線像変換パネルにお
    いて、該蛍光体層の下面側の全層厚の1/100の領域
    における蛍光体の付活剤成分の濃度a、および上面側の
    全層厚の1/100の領域における蛍光体の付活剤成分
    の濃度bが、関係式: 0≦a/b<1 を満足することを特徴とする放射線像変換パネル。
  10. 【請求項10】 蛍光体層の下面側の全層厚の1/10
    0の領域における蛍光体の付活剤成分の濃度a、および
    上面側の全層厚の1/100の領域における蛍光体の付
    活剤成分の濃度bが、関係式: 0≦a/b<0.1 を満足する請求項9に記載の放射線像変換パネル。
  11. 【請求項11】 蛍光体層が、気相堆積法により、蛍光
    体の母体成分からなる柱状結晶構造を形成し、次いで該
    柱状結晶構造の上に該蛍光体の母体成分と付活剤成分と
    からなる柱状結晶構造を積層することによって形成され
    たものである請求項9または10に記載の放射線像変換
    パネル。
  12. 【請求項12】 蛍光体層の下面に透明支持体が設けら
    れ、そして蛍光体層の上面に保護層が設けられている請
    求項9乃至11のうちのいずれかの項に記載の放射線像
    変換パネル。
  13. 【請求項13】 請求項12に記載の放射線像変換パネ
    ルであって、放射線画像情報が蓄積記録された放射線像
    変換パネルを平面方向に移動させながら、該パネルの支
    持体側裏面に励起光を該移動方向と異なる方向に線状に
    照射し、該パネルの励起光照射部分から放出される発光
    光を逐次光電検出して、放射線画像情報を電気的画像信
    号として得ることからなる放射線画像情報読取方法。
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