JP2002528568A5

JP2002528568A5 -

Info

Publication number: JP2002528568A5
Application number: JP2000578122A
Authority: JP
Filing date: 1999-10-20
Publication date: 2006-12-14
Anticipated expiration: 2019-10-20

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】無機または有機基材上に密着性の優れた被覆を製造する方法であって、第１工程において、
ａ）無機または有機基材上に、低温プラズマ放電、コロナ放電、高エネルギーＵＶ放射または電子放射を作用させ、引き続いてその放射または放電を止め；
さらなる工程において、
ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する１種または複数種の光開始剤を、真空下または常圧下で、無機または有機基材上に付着させて、そこに生成しているラジカル部位と反応させ；そして
ｃ１）このように光開始剤で前被覆した基材を、少なくとも１種類のエチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーを含有する組成物で被覆し、そしてこの被覆をＵＶ／ＶＩＳ放射によって硬化させるか；または
ｃ２）このように光開始剤で前被覆した基材上に、金属、半金属酸化物または金属酸化物を、ＵＶ光の存在下でガス相から析出させる
ことを特徴とする方法。
【請求項２】光開始剤が、式（Ｉ）または（Ｉａ）：
（ＲＧ）−Ａ−（ＩＮ）（Ｉ）
（ＩＮ）−Ａ−（ＲＧ′）−Ａ−（ＩＮ）（Ｉａ）
（式中、
（ＩＮ）は、光開始剤基本構造体であり、
Ａは、スペーサー基または単結合であり、
（ＲＧ）は、少なくとも１個の官能性エチレン性不飽和基を意味し、そして
（ＲＧ′）は、少なくとも１個の官能性エチレン性不飽和基を含有する２価の残基である）
の化合物であることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】式（Ｉ）または（Ｉａ）の化合物において、
（ＲＧ）は、Ｒ_cＲ_bＣ＝ＣＲ_a−であり、
（ＲＧ′）は、
【化６】

であり、そして
Ｒ_a、Ｒ_b、Ｒ_cは、それぞれＨまたはＣ₁〜Ｃ₆アルキル、特にＨまたはＣＨ₃を意味する、
請求項２記載の方法。
【請求項４】少なくとも１種類のエチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーを含有する組成物が、ＵＶ／ＶＩＳ放射によって硬化するための、さらなる光開始剤または共開始剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項５】析出させた光開始剤層または金属層が、単分子層〜１００nmの厚さを示すことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項６】工程ｂ）を、工程ａ）の直後に、または１０時間以内に実施することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項７】無機または有機基材上に密着性の優れた被覆を製造するための、１個または複数個のエチレン性不飽和基を有する光開始剤であって、第１工程において
ａ）無機または有機基材上に、低温プラズマ放電、コロナ放電、高エネルギーＵＶ放射または電子放射を作用させ、引き続いてその放射または放電を止め；
さらなる工程において、
ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する１種または複数種の光開始剤を、真空下または常圧下で、無機または有機基材上に付着させて、そこに生成しているラジカル部位と反応させ；そして
ｃ１）このように光開始剤で前被覆した基材を、少なくとも１種類のエチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーを含有する組成物で被覆し、そしてこの被覆をＵＶ／ＶＩＳ放射によって硬化させるか；または
ｃ２）このように光開始剤で前被覆した基材上に、金属、半金属酸化物または金属酸化物を、ＵＶ光の存在下でガス相から析出させる、
ことを特徴とする光開始剤。
【請求項８】請求項１記載の方法によって得られる、密着性の優れた被覆。