JP5499706B2 - シンチレータパネル - Google Patents

Description

本発明は、発光輝度の向上したシンチレータパネルに関する。

従来から、Ｘ線画像のような放射線画像は医療現場において病状の診断に広く用いられている。特に、増感紙−フィルム系による放射線画像は長い歴史の中で高感度化と高画質化が図られた結果、高い信頼性と優れたコストパフォーマンスを併せ持った撮像システムとして、今なお世界中の医療現場で用いられている。しかしながら、これら画像情報は所謂アナログ画像情報であって、近年発展を続けているデジタル画像情報のような自由な画像処理や瞬時の電送ができない。

そして、近年では、コンピューテッドラジオグラフィ（ＣＲ）やフラットパネル型の放射線デテクタ（ＦＰＤ）等に代表されるデジタル方式の放射線画像検出装置が登場している。これらはデジタルの放射線画像が直接得られ、陰極管や液晶パネル等の画像表示装置に画像を直接表示することが可能なので、必ずしも写真フィルム上への画像形成が必要なものではない。その結果、これらのデジタル方式のＸ線画像検出装置は銀塩写真方式による画像形成の必要性を低減させ、病院や診療所での診断作業の利便性を大幅に向上させている。

Ｘ線画像のデジタル技術の一つとして、コンピューテッド・ラジオグラフィ（ＣＲ）が現在医療現場で受け入れられている。しかしながら、鮮鋭性が十分でなく空間分解能も不十分であり、スクリーン・フィルムシステムの画質レベルには到達していない。そして、更に新たなデジタルＸ線画像技術として、例えば、雑誌Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｔｏｄａｙ，１９９７年１１月号２４頁のジョン・ローランズ論文“Ａｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｕｓｈｅｒ ｉｎ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｘ−ｒａｙ Ｉｍａｇｉｎｇ”や、雑誌ＳＰＩＥの１９９７年３２巻２頁のエル・イー・アントヌクの論文”Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ｏｆ Ｈｉｇｈ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ，Ａｃｔｉｖｅ Ｍａｔｒｉｘ，Ｆｌａｔ−Ｐａｎｅｌ Ｉｍａｇｅｒ ｗｉｔｈ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｆｉｌｌ Ｆａｃｔｏｒ”等に記載された、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いた平板Ｘ線検出装置（ＦＰＤ）が開発されている。

放射線を可視光に変換するために、放射線により発光する特性を有するＸ線蛍光体で作られたシンチレータパネルが使用されるが、低線量の撮影においてのＳＮ比を向上するためには、発光効率の高いシンチレータパネルを使用することが必要になってくる。

一般に、シンチレータパネルの発光効率はシンチレータの厚さ、蛍光体のＸ線吸収係数によって決まるが、シンチレータの厚さは厚くすればするほどシンチレータ内での発光光の散乱が発生し、鮮鋭性は低下する。そのため、画質に必要な鮮鋭性を決めると膜厚が決定する。

中でも、ヨウ化セシウム（ＣｓＩ）はＸ線から可視光に対する変更率が比較的高く、蒸着によって容易に蛍光体を柱状結晶構造に形成できるため、光ガイド効果により結晶内での発光光の散乱が抑えられ、シンチレータの厚さを厚くすることが可能であった。

しかしながら、ＣｓＩのみでは発光効率が低いために、例えば、特公昭５４−３５０６０号公報の如く、ＣｓＩとヨウ化ナトリウム（ＮａＩ）を任意のモル比で混合したものを蒸着を用いて基板上にナトリウム賦活ヨウ化セシウム（ＣｓＩ：Ｎａ）として堆積、また近年ではＣｓＩとヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を任意のモル比で混合したものを蒸着を用いて基板上にタリウム賦活ヨウ化セシウム（ＣｓＩ：Ｔｌ）として堆積したものに、後工程としてアニールを行うことで可視変換効率を向上させ、Ｘ線蛍光体として使用している。

他の光出力を増大する手段として、シンチレータを形成する基板を反射性とする方法、基板上に導電性金属反射層を設ける方法、基板上に設けられた反射性金属薄膜と金属薄膜を覆う透明有機膜上にシンチレータを形成する方法などが提案されている。更に、蛍光体層の賦活剤濃度を層内のどの部分でも均一にすることによって、発光輝度を向上させる技術（例えば、特許文献１参照）が知られている。

