JP2003007295A - リチウム二次電池用電極及びリチウム二次電池 - Google Patents

リチウム二次電池用電極及びリチウム二次電池

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 集電体3b上にシリコンを主体とする薄膜3
aを堆積させて形成したリチウム二次電池用電極3にお
いて、放電容量が高く、かつ充放電サイクル特性に優れ
たリチウム二次電池用電極を得る。 【解決手段】 周期律表4周期、5周期及び6周期のII
Ia族、IVa族、Va族、VIa族、VIIa族、VIII族、I
b族、及びIIb族の元素(但し、銅(Cu)は除く)の
少なくとも1種が、シリコンを主体とする薄膜3aの少
なくとも表面に含まれていることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リチウム二次電池
用電極及びこれを用いたリチウム二次電池に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
リチウム二次電池の開発が盛んに行われている。リチウ
ム二次電池は、用いられる電極活物質により、充放電電
圧、充放電サイクル寿命特性、保存特性などの電池特性
が大きく左右される。
【0003】リチウムを吸蔵・放出することができる電
極活物質の中でも、シリコンは、リチウムと合金化する
ことによりリチウムを吸蔵することができる物質であ
り、その理論容量が大きいことから、種々検討されてい
る。しかしながら、シリコンは合金化によりリチウムを
吸蔵するものであるので、充放電反応に伴う体積の膨張
収縮が大きい。このため、活物質の微粉化や集電体から
の剥離が起こるなどの理由により、充放電サイクル特性
が悪く、実用化されるに到っていない。
【0004】上記の問題を解消するため、シリコン中に
不純物をドーピングしたり(特開平10−199524
号公報)、シリコンと異種元素との合金粉末を用いたり
(特開2000−243389号公報)することによ
り、活物質としてのシリコンの改良が試みられている
が、未だ十分な結果は得られていない。
【0005】また、シリコンなどの元素と金属または半
金属との金属間化合物を、負極活物質として用いること
により、サイクル特性の向上を図る方法も提案されてい
る(特開平10−223221号公報)。しかしなが
ら、単純に金属間化合物とするだけでは、容量維持率は
改善されるものの、実質的にサイクル後の放電容量は改
善されるには至っていない。この原因としては、金属間
化合物には特定の化学量論比が存在するため、単位体積
中のリチウムを吸蔵放出する元素の量が少なくなり、そ
の元素単体で用いた場合よりも初期放電容量が大幅に減
少してしまうことが考えられる。例えば、Si3M構造
(Mは金属または半金属)であれば、リチウムを吸蔵放
出するSi原子の密度はSi単体の場合の75原子%程
度であり、Si2M構造であれば67原子%程度に減少
してしまう。
【0006】本出願人は、CVD法やスパッタリング法
などの薄膜形成方法により、集電体上にシリコン薄膜を
堆積して形成した電極が、高い充放電容量を示し、かつ
優れた充放電サイクル特性を示すことを見出している。
【0007】本発明の目的は、集電体上にシリコン薄膜
を堆積して形成したリチウム二次電池用電極において、
さらに充放電サイクル特性を向上させることができるリ
チウム二次電池用電極及びこれを用いたリチウム二次電
池を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、集電体上にシ
リコンを主体とする薄膜を堆積させて形成したリチウム
二次電池用電極であり、周期律表4周期、5周期及び6
周期のIIIa族、IVa族、Va族、VIa族、VIIa族、VI
II族、Ib族、及びIIb族の元素(但し、銅(Cu)を
除く)の少なくとも1種が、シリコンを主体とする薄膜
の少なくとも表面に含まれていることを特徴としてい
る。
【0009】上記元素として、具体的には、スカンジウ
ム(Sc)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、クロ
ム(Cr)、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、コバルト
(Co)、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、イットリ
ウム(Y)、ジルコニウム(Zr)、ニオブ(Nb)、
モリブデン(Mo)、テクネチウム(Tc)、ルテニウ
ム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、
銀(Ag)、カドミウム(Cd)、ランタノイド系元
素、ハフニウム(Hf)、タンタル(Ta)、タングス
テン(W)、レニウム(Re)、オスミウム(Os)、
イリジウム(Ir)、白金(Pt)、金(Au)、及び
水銀(Hg)が挙げられる。
【0010】上記のランタノイド系元素としては、ラン
タン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジム(P
r)、ネオジム(Nd)、プロメチウム(Pm)、サマ
リウム(Sm)、ユウロピウム(Eu)、ガドリニウム
(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(D
