CN1325327A - 制作粘着性表面覆层的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种在无机基体或有机基体上制作粘着性表面覆层的方法,其特征在于,以下步骤:a)令低温等离子放电、电晕放电、高能量紫外线辐照或者电子束照射对无机基体或有机基体起作用,接着停止照射或放电;在另一步骤中,b)在真空下或者在常压下,将一种或多种含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂涂布在无机或有机基体上,并令其与涂层中产生的游离基位置(Radikalstellen)进行反应;并且c1)如此预先涂布了光引发剂的基体上涂布以含有至少一种烯不饱和单体或低聚物的组合物,并用UV/VIS照射,使覆层固化;或者c2)在紫外光存在下,于如上所述那样预先涂布了光引发剂的基体上由气相沉积金属、半金属或金属氧化物。本发明的另一个主题是含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂在制作所述那种涂层方面的应用,以及涂层本身。

Description

制作粘着性表面覆层的方法
本发明涉及一种在无机基体或有机基体上制作粘着良好的表面覆层的方法。本发明的另一个主题是含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂在制作所述那种涂层方面的应用，以及粘着性良好的涂层本身。
无机或有机基体，尤其非极性基体如聚乙烯、聚丙烯或含氟聚烯烃如以商品名Teflon为世人所知者，其表面上漆膜层、覆层或金属镀层的结合力经常不尽人意，从而为达到满意的结果而不得不采取附加的覆层措施。有一种可行的办法是，首先涂覆专用底漆，也即所谓的打底涂料(Primer)，再在此底漆层上涂敷所需涂层。
另一种可行的办法是，对待涂覆的基体进行等离子体处理或电晕处理，而后再行涂覆，而且在此之间还可插入一步例如用丙烯酸酯单体进行的接枝工序(《聚合物科学杂志》A卷：聚合物化学，31.第1307-1314页(1993年))。
产生以低温等离子，以及等离子辅助沉积有机薄膜层或无机薄膜层，长久以来已为世人所知，并为A.T.Bell所著“等离子化学基础”(载于J.R.Holahan及A.T.Bell、Wiley等编纂的《等离子化学技术与应用》，纽约(1974年))或H.Suhr所著《等离子化学等离子方法》3(1),1,(1983年)作了记叙。
还为世人所知的是，举例来说，能够对塑料表面进行等离子处理，借此随后进行涂漆，漆层对塑料基体的结合力就会得以改善。H.J.Jacobasch等人在Farbe+Lack 99(7),602-607(1993年)中，就真空条件下的低温等离子记叙了这一事实，J.Friedrich等人在《表面涂装技术》59,371-6(1993年)中，就真空至常压条件下的等离子(其中低温等离子向电晕放电过渡)也描述了这一事实。
业已发现，用光固化漆借助下述方法可获得结合力良好的涂层，所用方法是，在待涂覆的基体上，接枝一种至少含有一个烯不饱和基团的光引发剂，将如此接枝后的基体涂以光固化漆层并使之固化。所得涂层的结合力出奇优良，即使将其持续数日贮藏或者在阳光下暴晒也不会发生值得一提的品质下降。
该方法简单易行，而且可使单位时间内生产能力提高，这是因为，在整个过程中不需要费时的干燥步骤或漫长的交联反应。该方法能特别可靠地适用于那些由不同塑料和/或各种金属或玻璃一起构成的工件，因而无需进行预处理就能在不同零部件上被赋予不同的粘着性，或者在进行常规底漆处理时对打底剂表现出不同亲和力。