しかしながら、シンチレータパネルとしての発光効率向上は更に望まれている。

また、ＦＯＰを基板に使い柱状結晶の上にコーティング用のシンチレータを設けて、２色発光させる技術（例えば、特許文献２参照）、複数の積層構造を有する蛍光体層からなるシンチレータパネルを用いる技術（例えば、特許文献３参照）が知られているが、発光輝度向上を目的とするものではない。
特開２００３−２８９９４号公報 特開２００５−１０６５４１号公報 特開２００５−１４８０６０号公報

本発明の目的は、発光輝度の向上したシンチレータパネルを提供することである。

本発明の上記目的は、下記構成により達成される。

１．放射線が照射されることにより発光する蛍光体層と、蛍光体層を保持する基板と、蛍光体層と基板を覆う保護フィルムとを備えたシンチレータパネルにおいて、該蛍光体層が２層以上からなり、且つ最表面層における蛍光体に対する賦活剤の平均濃度をＢ（ｍｏｌ％）、それ以外の蛍光体層における蛍光体に対する賦活剤の平均濃度をＡ（ｍｏｌ％）としたとき、下記式１を満たすことを特徴とするシンチレータパネル。

（式１） １．０≦Ｂ／Ａ≦１０００
２．前記蛍光体がヨウ化セシウムであることを特徴とする前記１に記載のシンチレータパネル。

３．前記賦活剤としてヨウ化タリウム、ヨウ化ユーロピウム、臭化タリウムの内少なくとも一つを含むことを特徴とする前記１または２に記載のシンチレータパネル。

４．前記蛍光体層が２層以上からなり、且つ最表面層以外の少なくとも１層が賦活剤を含まない層であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のシンチレータパネル。

本発明によって、発光輝度が向上したシンチレータパネルを提供することができた。

本発明に係る蒸着装置を示す図である。

符号の説明

１ 蒸着装置
２、３ 抵抗加熱ルツボ
４ 回転機構
５ 基板ホルダ
６ 基板
７ 真空ポンプ
８、９ シャッター

以下、本発明について詳述する。

本発明者らは、シンチレータパネルにおける蛍光体層を２層以上の複数層とし、且つその複数層の内の最表面層における蛍光体に対する賦活剤の平均濃度をＢ（ｍｏｌ％）、それ以外の蛍光体層における蛍光体に対する賦活剤の平均濃度をＡ（ｍｏｌ％）としたとき、１．０≦Ｂ／Ａ≦１０００を満たし、より好ましくは１．０≦Ｂ／Ａ≦５００を満たす。更に好ましくは１．０≦Ｂ／Ａ≦２００を満たすことで、発光輝度が改善することを見出した。

これは蛍光体層を複数層にすることで、賦活剤の局所的高濃度部分が複数存在するため、更には賦活剤濃度の高い蛍光体層を最表面に設定することにより、蛍光体層の表層部での発光が受光部に達するまでの光損失が少なくなるため、発光輝度が向上したシンチレータパネルを与えることができるものと考えられる。蛍光体層が２層以上の複数層で構成される場合は、最表面以外の層として賦活剤を含まない層を設けてもよい。特に蛍光体層の最下層に賦活剤を含まない層とし、その上に複数層の蛍光体層を（式１）の関係を満足するように設けることで鮮鋭性（ＭＴＦ特性）を更に向上させることができる点で好ましい。ここで、賦活剤を含まない層とは実質的に賦活剤を含まない層を意味し、発明の効果が得られる範囲であれば微量の賦活剤を含んでもよく、具体的には蛍光体に対する賦活剤の平均濃度が０．００１モル％以下となるような層を意味する。賦活剤を含まない層の膜厚は発光輝度を維持しながら、鮮鋭性を向上できる点から１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜２０μｍであるのがより好ましい。また、賦活剤を含む層の賦活剤の平均濃度としては、蛍光体に対して発光効率の面から０．００５〜５０モル％の範囲が好ましく、０．１〜２０モル％の範囲がより好ましい。