y)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ツリ
ウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)、及びルテチウ
ム(Lu)が挙げられる。
【0011】上記の元素の中でも、特に、VIII族、Ib
族、及びIIb族の元素が、シリコン中への拡散係数が高
いので好ましい。具体的には、鉄、コバルト、ニッケ
ル、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カ
ドミウム、オスミウム、イリジウム、白金、金、及び水
銀である。
【0012】特に、コバルト、亜鉛、鉄、ジルコニウ
ム、ニッケル、銀、及びマンガンから選ばれる少なくと
も1種を上記元素として用いることが好ましい。これら
の中でも、特に、コバルト、亜鉛、鉄、ジルコニウム、
及びニッケルから選ばれる少なくとも1種を用いること
が好ましい。
【0013】本発明においては、上記元素が、シリコン
を主体とする薄膜の少なくとも表面に含まれている。該
元素が表面に含まれることにより、薄膜表面と電解液と
の反応を抑制することができるものと考えられる。
【0014】また、上記元素が、薄膜全体に含まれてい
てもよい。該元素が薄膜に含有されることにより、充放
電反応に伴う薄膜の膨張収縮の量を減少させることがで
きるものと考えられる。また、上記元素が薄膜に含まれ
ることにより、薄膜の機械的物性を変化させ、薄膜の微
粉化を抑制することができると考えられる。また、薄膜
の膨張収縮量を減少させることができるので、充放電の
際に薄膜から集電体に働く応力を減少させることがで
き、集電体にしわが発生するのを抑制することができる
ものと考えられる。集電体のしわの発生を抑制すること
により、電池を組み立てた際の体積容量密度を向上させ
ることができる。
【0015】また、上記元素が薄膜に含有されることに
より薄膜の緻密化が生じる。このため、上記元素含有さ
せても単位体積当たりの活物質元素の量の割合の低下が
抑制される。また、含有させる元素の量を特定の範囲に
した場合には、単位体積当たりの活物質元素の量が同等
に維持されるかまたは増加する。このとき、単位体積当
たりの放電容量も同等かそれ以上の値が得られる。
【0016】本発明において、上記元素は、薄膜中でシ
リコンとの固溶体を形成していることが好ましい。例え
ば、上記元素がコバルトの場合、シリコンとコバルトの
金属間化合物ではなく、シリコンとコバルトの固溶体が
形成され、固溶体の形態でコバルトが含有されているこ
とが好ましい。
【0017】また、固溶体は、非平衡状態の固溶体であ
ることが好ましい。平衡状態においてシリコンと固溶体
を形成するものはゲルマニウムしか知られておらず、上
記元素とシリコンとの固溶体は、非平衡状態においての
み存在する。
【0018】例えば元素がコバルトである場合、シリコ
ンとコバルトの2元状態図によれば、シリコンとコバル
トが組成比の広い範囲において種々の金属間化合物を形
成する。しかしながら、固溶体は組成比の広い範囲では
形成されず、いずれか一方がわずかに含まれる範囲での
み形成される可能性が認められるだけである。ここで、
金属間化合物とは、金属同士が特定の比率で化合した特
定の結晶構造を有する化合物をいう。2元状態図は平衡
状態に基づくものであるため、2元状態図からは非平衡
状態の固溶体が形成されるか否かを判断することはでき
ない。固溶体が非平衡状態の固溶体であることにより、
充放電反応によっても薄膜構造が崩壊することなく、リ
チウムを吸蔵・放出することが可能になるものと考えら
れる。
【0019】上記元素の薄膜中の含有量は、30重量%
以下であることが好ましく、さらに好ましくは20重量
%以下である。上記元素の薄膜中における含有量が高く
なり過ぎると、薄膜の充放電容量が低下するため好まし
くない。また、上記元素の薄膜中の含有量は、0.1重
量%以上であることが好ましく、さらに好ましくは1重
量%以上である。上記元素の含有量が少なくなり過ぎる
と、電解液との反応を抑制し、充放電サイクル特性を向
上させるという本発明の効果が十分に得られない場合が
ある。従って、上記元素の含有量は、0.1〜30重量
%であることが好ましく、さらに好ましくは1〜20重
量%である。
【0020】上記元素の薄膜中の含有量は、17原子%
以下であることが好ましい。理由は明らかではないが、
上記元素の薄膜中における含有量が高くなり過ぎると、
上記元素の凝集が生じ易くなり、それによって活物質層
の微粉化が生じ易くなるため、サイクル特性の改善の効
果が減少してしまうものと考えられる。
【0021】本発明における薄膜は、その厚み方向に形
成された切れ目によって柱状に分離されていることが好
ましい。柱状部分の周囲には隙間が存在しているので、
この隙間によって充放電サイクルに伴う薄膜の膨張収縮
による応力が緩和され、薄膜が集電体から剥離するよう
な応力が発生するのを抑制することができる。従って、
柱状部分の底部における集電体との密着状態を良好に保
つことができる。
【0022】また、薄膜の厚み方向において、少なくと
も薄膜の厚みの1/2以上の部分が、切れ目によって柱
状に分離されていることが好ましい。また、薄膜の表面
に凹凸が形成されており、該凹凸の谷部を端部とする切
れ目が薄膜に形成されている場合には、柱状部分が薄膜