本发明的一个主题是一种在无机基体或者有机基体表面上制作强粘接力涂层用的方法，其特征在于，在第一步骤中
a)令低温等离子放电、电晕放电、高能量紫外线辐照或者电子束照射对无机基体或有机基体表面起作用，接着停止照射或放电；在另一步骤中，
b)在真空下或者在常压下，将一种或多种含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂涂布在无机或有机基体上，并令其与涂层中产生的自由基位置(Radikalstellen)进行反应；以及
c1)如此预先涂布了光引发剂的基体上涂布以含有至少一种烯不饱和单体或低聚物的组合物，并用UV/VlS照射，使覆层固化；或者
c2)在紫外光存在下，于如上所述那样预先涂布了光引发剂的基体上由气相沉积一层金属、半金属或金属氧化物。
真空条件下得到等离子体的可能性，文献中屡有记叙。此时，电能可用电感或电容途径来耦合。直流电或交流电都会涉及到，同时交流电的频率可在数个kHz至MHz范围内变化。同样可以在微波范围(GHz)内供电。
等离子体产生和维持的原理，在例如上面提及的A.T.Bell和H.Suhr所著概述性论文中已作了描述。
基本的等离子气体，例如可以使用氦、氩、氙、氮、氧、水蒸汽或空气。
该本发明方法本身对电能耦合并不敏感。
此方法可间歇操作，例如在转鼓中进行，或者在薄膜、纤维或织物的情况下进行连续操作。此方法已为世人所知，并在现有技术中已予记载。
此方法也可在电晕放电条件下进行。电晕放电在常压条件下发生，这里最常用作离子化气体的是空气。然而，原则上也可以是其他气体，这里然后应当在封闭系统中操作，以便隔绝大气中的空气。另一种可能性是，电晕放电时用空气作离子化气体，从而操作在外敞式设备中进行，并可譬如将一片薄膜在放电电极之间连续通过。这样的工艺编排已为世人所知，并且举例来说，《粘接科学技术杂志》第7卷第10期第1105页(1993年)中已经作了记叙。如果在开敞式设备中使用电晕放电，则优选在排除氧的条件下进行操作，而这可以借助足够大量的惰性气体流来实现。
该方法也可这样进行：在真空中，或在排除氧的条件下，应用高能量电磁辐射来处理基体。作高能电磁辐射用，可考虑那些能够在表面上产生自由基的电磁辐射。例子有短波长紫外线照射或伦琴射线辐照。关于这一点，尤其要提到的是电子束辐照，如其已用来固化清漆和油漆以及粘合薄膜那样。然而，短波段紫外线照射(尤其是真空紫外线照射)，如其由商业上通用的紫外灯或激态原子灯(ExcimerLampen)产生的那种也可以使用。在此情况下，优选涉及波长小于300nm的紫外线，特别优选涉及波长小于260nm的紫外线。
除了常规的灯之外，也可以使用在相应波段工作的激光来进行大面积照射，用来逐点的曝光或者表面的描摹“说明”(abbildenden“Beschreibung”)。使用掩膜或刻写激光时，也可以仅只有选择地对一定部位加载光引发剂，这正是导致不同润湿和在后续涂覆中生产不同的结合力的原因。
根据图形情况，经光引发剂接枝过的基体也可借助于透过掩膜进行的曝光或者在用活动于基体表面上方的激光进行照射的条件下予以曝光，以此使表面得以重新改性，然而仅在曝光的范围内改性。因此，举例来说，可以制得经过不同疏水/亲水化和/或不同金属化处理的模型。如果根据图案情况所进行的照射，是在辐射固化性复配物存在下进行的，则例如结合力和/或粘着性和/或颜色和/或其他不同的图案可以借助于所述复配物来产生由条件决定的特性。
待处理的无机基体或有机基体，可以任意的固体形式存在。所述基体优选以粉末、纤维、薄膜或者以三维工件形式存在。
无机基体或有机基体优选是一种热塑性聚合物、弹性聚合物、结构交联聚合物或交联聚合物、金属氧化物、玻璃或者金属。