本発明のシンチレータパネルは、放射線が照射されることにより発光する蛍光体層と、蛍光体層を保持する基板と、蛍光体層と基板を覆う保護フィルムとを備えている。

以下、本発明のシンチレータパネルの各構成について説明する。

（基板）
本発明のシンチレータパネルの作製に際しては、種々多様な基板を使用することができる。即ち、Ｘ線等の放射線を透過させることが可能な各種のガラス、高分子材料、金属等を用いることができるが、例えば、石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラス、サファイア、チッ化珪素、炭化珪素などのセラミック基板、シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素、ガリウム燐、ガリウム窒素など半導体基板、またセルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、炭素繊維強化樹脂シート等の高分子フィルム（プラスチックフィルム）、アルミニウムシート、鉄シート、銅シート等の金属シート、あるいは該金属酸化物の被覆層を有する金属シートなどを用いることができる。基板の厚みは５０μｍ〜１ｍｍであることが好ましく、５０〜５００μｍであることがより好ましい。

（蛍光体層）
本発明に係る蛍光体層の蛍光体とは、Ｘ線等の入射された放射線のエネルギーを吸収して、波長が３００ｎｍから８００ｎｍの電磁波、即ち可視光線を中心に紫外光から赤外光に亘る電磁波（光）を発光する蛍光体をいう。

本発明に係る蛍光体層は２層以上の複数層からなり、その作製は原材料を充填した複数個のルツボを用意し、その内の一つのルツボを加熱して原材料を蒸発させ、蒸発した原材料を支持体上に任意の厚さまで堆積させ、更に残りのルツボを使い、この蒸着工程を繰り返し行うことによりなされる。

蛍光体を形成する材料としては、種々の公知の蛍光体材料を使用することができるが、Ｘ線から可視光に対する変更率が比較的高く、蒸着によって容易に蛍光体を柱状結晶構造に形成できるため、光ガイド効果により結晶内での発光光の散乱が抑えられ、蛍光体層の厚さを厚くすることが可能であることから、ヨウ化セシウム（ＣｓＩ）が好ましい。ＣｓＩのみでは、発光効率が低いために各種の賦活剤が添加されることが更に好ましい。

例えば、特公昭５４−３５０６０号公報の如く、ＣｓＩとヨウ化ナトリウム（ＮａＩ）を任意のモル比で混合したものが挙げられる。また、本発明においては、賦活剤としてヨウ化タリウム、ヨウ化ユーロピウム、臭化タリウムから選ばれる賦活剤が用いられることが好ましい。

本発明に係る蛍光体においては、当該賦活剤の含有量は最表面層においてＢｍｏｌ％、最表面層以外でＡｍｏｌ％としたとき、前記式１を満足する関係にある。蛍光体の厚みは発光効率と鮮鋭性を向上させる点から５０〜１０００μｍが好ましく、より好ましくは１００〜８００μｍである。

（保護フィルム）
保護フィルムは蛍光体層を防湿し、蛍光体層の劣化を抑制するためのもので、透湿度の低いフィルムから構成される。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を用いることができる。ＰＥＴの他には、ポリエステルフィルム、ポリメタクリレートフィルム、ニトロセルロースフィルム、セルロースアセテートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等を用いることができる。また、必要とされる防湿性にあわせて、これらフィルムに金属酸化物などを蒸着した蒸着フィルムを複数枚積層した構成とすることもできる。

また、シンチレータシートの基板側と蛍光体層側の互いに対向する面には、互いを熱融着して封止するための熱融着性の樹脂が用いられることが好ましい。熱融着層としては、一般に使用されるインパルスシーラーで融着可能な樹脂フィルムを使用できる。例えば、エチレン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）やポリプロピレン（ＰＰ）フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィルム等が挙げられるが、これらに限られたものではない。