表面の少なくとも1つの凸部を含むように切れ目が形成
されていてもよい。この場合、複数の凸部を含むように
切れ目が形成されていてもよい。
【0023】薄膜に形成される切れ目は、初回以降の充
放電で形成されてもよい。このような場合、例えば、充
放電前において薄膜の表面に凹凸が形成されており、初
回以降の充放電により薄膜表面の凹凸の谷部を端部とす
る切れ目が形成され、この切れ目によって薄膜が柱状に
分離されていてもよい。
【0024】薄膜表面の凹凸は、下地層である集電体表
面の凹凸に対応して形成されていてもよい。すなわち、
表面に凹凸を有する集電体を用い、その上に薄膜を形成
することにより、薄膜の表面に凹凸を付与することがで
きる。
【0025】集電体の表面粗さRaは、0.01μm以
上であることが好ましく、さらに好ましくは0.01〜
1μmであり、さらに好ましくは0.05〜0.5μm
である。表面粗さRaは、日本工業規格(JIS B
0601−1994)に定められており、例えば表面粗
さ計により測定することができる。
【0026】本発明において、集電体の表面粗さRa
は、活物質薄膜の厚みtに対してRa≦tの関係を有す
ることが好ましい。また、集電体の表面粗さRaと局部
山頂の平均間隔Sは、100Ra≧Sの関係を有するこ
とが好ましい。局部山頂の平均間隔Sは、日本工業規格
(JIS B 0601−1994)に定められてお
り、例えば表面粗さ計により測定することができる。
【0027】集電体表面の凹凸の凸部の形状は、特に限
定されるものではないが、例えば錐体状であることが好
ましい。また、柱状部分の上方部は、充放電反応におけ
る電流の集中を避けるため、丸みを帯びた形状であるこ
とが好ましい。
【0028】本発明において、薄膜に形成される厚み方
向の切れ目は、初回以降の充放電で形成されていてもよ
いし、充放電前に予め形成されていてもよい。このよう
な切れ目を充放電前に薄膜に予め形成させる方法として
は、電池を組み立てる前に、電極の薄膜にリチウム等を
吸蔵させた後放出させるなどの方法により、薄膜の体積
を膨張させた後収縮させて形成させることができる。も
ちろん、正極にリチウムを含有しない活物質を用いた場
合などには、リチウムを吸蔵させた状態で組立ててもよ
い。また、フォトリソグラフィーによりパターニングし
たレジスト膜などを用いて、柱状に薄膜を形成すること
により、切れ目によって柱状に分離された薄膜としても
よい。
【0029】一般に、シリコンは、結晶性の違いによ
り、非晶質シリコン、微結晶シリコン、多結晶シリコ
ン、及び単結晶シリコンに大別される。非晶質シリコン
は、ラマン分光分析において結晶領域に対応する520
cm-1近傍のピークが実質的に検出されないものであ
る。微結晶シリコンは、ラマン分光分析において、結晶
領域に対応する520cm-1近傍のピークと、非晶質領
域に対応する480cm-1近傍のピークの両方が実質的
に検出されるものである。従って、微結晶シリコンは結
晶領域と非晶質領域とから実質的に構成される。多結晶
シリコン及び単結晶シリコンは、ラマン分光分析におい
て、非晶質領域に対応する480cm-1近傍のピークが
実質的に検出されない。
【0030】本発明において、上記元素が含まれるシリ
コン薄膜としては、微結晶シリコン薄膜及び非晶質シリ
コン薄膜が好ましい。また、本発明においてシリコンを
主体とする薄膜としては、上記のシリコン薄膜以外に、
シリコンゲルマニウム合金薄膜が挙げられる。シリコン
ゲルマニウム合金薄膜としては、微結晶シリコンゲルマ
ニウム合金薄膜及び非晶質シリコンゲルマニウム薄膜が
好ましく用いられる。シリコンゲルマニウム合金薄膜の
微結晶及び非晶質は、上記のシリコン薄膜と同様にして
定めることができる。シリコンとゲルマニウムは均一に
固溶し、いずれも本発明において良好な結果が得られる
ので、これらの合金であるシリコンゲルマニウム合金に
ついても良好な結果が得られるものと考えられる。
【0031】本発明において、薄膜を集電体上に形成す
る方法は、特に限定されるものではないが、例えば、C
VD法、スパッタリング法、蒸着法、溶射法、またはめ
っき法などが挙げられる。これらの薄膜形成方法の中で
も、CVD法、スパッタリング法、及び蒸着法が特に好
ましく用いられる。
【0032】薄膜中に、上記元素を含有させる方法とし
ては、例えばCVD法の場合、シリコンの原料ガス中
に、上記元素を含む原料ガスを混合し、この混合ガスを
分解して薄膜を形成する方法が挙げられる。また、スパ
ッタリング法の場合には、シリコンのターゲットと上記
元素のターゲットを並べて配置し薄膜を形成するなどの
方法が挙げられる。蒸着法の場合には、シリコンの蒸着
源と上記元素の蒸着源を並べて配置し薄膜を形成するな
どの方法が挙げられる。
【0033】本発明において用いる集電体は、その上に
薄膜を良好な密着性で形成できるものであれば特に限定
されるものではない。集電体の具体例としては、銅、ニ
ッケル、ステンレス、モリブデン、タングステン、及び
タンタルから選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
【0034】集電体は、厚みの薄いものであることが好
ましく、金属箔であることが好ましい。集電体は、リチ
ウムと合金化しない材料から形成されていることが好ま
しく、特に好ましい材料としては、銅が挙げられる。集
