SK5642001A3 - Method for producing adhesive surface coatings - Google Patents

Method for producing adhesive surface coatings Download PDF

Info

Publication number
SK5642001A3
SK5642001A3 SK564-2001A SK5642001A SK5642001A3 SK 5642001 A3 SK5642001 A3 SK 5642001A3 SK 5642001 A SK5642001 A SK 5642001A SK 5642001 A3 SK5642001 A3 SK 5642001A3
Authority
SK
Slovakia
Prior art keywords
photoinitiator
substrate
group
carbon atoms
inorganic
Prior art date
Application number
SK564-2001A
Other languages
English (en)
Inventor
Michael Bauer
Manfred Kohler
Martin Kunz
Ljubomir Misev
Original Assignee
Ciba Sc Holding Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Sc Holding Ag filed Critical Ciba Sc Holding Ag
Publication of SK5642001A3 publication Critical patent/SK5642001A3/sk

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/062Pretreatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/10Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by other chemical means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/14Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by electrical means
    • B05D3/141Plasma treatment
    • B05D3/142Pretreatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating

Description

Oblasť techniky
Vynález sa týka spôsobu výroby dobre priľnavých povlakov na anorganických a organických podkladoch. Ďalšími predmetmi vynálezu sú použitie fotoiniciátorov s aspoň jednou etylenicky nenasýtenou skupinou na výrobu uvedených povlakov, ako aj priľnavé povlaky samotné.
Doterajší stav techniky
Priľnavosť lakov, povlakov alebo kovových vrstiev na anorganických alebo organických podkladoch, najmä na nepolárnych podkladoch, akými sú polyetylén, polypropylén alebo fluorované polyolefíny, ktoré sú známe pod obchodným názvom teflon, je veľakrát nedostatočná, takže sa musia na dosiahnutie dobrej priľnavosti uvedených povlakov urobiť dodatočné technické opatrenia. Jedna z možností, ako zlepšiť priľnavosť uvedených povlakov, spočíva v tom, že sa na podklad najskôr nanesú špeciálne základné laky, takzvané priméry, a až potom sa na tieto základné laky nanesie povlak požadovaného materiálu.
Ďalšia taká možnosť spočíva v tom, že sa podklad, na ktorý sa má povlak naniesť, najskôr vystaví účinku plazmy alebo korónového výboja a až potom sa na podklad nanesie povlak požadovaného materiálu, pričom medzi obidva tieto spracovateľské stupne sa ešte môže zaradiť očkovací stupeň, napríklad s použitím akrylátových monomérov (J. Polym. Sci., časť A: Polym. Chem. 31, 1307-1314 (1993)).
Generovanie nízkoteplotnej plazmy a plazmou indukované nanášanie tenkých organických alebo anorganických vrstiev je už dlho známe a opísané napríklad v: A.T. Bell, Fundamentals of Plasma Chemistry, Technology and Application of Plasma Chemistry, nakl. J.R. Holahan a A.T. Bell, Willey, New York (1974) alebo v:
• ···· ·· ···» ·· ·· ···· ··· • · · e ··· · · • · · · · ···· • · · · · · · ··· · ·· ··· ·· ·
H. Suhr, Plasma Chem. Plasma proces 3(1),1,(1983).
Taktiež je známe, že napríklad povrchy umelých hmôt sa môžu podrobiť spracovaniu plazmou, čím sa dosiahne to, že laky, ktoré sa potom na takto spracované povrchy nanesú, majú lepšiu priľnavosť na umelohmotný substrát. Opísané je to H.J.Jacobasch-om a kol. vo Farbe + Lack, 99(7), 602-607(1993) pre nízkoteplotné plazmy za vákuových podmienok a J.Friedrich-om a kol., v Surf. Coat. Technol. 59, 371-6 (1993) pre plazmy za vákua až za normálnych tlakových podmienok, pričom nízkoteplotná plazma prechádza do korónového výboja takou mierou, ako sa zvyšuje tlak.
Zistilo sa, že zvlášť dobre priľnavé povlaky fotovytvrditeľných lakov je možné získať tak, že sa na podklad, ktorý sa má navrstviť, naočkuje fotoiniciátor, ktorý obsahuje aspoň jednu etylenicky nenasýtenú skupinu, potom sa takto naočkovaný substrát vybaví vrstvou žiarením vytvrditeľného laku a táto vrstva sa vytvrdí. Takto získané povlaky vykazujú prekvapujúco dobrú adhéziu, pri ktorej nedochádza ani po viacdennom skladovaní, prípadne po expozícii slnečným svetlom, k zhoršeniu uvedených hodnôt adhézie.
Spôsob podľa vynálezu je lahko uskutočniteľný a umožňuje vysoké presadenie za časovú jednotku, pretože tu nie sú potrebné žiadne zdĺhavé sušiace stupne alebo pomalé zosieťovacie reakcie. Spôsob podľa vynálezu je zvlášť dobre vhodný pre diely, ktoré sú zložené z rôznych umelých hmôt alebo/a kovov, prípadne skiel, a ktoré by takto bez predbežného spracovania vykazovali rôzne adhézie laku k jednotlivým zložkám uvedeného dielu, prípadne ktoré by vykazovali pri doteraz bežnom spracovaní primérmi rôzne afinity k základnej náterovej hmote.
Podstata vynálezu
Predmetom vynálezu je spôsob výroby priľnavých povlakov na anorganickom alebo organickom podklade, ktorého podstata spočíva
• ···· ·· • · • · ···· • ··· ·· · • · ·· • · ·
• •
• · • · ··· ·· ··
v tom, že sa v prvom kroku
a) na anorganický alebo organický podklad pôsobí nízkoteplotným plazmovým výbojom, korónovým výbojom, energeticky bohatým ultrafialovým žiarením alebo elektrónovým žiarením, potom sa výboj alebo žiarenie preruší a v ďalšom stupni,
b) sa na organický alebo anorganický podklad za vákua alebo za normálneho tlaku nanesie jeden alebo viac iniciátorov obsahujúcich aspoň jednu etylenicky nenasýtenú skupinu a nechá sa reagovať s tu vzniknutými radikálovými miestami, a cl) podklad takto predbežne navrstvený fotoiniciátorom sa navrství kompozíciou obsahujúcou aspoň jeden etylenicky nenasýtený monomér alebo oligomér a získaný povlak sa vytvrdí UV/VIS-žiarením, alebo c2) sa na podklad takto predbežne navrstvený fotoiniciátorom nanesie z plynnej fázy v prítomnosti UV-žiarenia kov, polokov alebo oxid kovu.
Možnosti generovania plazmy a vákuových podmienok sú opísané vo viacerej literatúre. Elektrická energia sa môže pritom aplikovať indukčným alebo kapacitným spôsobom. Môže ísť o rovnosmerný alebo striedavý prúd, pričom frekvencia striedavého prúdu sa môže meniť od niekolko málo kHz až do oblasti MHz. Taktiež je možné napájanie v mikrovlnnej oblasti (GHz).
Zásady platné pre vytvorenie a udržiavanie plazmy sú opísané napríklad v skôr uvedených prehľadových článkoch A.T.Bell-a a H.Suhr-a.
Ako primárne plazmové plyny sa môžu použiť napríklad hélium, argón, xenón, dusík, kyslík, vodná para alebo vzduch.
Spôsob podľa vynálezu nie je nijako citlivý na spôsob aplikácie elektrickej energie.
Spôsob podľa vynálezu sa môže uskutočniť v šaržách, napríklad v rotujúcom bubne, alebo kontinuálne v prípade fólií, vlá·· · · · · • · · · · • · · · · ···· • · · · · · · ··· · ·· ··· ·· · kien alebo tkanín. Tieto spôsoby sú známe a opísané v rámci doterajšieho stavu techniky.
Spôsob podľa vynálezu je možné tiež uskutočniť za podmienok korónového výboja. Korónové výboje sa generujú za normálnych tlakových podmienok, pričom ako ionizovaný plyn sa najčastejšie používa vzduch. V zásade sa však môžu použiť tiež ďalšie plyny, pričom v tomto prípade sa musí pracovať v uzatvorenom systéme s cieľom eliminovať atmosférický vzduch. Ďalšia možnosť spočíva v použití vzduchu ako ionizačného plynu pri korónovom výboji, takže sa môže pracovať v otvorenom zariadení, v ktorom sa môže napríklad fólia kontinuálne viesť medzi výbojovými elektródami. Také procesné usporiadania sú známe a opísané napríklad v: J. Adhesion Sci. Technol, zväzok 7, č. 10, 1105 (1993). V prípade, ak sa korónový výboj použije v otvorenom zariadení, potom sa výhodne pracuje bez prístupu kyslíka, čo sa môže dosiahnuť privádzaním dostatočne veľkého prúdu inertného plynu.
Spôsob podľa vynálezu sa môže tiež uskutočniť s použitím energeticky bohatého energetického žiarenia, pričom spracovanie podkladu žiarením sa uskutočňuje vo vákuu alebo bez prístupu kyslíka. Ako energeticky bohaté elektromagnetické žiarenie prichádza do úvahy každé také žiarenie, ktoré je schopné vytvoriť na povrchu podkladu radikály. Príkladmi takého žiarenia sú krátkovlnné LJV-žiarenie alebo róntgenové žiarenie. V tejto súvislosti je potrebné uviesť najmä elektrónové žiarenie, aké sa už používa na vytvrdenie lakov a farieb a lepenie fólií. Je tiež možné však použiť krátkovlnné UV-žiarenie (najmä vákuovo generované (JV-žiarenie) , ktoré je generované komerčne obvyklými UV-lampami alebo eximérovými lampami. Výhodne ide o žiarenie s vlnovou dĺžkou kratšou ako 300 nm, zvlášť výhodne kratšou ako 260 nm.
Popri konvenčných lampách pre veľkoplošné osvetlenie sa môžu tiež použiť lasery, ktoré pracujú v zodpovedajúcom vlnovom rozsahu, pre bodové osvetlenie alebo pre obrazové opísanie povr-
• ···· • · ···· ·· ·
• · • · • · · ·
• · • ··· • · ·
• · · ·· ··· ·· ··
chu podkladu. Pri použití masiek alebo písacieho lasera môžu byť tiež iniciátorom selektívne vybavené len určité oblasti podkladu, čo vedie k rozdielnemu zosieteniu a pri následnom osvetlení k rozdielnej adhézii.
Substráty s naočkovaným fotoiniciátorom sa môžu tiež obrazovo osvetliť ožiarením cez masku alebo s použitím laserového lúča, ktorým sa pohybuje na povrchu podkladu, čím sa dosiahne ďalšia modifikácia povrchu podkladu, avšak len v osvetlených oblastiach. Takto je možné napríklad na povrchu podkladu vytvoriť vzor s rozdielnou hydrofóbiou/hydrofíliou alebo/a metalizáciou. Ak je osvetlenie uskutočnené v prítomnosti žiarením vytvrditeľnej formulácie, potom je možné získať v dôsledku zmien vlastností tejto formulácie vzory, ktoré majú napríklad odlišnú adhéziu alebo/a lepkavosť alebo/a farbu alebo/a inú charakteristiku.
Anorganické alebo organické podklady, určené na spracovanie spôsobom podľa vynálezu, môžu byť v ľubovoľnej tuhej forme. Výhodne sa podklad vyskytuje vo forme prášku, vlákna, fólie alebo trojrozmerného dielu.
Výhodne je anorganickým alebo organickým podkladom termoplastický elastomér, štruktúrne zosietený alebo zosietený polymér, oxid kovu, sklo alebo kov.
Príklady termoplastických, elastomérnych, štruktúrne zosietených alebo zosietených polymérov sú uvedené ďalej.
1. Polyméry monoolefínov a diolefínov, napríklad polypropylén, polyizobutylén, poly-l-butén, poly-4-metyl-l-pentén, polyizoprén alebo polybutadién, ako aj polyméry cykloolefínov, napríklad cyklopenténu alebo norbornénu, polyetylén (prípadne zosietený), napríklad vysokohustotný polyetylén (HDPE), vysokohustotný polyetylén s vysokou molekulovou hmotnosťou (HDPE-HMW), vysokohustotný polyetylén s velmi vysokou molekulovou hmotnosťou (HDPE-UHMW), strednohustotný polyetylén (MDPE), nizkohustotný • ···· ·« ΒΒΒΒ ·· • B · · B B · · · • · · · ··· · B ·· · · B··· ··· · ·Β B·· ·Β BBB polyetylén (LDPE), lineárny nízkohustotný polyetylén (LLDPE), rozvetvený nízkohustotný polyetylén (BLDPE).
Polyolefíny, to znamená polyméry monoolefínov, ktorých príklady sú uvedené v predchádzajúcom odseku, výhodne polyetylén a polypropylén, je možné pripravit rôznymi spôsobmi, najma s použitím nasledujúcich postupov:
a) radikálovej polymerácie (obvykle za vysokého tlaku a za zvýšenej teploty),
b) katalytickej polymerácie s použitím katalyzátora, ktorý obvykle obsahuje jeden alebo viac kovov zo skupiny IVb, Vb, VIb alebo VIII periodickej tabuľky. Tieto kovy majú obvykle jeden alebo viac ligandov, ako sú oxidy, halogenidy, alkoxidy, estery, étery, amíny, alkyly, alkenyly alebo/a aryly, ktoré môžu byť buď p- alebo s-koordinované. Tieto komplexy kovov môžu byť vo voľnej forme alebo fixované na substrátoch, typicky na aktivovanom chloride horečnatom, chloride titanitom, oxide hlinitom alebo oxide kremičitom. Uvedené katalyzátory môžu byť rozpustné alebo nerozpustné v polymeračnom prostredí a je ich možné pri polymerácii používať samotné alebo sa môžu použiť ďalšie aktivátory, ako sú typicky alkyly kovov, hydridy kovov, alkylhalogenidy kovov, alkyloxidy kovov alebo alkyloxány kovov, tieto kovy sú prvky zo skupín la, Ha alebo/a Hla periodickej tabuľky. Tieto aktivátory sa môžu účelne modifikovať ďalšími esterovými, éterovými, amínovými alebo silyléterovými skupinami. Tieto katalytické systémy sa obvykle označujú ako katalyzátory Phillips, Standard Oil Indiana, Ziegler (-Natta), TNZ (DuPont), metalocenové katalyzátory alebo katalyzátory SSC (single site catalysts).
