RU2012113315A - Способ и устройство для нанесения покрытий - Google Patents

Способ и устройство для нанесения покрытий Download PDF

Info

Publication number
RU2012113315A
RU2012113315A RU2012113315/05A RU2012113315A RU2012113315A RU 2012113315 A RU2012113315 A RU 2012113315A RU 2012113315/05 A RU2012113315/05 A RU 2012113315/05A RU 2012113315 A RU2012113315 A RU 2012113315A RU 2012113315 A RU2012113315 A RU 2012113315A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
chamber
slot
atmosphere
separating
organic layer
Prior art date
Application number
RU2012113315/05A
Other languages
English (en)
Inventor
Эдвард Виллем Альберт ЯНГ
Эрик ДЕКЕМПЕНЕР
МОЛ Антониус Мария Бернардус ВАН
Херберт ЛИФКА
ДЕ ВЕЙЕР Петер ВАН
Бернхард ЗАЙЛЕР
Эмили ГАЛАН
Ришар ФРАНТЦ
Димитер Любомиров КОТЦЕВ
Мохаммед Зубэр ШЕРКАУИ
Original Assignee
Хантсман Эдванст Матириалз (Свитзеленд) Гмбх
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Хантсман Эдванст Матириалз (Свитзеленд) Гмбх filed Critical Хантсман Эдванст Матириалз (Свитзеленд) Гмбх
Publication of RU2012113315A publication Critical patent/RU2012113315A/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
    • B05D7/04—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber to surfaces of films or sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
    • B05D3/0493—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases using vacuum
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/34—Nitrides
    • C23C16/345—Silicon nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H01J37/185—Means for transferring objects between different enclosures of different pressure or atmosphere
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733—Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752—Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761—Continuous moving
    • H01J37/3277—Continuous moving of continuous material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2252/00—Sheets
    • B05D2252/02—Sheets of indefinite length

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

1. Устройство для нанесения на гибкую подложку (1) по меньшей мере первого органического слоя (2) и первого неорганического слоя (4), включающее:первую и вторую камеры (10, 20);разделяющую атмосферы прорезь (30) между первой и второй камерами;оборудование (40) для осаждения, установленное в первой камере (10), предназначенное для осаждения отверждаемой смеси, при этом отверждаемая смесь включает по меньшей мере один предшественник полимера, олигомера или полимерную сетку, и/или инициатор полимеризации в качестве компонентов;оборудование (50) для отверждения, установленное в первой камере (10), предназначенное для отверждения осажденной смеси, формирующей в результате по меньшей мере первый органический слой (2);оборудование (60) для осаждения паров, установленное во второй камере (20), предназначенное для осаждения по меньшей мере первого неорганического слоя (4);оборудование (70) для подачи гибкой подложки (1) из одной из первой камеры (10) и второй камеры (20) через разделяющую атмосферы прорезь (30) в другую из первой камеры (10) и из второй камеры (20), отличающееся тем, что длина L разделяющей атмосферы прорези, разделенная на высоту (х) разделяющей атмосферы прорези, составляет от 100 до 5000.2. Устройство по п.1, в котором одна камера представляет собой первую камеру, а другая камера представляет собой вторую камеру, и в котором по меньшей мере первый неорганический слой наносится по меньшей мере на первый органический слой.3. Устройство по п.1, в котором одна камера представляет собой вторую камеру, а другая камера представляет собой первую камеру, и в котором по меньшей мере первый органический слой наносят по меньшей мере на первый неоргани�

Claims (18)