電体は銅箔であることが好ましく、その表面が粗面化さ
れた銅箔であることが好ましい。このような銅箔として
は電解銅箔が挙げられる。電解銅箔は、例えば、銅イオ
ンが溶解された電解液中に金属製のドラムを浸漬し、こ
れを回転させながら電流を流すことにより、ドラムの表
面に銅を析出させ、これを剥離して得られる銅箔であ
る。電解銅箔の片面または両面には、粗面化処理や表面
処理がなされていてもよい。
【0035】また、圧延銅箔の表面に、電解法により銅
を析出させ、表面を粗面化した銅箔であってもよい。ま
た、集電体の上に中間層を形成し、この中間層の上に薄
膜を形成してもよい。この場合、中間層としては、薄膜
中に拡散し易い成分を含むものが好ましく、例えば銅層
が好ましい。例えば、表面が粗面化されたニッケル箔
(電解ニッケル箔など)の上に、銅層を形成した集電体
を用いてもよい。また、ニッケル箔の上に電解法によ
り、銅を析出させ、これによって粗面化したニッケル箔
を用いてもよい。
【0036】本発明において薄膜に形成される切れ目
は、予め薄膜中に厚み方向に延びるように形成された低
密度領域に沿って形成されたものであってもよい。この
ような低密度領域は、例えば、集電体表面の凹凸の谷部
から上方に向かって延びるように形成されている。
【0037】本発明においては、薄膜に集電体の成分が
拡散していることが好ましい。このような集電体成分の
薄膜内への拡散により、集電体と薄膜の密着性を高める
ことができる。また、集電体成分として、リチウムと合
金化しない銅などの元素が拡散している場合、拡散領域
においてリチウムとの合金化が抑制されるため、充放電
反応に伴う薄膜の膨張・収縮を抑制することができ、活
物質薄膜の集電体からの剥離を生じさせるような応力の
発生を抑制することができる。
【0038】また、薄膜内に拡散した集電体成分の濃度
は、集電体近傍で高く、薄膜表面に近づくにつれて減少
していることが好ましい。このような集電体成分の濃度
勾配を有することにより、充放電反応に伴う薄膜の膨張
・収縮の抑制が、集電体近傍においてより強く働くた
め、活物質薄膜の剥離を生じさせる応力が集電体近傍で
発生するのを抑制することができ易くなる。また、薄膜
表面に近づくにつれて集電体成分の濃度が減少すること
により、高い充放電容量を維持することができる。
【0039】また、拡散した集電体成分は、薄膜中にお
いて、薄膜成分と金属間化合物を形成せずに、固溶体を
形成していることが好ましい。ここで、金属間化合物と
は、金属同士が特定の比率で化合した特定の結晶構造を
有する化合物をいう。薄膜成分と集電体成分が薄膜中に
おいて、金属間化合物ではなく、固溶体を形成すること
により、薄膜と集電体との密着状態がより良好となり、
より高い充放電容量を得ることができる。
【0040】本発明における薄膜には、上記元素以外の
不純物がドープされていてもよい。このような不純物と
しては、例えば、リン、アルミニウム、ヒ素、アンチモ
ン、ホウ素、ガリウム、インジウム、酸素、窒素等の元
素を挙げることができる。
【0041】また、本発明における薄膜は、複数の層を
積層して形成されていてもよい。積層された各層におい
ては、組成、結晶性、上記元素や不純物の濃度等が異な
っていてもよい。また、薄膜の厚み方向に傾斜構造を有
するものであってもよい。例えば、組成、結晶性、上記
元素や不純物の濃度等を厚み方向に変化させた傾斜構造
とすることができる。
【0042】また、本発明における薄膜には、予めリチ
ウムが吸蔵または添加されていてもよい。リチウムは、
薄膜を形成する際に添加してもよい。すなわち、リチウ
ムを含有する薄膜を形成することにより、薄膜にリチウ
ムを添加してもよい。また、薄膜を形成した後に、薄膜
にリチウムを吸蔵または添加させてもよい。薄膜にリチ
ウムを吸蔵または添加させる方法としては、電気化学的
にリチウムを吸蔵または添加させる方法が挙げられる。
【0043】また、本発明の薄膜の厚みは特に限定され
るものではないが、例えば20μm以下の厚みとするこ
とができる。また、高い充放電容量を得るためには、厚
みは1μm以上であることが好ましい。
【0044】本発明のリチウム二次電池は、上記本発明
の電極からなる負極と、正極と、非水電解質とを備える
ことを特徴としている。本発明のリチウム二次電池に用
いる電解質の溶媒は、特に限定されるものではないが、
エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチ
レンカーボネート、ビニレンカーボネートなどの環状カ
ーボネートと、ジメチルカーボネート、メチルエチルカ
ーボネート、ジエチルカーボネートなどの鎖状カーボネ
ートとの混合溶媒が例示される。また、前記環状カーボ
ネートと1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキ
シエタンなどのエーテル系溶媒や、γ−ブチロラクト
ン、スルホラン、酢酸メチル等の鎖状エステル等との混
合溶媒も例示される。また、電解質の溶質としては、L
iPF6、LiBF4、LiCF3SO3、LiN(CF 3
SO22、LiN(C25SO22、LiN(CF3
2)(C49SO2)、LiC(CF3SO23、Li
C(C25SO23、LiAsF6、LiClO4、Li
210Cl10、Li212Cl12など及びそれらの混合物
が例示される。さらに電解質として、ポリエチレンオキ