热塑型聚合物、弹性聚合物、结构交联聚合物或交联聚合物的例子摘引如下。
1．单烯和二烯的聚合物如聚丙烯、聚异丁烯、聚丁烯-1、聚-4-甲基戊烯-1、聚异戊二烯或者聚丁二烯以及环烯聚合物如环戊烯或降冰片烯的聚合产物；此外，还有聚乙烯(如果需要是交联的)如高密度聚乙烯(HDPE)、高密度和高分子量聚乙烯(HDPE-HMW)、高密度超高分子量聚乙烯(HDPE-UHMW)、中密度聚乙烯(MDPE)、低密度聚乙烯(LDPE)、线形低密度聚乙烯(LLDPE)、(VLDPE)和(ULDPE)。
聚烯烃也即单烯类的聚合物，正如前一段举例性提及的那样，尤其是聚乙烯和聚丙烯，可按不同方法来制造，尤其按照下列方法来制造：
a)自由基的(通常在高温高压下)。
b)借助催化剂，其中所述催化剂通常含有lⅤb、Ⅴb、Ⅴlb或Ⅷ各族的一种或多种金属。这些金属通常有一种或多种配位体如氧化物、卤化物、醇化物、酯、醚、胺类、烷基、烷烯基和/或芳基，这些配位体可或在p-位或a-位上配位。这些金属配位化合物可以不固定，或者固着在载体上，例如固着在活性氯化镁、氯化钛(Ⅲ)、氧化铝或者氧化硅上。这些催化剂可溶于聚合介质，也可不溶于聚合介质。所述的各种催化剂本身在聚合反应中可以具有反应活性，或者可以进一步用作活化剂，例如甲基烷基、金属氢化物、金属烷基卤化物、金属烷基氧化物或者金属烷基环氧乙烷(Metallalkyloxane)、其中所述的金属元素是第Ⅰa、Ⅱa和/或Ⅲa族的金属元素。举例来说，所述的活化剂可用其他酯基、醚基、胺基或者甲硅烷基醚基来进行改性。这些催化剂体系予以通常被称作飞利浦催化剂、印第安纳州标准油业催化剂、齐格勒(-纳塔)催化剂、TNZ(杜邦)催化剂、金属茂催化剂或者单位点催化剂(SSC,Single Site Katalysatoren)。
2．1)项中所提及聚合物的混合物，例如聚丙烯与聚异丁烯的混合物、聚丙烯与聚乙烯的混合物(例如PP/HDPE、PP/LDPE)和不同聚乙烯类的混合物(例如LDPE/HDPE)。
3．单烯烃和二烯烃互相聚合生成的共聚物或者与其他乙烯基单体聚合生成的共聚物，例如乙烯-丙烯共聚物、线形低密度聚乙烯(LLDPE)及其与低密度聚乙烯(LDPE)的混合物、丙烯-丁烯-1-共聚物、丙烯-异丁烯共聚物、乙烯-丁烯-1-共聚物、乙烯-己烯共聚物、乙烯-甲基戊烯共聚物、乙烯-庚烯共聚物、乙烯-辛烯共聚物、丙烯-丁二烯共聚物、异丁烯-异戊二烯共聚物、乙烯-丙烯酸烷基酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸烷基酯共聚物、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物及其与一氧化碳的共聚物，或者乙烯-丙烯酸共聚物及其盐(离聚物)，以及乙烯与丙烯和一种二烯如己二烯、二聚环戊二烯或亚乙基降冰片烯的三元共聚物；此外，还有上述这些共聚物相互之间形成的混合物和它们与第1)项下所提及聚合物形成的混合物，例如聚丙烯/乙烯-丙烯共聚物、LDPE/乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、LDPE/乙烯-丙烯酸共聚物、LLDPE/乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、LLDPE/乙烯-丙烯酸共聚物和交替结构或者统计结构的聚亚烷基类/一氧化碳共聚物及其与另外聚合物如聚酰胺的混合物。
4．烃类树脂(例如C5-C9)，包括其氢化变体(例如增粘剂树脂)，以及聚亚烷基类和淀粉的混合物。