2. Zmesi polymérov uvedených v odseku 1, napríklad zmesi polypropylénu s polyizobutylénom, polypropylénu s polyetylénom (napríklad PP/HDPE, PP/LDPE) a zmesi rôznych typov polyetylénu (napríklad LDPE/HDPE).
3. Kopolyméry monoolefínov a diolefínov medzi sebou alebo s iný• ···· ·· ···· ·· ·· ···· ··· • · · t ··· · · mi vinylovými monomérmi, napríklad kopolyméry etylénu a propylénu, lineárny nízkohustotný polyetylén (LLDPE) a jeho zmesi s nízkohustotným polyetylénom (LDPE), kopolyméry propylénu a 1-buténu, kopolyméry propylénu a izobutylénu, kopolyméry etylénu a 1-buténu, kopolyméry etylénu a hexénu, kopolyméry etylénu a metylpenténu, kopolyméry etylénu a hepténu, kopolyméry etylénu a okténu, kopolyméry propylénu a butadiénu, kopolyméry izobutylénu a izoprénu, kopolyméry etylénu a alkylakrylátu, kopolyméry etylénu a alkylmetakrylátu, kopolyméry etylénu a vinylacetátu a ich kopolyméry s oxidom uhoľnatým, alebo kopolyméry etylénu a kyseliny akrylovej a ich soli (ionoméry), ako aj terpolyméry etylénu s propylénom a diénom, ako je hexadién, dicyklopentadién alebo etylidénnorbornón, ďalej zmesi týchto kopolymérov medzi sebou a s polymérmi uvedenými v odseku 1, napríklad kopolyméry polypropylénu a etylénu s propylénom, kopolyméry LDPE a etylénu s vinylacetátom (EVA), kopolyméry LDPE a etylénu s kyselinou akrylovou (EAA), kopolyméry LLDPE/EVA, kopolyméry LLDPE/EAA, a alternujúce alebo štatistické kopolyméry polyalkylénu a oxidu uhoľnatého a ich zmesi s inými polymérmi, napríklad s polyamidmi.
4. Uhľovodíkové živice (napríklad z monomérov obsahujúcich 5 až 9 atómov uhlíka), vrátane ich hydrogenovaných modifikácií (napríklad živíc na prípravu lepidiel) a zmesi polyalkylénov a škrobu.
5. Polystyrén, poly(p-metylstyrén), poly(a-metylstyrén).
6. Kopolyméry styrénu alebo α-metylstyrénu s diénmi alebo akrylovými derivátmi, napríklad styrén/butadién, styrén/akrylonitril, styrén/alkylmetakrylát, styrén/butadién/alkylakrylát, styrén/butadién/alkylmetakrylát, styrén/anhydrid kyseliny maleínovej, styrén/akrylonitril//metylakrylát, zmesi s vysokou rázovou húževnatosťou z kopolymérov styrénu a iného polyméru, napríklad polyakrylátu, diénového polyméru alebo terpolyméru etylén/propylén//dién, a blokové kopolyméry styrénu, ako napríklad styrén//butadién/styrén, styrén/izoprén/styrén, styrén//etylén/bu-
• ···· • · • · • · • · • · • · • · · ···· • ··· • · ·· • · · • · • ·
• « · ·· ··· • · ·
tylén/styrén alebo styrén/etylén//propylén/styrén.
7. Očkované kopolyméry styrénu alebo α-metylstyrénu, napríklad styrén na polybutadiéne, styrén na kopolyméry polybutadién-styrén alebo na kopolymére polybutadién-akrylonitril, styrén a akrylonitril (alebo metakrylonitril) na polybutadiéne, styrén, akrylonitril a metylmetakrylát na polybutadiéne, styrén a nahydrid kyseliny maleínovej na polybutadiéne, styrén, akrylonitril a anhydrid kyseliny maleínovej alebo maleínimid na polybutadiéne, styrén a maleínimid na polybutadiéne, styrén a alkylakryláty alebo -metakryláty na polybutadiéne, styrén a akrylonitril na terpolyméroch etylén/propylén/dién, styrén a akrylonitril na polyalkylakrylátoch alebo polyalkylmetakrylátoch, styrén a akrylonitril na kopolyméroch akrylát//butadién, ako aj ich zmesi s kopolymérmi uvedenými v odseku 6, napríklad zmesi kopolymérov, ktoré sú známe ako polyméry ABS, MBS, ASA alebo AES.
8. Polyméry obsahujúce halogén, ako napríklad polychloroprén, chlórkaučuky, chlórovaný a brómovaný kopolymér izobutylénu a izoprénu (halogénbutylkaučuk), chlórovaný alebo chlórsulfónovaný polyetylén, kopolyméry etylénu a chlórovaného etylénu, homo- a kopolyméry epichlórhydrínu, najmä polyméry vinylových zlúčenín obsahujúcich halogén, ako napríklad polyvinylchlorid, polyvinylidénchlorid, polyvinylfluorid, polyvinylidénfluorid, ako aj ich kopolyméry, ako sú kopolyméry vinylchloridu a vinylidénchloridu, vinylchloridu a vinylacetátu alebo vinylidénchloridu a vinylacetátu.
9. Polyméry odvodené od a, β-nenasýtených kyselín a ich derivátov ako sú polyakryláty a polymetakryláty, polymetylmetakryláty, polyakrylamidy a polyakrylonitrily, ktorých rázová húževnatosť je modifikovaná butylakrylátom.
10. Kopolyméry monomérov uvedených v odseku 9 medzi sebou alebo s inými nenasýtenými monomérmi, napríklad kopolyméry akrylonitrilu a butadiénu, kopolyméry akrylonitrilu a alkylakrylátu, kopolyméry akrylonitrilu a alkoxyalkylakrylátu, kopolyméry akry-
• ···· ·· ···· • · · • · ··· ·· · • · ·· • ·
• •
• · ·· ··· ·· ··
lonitrilu a vinylhalogenidu alebo terpolyméry akrylonitrilu, alkylmetakrylátu a butadiénu.
11. Polyméry odvodené od nenasýtených alkoholov a amínov alebo ich acylderivátov alebo acetálov, napríklad polyvinylalkohol, polyvinylacetát, polyvinylstearát, polyvinylbenzoát, polyvinylmaleinát, polyvinylbutyral, polyalylftalát alebo polyalylmelamín, ako aj ich kopolyméry s olefínmi uvedenými v odseku 1.
12. Homopolyméry a kopolyméry cyklických éterov, ako sú polyalkylénglykoly, polyetylénoxid, polypropylénoxid alebo ich kopolyméry s bisglycidylétermi.
13. Polyacetály, ako je polyoxymetylén, ako aj také polyoxymetylény, ktoré obsahujú ako komonomér etylénoxid, polyacetály modifikované termoplastickými polyuretánmi, akryláty alebo MBS.
14. Polyfenylénoxidy a -sulfidy, a zmesi polyfenylénoxidov s polymérmi styrénu alebo polyamidy.
15. Polyuretány odvodené jednak od hydroxylovou skupinou zakončených polyéterov, polyesterov alebo polybutadiénov a jednak alifatických alebo aromatických polyizokyanátov, ako aj ich prekurzory.
16. Polyamidy a kopolyamidy odvodené od diamínov a dikarboxylových kyselín alebo/a od aminokarboxylových kyselín alebo zodpovedajúcich laktámov, napríklad polyamid 4, polyamid 6, polyamid 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, polyamid 11, polyamid 12, aromatické polyamidy ktoré vznikli z m-xylénu, diamínu a kyseliny adipovej, polyamidy pripravené z hexametyléndiamínu a izoftalovej alebo/a tereftalovej kyseliny a prípadne s elastomérom ako modifikačným činidlom, napríklad poly-2,4,4-trimetylhexametyléntereftálamid alebo poly-m-fenylénizoftalamid, a tiež blokové kopolyméry už uvedených polyamidov s polyolefínmi, kopolymérmi olefínov, ionomérmi alebo chemicky viazanými alebo očkovanými elastomérmi alebo s polyétermi, napríklad s polyetylénglykolom, polypropylénglykolom alebo polytetraametylénglykolom, ako aj polyamidy alebo kopolyamidy modifikované EPDM alebo ABS, a poly10 • ···· ·· ···· ·· ·· ···· · · · • · · · ··· · A amidy kondenzované v priebehu spracovávania (polyamidové systémy RIM) .
17. Polymočoviny, polyimidy, polyamidimidy, polyéterimidy, polyesterimidy, polyhydantoíny a polybenzimidazoly.
18. Polyestery odvodené od dikarboxylových kyselín a diolov alebo/a od hydroxykarboxylových kyselín alebo zodpovedajúcich laktónov, napríklad polyetyléntereftalát, polybutyléntereftalát, poly-1,4-dimetylolcyklohexántereftalát a polyhydroxybenzoáty, ako aj blokové kopolyéterestery odvodené od polyéterov zakončených hydroxylovou skupinou, a tiež polyestery modifikované polykarbonátmi alebo alebo MBS.
19. Polykarbonáty a polyesterkarbonáty.
20. Polysulfóny, polyétersulfóny a polyéterketóny.
21. Zosietené polyméry odvodené jednak od aldehydov a jednak od fenolov, močovín a melamínov, ako sú fenolformaldehydové živice, močovinoformaldehydové živice a melamínformaldehydové živice.
22. Vysýchavé a nevysýchavé alkydové živice.
23. Nenasýtené polyesterové živice odvodené od kopolyesterov nasýtených a nenasýtených dikarboxylových kyselín s viacmocnými alkoholmi a vinylových zlúčenín ako zosieťujúcich činidiel, a tiež ich ťažko horľavé halogén obsahujúce modifikácie.
24. Zosieťovateľné akrylové živice odvodené od substituovaných akrylátov, ako sú napríklad epoxyakryláty, uretánakryláty alebo polyesterakryláty.
25. Alkydové živice, polyesterové živice a akrylátové živice zosietené s melamínovými živicami, močovinovými živicami, izokyanátmi, izokyanurátmi, polyizokyanátmi alebo epoxidovými živicami .
26. Zosietené epoxidové živice odvodené od alifatických, cykloalifatických, heterocyklických alebo aromatických glycidylových zlúčenín, napríklad produkty diglycidyléterov bisfenolu A a bisfenolu F, ktoré sú zosietené bežnými tvrdiacimi prísadami, ako
• ···· ·· · • · • · • · • • • · ···· • · • ··· ··
• • • · • • •
··· · ·· ··· ··
sú anhydridy alebo amíny, za prítomnosti alebo bez prítomnosti akcelerátorov.
27. Prírodné polyméry, ako je celulóza, prírodný kaučuk, želatína a ich chemicky modifikované homológne deriváty, napríklad acetáty celulózy, propionáty celulózy a butyráty celulózy, alebo étery celulózy, ako je metylcelulóza, ako aj prírodné živice (kalafúny) a ich deriváty.
28. Zmesi skôr uvedených polymérov (polyblends), napríklad PP/EPDM, polyamid/EPDM alebo ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC//PBT, PVC/CPE, PVC/aryláty, POM/termoplastický PUR, PC/termoplastický PUR, POM/akrylát, POM/MBS, PPO//HIPS, PPO/PA 6,6 a kopolyméry, PA/HDPE, PA/PP, PA//PPO, PBT/PC/ABS alebo PBT/PET/PC.
V rámci vynálezu je potrebné ako štruktúrne zosietený polymér rozumieť tiež papier, najmä vo forme kartónu, ktorý sa môže ešte dodatočne navrstviť napríklad teflonom. Také podklady sú napríklad komerčne dostupné.
Výhodne pri termoplastickej zosietenej alebo štruktúrne zosietenej umelej hmote ide o polyolefín, polyamid, polyakrylát, polykarbonát, polystyrén alebo akryl/melamínový, alkydový alebo polyuretánový lak.
Zvlášť výhodný je polykarbonát, polyetylén, polypropylén, polyamid a polyimid.
Umelé hmoty môžu byť vo forme fólií, dielov vytvorených vstrekovaným liatím, dielov vytvorených vytlačovaním, vlákien, netkaných rúch alebo tkanín.
Ako anorganické podklady prichádzajú do úvahy sklá, oxidy kovov a kovy. Môže pritom ísť o silikátové sklá alebo sklá na báze oxidov polokovov alebo kovov, ktoré sa výhodne vyskytujú vo forme prášku so stredným priemerom častíc 10 nm až 2000 μιη. Môže pritom ísť jednak ako o kompaktné častice, tak aj o porézne čas12 ···· ·· ···· ·· • · · · · · • · · ··· · I • · · · · · ··· · ·· ··· ·· tice. Príklady oxidov a silikátov sú oxid kremičitý, oxid titaničitý, oxid zirkoničitý, oxid horečnatý, oxid nikelnatý, oxid wolfrámový, oxid hlinitý, oxid lantanitý, silikagél, íl a zeolit. Výhodnými anorganickými podkladmi sú vedia kovov silikagél, oxid hlinitý, oxid titaničitý alebo sklo a ich zmesi.
Na použitie v rámci vynálezu sú v zásade vhodné všetky fotoiniciátory, ktoré obsahujú aspoň jednu etylenicky nenasýtenú skupinu.
Ako kovové podklady prichádzajú do úvahy najmä železo, hliník, titán, nikel, molybdén, chróm alebo oceľové zliatiny.
Výhodným fotoiniciátorom je zlúčenina všeobecného vzorca I alebo la (RG)-A-(IN) (I) (IN) -A- (RG') -A- (IN) (la) v ktorých (IN) znamená základnú štruktúru fotoiniciátora,
A znamená dištančnú skupinu alebo jednoduchú väzbu, (RG) znamená aspoň jednu funkčnú etylenicky nenasýtenú skupinu, a (RG') znamená dvojvalenčný zvyšok, ktorý obsahuje aspoň jednu funkčnú etylenicky nenasýtenú skupinu.
Výhodné sú zlúčeniny všeobecného vzorca I alebo la, v ktorých (IN) znamená základnú štruktúru fotoiniciátora všeobecného vzorca II alebo III
(II)
• ···· • · • · • · ·· ···· • ··· • · ·· • ·
• • • · • • • • • • • • •
• · · ·· ··· ·· ··
R1 znamená skupinu A _ L R3
Á4 (III) (A) k2 alebo skupinu B
-CR6R7R8 (B) alebo skupinu III,
R2 znamená atóm vodíka, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov, atóm halogénu, skupinu (RG)-A- alebo v prípade, ak R1 znamená skupinu A, potom dva zvyšky R2 nachádzajúce sa vzhľadom na karbonylovú skupinu v orto polohe môžu spolu znamenať -S- alebo
R3 a R4 nezávisle od seba znamenajú alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov, alkanoylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov, fenylovú skupinu alebo benzoylovú skupinu, pričom fenylový alebo benzoylový zvyšok je prípadne substituovaný halogénom, alkylovou skupinou obsahujúcou 1 až 6 uhlíkových atómov, alkyltioskupinou obsahujúcou i až 6 uhlíkových atómov alebo alkoxyskupinou obsahujúcou 1 až 6 uhlíkových atómov,
R5 znamená atóm vodíka, atóm halogénu, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov alebo alkoxyskupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov alebo skupinu (RG)-AR6 znamená OR9, N(R9)2,