シド、ポリアクリロニトリル、ポリフッ化ビニリデンな
どのポリマー電解質に電解液を含浸したゲル状ポリマー
電解質や、LiI、Li3Nなどの無機固体電解質が例
示される。本発明のリチウム二次電池の電解質は、イオ
ン導電性を発現させる溶媒としてのLi化合物とこれを
溶解・保持する溶媒が電池の充電時や放電時あるいは保
存時の電圧で分解しない限り、制約なく用いることがで
きる。
【0045】本発明のリチウム二次電池の正極活物質と
しては、LiCoO2、LiNiO2、LiMn24、L
iMnO2、LiCo0.5Ni0.52、LiNi0.7Co
0.2Mn0.12などのリチウム含有遷移金属酸化物や、
MnO2などのリチウムを含有していない金属酸化物が
例示される。また、この他にも、リチウムを電気化学的
に挿入・脱離する物質であれば、制限なく用いることが
できる。
【0046】本発明の他の局面に従うリチウム二次電池
は、上記本発明の電極からなる正極と、負極と、非水電
解質とを備えることを特徴としている。非水電解質とし
ては、上記の非水電解質と同様のものを用いることがで
きる。
【0047】負極としては、例えば、リチウム金属や、
ビスマス−リチウム合金またはアンチモン−リチウム合
金などを用いることができる。
【0048】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例に基づいて
さらに詳細に説明するが本発明は以下の実施例に何ら限
定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲にお
いて適宜変更して実施することが可能なものである。
【0049】(実験1) 〔負極の作製〕集電体として電解銅箔(厚み18μm、
表面粗さRa=0.188μm)を用い、この電解銅箔
の上にRFスパッタリング法により薄膜を形成した。薄
膜としては、シリコン−コバルト薄膜、シリコン−クロ
ム薄膜、及びシリコン薄膜を形成した。シリコン−コバ
ルト薄膜については、コバルトの含有量が異なる5種類
の薄膜を形成した。
【0050】スパッタリングの条件は、スパッタガス
(Ar)流量:10sccm、基板温度:室温(加熱な
し)、反応圧力:0.665Pa(5×10-3Tor
r)、高周波電力500Wの条件とした。ターゲットと
しては、単結晶シリコンのターゲット(直径4インチ
(100mm))を用い、異種元素としてコバルトを含
有させたものについてはコバルト(Co)のチップを、
異種元素としてクロムを含有させたものについてはクロ
ム(Cr)のチップをシリコン(Si)ターゲットの上
に配置した。薄膜は、100mm×100mmの電解銅
箔の上にその厚みが約5μmとなるように形成した。
【0051】得られた各薄膜について、ラマン分光分析
を行ったところ、480cm-1近傍のピークは検出され
たが、520cm-1近傍のピークは検出されなかった。
このことから、得られた薄膜は、非晶質シリコンを主体
とする薄膜であることがわかった。また、コバルトまた
はクロムを含有させた薄膜については、蛍光X線分析に
よりそれぞれの元素の含有量を定量した。それぞれの薄
膜における異種元素の含有量と、スパッタリングの際の
ターゲットにおけるチップの配置状態を表1に示す。
【0052】
【表1】
【0053】表1に示した薄膜におけるCoの含有量を
原子%に換算すると、1重量%、5重量%、10重量
%、20重量%、及び40重量%は、それぞれ0.5原
子%、2原子%、5原子%、11原子%、及び24原子
%となる。また、Cr5重量%は、3原子%である。
【0054】薄膜を形成した電解銅箔を2.5cm×
2.5cmの大きさに切り出し、100℃2時間真空下
に乾燥した。コバルトを1重量%含有するものを電極A
1、5重量%含有するものを電極A2、10重量%含有
するものを電極A3、20重量%含有するものを電極A
4、40重量%含有するものを電極A5、クロムを5重
量%含有するものを電極B1、異種元素を含有しない非
晶質シリコン薄膜のものを電極X1とした。これらの電
極を、以下の電池の作製において負極として用いた。
【0055】〔正極の作製〕平均粒径10μmのLiC
oO2粉末85重量%と、導電剤としての炭素粉末10
重量%と、結着剤としてのポリフッ化ビニリデン粉末5
重量%とを混合し、得られた混合物にN−メチルピロリ
ドンを加えて混練しスラリーを作製した。このスラリー
を厚さ20μmのアルミニウム箔からなる集電体の片面
にドクターブレード法により塗布した。これを100℃
2時間真空下に乾燥した後、2.0cm×2.0cmの
大きさに切り出し、正極とした。
【0056】〔電解液の作製〕エチレンカーボネートと
ジエチルカーボネートを体積比3:7で混合した溶媒に
対し、LiPF6を1モル/リットル溶解して電解液を
作製した。
【0057】〔電池の作製〕アルゴンガス雰囲気下のグ
ローボックス中にて、上記正極と上記負極とをポリエチ
レン製微多孔膜を介して貼り合わせ、アルミニウム製ラ
ミネート材からなる外装体に挿入した。これに、上記電
解液を500μl注入し、リチウム二次電池を作製し
た。電池の設計容量は14mAhである。
【0058】図1は、作製したリチウム二次電池を示す
平面図である。図1に示すように、ポリエチレン製微多
孔膜からなるセパレータ2を介して、正極1と負極3と
が組合わされて外装体4内に挿入されている。外装体4
に挿入した後に、電解液を注入し、外装体4の封止部4