5．聚苯乙烯、聚对甲基苯乙烯、聚α-甲基苯乙烯。
6．苯乙烯或α-甲基苯乙烯与二烯或丙烯酸衍生物的共聚物，例如苯乙烯-丁二烯、苯乙烯-丙烯腈、苯乙烯-甲基丙烯酸烷基酯、苯乙烯-丁二烯-丙烯酸烷基酯及苯乙烯-丁二烯-甲基丙烯酸酯、苯乙烯-马来酸酐，苯乙烯-丙烯腈-丙烯酸甲酯、苯乙烯共聚物与另一种聚合物形成的高弹性混合物，例如聚丙烯酸酯、二烯类聚合物，或者乙烯-丙烯-二烯的三元共聚物；以及苯乙烯的嵌段共聚物，例如苯乙烯-丁二烯-苯乙烯、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯、苯乙烯-乙烯/丁烯苯乙烯或者苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯等的嵌段共聚物。
7．苯乙烯或者α-甲基苯乙烯的接枝共聚物，例如苯乙烯接在聚丁二烯上、苯乙烯接在聚丁二烯-苯乙烯-或者聚丁二烯-丙烯腈-共聚物上、苯乙烯及丙烯腈(或甲基丙烯腈)接在聚丁二烯上；苯乙烯、丙烯腈及甲基丙烯酸甲酯接在聚丁二烯上；苯乙烯及马来酸酐接在聚丁二烯上；苯乙烯、丙烯腈及马来酸酐或者马来酰亚胺接在聚丁二烯上；苯乙烯及马来酰亚胺在聚丁二烯上接枝共聚，苯乙烯及丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯在聚丁二烯上接枝共聚，苯乙烯及丙烯腈在乙烯-丙烯-二烯-三元聚合物上接枝共聚，苯乙烯及丙烯腈在聚丙烯酸烷基酯或聚甲基丙烯酸烷基酯上接枝共聚，苯乙烯和丙烯腈在丙烯酸酯-丁二烯共聚物上接枝共聚，及其与第6)项下所提及共聚物的混合物，就如以所谓ABS聚合物、MBS聚合物、ASA聚合物或者AES聚合物的形式已为世人所知者。
8．含卤聚合物，例如聚氯戊二烯、氯化橡胶、由异丁烯-异戊二烯(卤代丁基橡胶)构成的氯化共聚物和溴化共聚物、氯化聚乙烯或氯磺化聚乙烯、乙烯和氯化乙烯的共聚物，环氧氯丙烷的均聚物和共聚物，尤其是由含卤乙烯基化合物构成的聚合物，例如聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚氟乙烯、聚偏氟乙烯；以及其共聚合物，如氯乙稀-偏二氯乙烯共聚合物、氯乙稀-醋酸乙烯酯共聚合物或者偏二氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚合物。
9．衍生于α,β-不饱和酸及其衍生物的聚合物，如聚丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸酯，用丙烯酸丁酯就弹性进行改性的聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酰胺和聚丙烯腈。
10．上列第9)项下所提及单体相互之间聚合生成的共聚物或者该单体与其他不饱和单体聚合生成的共聚物，例如丙烯腈-丁二烯共聚物、丙烯腈-丙烯酸烷基酯共聚物、丙烯腈-丙烯酸烷氧基烷基酯共聚物、丙烯腈-卤代乙烯共聚物、或者丙烯腈-甲基丙烯酸烷基酯-丁二烯三元共聚物。
11．从不饱和醇和胺或其酰基衍生物或者缩醛衍生出来的聚合物，例如聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯、聚硬脂酸乙烯酯、聚苯甲酸乙烯酯、聚马来酸乙烯酯、聚乙烯醇缩丁醛、聚邻苯二甲酸烯丙基酯、聚烯丙基蜜胺；及其与第1点中所提及链烯烃的共聚物。
12．环醚的均聚物和共聚物，例如聚亚烷基二醇、聚环氧乙烷(Polyethylenoxyd)、聚环氧丙烷(Polypropylenoxyd)或其与双缩水甘油醚的共聚物。