シンチレータシートを上下の保護フィルムで挟み、減圧雰囲気中で上下の保護フィルムが接触する端部を融着することにより封止することができる。

本発明において、保護フィルムの厚さは１０〜１００μｍであることが好ましい。

本発明においては、保護フィルムは防湿性が付与されているが、具体的には前記保護層の透湿度（水蒸気透過率ともいう）が５０ｇ／ｍ²・ｄａｙ以下であることが好ましく、更に好ましくは１０ｇ／ｍ²・ｄａｙ以下であり、特に好ましくは１ｇ／ｍ²・ｄａｙ以下である。ここで、保護層の透湿度はＪＩＳ Ｚ ０２０８により規定された方法を参照して測定することができる。

具体的には、本発明における透湿度は以下の方法で測定することができる。４０℃において、前記保護フィルムを境界面とし、一方の側を９０％ＲＨ（相対湿度）、他方の側を吸湿剤を用いて乾燥状態に保つ。この状態で２４時間にこの保護フィルムを通過する水蒸気の質量（ｇ）（保護フィルムを１ｍ²に換算する）を、本発明における保護フィルムの透湿度と定義する。

保護フィルムの透湿度を上記の範囲に調整し、防湿性を向上させる観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム上に酸化アルミナ薄膜を蒸着した蒸着フィルムが好ましく用いられる。

保護フィルムの光透過率とは、空気だけの場合の光透過率を１００％に設定して各保護フィルムの光透過率を相対値で表した。上記の光透過率は下記式に従って求められる。光透過率（％）＝（透過光／入射光）×１００。

本発明のシンチレータパネルは、上記構成に加えて、基板と蛍光体層の間に反射層、保護層を設けてもよい。

（反射層）
本発明における反射層は、蛍光体で変換された光を外部へ出射するため反射層として機能させることが可能であり、発光光の利用効率の面で反射層は反射率の高い金属で形成することが好ましい。反射率の高い金属膜層としては、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｍｇ、Ｐｔ、Ａｕからなる群の中の物質を含む材料が挙げられる。本発明に係る反射層の形成方法は既知のいかなる方法でも構わないが、例えば、上記原材料を使用したスパッタ処理が挙げられる。反射層の厚さは０．０１〜０．３μｍであることが、発光光取り出し効率の観点から好ましい。

本発明に係る導電性金属としては、電気伝導率で６．０Ｓ／ｍ（ジーメンス毎メートル）以上のものであることが好ましく、より好ましくは３０Ｓ／ｍ以上である。具体的にはＡｌ（４０Ｓ／ｍ）、Ａｇ（６７Ｓ／ｍ）、Ａｕ（４６Ｓ／ｍ）が反射率や電気伝導率の点で好ましい。

（保護層）
保護層は溶剤に溶解した樹脂を塗布、乾燥して形成することが好ましい。ガラス転位点が３０〜１００℃のポリマーであることが蒸着結晶と基板との膜付の点で好ましく、具体的には、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル樹脂、セルロース誘導体（ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられるが、特にポリエステル樹脂であることが好ましい。

保護層の膜厚としては接着性の点で０．１μｍ以上が好ましく、保護層表面の平滑性確保の点で３．０μｍ以下が好ましい。より好ましくは透明絶縁膜の厚さが０．２〜２．５μｍの範囲である。

保護層作製に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノールなどの低級アルコール、メチレンクロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、キシレンなどの芳香族化合物、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエステル、エチレングリコールモノメチルエステルなどのエーテル及びそれらの混合物を挙げることができる。

（蛍光体層の形成）
本発明に係る蛍光体層は、図１に模式的に示す蒸着装置によって形成することができる。

（シンチレータパネルの形成）
基板上に蛍光体層を設けたシンチレータシートは、シンチレータシートを上下の保護フィルムで挟み、減圧雰囲気中で上下の保護フィルムが接触する端部を融着することにより封止し、シンチレータパネルの形成することができる。蛍光体層が形成される基板の蒸着時の温度は２５〜３００℃に設定することが好ましく、より好ましくは５０〜２５０℃である。

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。

実施例１
〔シンチレータパネル１の作製〕
（蒸着源材料−１の作製）
ＣｓＩに対し、賦活剤原料としてヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を０．３（ｍｏｌ％）の比率で混合し、乳鉢にてこれらが均一になるように粉砕し、混合した。

（蒸着源材料−２の作製）
ＣｓＩに対し、賦活剤原料としてヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を０．０３（ｍｏｌ％）の比率で混合し、乳鉢にてこれらが均一になるように粉砕し、混合した。