aを封止することにより、リチウム二次電池が作製され
ている。
【0059】図2は、電池内部における電池の組合せ状
態を示すための断面図である。図2に示すように、セパ
レータ2を介して正極1と負極3が対向するように組み
合わされている。正極1においてはアルミニウムからな
る正極集電体1bの上に、正極活物質層1aが設けられ
ており、この正極活物質層1aがセパレータ2と接して
いる。また、負極3においては、銅からなる負極集電体
3bの上に、負極活物質層3aが設けられおり、この負
極活物質層3aがセパレータ2に接している。
【0060】図2に示すように、正極集電体1bには、
外部取り出しのためのアルミニウムからなる正極タブ1
cが取り付けられている。また、負極集電体3bにも、
外部取り出しのためのニッケルからなる負極タブ3cが
取り付けられている。
【0061】〔充放電サイクル特性の測定〕上記の各電
池について、充放電サイクル特性を評価した。充電は1
4mAの定電流で4.20Vまで行い、サイクル4.2
0Vの定電圧充電を0.7mAまで行った。放電は14
mAの定電流で2.75Vまでとし、これを1サイクル
とした。90サイクル後の容量維持率を以下の計算式よ
り求めた。結果を表2に示す。なお、測定は25℃で行
った。
【0062】容量維持率(%)=(90サイクル目の放
電容量/1サイクル目の放電容量)×100 また、表2には、各電極に形成した薄膜のX線回折分析
(XRD:線源CuKα)による結果を示した。
【0063】
【表2】
【0064】表2から明らかなように、コバルトを1〜
20重量%含有した電極A1〜A4を用いた電池及びク
ロムを5重量%含有した電極B1を用いた電池において
は、異種元素を含有していない非晶質シリコン薄膜の電
極X1を用いた電池に比べ、容量維持率が高くなってお
り、充放電サイクル特性が向上していることがわかる。
【0065】電極A5においては、X線回折分析の結
果、薄膜中にシリコンとコバルトの金属間化合物のピー
クが認められている。これに対し、電極A1〜A4にお
いては、このような金属間化合物のピークが認められて
おらず、コバルトが薄膜中でシリコンと固溶体を形成し
ていることがわかる。同様に電極B1においては、クロ
ムが薄膜中においてシリコンと固溶体を形成しているこ
とがわかる。
【0066】(実験2)実験1と同様にして、電解銅箔
の上にRFスパッタリング法により薄膜を形成した。薄
膜としては、シリコン−亜鉛薄膜、シリコン−鉄薄膜、
シリコン−ニッケル薄膜、シリコン−ジルコニウム薄
膜、シリコン−銀薄膜、シリコン−マンガン薄膜、シリ
コン−モリブデン薄膜、シリコン−タンタル薄膜、シリ
コン−ニオブ薄膜、シリコン−チタン薄膜、シリコン−
タングステン薄膜、及びシリコン−バナジウム薄膜を形
成した。
【0067】ターゲットとしては、実験1と同様に、単
結晶シリコンターゲットの上に上記異種元素のチップを
配置して用いた。各チップの大きさ及び枚数を表3に示
す。得られた各薄膜について、ラマン分光分析を行い、
非晶質シリコンを主体とする薄膜であることを確認し
た。
【0068】薄膜を形成した電解銅箔を用いて、実験1
と同様にしてリチウム二次電池を作製し、実験1と同様
にして充放電サイクル特性を評価した。結果を表3に示
す。なお、表3には実験1における比較電極X1を用い
たリチウム二次電池の結果も併せて示す。
【0069】
【表3】
【0070】表3に示した電極C〜Nについて、重量%
と原子%の関係を表4に示す。
【0071】
【表4】
【0072】表3から明らかなように、本発明に従い異
種元素を含有させた非晶質シリコン薄膜を用いた電極C
〜Nを用いた電池は、異種元素を含有していない非晶質
シリコン薄膜の電極X1を用いた電池に比べ、容量維持
率が高くなっており、充放電サイクル特性が向上してい
ることがわかる。また、X線回折分析の結果、薄膜中に
はシリコンと異種元素の金属間化合物のピークが認めら
れていないので、異種元素は薄膜中でシリコンと固溶体
を形成していることがわかる。
【0073】上記の異種元素の中でも、亜鉛、鉄、ニッ
ケル、ジルコニウム、銀、及びマンガンを含有した電極
G〜Hは良好な容量維持率を示しており、この中でも、
特に、亜鉛、鉄、ジルコニウム、及びニッケルは80%
以上の良好な容量維持率を示している。
【0074】(実験3)集電体として電解銅箔(厚み1
8μm、表面粗さRa=0.188μm)を用い、この
電解銅箔の上にDCパルス放電を用いたスパッタリング
法により薄膜を形成した。薄膜としては、シリコン−コ
バルト薄膜、シリコン−亜鉛薄膜、シリコン−鉄薄膜、
及びシリコン−ジルコニウム薄膜を形成した。
【0075】スパッタリングの条件は、スパッタガス
(Ar)流量:85sccm、基板温度:室温(加熱な
し)、反応圧力:0.532Pa(4×10-3Tor
r)、DCパルス周波数:100kHz、パルス幅:
1.696μs、印加電圧1300Wの条件とした。薄
膜は、175mm×400mmの電解銅箔の領域の上に
その厚みが約6μmとなるように形成した。
【0076】ターゲットとしては、コバルト、亜鉛、
鉄、ジルコニウムの各元素をシリコンと混合して焼結す
ることにより得られる、35cm×20cmの大きさの
シリコン合金ターゲットを用いた。各ターゲット中の混
合元素の種類及び濃度、並びに得られた薄膜中の混合元
素の濃度を表5に示した。なお、薄膜中の元素濃度は蛍