13．聚缩醛，例如聚甲醛、以及包括诸如环氧乙烷之类共聚单体的那些聚甲醛；聚缩醛，用热塑性聚氨酯、丙烯酸酯或者MBS(甲基丙烯酸酯-丁二烯-苯乙烯共聚物)改性过的。
14．聚苯醚和聚苯硫醚，及其与聚苯乙烯或聚酰胺的混合物。
15．聚氨酯及其初产物，该聚氨酯一方面衍生于具有端羟基的聚醚、聚酯和聚丁二烯，另一方面衍生于脂族或芳族聚异氰酸酯。
16．聚酰胺和共聚酰胺，它们由二胺和二元羧酸和/或由氨基羧酸或相应内酰胺衍生而得，例如聚酰胺4、聚酰胺6、聚酰胺6/6、6/10、6/9、6/12、4/6、12/12、聚酰胺11、聚酰胺12，以间二甲苯、二胺和己二酸为原料制得的芳香族聚酰胺；用1,6-己二胺和间苯二甲酸和/或对苯二酸和视需要采用的一种高弹体作改性剂制成的聚酰胺，改性剂的例子如聚2,4,4-三甲基六亚甲基对苯二甲酰胺或聚间亚苯基间苯二甲酰胺。上面所提及聚酰胺与聚烯烃、链烯烃共聚物、离聚物或者化合或接枝高弹体的嵌段共聚物；或者与聚醚，例如与聚乙二醇、聚丙二醇或者聚四亚甲基二醇的嵌段共聚物。此外，还有用EPDM或者ABS改性的聚酰胺或共聚酰胺；以及加工过程中的缩合的聚酰胺(“RlM-聚酰胺体系”)。
17．聚脲、聚亚酰胺、聚酰胺-亚酰胺、聚醚亚酰胺、聚酯亚酰胺、聚海因和聚苯并咪唑。
18．聚酯，自二元羧酸和二醇和/或由羟羧酸或相应内酯衍生而得者，例如聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚-1,4-二羟甲基环己烷对苯二甲酸酯、聚羟基苯甲酸酯，以及嵌段聚醚酯共聚物，其自聚醚用端羟基衍生而得；此外，还有用聚碳酸酯或者甲基丙烯酸酯-丁二烯-苯乙烯共聚物改性的聚酯。
19．聚碳酸酯和聚酯碳酸酯。
20．聚砜、聚醚砜和聚醚酮。
21．交联聚合物，其一方面衍生于醛，另一方面衍生于酚、尿素或蜜胺，例如酚-甲醛树脂、尿素-甲醛树脂和蜜胺甲醛树脂。
22．脱水和未经脱水的醇酸树脂。
23．不饱和聚酯树酯，其自饱和和不饱和二元羧酸与多元醇的共聚酯以及作交联剂的乙烯基化合物衍生而得，而且还对其进行含卤、阻燃改性。
24．可交联丙烯酸树脂，其自取代丙烯酸酯衍生，例如自环氧丙烯酸酯、氨基甲酸乙酯-丙烯酸酯或者聚酯-丙烯酸酯衍生而得。
25．醇酸树脂、聚酯树酯及丙烯酸酯树脂，其与蜜胺树脂、尿素树脂、异氰酸酯、三聚异氰酸酯、聚异氰酸酯或者环氧树脂交联。
26．交联环氧树脂，其自脂肪族、环脂族、杂环或者芳香族缩水甘油基化合物衍生而得，例如双酚-A-二环氧甘油醚、双酚-F-二缩水甘油醚借助常规固化剂如酐或胺采用或不采用促进剂进行交联所得的产物。
27．天然聚合物，例如纤维素、天然橡胶、明胶、及其化学上相关的同系聚合物衍生物，例如醋酸酯纤维素、丙酸酯纤维素及丁酸酯纤维素，或者纤维素醚，例如甲基纤维素；以及松香树脂及衍生物。
28．上述各类聚合物的混合物(高分子共混物)，例如PP/EPDM、聚酰胺/EPDM或ABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/丙烯酸酯、POM/热塑型PUR、PC/热塑型PUR、POM/丙烯酸酯、POM/MBS、PPO/HlPS、PPO/PA 6.6以及共聚物PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC/ABS或PBT/PET/PC。
在本发明范围内，纸也应当理解成结构交联的聚合物，尤其是以卡纸形式，此外它例如还可涂以Teflon涂层。举例来说，这样的基体可市购而得。
热塑性、交联或结构交联的塑料优选涉及聚烯烃、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯或者涉及一种丙烯基/蜜胺漆、醇酸漆或聚氨酯漆。