（蒸着源材料−３の作製）
ＣｓＩに対し、賦活剤原料を使用せず、乳鉢にてＣｓＩが均一になるように粉砕し、混合した。

（蛍光体層の作製）
アルミからなる基板の片面に上記蒸着源材料を、図１に示す蒸着装置１を使用して蒸着させ蛍光体層を形成した。

即ち、まず上記蒸着源材料−１を蒸着源である抵抗加熱ルツボ２に充填し、上記蒸着源材料−２を蒸着源である抵抗加熱ルツボ３に充填し、回転機構４により回転される基板ホルダ５に基板６を設置し、該基板６と抵抗加熱ルツボ２との間隔を７００ｍｍに調節した。該基板６と抵抗加熱ルツボ３との間隔も７００ｍｍに調節した。

続いて、真空ポンプ７により蒸着装置１内を一旦排気し、Ａｒガスを導入して０．０１Ｐａに真空度を調整した後、回転機構４により１０ｒｐｍの速度で基板６を回転させながら基板６の温度を２００℃に保持した。抵抗加熱ルツボ２を加熱してシャッター８を開放して蛍光体を蒸着し、蛍光体層の全膜厚が２５０μｍとなったところで基板６への１層目の蒸着を終了させる。次いで、抵抗加熱ルツボ３を加熱してシャッター９を開放して蛍光体を蒸着し、蛍光体層の全膜厚が５００μｍとなったところで基板６への２層目の蒸着を終了させ、２層からなる蛍光体層を作製した。

（保護フィルムの作製及び封止）
蛍光体層側の保護フィルムは、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とＣＰＰ（キャステングポリプロプレン）の積層フィルムを使用した。積層フィルムの積層方法はドライラミネーションで接着剤層の厚みは１μｍとした。使用した接着剤は２液反応型のウレタン系接着剤である。基板側の保護フィルムも同様のものを使用した。このように上下に配置した保護フィルムを、減圧下で周縁部をインパルスシーラーを用いて融着することで封止し、シンチレータパネル１を作製した。

〔シンチレータパネル２の作製〕
シンチレータパネル１の作製において、蒸着源材料−２におけるヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を０．３（ｍｏｌ％）とした以外は、同様にしてシンチレータパネル２を作製した。

〔シンチレータパネル３の作製〕
シンチレータパネル１の作製において、蒸着源材料−２におけるヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を６．０（ｍｏｌ％）とし、全膜厚が４５０μｍとなったところで１層目の蒸着を終了する以外は、同様にしてシンチレータパネル３を作製した。

〔シンチレータパネル４の作製〕
蒸着原材料−１を用いて、全膜厚が５００μｍとなったところで蒸着を終了させ、１層の蛍光体層を作製した以外は、シンチレータパネル１と同様にしてシンチレータパネル４を作製した。

〔シンチレータパネル５の作製〕
シンチレータパネル１の作製において、蒸着源材料−２におけるヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を３．０（ｍｏｌ％）とした以外は、同様にしてシンチレータパネル５を作製した。

〔シンチレータパネル６の作製〕
シンチレータパネル３の作製において、蒸着源材料−１におけるヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を０．１８（ｍｏｌ％）とした以外は、同様にしてシンチレータパネル６を作製した。

〔シンチレータパネル７の作製〕
シンチレータパネル３の作製において、蒸着源材料−１におけるヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を０．０７２（ｍｏｌ％）とした以外は、同様にしてシンチレータパネル７を作製した。

〔シンチレータパネル８の作製〕
シンチレータパネル３の作製において、蒸着源材料−１におけるヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を０．０４５（ｍｏｌ％）とした以外は、同様にしてシンチレータパネル８を作製した。

〔シンチレータパネル９の作製〕
シンチレータパネル３の作製において、蒸着源材料−１におけるヨウ化タリウム（ＴｌＩ）を０．０３０（ｍｏｌ％）とした以外は、同様にしてシンチレータパネル９を作製した。