光X線分析により測定した。
【0077】また、得られた各薄膜については、ラマン
分光分析を行い、非晶質シリコンを主体とする薄膜であ
ることを確認した。薄膜を形成した電解銅箔を用いて、
実験1及び実験2と同様にしてリチウム二次電池を作製
し、実験1及び実験2と同様にして充放電サイクル特性
を評価した。結果を表5に示す。なお、比較として、結
晶シリコンをターゲットとして用いて非晶質シリコン薄
膜を形成した比較電極X2を作製した。この比較電極X
2を用いたリチウム二次電池の結果も表5に併せて示
す。
【0078】
【表5】
【0079】表5から明らかなように、本発明に従い異
種元素を含有させた非晶質シリコン薄膜を用いた電極O
〜Sを用いた電池は、同じ条件で形成した異種元素を含
有していない非晶質シリコン薄膜の電極X2を用いた電
池に比べ、容量維持率が高くなっており、充放電サイク
ル特性が向上していることがわかる。また、X線回折分
析の結果、薄膜中にはシリコンと異種元素の金属間化合
物のピークが認められなかった。従って、異種元素は薄
膜中でシリコンと固溶体を形成していることがわかる。
【0080】電極Oについて、4サイクル終了時点で取
り出して、SEM観察を行った。その結果、薄膜全体に
わたって薄膜表面の凹凸の谷部を端部とする切れ目が厚
み方向に形成され、この切れ目によって薄膜が柱状に分
離されていることが確認された。
【0081】また、蛍光X線分析により定量される単位
面積当たりのSi重量を、膜厚で規格化し、単位体積当
たりのSiの重量密度を求めた。電極X2では、2.2
2g/cm3であったのに対して、電極Oでは、コバル
トを20重量%(11原子%)含有しているにもかかわ
らず、2.13g/cm3であった。これは、コバルト
を添加しても、Siの重量密度及び原子密度の低下が抑
制されていることを示している。
【0082】さらに、単位体積当たりの放電容量密度は
良好なサイクル特性が得られる範囲で、この値が大きれ
ば大きいほど、より狭い面積及びより薄い厚みの活物質
層とすることが可能であるため、電池の設計上重要な値
である。電極X2及び電極Oのいずれも、単位体積当た
りの放電容量密度は6.8Ah/cm3であった。すな
わち、電極Oにおいてはコバルトを20重量%(11原
子%)含有しているにもかかわらず、電極X2と同程度
の放電容量が得られている。これは、上記の結果ととも
に、電極Oにおいて、活物質の薄膜の緻密度が向上して
いることを示している。
【0083】また、電極Pの単位体積当たりの放電容量
密度は6.3Ah/cm3であり、電極X2と比べて若
干低下していた。しかしながら、電極Pはコバルトを3
0重量%(17原子%)含有しており、このことを考慮
すると、高い値が得られている。また、容量維持率は高
くなっており、サイクル特性は大幅に向上している。
【0084】
【発明の効果】本発明によれば、放電容量が高く、かつ
充放電サイクル特性に優れたリチウム二次電池用電極と
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例において作製したリチウム二次
電池を示す平面図。
【図2】図1に示すリチウム二次電池における電極の組
合せ構造を示す断面図。
【符号の説明】
1…正極 1a…正極活物質層 1b…正極集電体 1c…正極タブ 2…セパレータ 3…負極 3a…負極活物質層 3b…負極集電体 3c…負極タブ 4…外装体 4a…外装体の封止部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01M 4/66 H01M 4/66 A 10/40 10/40 Z (72)発明者 神野 丸男 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 樽井 久樹 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 藤本 正久 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 藤谷 伸 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 佐山 勝信 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 Fターム(参考) 5H017 AA03 CC01 DD01 EE01 EE04 HH03 5H029 AJ03 AJ05 AK03 AK11 AL11 AL12 AM02 AM03 AM04 AM07 AM16 BJ04 CJ24 DJ07 DJ17 DJ18 EJ01 EJ04 EJ12 HJ01 HJ03 HJ19 5H050 AA07 AA08 BA16 BA17 CA08 CA09 CA17 CB12 DA04 EA10 EA24 FA19 FA20 GA24 HA01 HA03

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 集電体上にシリコンを主体とする薄膜を
    堆積させて形成したリチウム二次電池用電極であって、 周期律表4周期、5周期及び6周期のIIIa族、IVa
    族、Va族、VIa族、VIIa族、VIII族、Ib族、及びI
    Ib族の元素(但し、銅(Cu)を除く)の少なくとも
    1種が、シリコンを主体とする前記薄膜の少なくとも表