特别优选是聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺和聚亚酰胺。
所述塑料可以以薄膜、压铸件、挤压工件、纤维、毡或者织物的形式存在。
无机基体首先考虑采用玻璃、金属氧化物和金属。
本发明情况下，可涉及硅酸盐和两性金属氧化物玻璃或金属氧化物玻璃，它们优选以平均粒径从10nm至2000μm的粉末形式存在。涉及的颗粒不但可以是密实的，而且也可以是孔隙的。氧化物和硅酸盐的例子有SiO2、TiO2、ZrO2、MgO、NiO、WO3、Al2O3、La2O3、硅胶、粘土和沸石。优选的是，除了金属之外，无机基体还可以是硅胶、氧化铝、二氧化钛或者玻璃，及其混合物。
原则上，所有至少有一个烯不饱和基团的光引发剂，都适用于本发明方法。
金属基体尤其可以考虑采用Fe、Al、Ti、Ni、Mo、Cr或者合金钢(Stahllegierungen)。
光引发剂优选为通式Ⅰ或者Ⅰa所示的化合物
(RG)-A-(IN)(Ⅰ),(IN)-A-(RG’)-A-(IN)(Ⅰa),
式中(IN)为光引发剂的基本结构，A代表间隔基团或者单键，(RG)为至少一个烯不饱和官能团，和
(RG’)代表二价基团，其中含有至少一个烯不饱和官能团。
优选的是通式Ⅰ或者Ⅰa所示化合物，式中，(IN)为通式(Ⅱ)或者(Ⅲ)所示光引发剂的基本结构
Figure A9981278300151
  (Ⅱ),
Figure A9981278300152
  (Ⅲ)R1代表基团(A)、(B)或者(Ⅲ)(A)，-CR6R7R8  (B)；R2代表氢、C1-C12烷基、卤素、基团(RG)-A-或者，如果R1代表基团(A)，两个在羰基邻位上的R2还可以一起代表-S-或者
R3和R4各自分别为C1-C6烷基、C1-C6烷酰基、苯基或苯甲酰基，
其中所述残基苯基或苯甲酰基，它们各视需要可为卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷硫基或者C1-C6烷氧基所取代；
R5为氢、卤素、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基，或者为基团(RG)-A-；
R6为OR9或N(R9)2，或者代表
Figure A9981278300155
或SO2R9；R7和R8各自分别为H、C1-C12烷基、C2-C12链烯基、C1-C12烷氧基、苯基、苄基，或者共同为C2-C6亚烷基；R9为氢、C1-C6烷基或者C1-C6烷酰基；
R10为氢、C1-C12烷基或者苯基；并且
X1为氧或硫。
通式Ⅰ或者Ⅰa所示化合物中优选(IN)为下列基团
Figure A9981278300161
或者
Figure A9981278300162
优选的通式Ⅰ或者Ⅰa所示化合物是，式中A代表间隔基团-Z-[(A1)a-Y]c-[(A2)b-X]d；
X、Y和Z各自分别代表单键、-O-、-S-、-N(R10)-、-(CO)-、-(CO)O-、-(CO)N(R10)-、-O-(CO)-、-N(R10)-(CO)-或者-N(R10)-(CO)O-；
A1和A2各自分别为C1-C4亚烷基、C3-C12环亚烷基、亚苯基、亚苯基-C1-C4-亚烷基，或者C1-C4亚烷基-亚苯基-C1-C4-亚烷基；
a、b、c和d各自分别代表0至4的数；并且
R10定义如上。
特别优选的通式Ⅰ或者Ⅰa所示化合物是，式中A为间隔基团Z-[(CH2)a-Y]c-[(CH2)b-X]d-，而X、Y、Z、a、b、c及d的含义如上所述。通式Ⅰ或者Ⅰa所示化合物中特别优选为