〔シンチレータパネル１０の作製〕
シンチレータパネル２の作製において、蒸発源材料−１の代わりに上記蒸発源材料−３を使用し、蒸着源材料−２の蒸着を行う前に抵抗加熱ルツボ２を加熱して、シャッター８を開放して蛍光体層の膜厚が１０μｍとなったところで蒸着を終了したこと以外は、同様にして蛍光体の全膜厚５００μｍのシンチレータパネル１０を作製した。

〔シンチレータパネル１１の作製〕
シンチレータパネル３の作製において、上記蒸発源材料−３を蒸発源である抵抗加熱ルツボ（図示せず）に充填し、基板６と抵抗加熱ルツボとの間隔も７００ｍｍに調節した。蒸着源材料−１の蒸着を行う前に抵抗加熱ルツボを加熱して、シャッター（図示せず）を開放して蛍光体層の膜厚が１０μｍとなったところで蒸着を終了したこと以外は、同様にしてシンチレータパネル１１を作製した。

〔評価〕
（輝度の測定）
得られた放射線像変換パネルを、１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさのＣＭＯＳフラットパネル（ラドアイコン社製 Ｘ線ＣＭＯＳカメラシステム ＳｈａｄｏｗＢｏｘ４ＫＥＶ）にセットし、管電圧８０ｋＶｐのＸ線を各試料の裏面（蛍光体層が形成されていない面）から照射し、１２ｂｉｔの出力データより輝度を測定し、その測定値を「発光輝度（感度）」とした。

測定結果を表１に示す。但し、表１中のシンチレータパネルの発光輝度を示す値は、シンチレータパネル４の発光輝度を１．０としたときの相対値である。

（賦活剤濃度の測定）
賦活剤の濃度は、誘導結合プラズマ発光分光分析装置（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ Ａｔｏｍｉｃ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ：ＩＣＰ−ＡＥＳ）にて測定する。蒸着によって得られた柱状結晶の厚さ方向に対し、１層目と２層目の部分で結晶を分割し、分割された各々の賦活剤濃度を測定する。

代表的なタリウムの定量には、蛍光体を基板から剥がした試料に濃塩酸を加えて加熱乾固し、更に王水を加えて加熱溶解した後、超純水で適宜希釈したものを測定する。賦活剤濃度はヨウ化セシウムに対するモル比（ｍｏｌ％）で表す。測定結果を表１に示す。

［表１］

表１より、本発明のシンチレータパネルは、蛍光体層が１層の比較のシンチレータパネル、Ｂ／Ａの値が１以下の比較のシンチレータパネルに比較して発光輝度が改善されていることがわかる。シンチレータパネル１０において、１層目の賦活剤濃度が０．０００５モル％となっているが、蒸着時に基板を加熱していることや蒸着時の熱により賦活剤が２層目より移動したことが原因と思われる。シンチレータパネル２と比較すると、発光輝度に加えて鮮鋭性（ＭＴＦ特性）も向上していた。また、シンチレータパネル１１については、Ａ＝０．０４９（モル％）、Ｂ＝６（モル％）、Ｂ／Ａ＝１２２であり、発光輝度は２．０であった。シンチレータパネル３と比較すると、発光輝度に加えて鮮鋭性（ＭＴＦ特性）も向上していた。

Claims (3)

1. 放射線が照射されることにより発光する蛍光体層と、蛍光体層を保持する基板と、蛍光体層と基板を覆う保護フィルムとを備えたシンチレータパネルにおいて、該蛍光体層が２層以上からなり、且つ最表面層における蛍光体に対する賦活剤の平均濃度をＢ（ｍｏｌ％）、それ以外の蛍光体層における蛍光体に対する賦活剤の平均濃度をＡ（ｍｏｌ％）としたとき、下記式１を満たし、かつ賦活剤濃度の高い蛍光体層が最表面に設定され、前記蛍光体がヨウ化セシウムであることを特徴とするシンチレータパネル。
   （式１） １．０＜Ｂ／Ａ≦１０００
2. 前記賦活剤としてヨウ化タリウム、ヨウ化ユーロピウム、臭化タリウムの内少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１に記載のシンチレータパネル。
3. 前記蛍光体層が２層以上からなり、且つ最表面層以外の少なくとも１層が賦活剤を含まない層であることを特徴とする請求項１または２に記載のシンチレータパネル。