alebo SO2R9,
R7 a R8 nezávisle od seba znamenajú atóm vodíka, alkylovú skupinu
• ···· ·· ···· • ··· ·· • · · • ·
• • • • • •
• · ·· ··· ·· ·
obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov, alkenylovú skupinu obsahujúcu 2 až 12 uhlíkových atómov, alkoxyskupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov, fenylovú skupinu, benzylovú skupinu alebo spolu tvoria alkylénovú skupinu obsahujúcu 2 až 6 uhlíkových atómov,
R9 znamená atóm vodíka, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov alebo alkanoylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov,
R10 znamená atóm vodíka, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov alebo fenylovú skupinu a
X1 znamená atóm kyslíka alebo atóm síry.
Výhodne v zlúčeninách všeobecného vzorca I alebo la (IN) znamená skupinu
Výhodné sú zlúčeniny všeobecného vzorca I alebo la, v ktorých
A znamená dištančnú skupinu -Z [ (AJ a-Y] c [ (^2) t>~X] d/
X,Y a Z nezávisle od seba znamenajú jednoduchú väzbu, -0-, -S-,
• ···· • · ·· • ···· • ·· • · ·
• · ···
• ·
·· · ·· ··· ··
-N(R10)-, -(CO)-, -(CO)O-, - (CO) N (R10)-, -O-(CO)-,
-N (R10) - (CO) - alebo -N (R10) - (CO) 0-,
A1 a A2 nezávisle od seba znamenajú alkylénovú skupinu obsahujúcu až 4 uhlíkové atómy, cykloalkylénovú skupinu obsahujúcu 3 až 12 uhlíkových atómov, fenylénovú skupinu, fenylénalkylénovú skupinu, v ktorej alkylénový zvyšok obsahuje 1 až 4 uhlíkové atómy alebo alkylénfenylénalkylénovú skupinu, v ktorej každý alkylénový zvyšok obsahuje 1 až 4 uhlíkové atómy, a,b,c,d nezávisle od seba znamenajú čísla O až 4 a
R10 má skôr uvedený význam.
Zvlášť výhodné sú zlúčeniny všeobecného vzorca I alebo la, v ktorých A znamená dištančnú skupinu -Z [ (CH2) a -Y] c- [ (CH2) b-X] d a X,Y,Z,a,b,c,d majú skôr uvedené významy.
Zvlášť výhodne v zlúčeninách všeobecného vzorca I alebo la (RG) znamená RcRbC=CRa-, (RG') znamená
L
Ra,Rb,Rc vždy znamenajú atóm vodíka alebo alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov, výhodne atóm vodíka alebo metylovú skupinu.
Výroba takých fotoiniciátorov je pre odborníka v danom odbore bežná a naviac už opísaná vo viacerých publikáciách.
Takto môžu byť napríklad zlúčeniny obsahujúce nenasýtené skupiny pripravené reakciou 4-[(2-hydroxyetoxy)benzoyl]-1-hydroxy-l-metyletánu (Irgacure 2959, Ciba Spezialitätenchemie) s izokyanátmi obsahujúcimi akryloylové alebo metakryloylové skupiny alebo s ďalšími zlúčeninami obsahujúcimi akryloylové alebo ···· ·· ··· »· • · · · · · · • · ··· · · • · · ···· • · · · · · • · ·· ··· ·· · metakryloylové skupiny (pozri napríklad dokument US 4922004).
V ďalej uvedených publikáciách sú uvedené príklady vhodných fotoiniciátorových zlúčenín s etylenicky nenasýtenou funkciou, ako aj ich prípravy:
Nenasýtené aceto- a benzofenónové deriváty sú napríklad opísané v dokumentoch US 3214492, a US 4304895; ide napríklad o
I
US 3429852, US 3622848 .CH;
Kopolymerovatelné etylenicky nenasýtené acetofenónové zlúčeniny sú napríklad opísané v dokumente US 4922004; ide napríklad o ch3 o
J.,
H3cz 0 f H alebo o
H2C=C—C—O—(CH2) 2—o i
2-Akryloyltioxantón je publikovaný v Eur. Polym. J. 23, 985, (1987).
Príklady ako
.CH;
CH' ···· ·· ···· ·· • · · « · · · • e ···· · e • ··· ···· • · · · · · • · ·· ··· ·· · sú opísané v patentovom dokumente DE 2818763. Ďalšie príklady fotoiniciátorovej zlúčeniny obsahujúcej nenasýtené karbonátové skupiny sú opísané v patentovom dokumente EP 377191.
Uvecryl P36 spoločnosti UCB je benzofenón spojený s akrylovou funkciou etylénoxidovými jednotkami (pozri Technical Bulletin 2480/885 firmy UCB alebo New Polym. Mat. 1,63(1987):
-CH^CH2
V Chem. Abstr. 128:283649 je publikovaná zlúčenina
V patentovom dokumente DE 19501025 sú opísané ďalšie vhodné etylenicky nenasýtené fotoiniciátorové zlúčeniny.
Príklady takých zlúčenín sú:
4-vinyloxykarbonyloxybenzofenón,
4-vinyloxykarbonyloxy-4'-chlórbenzofenón,
4-vinyloxykarbonyloxy-4'-metoxybenzofenón,
N-vinyloxykarbonyl-4-aminobenzofenón, vinyloxykarbonyloxy-4'-fluórbenzofenón,
2-viny loxykarbony loxy-4'-metoxybenzofenón,
2-vinyloxykarbonyloxy-5-fluór-4'-chlórbenzofenón,
4-vinyloxykarbonyloxyacetofenón, « ···· ·· · • · · • · ··· · ·· ···· • · · • · ··· • · · • e · ·· ···
2-vinyloxykarbonyloxyacetofenón,
N-vinyloxykarbonyl-4-aminoacetofenón,
4-vinyloxykarbonyloxybenzil,
4-vinyloxykarbonyloxy-4'-metoxybenzyl, vinyloxykarbonylbenzoinéter,
4-metoxybenzoinvinyloxykarbonyléter, fenyl-(2-vinyloxykarbonyloxy-2-propyl)ketón, (4-izopropylfenyl)-(2-vinyloxykarbonyloxy-2-propyl)ketón, fenyl-(1-vinyloxykarbonyloxy)cyklohexylketón, 2-vinyloxykarbonyloxy-9-fluorenón,
2-(N-vinyloxykarbonyl)-9-aminofluorenón,
2-vinylkarbonyloxymetylantrachinón,
2-(N-vinyloxykarbonyl)aminoantrachinón,
2- vinyloxykarbonyloxytioxantón,
3- vinylkarbonyloxytioxantón alebo ·· • · · • · • · · • · ·· ·
V patentovom dokumente US 4672079 je okrem iného opísaná príprava 2-hydroxy-2-metyl-(4-vinylpropiofenónu), 2-hydroxy-2-metyl-p-(1-metylvinyl)propiónfenónu, p-vinylbenzoylcyklohexanolu a p-(1-metylvinyl)benzoylcyklohexanolu.
Vhodné sú tiež reakčné produkty 4-[(2-hydroxyetoxy)benzoylJ -1-hydroxy-l-metyletánu (Irgacure 2959, Ciba Specialitátenchemie) a izokyanátanu obsahujúceho akryioylovú alebo metakryloylovú skupinu, napríklad
H?C =i—och2ch2—nh—ϋ—och2ch2
=/ i
O CH3 ÍU-OH
Halebo ··*·
CH3 O
-é-NH
Ah,.
(R=H alebo CH3) , ktoré sú opísané v JP Kokai Hei 2-292307.
Ďalšie príklady vhodných fotoiniciátorov sú
O O
alebo o ch3 t_ iU-ΛΛ =/
H2C=CH—C—OCH2CH2—S
Nasledujúce príklady fotoiniciátorových zlúčenín sú opísané v Radcure'86, Conference Proceedings, 4-43, W.Báumer a kol.:
O o ch3 o U 1 H —C—O—C—CH=(
//
Ah,
h2c =CH—Ϊ—O—(CH2) 2—0
···· ·· • · · • « • · • · ·· · ··· Μ ·· ···· • e · • · ··· • · · · · • · · ·· ···
G. Wehner opisuje v Radtech '90 North America zlúčeninu:
nasledujúcu
H2C=CH—O—(CH2) 2—0
V nasledujúcej časti opisu sú objasnené významy jednotlivých všeobecných substituentov.
Alkylová skupina obsahujúca 1 až 12 uhlíkových atómov je priamou alebo rozvetvenou skupinou a znamená napríklad alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 8 uhlíkových atómov, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov alebo alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 4 uhlíkové atómy. Príklady týchto skupín sú metylová skupina, etylová skupina, propylová skupina, izopropylová skupina, n-butylová skupina, sek-butylová skupina, izobutylová skupina, terc-butylová skupina, pentylová skupina, hexylová skupina, heptylová skupina, 2,4,4-trimetylpentylová skupina, 2-etylhexylová skupina, oktylová skupina, nonylová skupina, decylová skupina, undecylová skupina alebo dodecylová skupina, najmä napríklad metylová skupina alebo butylová skupina.
Alkylová skupina obsahujúca 1 až 6 uhlíkových atómov a alkylová skupina obsahujúca 1 až 4 uhlíkové atómy sú tiež priamymi alebo rozvetvenými skupinami a majú skôr uvedené významy až na zodpovedajúci počet uhlíkových atómov. Alkylovými substituentami obsahujúcimi 1 až 6 uhlíkových atómov pre benzoylovú alebo fenylovú skupinu sú najmä alkylová skupina obsahujúca 1 až 4 uhlíkové atómy, napríklad metylová skupina alebo butylová skupina.
Atóm halogénu znamená atóm fluóru, atóm chlóru, atóm brómu alebo atóm jódu, najmä atóm chlóru a atóm brómu, výhodne atóm chlóru.
V prípade, ak R1 znamená skupinu A a ak dva zvyšky R2 sú v polohe orto ku karbonylovej skupine znamenajú tiež -S- alebo
• ···· • · • · ·· ···· • ··» • • • • • ·
• • • •
• ·
• · · • · ··· • · • ·
-C (=0)-, potom ide napríklad o štruktúru so základnou tioxantónovou alebo antrachínovou jednotkou:
Alkanoylová skupina obsahujúca 1 až 6 uhlíkových atómov je priamou alebo rozvetvenou skupinou a znamená napríklad alkanoylovú skupinu obsahujúcu 1 až 4 uhlíkové atómy. Príklady týchto skupín sú formylová skupina, acetylová skupina, propionylová skupina, butanoylová skupina, izobutanoylová skupina, pentanoylová skupina alebo hexanoylová skupina, výhodne acetylová skupina. Alkanoylová skupina obsahujúca 1 až 4 uhlíkové atómy má skôr uvedené významy až do zodpovedajúceho počtu uhlíkových atómov.
Alkoxyskupina obsahujúca 1 až 12 uhlíkových atómov je priamou alebo rozvetvenou skupinou a znamená napríklad alkoxyskupinu obsahujúcu 1 až 8 uhlíkových atómov, alkoxyskupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov alebo alkoxyskupinu obsahujúcu 1 až 4 uhlíkové atómy. Príklady týchto skupín sú metoxyskupina, etoxyskupina, propoxyskupina, izopropoxyskupina, n-butyloxyskupina, se/r-butyloxyskupina, izobutyloxyskupina, fcerc-butyloxyskupina, pentyloxyskupina, hexyloxyskupina, heptyloxyskupina, 2,4,4-trimetylpentyloxyskupina, 2-etylhexyloxyskupina, oktyloxyskupina, nonyloxyskupina, decyloxyskupina alebo dodecyloxyskupina, najmä metoxyskupina, etoxyskupina, propoxyskupina, izopropoxyskupina, n-butyloxyskupina, sek-butyloxyskupina, izobutyloxyskupina, terc-butyloxyskupina, výhodne metoxyskupina.
Alkoxyskupina obsahujúca 1 až 8 uhlíkových atómov, alkoxyskupina obsahujúca 1 až 6 uhlíkových atómov a alkoxyskupina obsahujúca 1 až 4 uhlíkové atómy sú taktiež priamymi alebo rozvetvenými skupinami a majú napríklad skôr uvedené významy až do ···· ·· ···· • · • ··· ·· ···· ·· ··· ·· · zodpovedajúceho počtu uhlíkových atómov.
Alkyltioskupina obsahujúca 1 až 6 uhlíkových atómov je priamou alebo rozvetvenou skupinou a znamená napríklad alkyltioskupinu obsahujúcu 1 až 4 uhlíkové atómy. Príklady takých skupín sú metyltioskupina, etyltioskupina, propyltioskupina, izopropyltioskupina, n-butyltioskupina, sek-butyltioskupina, izobutyltioskupina, pentyltioskupina alebo hexyltioskupina, najmä metyltioskupina, etyltioskupina, propyltioskupina, izopropyltioskupina, n-butyltioskupina, sek-butyltioskupina, izobutyltioskupina, terc-butyltioskupina, výhodne metyltioskupina.
Alkyltioskupina obsahujúca 1 až 4 uhlíkové atómy je tiež priamou alebo rozvetvenou skupinou, ktorá má skôr uvedené významy až do zodpovedajúceho počtu uhlíkových atómov.
Fenylová alebo benzoylová skupina substituovaná halogénom, alkylovou skupinou obsahujúcou 1 až 6 uhlíkových atómov, alkyltioskupinou obsahujúcou 1 až 8 uhlíkových atómov alebo alkoxyskupinou obsahujúcou 1 až 6 uhlíkových atómov je napríklad raz až päťkrát, napríklad raz, dvakrát alebo trikrát, najmä dvakrát alebo trikrát, substituovaná na fenylovom kruhu. Výhodné sú napríklad 2,4,6-trimetylbenzoylová skupina, 2,6-dichlórbenzoylová skupina, 2,6-dimetylbenzoylová skupina alebo 2,6-dimetylbenzoylová skupina.
Alkylénová skupina obsahujúca 1 až 4 uhlíkové atómy a alkylénová skupina obsahujúca 2 až 6 uhlíkových atómov sú priamymi alebo rozvetvenými alkylénovými skupinami, ktoré znamenajú napríklad alkylénovú skupinu obsahujúcu 2 až 4 uhlíkové atómy; príklady takých skupín sú metylénová skupina, etylénová skupina, propyiénová skupina, izopropylénová skupina, n-butylénová skupina, se/r-butylénová skupina, izobutylénová skupina, terc-butylénová skupina, pentylénová skupina alebo hexylénová skupina. Výhodné sú alkylénová skupina obsahujúca 1 až 4 uhlíkové atómy, napríklad etylénová skupina alebo butylénová skupina, • ···· ·· ···· · ·· ···· ··· • I · · ··· · · • · · · · ···· • · · · · · · ··· · ·· ··· ·· · —CH—CH2Íh3 —CH—(CH2)2Íh3 —CH—(CH2)3— alebo CH3 —C(CH3)2—CH2ako aj metylénová skupina a etylénová skupina.
Fenylénalkylénová skupina, v ktorej alkylénový zvyšok obsahuje 1 až 4 uhlíkové atómy, znamená fenylénovú skupinu, ktorá je v jednej polohe aromatického kruhu substituovaná alkylénovým zvyškom obsahujúcim 1 až 4 uhlíkové atómy, zatial čo alkylénfenylénalkylénová skupina, v ktorej alkylové zvyšky obsahujú po 1 až 4 uhlíkových atómoch, znamená fenylénovú skupinu, ktorá je v dvoch polohách fenylénového kruhu substituovaná alkylénovým zvyškom obsahujúcim 1 až 6 uhlíkových atómov. Tieto alkylénové zvyšky sú priamymi alebo rozvetvenými zvyškami, ktoré majú napríklad skôr uvedené významy až do zodpovedajúceho počtu uhlíkových atómov. Príklady týchto skupín sú
Alkylové zvyšky sa však môžu nachádzať tiež v iných polohách fenylénového kruhu, napríklad v polohách 1,3.