1. Устройство для нанесения на гибкую подложку (1) по меньшей мере первого органического слоя (2) и первого неорганического слоя (4), включающее:
первую и вторую камеры (10, 20);
разделяющую атмосферы прорезь (30) между первой и второй камерами;
оборудование (40) для осаждения, установленное в первой камере (10), предназначенное для осаждения отверждаемой смеси, при этом отверждаемая смесь включает по меньшей мере один предшественник полимера, олигомера или полимерную сетку, и/или инициатор полимеризации в качестве компонентов;
оборудование (50) для отверждения, установленное в первой камере (10), предназначенное для отверждения осажденной смеси, формирующей в результате по меньшей мере первый органический слой (2);
оборудование (60) для осаждения паров, установленное во второй камере (20), предназначенное для осаждения по меньшей мере первого неорганического слоя (4);
оборудование (70) для подачи гибкой подложки (1) из одной из первой камеры (10) и второй камеры (20) через разделяющую атмосферы прорезь (30) в другую из первой камеры (10) и из второй камеры (20), отличающееся тем, что длина L разделяющей атмосферы прорези, разделенная на высоту (х) разделяющей атмосферы прорези, составляет от 100 до 5000.
2. Устройство по п.1, в котором одна камера представляет собой первую камеру, а другая камера представляет собой вторую камеру, и в котором по меньшей мере первый неорганический слой наносится по меньшей мере на первый органический слой.
3. Устройство по п.1, в котором одна камера представляет собой вторую камеру, а другая камера представляет собой первую камеру, и в котором по меньшей мере первый органический слой наносят по меньшей мере на первый неорганический слой.
4. Устройство по п.1, отличающееся тем, что оборудование (40) для осаждения представляет собой печатное оборудование.
5. Устройство по п.4, отличающееся тем, что печатное оборудование (40) представляет собой контактное печатное оборудование.
6. Устройство по п.1, отличающееся тем, что разделяющая атмосферы прорезь (30) включает один или более каналов (37) для откачивания воздуха, соединенных с аппаратом для откачивания воздуха.
7. Устройство по п.1, дополнительно включающее канал (36) для конденсата, установленный между первой камерой (10) и разделяющей атмосферы прорезью (30).
8. Устройство по п.1, в котором разделяющая атмосферы прорезь (30) включает одну или более пар цилиндрических роликов (38А, 38В; 38С, 38D), между которыми направляют гибкую подложку (1).
9. Устройство по п.1, в котором высота (х) разделяющей атмосферы прорези в 1,5-2 раза больше толщины гибкой подложки.
10. Устройство по п.1, в котором длина L разделяющей прорези, разделенная на высоту (х) разделяющей атмосферы прорези, составляет от 100 до 5000.
11. Способ нанесения покрытия, предназначенный для нанесения на гибкую подложку по меньшей мере первого органического слоя и первого неорганического слоя, включающий следующие стадии:
обеспечение гибкой подложки из гибкого материала;
направление гибкой подложки через одну из первой камеры или второй камеры;
направление гибкой подложки через разделяющую атмосферы прорезь в другую из первой камеры и второй камеры, при этом длина L прорези, разделенная на высоту (х) прорези, составляет от 100 до 5000;
печатание слоя отверждаемой смеси на подложке в упомянутой первой камере, при этом отверждаемая смесь включает по меньшей мере один предшественник полимера, олигомера или полимерную сетку, и/или инициатор полимеризации в качестве компонентов;
отверждение печатного слоя в упомянутой первой камере для формирования по меньшей мере первого органического слоя; и
нанесение в упомянутой второй камере по меньшей мере первого неорганического слоя методом осаждения из паровой фазы на поверхность подложки, имеющей нанесенный на нее по меньшей мере первый органический слой.
12. Способ нанесения покрытия по п.11, в котором указанная одна камера представляет собой первую камеру, а указанная другая камера представляет собой вторую камеру, и в котором по меньшей мере первый неорганический слой наносят на по меньшей мере первый органический слой.
13. Способ нанесения покрытия по п.11, в котором указанная одна камера представляет собой вторую камеру, а указанная другая камера представляет собой первую камеру, и в котором по меньшей мере первый органический слой наносят на по меньшей мере первый неорганический слой.
14. Способ нанесения покрытия по п.11, в котором давление паров смеси компонентов во время осуществления способа составляет максимум 10 мбар.
15. Способ нанесения покрытия по п.11, в котором вязкость смеси компонентов во время осуществления способа составляет максимум 10000 мПа·сек.
16. Способ нанесения покрытия по п.11, в котором отверждаемая смесь представляет собой светоотверждаемый состав, включающий, но не ограничивающийся ими:
(а) отверждаемое катионами соединение и катионный фотоинициатор, и/или
(b) отверждаемое радикалами соединение и свободнорадикальный фотоинициатор, при этом стадию отверждения светоотверждаемого состава осуществляют посредством фото- или электронно-лучевого отверждения.
17. Способ нанесения покрытия по п.11, в котором смесь дополнительно включает частицы.
18. Способ нанесения покрытия по п.11, в котором давление в первой камере составляет от 1 до 10 мбар.
RU2012113315/05A 2009-09-07 2010-09-06 Способ и устройство для нанесения покрытий RU2012113315A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP09169668A EP2292339A1 (en) 2009-09-07 2009-09-07 Coating method and coating apparatus
EP09169668.2 2009-09-07
PCT/NL2010/050560 WO2011028119A1 (en) 2009-09-07 2010-09-06 Coating method and coating apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2012113315A true RU2012113315A (ru) 2013-10-20