    面に含まれていることを特徴とするリチウム二次電池用
    電極。
  2. 【請求項2】 前記元素が前記薄膜全体に含まれている
    ことを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用
    電極。
  3. 【請求項3】 前記元素が前記薄膜中でシリコンとの固
    溶体を形成して含まれていることを特徴とする請求項1
    または2に記載のリチウム二次電池用電極。
  4. 【請求項4】 前記固溶体が非平衡状態の固溶体である
    ことを特徴とする請求項3に記載のリチウム二次電池用
    電極。
  5. 【請求項5】 前記元素の前記薄膜中の含有量が30重
    量%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
    か1項に記載のリチウム二次電池用電極。
  6. 【請求項6】 前記元素の前記薄膜中の含有量が17原
    子%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
    か1項に記載のリチウム二次電池用電極。
  7. 【請求項7】 前記薄膜が、CVD法、スパッタリング
    法、蒸着法、溶射法、またはめっき法により形成された
    薄膜であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1
    項に記載のリチウム二次電池用電極。
  8. 【請求項8】 前記薄膜が、非晶質シリコン薄膜または
    微結晶シリコン薄膜であることを特徴とする請求項1〜
    7のいずれか1項に記載のリチウム二次電池用電極。
  9. 【請求項9】 前記元素を含むことにより、前記薄膜中
    の単位体積当たりのシリコンの原子密度が同等または増
    加していることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1
    項に記載のリチウム二次電池用電極。
  10. 【請求項10】 前記元素を含むことにより、前記薄膜
    中の単位体積当たりの放電容量が同等または増加してい
    ることを特徴としている請求項1〜9のいずか1項に記
    載のリチウム二次電池用電極。
  11. 【請求項11】 前記元素が、コバルトまたはクロムで
    あることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に
    記載のリチウム二次電池用電極。
  12. 【請求項12】 前記元素が、亜鉛、鉄、ジルコニウム
    及びニッケルから選ばれる少なくとも1種であることを
    特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載のリチ
    ウム二次電池用電極。
  13. 【請求項13】 前記薄膜がその厚み方向に形成された
    切れ目によって柱状に分離されており、かつ該柱状部分
    の底部が前記集電体と密着していることを特徴とする請
    求項1〜12のいずれか1項に記載のリチウム二次電池
    用電極。
  14. 【請求項14】 前記切れ目が、前記薄膜中の厚み方向
    に延びる低密度領域に沿って形成されていることを特徴
    とする請求項13に記載のリチウム二次電池用電極。
  15. 【請求項15】 前記集電体が、銅、ニッケル、ステン
    レス、モリブデン、タングステン、及びタンタルから選
    ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1
    〜14のいずれか1項に記載のリチウム二次電池用電
    極。
  16. 【請求項16】 前記集電体の表面粗さRaが0.01
    〜1μmであることを特徴とする請求項1〜15のいず
    れか1項に記載のリチウム二次電池用電極。
  17. 【請求項17】 前記集電体が銅箔であることを特徴と
    する請求項1〜16のいずれか1項に記載のリチウム二
    次電池用電極。
  18. 【請求項18】 前記銅箔が両面を粗面化された銅箔で
    あることを特徴とする請求項17に記載のリチウム二次
    電池用電極。
  19. 【請求項19】 前記銅箔が電解銅箔であることを特徴
    とする請求項14または18に記載のリチウム二次電池
    用電極。
  20. 【請求項20】 前記薄膜に前記集電体の成分が拡散し
    ていることを特徴とする請求項1〜19のいずれか1項
    に記載のリチウム二次電池用電極。
  21. 【請求項21】 前記集電体の成分が、集電体近傍にお
    いて高く集電体から離れるにしたがって低くなるような
    濃度分布で拡散していることを特徴とする請求項20に
    記載のリチウム二次電池用電極。
  22. 【請求項22】 請求項1〜21のいずれか1項に記載
    の電極からなる負極と、正極と、非水電解質とを備える
    ことを特徴とするリチウム二次電池。
  23. 【請求項23】 請求項1〜21のいずれか1項に記載
    の電極からなる正極と、負極と、非水電解質とを備える
    ことを特徴とするリチウム二次電池。
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