Cykloalkylénovou skupinou je napríklad cykloalkylénová skupina obsahujúca 3 až 12 uhlíkových atómov alebo cykloalkylénová skupina obsahujúca 3 až 8 uhlíkových atómov, napríklad cyklopropylénová skupina, cyklopentylénová skupina, cyklohexylénová skupina, cyklooktylénová skupina, cyklododecylénová skupina, najmä cyklopentylénová skupina a cyklohexylénová skupina, výhodne cyklohexylénová skupina. Cykloalkylénová skupina obsahujúca 3 až 12 ···· ·· ···· ·· • · · · · · · • · · ·· · · • · · · »· ··· ·· · uhlíkových atómov znamená však tiež štruktúrne jednotky ako
CxH2x-|- —l_(CyH2y) kde x a y nezávisle od seba znamenajú 0 až 6, pričom súčet x + y je menší alebo rovný 6, alebo —< cx^x>—c kde x a y nezávisle od seba znamenajú 0 až 7, pričom súčet x + y je menší alebo rovný 7.
Fenylénová skupina znamená 1,4-fenylénovú skupinu, 1,2-fenylénovú skupinu alebo 1,3-fenylénovú skupinu, najmä 1,4-fenylénovú skupinu.
Alkenylová zvyšky môžu byť raz alebo viackrát nenasýtené a priame alebo rozvetvené, pričom týmito zvyškami sú napríklad alkenylový zvyšok obsahujúci 2 až 8 uhlíkových atómov, alkenylový zvyšok obsahujúci 2 až 6 uhlíkových atómov alebo alkenylový zvyšok obsahujúci 2 až 4 uhlíkové atómy. Príklady takých zvyškov sú alylový zvyšok, metalylový zvyšok, 1,1-dimetylalylový zvyšok, 1-butenylový zvyšok, 2-butenylový zvyšok, 1,3-pentadienylový zvyšok, 1-hexenylový zvyšok, 1-oktenylový zvyšok, decenylový zvyšok alebo dodecenylový zvyšok, najmä alylový zvyšok.
V prípade, ak R7 a R8 spolu znamenajú alkylénovú skupinu obsahujúcu 2 až 6 uhlíkových atómov, potom tvoria spolu s atómom uhlíka, na ktorý sú viazané cykloalkylový kruh obsahujúci 3 až 7 uhlíkových atómov. Cykloalkylovou skupinou obsahujúcou 3 až 7 uhlíkových atómov je napríklad cyklopropylová skupina, cyklopentylová skupina, cyklohexylová skupina, cykloheptylová skupina, najmä cyklopentylová skupina a cyklohexylová skupina, výhodne cyklohexylová skupina.
Skupina RcRbC=CRa- znamená napríklad skupinu -CH=CH2 alebo skupinu -C(CH3)=CH2, výhodne skupinu -CH=CH2.
• · ·· ···· ·· ···
Fotoiniciátory sa môžu po prerušení radikálotvorného výboja alebo radikálotvorného osvetlenia (procesný stupeň a)) za vákua odpariť napríklad vo vyhrievanom zariadení, takže sa potom vyzrážajú na diely určenom na spracovanie a tu reagujú s radikálovými miestami. Odparenie sa môže uskutočniť s použitím tuhej látky, taveniny alebo vhodného rozpúšťadla, pričom tenzia pár použitého rozpúšťadla leží výhodne v blízkosti tenzie pár fotoiniciátora.
V prípade korónového výboja realizovaného za atmosférických podmienok sa môže fotoiniciátor naniesť rozprašovaním z roztoku. Výhodne sa toto nanesenie uskutoční bezprostredne po korónovom výboji, napríklad tak, že sa pri kontinuálnom spôsobe roztok iniciátora rozprašuje z trysiek usporiadaných bezprostredne za výbojovou zónou.
Po nanesení fotoiniciátora sa môže diel s naneseným fotoiniciátorom buď skladovať alebo priamo ďalej spracovať, pričom sa na diel nanesie známou technológiou vrstva laku vytvrditelná žiarením obsahujúca etylenicky nenasýtené väzby. Toto nanesenie sa môže uskutočniť polievaním, ponorením, nastriekaním, natrením štetcom, natrením pomocou natieracieho noža, naválaním alebo nanesením odstreďovaním.
Nenasýtené zlúčeniny žiarením-vytvrditeľné lakové kompozície môžu obsahovať jednu alebo viac etylenicky nenasýtených dvojitých väzieb. Tieto zlúčeniny môžu byť nižšie molekulárne (monomér) alebo vyššie molekulárne (oligomér). Príklady monomérov s jednou dvojitou väzbou sú alkyl- alebo hydroxyalkylakryláty alebo -metakryláty, ako napríklad metyl-, etyl-, butyl-, 2-etylhexyl- alebo 2-hydroxyetylakrylát, izobornylakrylát, metyl- alebo etylmetakrylát. Zaujímavé sú silikónakryláty. Ďalšími príkladmi sú akrylnitril, akrylamid, metakrylamid, N-substituované (met)akrylamidy, vinylestery, ako napríklad vinylacetát, vinylétery, ako napríklad izobutylvinyléter, styrén, alkyl- a halogénstyrén, N-vinylpyrolidón, vinylchlorid
• · · • · ··· • · · · • · · ·· ···· ·· ··· ·· alebo vinylidénchlorid.
Príklady monomérov s viacerými dvojitými väzbami sú etylénglykol-, propylénglykol-, neopentylénglykol-, hexametylénglykolalebo bisfenol-A-diakrylát, 4,4'-bis-(2-akryloxyetoxy)difenylpropán, trimetylolpropántriakrylát, pentaerytrittriakrylát alebo -tetraakrylát, vinylakrylát, divinylbenzén, divinylsukcinát, dialylftalát, trialylfosfát, trialylizokyanurát, tris(hydroxyetyl)izokyanuráttriakrylát alebo tris-(2-akryloyletyl)izokyanurát.
Príklady vyššie molekulárnych (oligomér) viackrát nenasýtených zlúčenín sú akrylované epoxidové živice, polyestery, polyuretány a polyétery obsahujúce akrylované skupiny, vinyléterové skupiny alebo epoxyskupiny. Ďalšími príkladmi nenasýtených oligomérov sú nenasýtené polyesterové živice, ktoré sa prevažne získajú z kyseliny maleínovej alebo kyseliny fcalovej a jedného alebo viacerých diolov a ktoré majú molekulovú hmotnosť rovnú asi 500 až 3000. Okrem toho sa môžu použiť tiež vinyléterové monoméry a oligoméry, ako aj maleátom zakončené oligoméry s polyesterovým, polyuretánovým, polyéterovým, polyvinyléterovým a epoxidovým hlavným reťazcom. Zvlášť vhodné sú kombinácie oligomérov nesúcich vinyléterové skupiny a polymérov, ktoré sú opísané v patentovom dokumente WO 90/01512. Do úvahy však prichádzajú tiež kopolyméry vinyléteru a monomérov funkcionalizovaných kyselinou maleínovou. Také nenasýtené oligoméry sa môžu tiež označiť ako predpolyméry.
Zvlášť vhodné sú napríklad estery etylenicky nenasýtených karboxylových kyselín a polyolov alebo polyepoxidov a polyméry s etylenicky nenasýtenými skupinami v reťazci alebo v bočných skupinách, ako napríklad nenasýtené polyestery, polyamidy a polyuretány a ich kopolyméry, alkydové živice, polybutadién a butadiénové kopolyméry, polyizoprén a izoprénové kopolyméry, polyméry a kopolyméry s (met)akrylovými skupinami v bočných reťazcoch, ako aj zmesi obsahujúce jeden alebo viac takých polymérov.
···· ·· ···· • · • ···
Príklady nenasýtených karboxylových kyselín sú kyselina akrylová, kyselina metakrylová, kyselina krotónová, kyselina itakónová, kyselina škoricová, nenasýtené mastné kyseliny, ako napríklad kyselina linolénová alebo kyselina olejová. Výhodné sú kyselina akrylová a kyselina metakrylová.
Ako polyoly sú vhodné aromatické a najmä alifatické a cykloalifatické polyoly. Príklady aromatických polyolov sú hydrochinón, 4,4'-dihydroxydifenyl, 2,2-di-(4-hydroxyfenyl)propán, ako aj novolaky a rezoly. Príklady polyepoxidov sú polyepoxidy na báze uvedených polyolov, najmä aromatických polyolov a epichlórhydrín. Ďalej sú vhodné tiež polyméry a kopolyméry, ktoré obsahujú hydroxylové skupiny v polymérnom reťazci alebo v bočných skupinách, ako napríklad polyvinylalkohol alebo jeho kopolyméry alebo polyhydroxyalkylester kyseliny polymetakrylovej alebo jeho kopolyméry, ako polyoly. Ďalšími vhodnými polyolmi sú oligoestery s hydroxylovými koncovými skupinami.
Príklady alifatických a cykloalifatických polyolov sú alkyléndioly, výhodne obsahujúce 2 až 12 uhlíkových atómov, ako napríklad etylénglykol, 1,2-propándiol, 1,3-propándiol, 1,2-butándiol, 1,3-butándiol alebo 1,4-butándiol, pentándiol, hexándiol, oktándiol, dodekándiol, dietylénglykol, trietylénglykol, polyetylénglykol s molekulovými hmotnosťami výhodne od 200 do 1500, 1,3-cyklopentándiol, 1,2-cyklohexándiol, 1,3-cyklohexándiol alebo 1,4-cyklohexándiol, 1,4-dihydroxymetylcyklohexán, glycerín, tris-(β-hydroxyetyl)amín, trimetyloletán, trimetylolpropán, pentaerytrit, dipentaerytrit a sorbit.
Príklady esterov sú:
Polyoly môžu byť sčasti alebo celkom esterifikované jednou alebo rôznymi nenasýtenými karboxylovými kyselinami, pričom v čiastočných esteroch môžu byť voľné hydroxyskupiny modifikované, napríklad eterifikované alebo esterifikované s ďalšími karboxylovými kyselinami.
• ···· • · • · ·· ···· • ··· ··
• • • • • t • · •
• ·
• · · ·· ··· • · ·
trimetylolpropántriakrylát, trimetyloletántriakrylát, trimetylolpropántrimetakrylát, trimetyloletántrimetakrylát, tetrametylénglykoldimetakrylát, trietylénglykoldimetakrylát, tetraetylénglykoldiakrylát, pentaerytritdiakrylát, pentaerytrittriakrylát, pentaerytrittetraakrylát, dipentaerytritdiakrylát, dipentaerytrittriakrylát, dipentaerytrittetraakrylát, dipentaerytrittripentaakrylát, dipentaerytrithexaakrylát, tripentaerytritoktaakrylát, pentaerytritdimetakrylát, pentaerytritdimetakrylát, pentaerytrittrimetakrylát, dipentaerytritdimetakrylát, dipentaerytrittrimetakrylát, tripentaerytritoktametakrylát, pentaerytritdiitakonát, dipentaerytrittrisitakonát, dipentaerytritpentaitakonát, dipentaerytrithexaitakonát, etylénglykoldiakrylát, 1,3-butándioldiakrylát, 1,3-butándioldimetakrylát, 1,4-butándioldiitakonát, sorbittriakrylát, sorbittetraakrylát, pentaerytritom modifikovaný triakrylát, sorbittetrametakrylát, sorbitpentaakrylát, sorbithexaakrylát, oligoesterakrylát a -metakrylát, glyceríndi- a triakrylát, 1,4-cyklohexándiakrylát, bisakryláty a bismetakryláty polyetylénglykolu s molekulovou hmotnosťou 200 až 1500 alebo ich zmesi.
Ako komponenty sú tiež vhodné amidy rovnakých alebo rôznych nenasýtených karboxylových kyselín od aromatických, cykloalifatických a alifatických polyamínov, výhodne s 2 až 6, najmä 2 až 4 aminoskupinami. Príklady takých polyamínov sú etyléndiamín, 1,2-propyléndiamin, 1,3-propyléndiamín, 1,2-butyléndiamín, 1, 3-butyléndiamín, 1,4-butyléndiamín, 1,5-pentyléndiamín, 1,6-hexyléndiamín, oktyléndiamín, dodecyléndiamín, 1,4-diaminocyklohexán, izoforóndiamín, fenyléndiamín, bisfenyléndiamín, di-p-aminoetyléter, dietyléntriamín, trietyléntetramín, di(β-aminoetoxy)- alebo di(β-aminopropoxy)etán. Ďalšími vhodnými polyamínmi sú polyméry a kopolyméry s prípadnými dodatočnými aminoskupinami v bočnom reťazci a oligoamidy s amínovými koncovými skupinami. Príklady takých nenasýtených amidov sú metylén-bis-akrylamid, 1,6-hexametylén-bis-akrylamid, dietyléntriamín-tris-metakrylamid, bis (metakrylamidopropoxy)etán, β-meta-
• · • · ·· ···· • · · • · ··· • · · · • · · ·· ··· ·· ·· krylamidoetylmetakrylát, N[(β-hydroxyetoxy)etyl]akylamid.
Vhodné nenasýtené polyestery a polyamidy sú odvodené napríklad od kyseliny maleínovej a diolénov alebo diamínov. Kyselina maleínová sa môže čiastočne nahradiť ďalšími dikarboxylovými kyselinami. Tieto sa môžu použiť spolu s etylenicky nenasýtenými komonomérmi, medzi ktoré patrí napríklad styrén. Polyestery a polyamidy je možné tiež odvodiť od dikarboxylových kyselín a etylenicky nenasýtených diolov alebo diamínov, zvlášť s dlhým reťazcom, obsahujúcim napríklad 6 až 20 uhlíkových atómov. Príklady polyuretánov sú polyuretány, ktoré sú vytvorené z nasýtených alebo nenasýtených diizokyanátov a nenasýtených, prípadne nasýtených diolénov.
Polybutadién a polyizoprén a ich kopolyméry sú známymi zlúčeninami. Vhodnými komonomérmi sú napríklad olefíny, ako napríklad etylén, propén, butén, hexén, (met)akrylát, akrylnitril, styrén alebo vinylchlorid. Polyméry s (met)akrylovými skupinami v bočnom reťazci sú tiež známymi zlúčeninami. Môže ísť napríklad o reakčné produkty epoxidových živíc na novolakovej báze s kyselinou (met)akrylovou, o homo- alebo kopolyméry vinylalkoholov alebo ich hydroxyalkylderivátov, ktoré sú esterifikované kyselinou (met)akrylovou, alebo o homo- a kopolyméry (met)akrylátov, ktoré sú esterifikované hydroxyalkyl(met)akrylátmi.
Zvlášť výhodne sa ako raz alebo viackrát etylenicky nenasýtená zlúčenina použije akrylátová alebo metakrylátová zlúčenina.
Mimoriadne výhodné sú viackrát nenasýtené akrylátové zlúčeniny, ktoré sa už uviedli skôr.
Zvlášť výhodný je spôsob, pri ktorom je aspoň jedným etylenicky nenasýteným monomérom alebo oligomérom žiarením-vytvrditelnej kompozície mono-, di-, tri- alebo tetra-funkčný akrylát alebo metakrylát.
Výhodne uvedená kompozícia obsahuje vedľa aspoň jedného ···· • · · · ·· · · ·· ···· • ·· • · ···· • · · · • · · ·· ··· ·· · etylenicky nenasýteného monoméru alebo oligoméru aspoň jeden ďalší fotoiniciátor alebo koiniciátor na vytvrdenie UV/VIS-žiarením.