(RG)代表RcRbC=CRa-，
(RG)代表 和
Ra、Rb、Rc各自代表H或C1-C6烷基、尤其是H或CH3。
此种光引发剂化合物的制备已为专业人员熟知，而且已在许多出版物中作了记叙。
如此，举例来说，含不饱和基团的化合物可以4-[2-(羟基乙氧基)-苯甲酰基]-1-羟基-1-甲基-乙烷(Irgacure2959，西巴特种化学公司产)与含丙烯酰基或甲基丙烯酰基的异氰酸酯的反应，或者与含丙烯酰基或甲基丙烯酰基的其他化合物的反应来制备，例如参见美国专利US 4922004。
由下述出版物可知悉一些具烯不饱和官能团的适宜光引发剂化合物及其制备的具体例子：譬如在美国专利US 3214492、US 3429852、US 3622848和US 4304895中记叙了不饱和乙酰衍生物和二苯甲酮衍生物，例如，
Figure A9981278300172
可共聚的烯不饱和苯乙酮类化合物，例如由美国专利US 4922004可知悉，例如
Figure A9981278300173
或者
Figure A9981278300174
Eur.Polym.J.23、985(1987)中刊登了2-丙烯酰基-噻吨酮。
例如，DE 2818763中对表述了
其他含羧酸基(含碳酸根)的不饱和光引发剂化合物可由欧洲专利EP 377191知悉。
UCB公司出产的UvecrylP36是一种借助环氧乙烷单元连上丙烯酰官能团的二苯甲酮(参见UCB公司技术公报(Technical Bulletin)2480/885(1985)，或者参见新聚合物材料(New.Polym.Mat.)1,63(1987))：
Figure A9981278300182
化学文摘(Chem.Abstr.)128:283649r中刊印了
由DE 19501025可知悉其他适宜的烯不饱和光引发剂化合物。实例有4-乙烯氧基羰氧基二苯酮、4-乙烯氧基羰氧基-4’-氯代二苯酮、4-乙烯氧基羰氧基-4’-甲氧基二苯酮、N-乙烯氧基羰氧基-4-氨基二苯酮、乙烯氧基羰氧基-4’-氟代二苯酮、2-乙烯氧基羰氧基-4’-甲氧基二苯酮、2-乙烯氧基羰氧基-5-氟-4’-氯代二苯酮、4-乙烯氧基羰氧基苯乙酮、2-乙烯氧基羰氧基苯乙酮、N-乙烯氧基羰基-4-氨基苯乙酮、4-乙烯氧基羰氧基二苯乙二酮、4-乙烯氧基羰氧基-4’-甲氧基二苯乙二酮、乙烯氧基羰基二苯乙醇酮醚、4-甲氧基二苯乙醇酮乙烯氧基羰氧基醚、苯基(2-乙烯氧基羰氧基-2-丙基)-酮、(4-异丙基苯基)-(2-乙烯氧基羰氧基-2-丙基)-酮、苯基-(1-乙烯氧基羰氧基)-环己酮、2-乙烯氧基羰氧基-9-芴酮、2-(N-乙烯氧基羰基)-9-氨基芴酮、2-乙烯基羰氧基甲基蒽醌、2-(N-乙烯氧基羰基)-氨基蒽醌、2-乙烯氧基羰氧基噻吨酮、3-乙烯基羰氧基噻吨酮、或者
此外，美国专利说明书US 4672079中还公开了2-羟基-2-甲基(4-乙烯基苯基-乙基甲酮)、2-羟基-2-甲基-对-(1-甲基乙烯基)苯基·乙基甲酮、对乙烯基苯甲酰环己醇、对(1-甲基乙烯基)苯甲酰-环己醇的制备方法。日本专利申请公开平2-292307中也适宜记载了4[2-羟基乙氧基-苯甲酰]-1-羟基-1-甲基-乙烷(Irgacure2959、CibaSpezialitten-chemie)和含丙烯酰基或者甲基丙烯酰基的异氰酸酯进行反应得到的产物，例如或者
Figure A9981278300193
适宜的其他光引发剂例子有或者
Figure A9981278300195
W.Bumer等人在Radcure’86 Conference Proceedings第4-43至4-54页中记叙了下列各实例