Family

ID=41531217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012113315/05A RU2012113315A (ru) 2009-09-07 2010-09-06 Способ и устройство для нанесения покрытий

Country Status (10)

Country Link
US (1) US9539615B2 (ru)
EP (2) EP2292339A1 (ru)
JP (1) JP5623531B2 (ru)
KR (1) KR101776790B1 (ru)
CN (1) CN102574156B (ru)
CA (1) CA2773520A1 (ru)
IN (1) IN2012DN01946A (ru)
RU (1) RU2012113315A (ru)
TW (1) TWI555583B (ru)
WO (1) WO2011028119A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2690923C2 (ru) * 2015-06-17 2019-06-06 Зе Боинг Компани Устройство для нанесения светоотверждаемого материала и связанные с ним способы

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9777365B2 (en) 2011-11-29 2017-10-03 Itn Energy Systems, Inc. Multi-zone modular coater
EP2626144A1 (en) 2012-02-07 2013-08-14 Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Roll to roll manufacturing system having a clean room deposition zone and a separate processing zone
JP6055295B2 (ja) * 2012-11-29 2016-12-27 東レエンジニアリング株式会社 両面薄膜形成装置
CN103878093A (zh) * 2012-12-24 2014-06-25 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 胶带的制造方法及其采用的设备
EP3034182A1 (en) * 2014-12-17 2016-06-22 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Coating system and coating method
FR3035122B1 (fr) * 2015-04-20 2017-04-28 Coating Plasma Ind Procede de traitement de surface d'un film en mouvement et installation pour la mise en oeuvre de ce procede
CN107265152B (zh) * 2017-06-09 2019-08-16 浙江汇锋薄膜科技有限公司 一种导电薄膜的制备设备上的放料张紧装置
KR101863260B1 (ko) * 2018-01-17 2018-06-04 차천용 친환경 점착제 도포장치
KR101863259B1 (ko) * 2018-01-17 2018-06-04 차천용 점착제 도포장치
KR20240004863A (ko) 2021-05-06 2024-01-11 바스프 코팅스 게엠베하 다층 배리어 필름, 그의 제조 및 광기전 적용 분야에서의 용도
WO2024126566A1 (en) 2022-12-14 2024-06-20 Basf Coatings Gmbh Multilayer barrier film coated polymeric substrate, its manufacture and use in electronic devices