Pod pojmom UV/VIS-žiarenie sa v rámci vynálezu rozumie elektromagnetické žiarenie v rozsahu vlnových dĺžok od 250 nm do 450 nm. Výhodný je rozsah od 305 do 450 nm. Vhodné lampy vyžarujúce také žiarenie sú známe a komerčne dostupné.
Ako fotoiniciátor v žiarením-vytvrditelných lakoch sa môžu použiť ako zlúčeniny všeobecného vzorca I alebo la, tak aj všetky ostatné iniciátory známe v rámci doterajšieho stavu techniky.
Ďalej sú uvedené typické príklady takých fotoiniciátorov, ktoré sa môžu použiť jednotlivo ale aj vo vzájomných zmesiach. Takto je možné uviesť napríklad benzofenóny, benzofenónové deriváty, acetofenón, acetofenónové deriváty, ako napríklad a-hydroxycykloalkylfenylketóny alebo 2-hydroxy-2-metyl-l-fenylpropanón, dialkylacetofenón, α-hydroxy- alebo α-aminoacetofenóny, ako napríklad (4-metyltiobenzoyl)-1-metyl-l-morfolinoetán, (4-morfolinobenzoyl)-1-benzyl-l-dimetylaminopropán, 4-aroyl-l,3-dioxolán, benzoinalkyléter a benzylketaly, ako napríklad benzildimetylketal, fenylglyoxaláty a ich deriváty, dimérne fenylglyoxaláty, monoacylfosfínoxidy, ako napríklad (2,4,6-trimetylbenzoyl)fenylfosfínoxid, bisacylfosfínoxidy, ako napríklad bis(2,6-dimetoxybenzoyl)-(2,4,4-trimetylpent-l-yl)fosfínoxid, bis(2,4,6-trimetylbenzoyl)fenylfosfínoxid alebo bis(2,4,6-trimetylbenzoyl)-(2,4-dipentoxyfenyl)fosfínoxid, trisacylfosfínoxid, ferocéniové zlúčeniny alebo titanocény, ako napríklad dicyklopentadienyl-bis(2,6-difluór-3-pyrolofenyl)titán. Ďalšou skupinou vhodných fotoiniciátorov sú oxímestery. Je možné napríklad uviesť nasledujúce zlúčeniny: 1-(4-fenylsulfanylfenyl)bután-1-1,2-dion-2-oxím-O-benzoát, 1-(4-fenylsulfanylfenyl)oktán-1,2-dion-2-oxím-O-benzoát, 1-(4-fenylsulfanylfenyl)oktan-l-ón-oxím-O-acetát, 1-(4-fenylsulfanylfenyl)butan-l-ón-oxím-O-acetát alebo 1-(4-fenylsulfanylfenyl)oktán-1,2-dión-2-oxím-0-benzoát.
···· • · •e ···· • · • ··· ·· ···
Ako koiniciátory prichádzajú napríklad do úvahy senzibilizátory, ktoré posúvajú, prípadne rozširujú spektrálnu citlivosť, a tým ovplyvňujú urýchlenie fotopolymerácie. Týmito senzibilizátormi sú najmä aromatické karbonylové zlúčeniny, ako napríklad benzofenónové, tioxantónové, najmä tiež izopropyltioxantónové, antrachinónové a 3-acylkumarínové deriváty, terfenyly, styrylketóny, ako aj 3-(aroylmetylén)tiazolíny, gáforchinón, ale tiež eozínové, rodamínové a erytrozínové farbivá. Ako fotosenzibilizátory môžu prísť do úvahy napríklad tiež amíny v prípade, ak je spôsobom podľa vynálezu naočkovaná vrstva fotoiniciátora tvorená benzofenónom alebo benzofenónovým derivátom.
Ďalšími príkladmi fotosenzibilizátorov sú:
1) tioxantóny tioxantón, 2-izopropyltioxantón, 2-chlórtioxantón, 2-dodecyltioxantón, 2,4-dietyltioxantón, 2,4-dimetyltioxantón, 1-metoxykarbonyltioxantón, 2-etoxykarbonyltioxantón, 3-(2-metoxyetoxykarbonyl)tioxantón, 4-butoxykarbonyltioxantón, 3-butoxykarbonyl-7-metyltioxantón, l-kyano-3-chlórtioxantón, 1-etoxykarbonyl-3-chlórtioxantón, l-etoxykarbonyl-3-etoxytioxantón, l-etoxykarbonyl-3-aminotioxantón, 1-etoxykarbonyl-3-fenylsulfuryltioxantón,
3,4-di-[2-(2-metoxyetoxy)etoxykarbonyl]tioxantón, 1-etoxykarbonyl-3-(1-metyl-l-morfolinoetyl)tioxantón, 2-metyl-6-dimetoxymetyltioxantón, 2-metyl-6-(1,1-dimetoxybenzyl)tioxantón, 2-morfolinometyltioxantón, 2-metyl-6-morfolinometyltioxantón, N-alyltioxantón-3,4-dikarboxamid, N-oktyltioxantón-3,4-dikarboximid, N-(1,1,3,3-tetrametylbutyl)tioxantón-3,4-dikarboximid, 1-fenoxytioxantón, 6-etoxykarbonyl-2-metoxytioxantón, 6-etoxykarbonyl-2-metyltioxantón, tioxantón-2-polyetylénglykolester, 2-hydroxy-3-(3,4-dimetyl-9-oxo-9tf-tioxanton-2-yloxy)-N,N,N-trimetyl-l-propánamíniumchlorid;
2) benzofenóny benzofenón, 4-fenylbenzofenón, 4-metoxybenzofenčn, 4,4'-dimetoxybenzofenón, 4, 4'-dimetylbenzofenón, 4,4'-dichlórbenzofenón, ···· ···· ·· • · · · ··· · · • · · · • · · ··· ·· · ·· · · · · · · · · · · · · · · · ··· · ··
4,4'-dimetylaminobenzofenón, 4,4'-dietylaminobenzofenón, 4-metylbenzofenón, 2,4,6-trimetylbenzofenón, 4-(4-metyltiofenyl)benzofenón, 3,3'-dimetylbenzofenón, metyl-2-benzoylbenzoát, 4-(2-hydroxyetyltio)benzofenón, 4-(4-tolyltio)benzofenón, 4-benzoyl-N, N, N-trimetylbenzénmetánamíniumcľilorid, 2-hydroxy-3- (4-benzoylfenoxy)-N,N,N-trimetyl-l-propánamíniumchlorid-monohydrát,
4-(13-akroyl-l,4,7,10,13-pentaoxatridecyl)benzofenón, 4-benzoyl-N,N-dimetyl-N-[2-(l-oxo-2-propenyl)oxy]etylbenzénmetánamíniumchlorid;
3) 3-acylkumaríny
3-benzoylkumarín, 3-benzoyl-7-metoxykumarín, 3-benzoyl-5,7-di(di(propoxy))kumarín, 3-benzoyl-6,8-dichlórkumarín, 3-benzoyl-6-chlórkumarín, 3, 3'-karbonyl-bis[5, 7-di(propoxy)kumarín],
3, 3'“karbonyl-bis (7-metoxykumarín), 3,3'-karbonyl-bis (7-dietylaminokumarín), 3-izobutyroylkumarín, 3-benzoyl-5,7-dimetoxykumarín, 3-benzoyl-5,7-dietoxykumarín, 3-benzoyl-5,7-dibutoxykumarín,
3-benzoyl-5,7-di(metoxyetoxy)kumarín, 3-benzoyl-5,7-di(alyloxy)-kumarín, 3-benzoyl-7-dimetylaminokumarín, 3-benzoyl-7-dietylaminokumarín, 3-izobutyroyl-7-dimetylaminokumarín, 5,7-dimetoxy-3-(1-naftoyl)kumarín, 3-benzoylbenzo[f]kumarín, 7-dietylamino-3-tienokumarín, 3-(4-kyanobenzoyl)-5,7-dimetoxykumarín;
4) 3-(aroylmetylén)tiazolíny
3-metyl-2-benzoylmetylén-p-naftotiazolín, 3-metyl-2-benzoylmetylénbenzotiazolín, 3-etyl-2-propionylmetylén-p-naftotiazolín;
5) ďalšie karbonylové zlúčeniny acetofenón, 3-metoxyacetofenón, 4-fenylacetofenón, benzil, 2-acetylnaftalín, 2-naftaldehyd, 9,10-antrachinón, 9-fluorenón, dibenzosuberón, xantón, 2,5-bis(4-dietylaminobenzylidén)cyklopentanón, a-(para-dimetylaminobenzylidén)ketón, ako napríklad 2-(4-dimetylaminobenzylidén)-indan-l-ón alebo 3-(4-dimetylaminofenyl)-l-indan-5-ylproperón, 3-fenyltioftalimid, N-metyl-3,5-di-(etyltio)ftalimid, N-metyl-3,5-di(etyltio)ftalimid.
····
·· ···· ·· • · · · · · • ···· · · • · · · · · · • · · · · ·· ··· ·· ·
Vedľa týchto prísad, ktoré sú dôležité na vytvrdenie laku môžu byť v žiarením-vytvrditeľnej kompozícii obsiahnuté ešte ďalšie prísady, najmä prostriedky proti degradácii svetlom.
Uvedené laky môžu byť pri vhodnom výbere fotoiniciátorov tiež pigmentované, pričom sa môžu použiť ako pestro farebné pigmenty, tak aj biele pigmenty.
Laky je možné naniesť vo vrstve ktorá má hrúbku asi 1 až 100 mikrometrov, výhodne asi 1 až 40 mikrometrov. Pri hrúbke vrstvy menšej ako 5 mikrometrov sú pigmentované laky označované tiež ako tlačiarenské farby.
Ako prostriedky proti degradácii svetlom je možné pridať UV-absorbéry, ako napríklad UV-absorbéry hydroxyfenylbenztriazolového typu, hydroxyfenylbenzofenónového typu, amidu kyseliny oxalovej alebo hydroxyfenyl-s-triazínového typu. Je možné použiť jednotlivé zlúčeniny alebo zmesi uvedených zlúčenín, a to buď s prídavkom stéricky bránených amínov (HALS) alebo bez prídavku stéricky bránených amínov.
Príklady takých UV-absorbérov a prostriedkov proti degradácii svetlom sú:
1) 2-(2'-hydroxyfenyl) benzotriazoly, napríklad 2-(2'-hydroxy-5'-metylfenyl) benzotriazol, 2- (3', 5'-diterc-butyl-2'-hydroxyfenyl)benzotriazol, 2- (5'-fcerc-butyl-2'-hydroxyfenyl) benzotriazol,
2- (2'-hydroxy-5'- (1,1,3, 3-tetrametylbutyl) fenyl) benzotriazol,
2- (3', 5'-ďiterc-butyl-2'-hydroxyfenyl) -5-chlórbenzotriazol, 2- (3'- terc-butyl-2'-hydroxy-5'-metylfenyl) - 5-chlórbenzotriazol,
2- (3'-sek-butyl-5'-terc-butyl-2'-hydroxyfenyl) benzotriazol, 2- (2'-hydroxy-4'-oktyloxyfenyl) benzotriazol, 2- (3', 5'-diterc-amyl-2'-hydroxyfenyl) benzotriazol, 2- (3', 5'-bis (a, a-dimetylbenzyl) -2'-hydroxyfenyl) benzotriazol, zmes 2- (3'-terc-butyl-2'-hydroxy-5'-(2-oktyloxykarbonyletyl)fenyl)-5-chlórbenzotriazolu, 2- (3'-terc-butyl-5'- [2- (2-etylhexyloxy) karbonyletyl] -2'-hydroxyfenyl) -534
• ···· • · ···· • ·
• · • · • · ·
• · • ··· • ·
• · · ·· ··· • · ·
-chlórbenzotriazolu, 2- (3'-terc-butyl-2'-hydroxy-5'~ (2-metoxykarbonyletyl)fenyl)-5-chlórbenzotriazolu, 2- (3'-terc-butyl-2'-hydroxy-5'- (2-metoxykarbonyletyl) fenyl)benzotriazolu, 2- (3'-terc-butyl-2'-hydroxy-5'- (2-oktyloxykarbonyletyl) fenyl) benzotriazolu,
2- (3'-terc-butyl-5'- [2- (2-etylhexyloxy) karbonyletyl] -2'-hydroxyfenyl) benzotriazolu, 2- (3'-dodecyl-2'-hydroxy-5'-metylfenyl) benzotriazolu a 2- (3'-terc-butyl-2'-hydroxy-5'- (2-izooktyloxykarbonyletyl)fenyl)benzotriazolu, 2,2'-metylén-bis[4-(1,1,3,3-tetrametylbutyl) -6-benzotriazol-2-ylfenol], produkt transesterifikácie 2- [3'-terc-butyl-5'- (2-metoxykarbonyletyl) -2'-hydroxyfenyl] -2H-benzotriazolu polyetylénglykolom 300, zlúčenina vzorca [R-CH2CH2-COO (CH2) 3] 2, kde R predstavuje 3'-terc-butyl-4'-hydroxy-5'-2tf-benzotriazol-2-ylfenylovú skupinu;
2) 2-hydroxybenzofenóny, napríklad 4-hydroxy-, 4-metoxy-, 4-oktyloxy-, 4-decyloxy-, 4-dodecyloxy, 4-benzyloxy-, 4,2', 4'-trihydroxy- a 2'-hydroxy-4,4'-dimetoxy- deriváty 2-hydroxybenzofenónu;
3) estery substituovaných a nesubstituovaných benzoových kyselín, napríklad 4-terc-butylfenylsalicylát, fenylsalicylát, oktylfenylsalicylát, dibenzoylresorcinol, bis-(4-terc-butylbenzoyl)-resorcinol, benzoylresorcinol, 2,4-cLiterc-butylfenyl-3, 5-diterc-butyl-4-hydroxybenzoát, hexadecyl-3,5-diterc-butyl-4-hydroxybenzoát, oktadecyl-3, 5-cLiterc-butyl-4-hydroxybenzoát,
2-metyl-4,6-diterc-butylfenyl-3,5-diterc-butyl-4-hydroxybenzoát;
4) akryláty, napríklad etyl-a-kyán-β,β-difenylakrylát, izooktyl-a-kyán-β,β-difenylakrylát, metyl-a-metoxykarbonylcínnamát, mety 1-a- kyán^-met y 1-p-metoxycínnamát, butyl-a-kyán^-metyl-p-metoxycínnamát, metyl-a-metoxykarbonyl-p-metoxycínnamát a N-^-metoxykarbonyl^-kyánvinyl) -2-metylíndolín;
5) stéricky bránené amíny, ako napríklad bis-(2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)sebakát, bis-(2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)sukcinát, bis-(1,2,2,6,6-pentametylpiperidyl)sebakát, bis-(1,2,2,6,6-pen35
···· ·· ···· ·· ·
• · • · • ·
··· • ·
• ·
··· • · ··· ·· • · ·
tametylpiperidyl) ester kyseliny n-butyl-3,5-diterc-butyl-4-hydroxybenzylmalónovej, kondenzačný produkt l-hydroxyetyl-2,2,6,6-tetrametyl-4-hydroxypiperidínu a kyseliny jantárovej, kondenzačný produkt N, N'-bis-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)hexametyléndiamínu a 4-terc-oktylamino-2,6-dichlór-l,3,5-s-triazínu, tris-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)nitrilotriacetát, tetrakis-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butántetraoát,
1, ľ-(1,2-etándiyl)-bis-(3,3,5,5-tetrametylpiperazinón), 4-benzoyl-2,2,6,6-tetrametylpiperidín, 4-stearyloxy-2,2,6,6-tetrametylpiperidín, bis-(1,2,2,6,6-pentametylpiperidyl)-2-n-butyl-2-(2-hydroxy-3,5-ďiterc-butylbenzyl)malonát, 3-n-oktyl-7,7,9,9-tetrametyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]dekan-2,4-dión, bis-(1-oktyloxy-2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)sebakát, bis-(l-oktyloxy-2,2,6,6tetrametylpiperidyl)sukcinát, kondenzačný produkt N,N'-bis-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)hexametyléndiamínu a 4-morfolino-2,6-dichlór-l,3,5-triazínu, kondenzačný produkt 2-chlór-4,6-di(4-n-butylamino-2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)-1,3,5-triazínu a 1,2-bis-(3-aminopropylamino)etánu, kondenzačný produkt 2-chlór-4,6-di-(4-n-butylamino-l,2,2,6,6-pentametylpiperidyl)-1,3,5triazínu a 1,2-bis-(3-aminopropylamino)etánu, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetrametyl-l,3,8-triazaspiro[4.5]dekan-2,4-dión, 3-dodecyl-l-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)pyrolidín-2,5-dión, 3-dodecyl-l-(1,2,2,6,6-pentametyl-4-piperidyl)pyrolidín-2,5-dión;
6) diamidy kyseliny oxalovej, ako napríklad 4,4'-dioktyloxyoxanilid, 2,2'-dietoxyoxanilid, 2,2'-dioktyloxy-5,5'-diterc-butyloxanilid, 2,2'-didodecyloxy-5, 5'-diter-butyloxanilid, 2-etoxy-2'-etyloxanilid, N, N'-bis-(3-dimetylaminopropyl)oxanilid, 2-etoxy-5-terc-butyl-2'-etyloxanilid a jeho zmes s 2-etoxy-2'-etyl-5,4'-diterc-butyloxanilid, zmesi o- a ρ-metoxy-, ako aj o- a p-etoxydisubstituovaných oxanilidov;
7) 2-(2-hydroxyfenyl)-1,3,5-triazíny, ako napríklad 2,4,6-tris-(2-hydroxy-4-oktyloxyfenyl)-1,3,5-triazín, 2-(2-hydroxy-4-ok• · · · ·· ···· • · • ··· ·· ··· tyloxyfenyl)-4,6-bis-(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazín, 2-(2,4-dihydroxyfenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3, 5-triazín,
2,4-bis(2-hydroxy-4-propyloxyfenyl)-6-(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazín, 2-(2-hydroxy-4-oktyloxyfenyl)-4,6-bis(4-metylfenyl)-1,3,5-triazín, 2-(2-hydroxy-4-dodecyloxyfenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazín, 2-[2-hydroxy-4-(2-hydroxy-3-butyloxypropyloxy)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazín,
2-[2-hydroxy-4-(2-hydroxy-3-oktyloxypropyloxy)fenyl]-4,6-bis-(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazín, 2-[4-dodecyl/tridecyloxy-(2-hydroxypropyl)oxy-2-hydroxyfenyl]-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazín.
Vedľa skôr uvedených prostriedkov proti degradácii svetlom sú vhodné tiež ďalšie stabilizátory, ako napríklad fosfity alebo fosfonity.
8) Fosfity a fosfonity, napríklad trifenylfosfit, difenyl-alkylfosfity, fenyldialkylfosfity, tris(nonylfenyl)-fosfit, trilaurylfosfit, trioktadecylfosfit, distearylpentaerytritoldifosfit, tris(2,4-diterc-butylfenyl)-fosfit, diizodecylpentaerytritoldifosfit, bis(2,4-diterc-butylfenyl)-pentaerytritoldifosfit, bis(2,6-diterc-butyl-4-metylfenyl)-pentaerytritoldifosfit, diizodecyloxypentaerytritoldifosfit, bis(2,4-diterc-butyl-6-metylfenyl)-pentaerytritoldifosfit, bis(2,4,6-tris(terc-butylfenyl)-pentaerytritoldifosfit, tristearylsorbitoltrifosfit, tetrakis (2,4-diterc-butylfenyl) -4, 4'-bifenyléndifosfit,
6-izooktyloxy-2,4,8,10-tetraterc-butyl-12ŕŕ-dibenz [d,g] -1, 3,2-dioxafosfocín, 6-fluór-2,4,8,10-tetraterc-butyl-12-metyl-dibenz[d,g]-1,3,2-dioxafosfocín, bis(2,4-diterc-buty1-6-metylfenyl)metylf osf it, bis(2,4-diterc-butyl-6-metylfenyl)etylfosfit.
Ďalej je možné v uvedených žiarením-vytvrditeiných kompozíciách použiť aj ďalšie obvyklé prísady, akými sú napríklad antistatiká, látky zlepšujúce rozlev a látky zlepšujúce adhéziu.
V prípade, ak sa ako priľnavá vrstva nanesie vrstva kovu, oxidu kovu alebo oxidu polokovu, potom výhodne ide o nasledujúce • · · ·· ···· • · · • · ··· kovy: zlato, striebro, chróm, molybdén, hliník alebo meď, pričom zvlášť výhodne ide o hliník alebo meď. Výhodné sú ďalej nasledujúce oxidy polokovov a kovov: oxid hlinitý, oxid chrómu, oxid železa, oxid medi a oxid kremičitý.
Oxidy kovov, oxidy polokovov a kovy sa pritom odparia za vákuových podmienok a vylúčia sa v prítomnosti UV-svetla na podklade, ktorý sa predbežne vybavil vrstvou fotoiniciátora. Teplota téglika pri uvedenom odparovacom procese závisí od použitého kovu a výhodne predstavuje 300 až 2000, zvlášť výhodne 800 až 1800°C.
UV-žiarenie môže byť v priebehu vylučovania materiálu vrstvy generované napríklad anodickým oblúkom.
Kovom navrstvené podklady sú vhodné pre difúzne záverové vrstvy, pre elektromagnetické odtienenie alebo tvoria dekoračné prvky.
Výhodne sa procesný stupeň a) uskutočňuje s použitím nízkoteplotného plazmového výboja.
Spôsob podľa vynálezu sa môže uskutočňovať v širokom tlakovom rozsahu, pričom výbojová charakteristika prechádza s rastúcim tlakom z čisto nízkoteplotnej plazmy postupne ku korónovému výboju až nakoniec uvedená charakteristika dosiahne pri atmosférickom tlaku asi 100 až 110 kPa hodnôt čisto korónového výboja.
Výhodne sa spôsob podľa vynálezu uskutočňuje pri procesnom tlaku od 10-7 kPa do atmosférického tlaku (101,3 kPa), zvlášť výhodne v tlakovom rozsahu od 10“5 do 103 kPa ako plazmový spôsob a pri atmosférickom tlaku ako korónový spôsob.
Výhodne sa spôsob podľa vynálezu uskutočňuje tak, že sa ako plazmový plyn použije inertný plyn alebo zmes inertného plynu s reaktívnym plynom.
Výhodne sa ako plazmové plyny použijú He, Ar, Kr, Xe, N2, O2 • · ·· ···· • · · • · ··· • · ·· ··· alebo H20.
Výhodne predstavuje teplota, pri ktorej sa fotoiniciátor odparuje za vákua, 20 až 250°C, zvlášť výhodne 40 až 150°C.
Výhodne má vylúčená vrstva fotoiniciátora hrúbku pohybujúcu sa od hrúbky monomolekulárnej vrstvy do hrúbky až 100 nm, pričom sa táto hrúbka zvlášť výhodne pohybuje od 10 nm do 60 nm.
Výhodne predstavuje čas spracovania a)anorganického alebo organického substrátu plazmou 1 až 300 sekúnd, zvlášť výhodne 10 až 200 sekúnd.
Vylúčenie fotoiniciátora v procesnom stupni b) sa uskutočňuje za vákua výhodne počas 1 až 10 minút.
V prípade, ak sa použije korónový výboj, potom sa výhodne bezprostredne po skončení korónového výboja nastrieka na výbojovú zónu roztok alebo tavenina fotoiniciátora. Korónový výboj sa môže tiež realizovať pod atmosférou ochranného plynu.
V prípade, ak je podklad predbežne spracovaný plazmovým alebo korónovým výbojom alebo ožiarením energeticky bohatým žiarením, potom je čas uplynulý od tohto predbežného spracovania až do okamihu ďalšieho spracovania závislý od času životnosti radikálov vytvorených na povrchu podkladu. Všeobecne platí, že je výhodné naniesť fotoiniciátor na predbežne spracovaný podklad pokial možno čo najrýchlejšie, lebo bezprostredne po uvedenom predbežnom spracovaní existuje na povrchu podkladu velký počet reaktívnych radikálov, ktoré sú nevyhnutné na očkovaciu reakciu. Pre mnohé ciele však môže byť tiež prijatelné uskutočniť procesný stupeň b) s určitým časovým odstupom. Výhodne sa však procesný stupeň b) uskutočňuje bezprostredne alebo do 10 sekúnd po procesnom stupni a).
Ďalším predmetom vynálezu je použitie fotoiniciátorov obsahujúcich jednu alebo viac etylenicky nenasýtených skupín na výrobu priľnavých povlakov na anorganickom alebo organickom pod• ···· • · · · j* ··· · klade, ktorého podstata spočíva v tom, že sa v prvom stupni
a) na anorganický alebo organický podklad pôsobí nizkoteplotným plazmovým výbojom, korónovým výbojom, energeticky bohatým UV-žiarením alebo elektrónovým žiarením, potom sa žiarenie alebo výboj preruší a v ďalšom stupni,
b) sa na anorganický alebo organický podklad nanesie za vákua alebo za normálneho tlaku jeden alebo niekoľko fotoiniciátorov obsahujúcich aspoň jednu etylenicky nenasýtenú skupinu a tento fotoiniciátor alebo fotoiniciátory sa nechajú reagovať s radikálovými miestami na povrchu podkladu a cl) podklad takto predbežne navrstvený fotoiniciátorom sa navrství kompozíciou obsahujúcou aspoň jeden etylenicky nenasýtený monomér alebo oligomér a získaný povlak sa vytvrdí UV/VIS žiarením alebo c2) sa na podklad takto predbežne navrstvený fotoiniciátorom vylúči z plynnej fázy v prítomnosti LJV-svetla kov alebo oxid polokovu alebo oxid kovu.
Predmetom vynálezu sú tiež priľnavé povlaky získané skôr opísaným spôsobom.
Také priľnavé povlaky majú význam ako ochranné vrstvy alebo náterové povlakové vrstvy, pričom tieto povlaky sa môžu dodatočne pigmentovať a môžu slúžiť tiež ako obrazové povlaky, ako je tomu napríklad v rámci technológie rezistov.
Vynález je bližšie objasnený v nasledujúcej časti opisu pomocou konkrétnych príkladov jeho uskutočnenia, pričom tieto príklady majú len ilustračný charakter a nijako neobmedzujú vlastný rozsah vynálezu, ktorý je jednoznačne vymedzený definíciou patentových nárokov a obsahom opisnej časti.
Príklady uskutočnenia vynálezu ·· ···· ·· • · · · · · • · ··· · · • · · · · · • · · · ·
Príklad 1 ···· ·· ···· • · • ··· ·· • · • · ·· ··· ·· ·
Spracovanie plazmou sa uskutočňuje v komerčne dostupnom reaktore s paralelnými doskami pri 40 kHz. Ako podklad sa použije 3 mm silný sériový umelohmotný stavebný diel s PP/EPDM, ktorého jedna polovica je tvrdo modifikovaná, zatiaľ čo druhá polovica je mákko modifikovaná. Jeden taký podklad sa vystaví počas 20 sekúnd pri tlaku 3.103 kPa pôsobeniu argónovej plazmy, zatiaľ čo druhý taký podklad sa vystaví za rovnakých podmienok pôsobeniu argón/02-plazmy (75/25), pričom uvedené podklady sú usporiadané v držiaku tak, že je plazme vystavená len jedna strana. Plazma sa preruší a tlak sa zníži na 2.105. V plazmovej komore sa potom vo vyhrievanom tégliku odparuje pri teplote 50 až 52°C počas 180 sekúnd fotoiniciátor nasledujúceho štruktúrneho vzorca
OH pričom sa dosiahne hrúbka vrstvy asi 30 nm. Meranie hrúbky vrstvy sa uskutočňuje pomocou komerčne dostupného oscilačného kryštálu .
Predbežne navrstvený podklad sa potom ponorí do žiarením vytvrditeľnej epoxyakrylátovej kompozície tvorenej 89% produktu Ebecryl 604 (UCB), 10% produktu SR 344 (Sartomer), 1% produktu Ebecryl 350 (UCB) a 2% produktu Darocur 1173 (Ciba Spezialitátenchemie).
Ponorením navrstvenej vzorky sa potom postupne po obidvoch stranách vytvrdí v procesore spoločnosti AETEK pomocou dvoch 80 W/cm3 ortuťových strednotlakových výbojok pri rýchlosti transportného pása 3 m/min..
Priľnavosť vrstvy sa určí pomocou mriežkového strihu a odtrhnutia s použitím adhéznej pásky.
• · ·· ···· • · · • · ··· • · · · • · · ·· ·· ·· ·
Pri obidvoch vzorkách došlo na spodnej strane, kde nebola vyhotovená vrstva fotoiniciátora, k úplnému oddeleniu vrstvy laku od podkladu.
Na strane, ktorá sa predbežne spracovala fotoiniciátorom, došlo k oddeleniu len minimálnych triesok na krížových rezoch, pričom adhézia na mäkké aj tvrdé časti podkladu bola rovnako dobrá. Vzorka, ktorá sa vystavila pôsobeniu argón/02-plazmy, vykazuje mierne lepšie adhézne výsledky.
Po 10 dennom osvetlení slnečným svetlom si nanesená vrstva zachovala znamenité adhézne hodnoty.
Príklad 2
Ako podklad sa použije 1 mm silná teflónová fólia. Podmienky pôsobenia plazmy a fotoiniciátor sú rovnaké ako v príklade 1. Laková kompozícia z príkladu 1 sa nanesie pomocou natieracieho noža v hrúbke vrstvy 30 mikrometrov.
Pri obidvoch vzorkách došlo na spodnej strane, ktorá sa predbežne nenavrstvila fotoiniciátorom, k úplnému oddeleniu povlaku od podkladu.
Na strane, ktorá sa predbežne spracovala fotoiniciátorom, došlo k oddeleniu len minimálnych triesok na krížových rezoch, pričom adhézia povlaku je znamenitá. Vzorka, ktorá sa vystavila pôsobeniu argón/02-plazmy, vykazuje mierne lepšie adhézne výsledky.
Príklad 3
Nanesenie vrstvy medi na PTFE
Ako podklad sa použila 5 mm silná teflónová fólia. Podmienky pôsobenia plazmy a fotoiniciátor sú rovnaké ako v príklade 1.
Po nanesení vrstvy fotoiniciátora sa na podklad vylúči v tom istom reaktore vrstva Cu postupom anódového oblúka (postup VALICO) pri tlaku 2.10-5 kPa. Teplota v odparovacom tégliku pred-
• · ·· ···· • · · • · ··· ·· ··· • · ·· · stavuje 1500 až 1600°C. V priebehu jednej minúty sa pritom vylúči na podklade vrstva medi ktorá má hrúbku 1 mikrometer.
Túto vrstvu medi nie je možné od podkladu oddeliť pri odtŕhacom teste s použitím adhéznej pásky.
Príklad 4
Predbežné spracovanie s použitím vákua a (JV-svetla
Vo vákuovej komore sa rôzne polymérne fólie ožiaria krátkovlnným UV-svetlom s vlnovou dĺžkou 172 nm počas 2 minút. Na ožiarenie sa použije excimerová lampa (Excivac od spoločnosti Heraues Nobellight, Kleinostheim), pričom tlak vo vákuovej komore predstavuje 3.103 kPa. Pri ožiarení excimerovým žiarením je jedna polovica fólie na obidvoch stranách pokrytá hliníkovou fóliou, takže na zakrytých častiach nedochádza k tvorbe radikálov. Po skončení osvetlenia sa tlak zníži na hodnotu 8.105 a v zohrievateľnom tégliku sa odparuje fotoiniciátor z príkladu 1 pri teplote až 120°C počas 2 minút.
Na takto navrstvené podklady sa potom štetcom nanesie žiarením vytvrditelná formulácia z príkladu 1. Vzorky sa potom vytvrdia v procesore spoločnosti AETEK pomocou dvoch 80 W/cm2 strednotlakových ortuťových výbojok pri rýchlosti transportného pása 10 m/minútu. Priľnavosť vrstvy na podklade sa určí pomocou mriežkového strihu.
V prípade použitia polypropylénovej fólie ako substrátu sa na ožiarenom a odparenom fotoiniciátore vystavenom povrchu dosiahne mierne zvýšená priľnavosť lakového filmu k podkladu, zatiaľ čo na neosvetlenom a odparenom fotoiniciátore nevystavenom povrchu podkladu sa nedosiahne žiadna adhézia. Žiadna adhézia sa taktiež nedosiahne na povrchu fólie, ktorý sa len ožiaril.
V prípade použitia polyesterovej fólie (Mylar, DuPont,
100 mikrometrov) ako podkladu sa na ožiarenom a odparenom ini···· ·· ···· ·· • · · · · · • ···· · · • · · · ·· ··· ·· · ciátore vystavenom povrchu podkladu dosiahne velmi dobrá priľnavosť lakového filmu (vrstva filmu sa už nedá oddeliť), zatiaľ čo na neožiarenom a iniciátorom neošetrenom povrchu podkladu je možné lakovú vrstvu ľahko oddeliť od podkladu. Tiež pri len ožiarených fóliách sa dosiahne len nepodstatné zvýšenie priľnavosti lakovej vrstvy k podkladu.