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3708296A (en) 1968-08-20 1973-01-02 American Can Co Photopolymerization of epoxy monomers
US4702963A (en) 1981-04-03 1987-10-27 Optical Coating Laboratory, Inc. Flexible polymer film with vapor impermeable coating
US4462332A (en) * 1982-04-29 1984-07-31 Energy Conversion Devices, Inc. Magnetic gas gate
US5130170A (en) * 1989-06-28 1992-07-14 Canon Kabushiki Kaisha Microwave pcvd method for continuously forming a large area functional deposited film using a curved moving substrate web with microwave energy with a directivity in one direction perpendicular to the direction of microwave propagation
CA2040682A1 (en) 1990-04-20 1991-10-21 Bruce L. Booth Moisture sealing of optical waveguide devices with doped silicon dioxide having a silicon monoxide undercoat
JP2771363B2 (ja) 1991-09-26 1998-07-02 キヤノン株式会社 機能性堆積膜の連続的製造装置
US5168514A (en) 1991-09-27 1992-12-01 Board Of Regents, The University Of Texas System Modular radiotherapy treatment chair and methods of treatment
CN2174265Y (zh) * 1993-08-10 1994-08-17 俞以纯 一种改进的热融压敏胶带涂布装置
AU694143B2 (en) 1993-10-04 1998-07-16 3M Innovative Properties Company Cross-linked acrylate coating material useful for forming capacitor dielectrics and oxygen barriers
US5440446A (en) 1993-10-04 1995-08-08 Catalina Coatings, Inc. Acrylate coating material
US5607789A (en) 1995-01-23 1997-03-04 Duracell Inc. Light transparent multilayer moisture barrier for electrochemical cell tester and cell employing same
US5686360A (en) 1995-11-30 1997-11-11 Motorola Passivation of organic devices
US6268695B1 (en) 1998-12-16 2001-07-31 Battelle Memorial Institute Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making
US6866901B2 (en) 1999-10-25 2005-03-15 Vitex Systems, Inc. Method for edge sealing barrier films
US6413645B1 (en) 2000-04-20 2002-07-02 Battelle Memorial Institute Ultrabarrier substrates
AU2001254762A1 (en) 2000-04-06 2001-10-23 Akzo Nobel N.V. Method of manufacturing a photovoltaic foil
US6465953B1 (en) 2000-06-12 2002-10-15 General Electric Company Plastic substrates with improved barrier properties for devices sensitive to water and/or oxygen, such as organic electroluminescent devices
US6867539B1 (en) * 2000-07-12 2005-03-15 3M Innovative Properties Company Encapsulated organic electronic devices and method for making same
US6652654B1 (en) * 2000-09-27 2003-11-25 Bechtel Bwxt Idaho, Llc System configured for applying multiple modifying agents to a substrate
JP4747425B2 (ja) 2001-03-13 2011-08-17 凸版印刷株式会社 透明ガスバリア性積層フィルム
IN266855B (ru) * 2002-12-26 2015-06-09 Toppan Printing Co Ltd
US20040149959A1 (en) * 2003-01-31 2004-08-05 Mikhael Michael G. Conductive flakes manufactured by combined sputtering and vapor deposition
US7648925B2 (en) 2003-04-11 2010-01-19 Vitex Systems, Inc. Multilayer barrier stacks and methods of making multilayer barrier stacks
JP4664282B2 (ja) * 2003-04-25 2011-04-06 シグマ ラボラトリー オブ アリゾナ， インク． 真空蒸着により機能化された多孔性材料
KR100727470B1 (ko) 2005-11-07 2007-06-13 세메스 주식회사 유기물 증착 장치 및 방법
US20070256934A1 (en) 2006-05-08 2007-11-08 Perata Michael R Apparatus and Method for Coating Substrates With Approximate Process Isolation
CN101501242B (zh) * 2006-08-08 2011-06-15 株式会社爱发科 卷绕式真空成膜装置
US7834541B2 (en) 2006-10-05 2010-11-16 Global Oled Technology Llc OLED device having improved light output
TWI401465B (zh) * 2007-10-12 2013-07-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 鏡片鍍膜治具及鏡片鍍膜方法
PL2215171T3 (pl) * 2007-11-29 2013-12-31 Lg Chemical Ltd Kompozycja powlekająca i warstewka powlekająca mające podwyższoną odporność na ścieranie i zdolność do usuwania odcisków palców
JP5255856B2 (ja) 2008-01-31 2013-08-07 富士フイルム株式会社 機能性フィルムの製造方法
JP4968947B2 (ja) 2008-02-29 2012-07-04 富士フイルム株式会社 光学フィルムの製造方法
JP5081712B2 (ja) 2008-05-02 2012-11-28 富士フイルム株式会社 成膜装置
JP5901176B2 (ja) * 2011-08-17 2016-04-06 株式会社ペガソス・エレクトラ 分離装置及び分離システム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2690923C2 (ru) * 2015-06-17 2019-06-06 Зе Боинг Компани Устройство для нанесения светоотверждаемого материала и связанные с ним способы