Claims (21)

1. Spôsob výroby priľnavých povrchových povlakov na anorganickom alebo organickom podklade, vyznačujúci sa tým, že sa v prvom stupni
a) na anorganický alebo organický podklad pôsobí nízkoteplotným plazmovým výbojom, korónovým výbojom, energeticky bohatým UV-žiarením alebo elektrónovým žiarením, potom sa žiarenie alebo výboj preruší a v ďalšom stupni,
b) sa na anorganický alebo organický podklad nanesie za vákua alebo za normálneho tlaku jeden alebo niekoľko fotoiniciátorov obsahujúcich aspoň jednu etylenicky nenasýtenú skupinu a tento fotoiniciátor alebo fotoiniciátory sa nechajú reagovať s radikálovými miestami na povrchu podkladu a cl) podklad takto predbežne navrstvený fotoiniciátorom sa navrství kompozíciou obsahujúcou aspoň jeden etylenicky nenasýtený monomér alebo oligomér a získaný povlak sa vytvrdí UV/VIS žiarením alebo c2) sa na podklad takto predbežne navrstvený fotoiniciátorom vylúči z plynnej fázy v prítomnosti UV-svetla kov alebo oxid polokovu alebo oxid kovu.
2. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že anorganický alebo organický podklad je vo forme prášku, vlákna, fólie alebo trojrozmerného dielu.
3. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že anorganickým alebo organickým podkladom je termoplastický, elastomérny, štruktúrne zosietený alebo zosietený polymér, oxid kovu, sklo alebo kov.
4. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že fotoiniciátorom je zlúčenina všeobecného vzorca I alebo la • ···· ·· · • · • · • · ·· ···· • · · • · ··· • · · ·· ··· ·· • · · • · • · ·· · (RG)-A-(IN) (I) (IN)-A-(RG')-A-(IN) (la) v ktorých (IN) znamená základnú štruktúru fotoiniciátora,
A znamená dištančnú skupinu alebo jednoduchú väzbu, (RG) znamená aspoň jednu funkčnú etylenicky nenasýtenú skupinu, a (RG') znamená dvojvalenčný zvyšok, ktorý obsahuje aspoň jednu funkčnú etylenicky nenasýtenú skupinu.
5. Spôsob podlá nároku 4, vyznačujúci sa tým, že v zlúčeninách všeobecného vzorca I alebo la (IN) znamená základnú štruktúru fotoiniciátora všeobecného vzorca II alebo III —R(II) (III) (A) alebo skupinu III, R2 znamená atóm vodíka, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 12
-CR6R7R8 (B) ···· ·· ···· I • · · · • · ··· · • · · · · · • · · · ·· ··· · uhlíkových atómov, atóm halogénu, skupinu (RG)-A- alebo v prípade, ak R1 znamená skupinu A, potom dva zvyšky R2 nachádzajúce sa vzhladom na karbonylovú skupinu v orto polohe môžu spolu znamenať -S- alebo í
R3 a R4 nezávisle od seba znamenajú alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov, alkanoylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov, fenylovú skupinu alebo benzoylovú skupinu, pričom fenylový alebo benzoylový zvyšok je prípadne substituovaný halogénom, alkylovou skupinou obsahujúcou 1 až 6 uhlíkových atómov, alkyltioskupinou obsahujúcou 1 až 6 uhlíkových atómov alebo alkoxyskupinou obsahujúcou 1 až 6 uhlíkových atómov,
R5 znamená atóm vodíka, atóm halogénu, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov alebo alkoxyskupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov alebo skupinu (RG)-ARe znamená OR9, N(R9)2
-l·/ NH —i/ I \__/ W \y alebo SO2R9,
R7 a R8 nezávisle od seba znamenajú atóm vodíka, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov, alkenylovú skupinu obsahujúcu 2 až 12 uhlíkových atómov, alkoxyskupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov, fenylovú skupinu, benzylovú skupinu alebo spolu tvoria alkylénovú skupinu obsahujúcu 2 až 6 uhlíkových atómov,
R9 znamená atóm vodíka, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov alebo alkanoylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov, znamená atóm vodíka, alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 12 uhlíkových atómov alebo fenylovú skupinu a ,10 ···· • · ·· ···« • · • ··· ··
X1 znamená atóm kyslíka alebo atóm síry.
• · · • · · ·· ··· • · ··
6. Spôsob podľa nároku 4, vyznačujúci v zlúčeninách všeobecného vzorca I alebo la sa t ý m, že (IN) znamená skupinu
7. Spôsob podľa nároku 4, vyznačujúci sa tým, že v zlúčeninách všeobecného vzorca I alebo la
A znamená dištančnú skupinu -Z [ (AJ a-Y] c-[ (A2) b-X] d/
X, Y a Z nezávisle od seba znamenajú jednoduchú väzbu, -0-, -S-, -N (R10)-, -(CO)-, -(CO)O-, - (CO) N (R10)-, -0-(CO)-,
-N (R10)-(CO)- alebo -N (R10) - (CO) 0-,
A1 a A2 nezávisle od seba znamenajú alkylénovú skupinu obsahujúcu 1 až 4 uhlíkové atómy, cykloalkylénovú skupinu obsahujúcu 3 až 12 uhlíkových atómov, fenylénovú skupinu, fenylénalkylénovú skupinu, v ktorej alkylénový zvyšok obsahuje 1 až 4 uhlíkové atómy alebo alkylénfenylénalkylénovú skupinu, v ktorej každý alkylénový zvyšok obsahuje 1 až 4 uhlíkové ···· e· ··· • · · • · ··· · • · · · • · · ·· ··· ·· · atómy, a,b,c,d nezávisle od seba znamenajú čísla 0 až 4 a
R10 má skôr uvedený význam.
8. Spôsob podlá nároku 7, vyznačujúci sa tým, že v zlúčeninách všeobecného vzorca I alebo la
A znamená dištančnú skupinu -Z [ (CH2) a -Y] c- [ (CH2) b-X] d“ v ktorej X,Y,Z,a,b,c,d majú skôr uvedené významy.
9. Spôsob podlá nároku 4, vyznačujúci sa tým, že v zlúčeninách všeobecného vzorca I alebo la (RG) znamená RcRbC=CRa-, (RG') znamená
Ra,Rb,Rc znamenajú atóm vodíka alebo alkylovú skupinu obsahujúcu 1 až 6 uhlíkových atómov, najmä atóm vodíka alebo metylovú skupinu.
10. Spôsob podlá nároku 1, vyznačujúci sa tým, že aspoň jedným z etylenicky nenasýtených monomérov alebo oligomérov kompozície je mono-, di-, tri- alebo tetrafunkčný akrylát alebo metakrylát.
11. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že kompozícia obsahujúca aspoň jeden etylenicky nenasýtený monomér alebo oligomér obsahuje aspoň jeden ďalší fotoiniciátor alebo koiniciátor na vytvrdenie UV/VIS-žiarením.
12. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že procesný tlak sa pohybuje od 10-7 kPa do atmosférického tlaku.
• ·· • B··· • • • B • B e B BBBB • III • · • · · • · • ··· • • • B • · • ··· • B ·· ·
13. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že ako plazmový plyn sa použije inertný plyn alebo zmes inertného plynu s reaktívnym plynom.
14. Spôsob podľa nároku 13, vyznačujúci sa tým, že sa použijú N2, He, Ar, Kr, Xe, 02 alebo H20 jednotlivo alebo ako zmes.
15. Spôsob podlá nároku 1, vyznačujúci sa tým, že teplota, pri ktorej sa odparuje fotoiniciátor, sa pohybuje v rozsahu 20 a 250°C.
16. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že vylúčená vrstva fotoiniciátora alebo kovu má hrúbku pohybujúcu sa od hrúbky monomolekulárnej vrstvy do hrúbky 100 nm.
17. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že spracovanie plazmou v stupni a) sa uskutočňuje počas 1 až 300 sekúnd.
18. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že vylučovanie fotoiniciátora sa uskutočňuje v stupni b) počas 1 sekundy až 10 minút.
19. Spôsob podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že sa procesný stupeň b) uskutočňuje bezprostredne alebo do 10 sekúnd po procesnom stupni a).
20. Použitie fotoiniciátora obsahujúceho jednu alebo viac etylenicky nenasýtených skupín na výrobu priľnavých povlakov na anorganickom alebo organickom podklade, vyznačuj ú c e sa t ý m, že sa v prvom stupni
a) na anorganický alebo organický podklad pôsobí nízkoteplotným ···· • · ·· ···· • · · · · · • ···· · · • · · · · · • · · · · ·· ··· ·· · so : :
··· · plazmovým výbojom, korónovým výbojom, energeticky bohatým UV-žiarením alebo elektrónovým žiarením, potom sa žiarenie alebo výboj preruší a v ďalšom stupni,
b) sa na organický alebo anorganický podklad nanesie za vákua alebo za normálneho tlaku jeden alebo niekoľko iniciátorov » obsahujúcich aspoň jednu etylenicky nenasýtenú skupinu a tento fotoiniciátor alebo fotoiniciátory sa nechajú reagovať s radi* kalovými miestami na povrchu podkladu a cl) podklad takto predbežne navrstvený fotoiniciátorom sa navrství kompozíciou obsahujúcou aspoň jeden etylenicky nenasýtený monomér alebo oligomér a získaný povlak sa vytvrdí UV/VIS-žiarením, alebo c2) sa na podklad takto predbežne navrstvený fotoiniciátorom vylúči z plynnej fázy v prítomnosti UV-žiarenia kov alebo oxid polokovu alebo oxid kovu.
21. Priľnavé povlaky vyrobené spôsobom podľa nároku 1.
SK564-2001A 1998-10-28 1999-10-20 Method for producing adhesive surface coatings SK5642001A3 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH217898 1998-10-28
CH247398 1998-12-14
PCT/EP1999/007942 WO2000024527A1 (de) 1998-10-28 1999-10-20 Verfahren zur herstellung haftfester oberflächenbeschichtungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SK5642001A3 true SK5642001A3 (en) 2001-09-11

Family

ID=25689729

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SK564-2001A SK5642001A3 (en) 1998-10-28 1999-10-20 Method for producing adhesive surface coatings

Country Status (15)

Country Link
US (1) US6548121B1 (sk)
EP (1) EP1135219B1 (sk)
JP (1) JP4755758B2 (sk)
KR (1) KR100602905B1 (sk)
CN (1) CN1146476C (sk)
AT (1) ATE258467T1 (sk)
AU (1) AU756047B2 (sk)
BR (1) BR9914847A (sk)
CA (1) CA2348378A1 (sk)
CZ (1) CZ20011444A3 (sk)
DE (1) DE59908436D1 (sk)
DK (1) DK1135219T3 (sk)
ES (1) ES2213394T3 (sk)
SK (1) SK5642001A3 (sk)
WO (1) WO2000024527A1 (sk)

Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2001242365A1 (en) * 2000-02-08 2001-08-20 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Process for the production of strongly adherent surface-coatings by plasma-activated grafting
DE10148634B4 (de) * 2001-10-02 2007-03-15 Trw Automotive Safety Systems Gmbh & Co. Kg Gassack für ein Rückhaltesystem in Fahrzeugen
EP1476497A1 (en) * 2002-01-23 2004-11-17 Glasshield Patent Holding Company, Ltd. Method and apparatus for applying material to glass
JP3866579B2 (ja) * 2002-01-25 2007-01-10 富士フイルムホールディングス株式会社 薄層金属膜
ATE314156T1 (de) 2002-01-29 2006-01-15 Ciba Sc Holding Ag Verfahren zur herstellung von stark haftenden beschichtungen
MXPA04009790A (es) * 2002-04-19 2004-12-13 Ciba Sc Holding Ag Curado de recubrimientos inducido por plasma.
US7157535B2 (en) * 2002-06-19 2007-01-02 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Polymeric photoinitiators
WO2004035667A2 (de) * 2002-10-09 2004-04-29 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Verfahren zur ausbildung von uv-absorberschichten auf substraten
DE10248085A1 (de) * 2002-10-15 2004-05-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Plasmapolymere Haftschichten
WO2004056910A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-08 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Verfahren zur ausbildung von reaktiven beschichtungen
EP1842601B1 (de) * 2002-12-20 2009-07-22 Ciba Holding Inc. Verfahren zur Ausbildung von Funktionsschichten
FR2851181B1 (fr) 2003-02-17 2006-05-26 Commissariat Energie Atomique Procede de revetement d'une surface
CN100557074C (zh) * 2003-04-25 2009-11-04 亚利桑那西格玛实验室公司 真空沉积功能化的多孔材料
CN1791473A (zh) * 2003-05-23 2006-06-21 西巴特殊化学品控股有限公司 强粘合性表面涂料
JP2007501110A (ja) 2003-08-04 2007-01-25 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 強く付着しているコーティングの製造方法
EP1658391A2 (en) * 2003-08-04 2006-05-24 Ciba SC Holding AG Process for the production of strongly adherent coatings
US7032492B2 (en) * 2003-09-11 2006-04-25 Milton S. Meshirer Ammunition articles comprising light-curable moisture-preventative sealant and method of manufacturing same
MXPA06006916A (es) * 2003-12-16 2006-12-19 Sun Chemical Corp Metodo para formar una cubierta curable por radiacion y articulo cubierto.
DE102004002129A1 (de) * 2004-01-15 2005-08-11 Arccure Technologies Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Härtung von radikalisch polymerisierbaren Beschichtungen von Oberflächen
EP1640388B1 (en) * 2004-09-24 2015-02-25 Rohm and Haas Company Biomass based Michael addition composition
JP5421533B2 (ja) * 2004-12-22 2014-02-19 チバ ホールディング インコーポレーテッド 強接着性コーティングの製造方法
JP2006335818A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 撥油及び撥水性材料の形成方法、それにより得られた撥油及び撥水性材料
US20070036909A1 (en) * 2005-08-09 2007-02-15 Shifang Luo Processes for producing oriented polymeric films provided with UV-active coatings
EP1913103B1 (en) * 2005-08-12 2009-01-14 Ciba Holding Inc. Strongly adherent coatings
JPWO2007111098A1 (ja) 2006-03-24 2009-08-06 コニカミノルタエムジー株式会社 透明バリア性シート及びその製造方法
EP2000297A1 (en) 2006-03-24 2008-12-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
JPWO2007111092A1 (ja) 2006-03-24 2009-08-06 コニカミノルタエムジー株式会社 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法
JP5168885B2 (ja) * 2006-11-15 2013-03-27 住友化学株式会社 フィルムの製造方法およびフィルム
US8057852B2 (en) * 2006-11-23 2011-11-15 National Research Council Of Canada Microdevice for a fluorescence-based assay, and a method for making the microdevice
US20100178512A1 (en) * 2006-12-06 2010-07-15 Ciba Corporation Changing surface properties by functionalized nanoparticles
WO2009103651A2 (en) 2008-02-21 2009-08-27 Basf Se Preparation of cationic nanoparticles and personal care compositions comprising said nanoparticles
US8178120B2 (en) * 2008-06-20 2012-05-15 Baxter International Inc. Methods for processing substrates having an antimicrobial coating
US8753561B2 (en) * 2008-06-20 2014-06-17 Baxter International Inc. Methods for processing substrates comprising metallic nanoparticles
US8277826B2 (en) * 2008-06-25 2012-10-02 Baxter International Inc. Methods for making antimicrobial resins
US20090324738A1 (en) * 2008-06-30 2009-12-31 Baxter International Inc. Methods for making antimicrobial coatings
EP2344577B1 (en) * 2008-10-07 2014-02-26 Basf Se Printable gas barriers
US20100227052A1 (en) * 2009-03-09 2010-09-09 Baxter International Inc. Methods for processing substrates having an antimicrobial coating
FR2944982B1 (fr) * 2009-04-30 2011-10-14 Commissariat Energie Atomique Procede de preparation d'un substrat metallise,ledit substrat et ses utilisations
SG186778A1 (en) 2010-06-22 2013-02-28 Coloplast As Hydrophilic gels derived from grafted photoinitiators
US9464143B2 (en) * 2010-06-22 2016-10-11 Coloplast A/S Grafted photoinitiators
CN103732392B (zh) * 2011-07-28 2015-11-25 凸版印刷株式会社 层叠体、阻气膜以及它们的制造方法
GB201114798D0 (en) 2011-08-26 2011-10-12 Univ St Andrews Method of modifying surfaces
CN102505066A (zh) * 2011-12-26 2012-06-20 上海工程技术大学 一种提高氮化钛镀层与钢基体结合力的方法
US9137912B1 (en) 2013-02-05 2015-09-15 Htc Corporation Casing of electronic device and method of manufacturing the same
CN103438796A (zh) * 2013-08-26 2013-12-11 安徽江淮汽车股份有限公司 一种测定涂膜厚度的方法及其应用
CN104179011B (zh) * 2014-07-18 2016-08-24 青岛纺联控股集团有限公司 纺织品纳米等离子防水处理方法
CN104226572B (zh) * 2014-10-15 2016-08-24 海南赛诺实业有限公司 自粘性聚乙烯醇涂料的无底胶涂布方法及实施该方法的涂布系统
DE102015101527A1 (de) 2015-02-03 2016-08-04 Doduco Gmbh Aluminium-Kupferverbundhalbzeug für die Elektrotechnik und Verfahren zu seiner Herstellung
US10441349B2 (en) 2015-10-29 2019-10-15 Covidien Lp Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same
US10368939B2 (en) 2015-10-29 2019-08-06 Covidien Lp Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same
RU2657899C1 (ru) * 2017-02-07 2018-06-18 Закрытое акционерное общество "Руднев-Шиляев" Способ обработки полиимидной пленки в факеле неравновесной гетерогенной низкотемпературной свч- плазмы при атмосферном давлении
US10709497B2 (en) 2017-09-22 2020-07-14 Covidien Lp Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating
US11432869B2 (en) 2017-09-22 2022-09-06 Covidien Lp Method for coating electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating
EP3784497A1 (en) 2018-04-25 2021-03-03 Basf Se Process for the production of strongly adherent liquid crystal films on flexible substrates
CN111936317A (zh) 2018-04-25 2020-11-13 巴斯夫欧洲公司 在柔性基材上制备强粘附性(压花)膜的方法
US11207124B2 (en) 2019-07-08 2021-12-28 Covidien Lp Electrosurgical system for use with non-stick coated electrodes
US11369427B2 (en) 2019-12-17 2022-06-28 Covidien Lp System and method of manufacturing non-stick coated electrodes
PE20230331A1 (es) * 2020-04-13 2023-03-01 Brasilata S/A Embalagens Metalicas Metodo de tratamiento de superficies de laminas metalicas con barniz protector de curado uv

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2969926B2 (ja) * 1990-11-20 1999-11-02 住友化学工業株式会社 ポリプロピレン系樹脂成形品の塗装方法
EP0575798B1 (en) * 1992-06-19 1997-11-05 Fuji Polymertech Co., Ltd Process for producing a finger-touch key for a manipulation switch
TW353086B (en) * 1994-12-30 1999-02-21 Novartis Ag Method for multistep coating of a surface
JP3557023B2 (ja) * 1995-01-11 2004-08-25 積水化学工業株式会社 基材密着性の良好な表面層を有する物品および該物品の製造方法
JPH09176349A (ja) * 1995-12-26 1997-07-08 Sekisui Chem Co Ltd 基材の表面処理方法
JPH10101827A (ja) * 1996-09-27 1998-04-21 Sekisui Chem Co Ltd 基材の表面処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
CA2348378A1 (en) 2000-05-04
JP4755758B2 (ja) 2011-08-24
DE59908436D1 (de) 2004-03-04
CN1146476C (zh) 2004-04-21
EP1135219A1 (de) 2001-09-26
EP1135219B1 (de) 2004-01-28
AU1041000A (en) 2000-05-15
CN1325327A (zh) 2001-12-05
KR100602905B1 (ko) 2006-07-24
KR20010080920A (ko) 2001-08-25
AU756047B2 (en) 2003-01-02
DK1135219T3 (da) 2004-05-10
ATE258467T1 (de) 2004-02-15
WO2000024527A1 (de) 2000-05-04
ES2213394T3 (es) 2004-08-16
BR9914847A (pt) 2001-07-10
CZ20011444A3 (cs) 2001-09-12
US6548121B1 (en) 2003-04-15
JP2002528568A (ja) 2002-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SK5642001A3 (en) Method for producing adhesive surface coatings
EP1472009B1 (en) Process for the production of strongly adherent coatings
EP1255616B1 (en) Process for the production of strongly adherent surface-coatings by plasma-or coronaactivated grafting
AU2003239287A1 (en) Process for the production of strongly adherent coatings
JP5008978B2 (ja) 強力接着性表面被覆
KR101100068B1 (ko) 강한 접착성 피막의 제조방법
EP1658391A2 (en) Process for the production of strongly adherent coatings
MXPA01004213A (en) Method for producing adhesive surface coatings
EP1498189A1 (en) Anti-fog coatings on thermoplastic substrates