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013503972A (ja) 2013-02-04
US9539615B2 (en) 2017-01-10
KR20120101344A (ko) 2012-09-13
WO2011028119A1 (en) 2011-03-10
CN102574156A (zh) 2012-07-11
KR101776790B1 (ko) 2017-09-19
EP2475467A1 (en) 2012-07-18
IN2012DN01946A (ru) 2015-08-21
EP2292339A1 (en) 2011-03-09
US20120276299A1 (en) 2012-11-01
JP5623531B2 (ja) 2014-11-12
TW201113098A (en) 2011-04-16
CN102574156B (zh) 2014-10-01
TWI555583B (zh) 2016-11-01
CA2773520A1 (en) 2011-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012113315A (ru) Способ и устройство для нанесения покрытий
US11126078B2 (en) Pattern forming method, production method for processed substrate, production method for optical component, production method for circuit substrate, production method for electronic component and production method for imprint mold
WO2003072273A8 (en) Methods and apparatus for vacuum thin film deposition
US20100193120A1 (en) Bonding method, bonded body, droplet ejection head, and droplet ejection apparatus
KR102419881B1 (ko) 패턴 형성 방법
JP5515516B2 (ja) ナノインプリント方法、パターン形成体、及びナノインプリント装置
KR20160127079A (ko) 가스 배리어성 필름 및 그 제조 방법과, 이것을 사용한 전자 디바이스 및 그 제조 방법
CN1678151A (zh) 有机电致发光器件和其制造方法
CN1831645A (zh) 精细图案的制作装置
RU2014140188A (ru) Процесс многослойной печати
WO2013019555A3 (en) A process for curing a composition by electron beam radiation, and by gas-generated plasma and ultraviolet radiation
JP7158377B2 (ja) ガスバリア性フィルム、及び封止体
CN104170057A (zh) 表面具有微细图案的物品的制造方法
TW201828329A (zh) 晶圓層合體及其製造方法
CN101395703A (zh) 用于晶片背面加工尤其减薄的方法、为此使用的晶片-载体布置和用于制造这种晶片-载体布置的方法
TW201917152A (zh) 用於形成用於電子裝置封裝的經固化聚合物薄膜的二步驟方法
WO2011084375A8 (en) Electron beam curable composition for curing in a vacuum chamber
FR2919958B1 (fr) Procede de report d'une couche sur un materiau liquide
CN106575606B (zh) 压印材料
WO2018207508A1 (ja) ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
US20190308875A1 (en) Anti-Wetting Coating for Si-Based MEMS Fluidic Device, and Method of Application of Same
CN110504389B (zh) 一种发光器件的制备方法、发光器件以及显示面板
CN118318206A (zh) 甲基丙烯酸酯共聚物及其制备和使用方法
JP3635978B2 (ja) 活性エネルギー線照射方法
TW200714443A (en) Method for making ultra-thin film wrapping material having 3-dimensional patterns

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20130909