Figure A9981278300201
G.Wehner等在Radtech’90 North America上报道了
不同基团中取代基的含义说明如下。
C1-C12烷基为直链或者支链烷基，例如C1-C8烷基、C1-C6烷基或C1-C4烷基。
实例为甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、2,4,4-三甲基-戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十一烷基或者十二烷基，尤其例如是甲基或丁基。
C1-C6烷基和C1-C4烷基同样也是直链烷基或者支链烷基，而且具有例如上述直到相应碳原子数的含义。C1-C6烷基-取代基用于苯甲酰或苯基，尤其是C1-C4烷基、例如甲基或者丁基。
卤素指的是氟、氯、溴和碘、尤其是氯和溴、优选为氯。
如果R1代表基团(A)，而且两个在羰基邻位上的残基R2还可合起来代表-S-或者
Figure A9981278300203
，则产生诸如具有噻吨酮基本结构或蒽醌基本结构之类的结构；
C1-C6烷酰基为直链或者支链，而且例如为C1-C4烷酰基。实例为甲酰基、乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、戊酰基或者己酰基，优选乙酰基。
C1-C4烷酰基具有上述直到相应碳原子数的含义。
C1-C12烷氧基代表直链或者支链基团，例如C1-C8烷氧基、C1-C6烷氧基或C1-C4烷氧基。实例为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、2,4,4-三甲基戊氧基、2-乙基己氧基、辛氧基、壬氧基、癸氧基或者十二烷氧基，尤其是甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基，优选甲氧基。
C1-C8烷氧基，C1-C6烷氧基和C1-C4烷氧基同样也是直链烷氧基或者支链烷氧基，而且具有例如上述直到相应碳原子数的含义。
C1-C6烷硫基表示直链或者支链烷硫基，并例如为C1-C4烷硫基。实例为甲硫基、乙硫基、丙硫基、异丙硫基、正丁硫基、仲丁硫基、异丁硫基，叔丁硫基，戊硫基或者己硫基，尤其是甲硫基，乙硫基，丙硫基，异丙硫基，正丁硫基，仲丁硫基，异丁硫基，叔丁硫基，优选甲硫基。
C1-C4烷硫基也是直链或者支链的，并有例如上面所述直到相应碳原子数的含义。
取代有卤原子、C1-C6烷基、C1-C6烷硫基或者C1-C6烷氧基的基团是苯基或者苯甲酰，例如在苯环上取代一至五次，例如一次、两次或者三次，尤其是二次或者三次。优选的是例如2,4,6-三甲基苯甲酰基、2,6-二氯-苯甲酰、2,6-二甲基苯甲酰基或者2,6-二甲氧基苯甲酰基。
C1-C4亚烷基和C2-C6亚烷基是直链或支链亚烷基，例如C2-C4亚烷基，例如亚甲基、亚乙基、亚丙基、异亚丙基、正亚丁基、仲亚丁基、异亚丁基、叔亚丁基、亚戊基或者亚己基。优选为C1-C4亚烷基，例如亚乙基或亚丁基、-CH(CH3)-CH2-，-CH(CH3)-CH2)2-、-CH(CH3)-(CH2)3-或者-C(CH3)2-CH2-，以及亚甲基和亚乙基。
亚苯基-C1-C4亚烷基表示在芳环的一个位置上取代有C1-C4亚烷基的亚苯基，而C1-C4亚烷基-亚苯基-C1-C4亚烷基代表在苯环的两个位置上取代有C1-C4亚烷基的亚苯基。本发明中，所述亚烷基残基是直链或支链的，并例如在适当碳原子数范围之内具有上面所规定的含义。实例有等等
然而，所述亚烷基基团同样也可位于苯环的其他位置上，例如也可在1,3-位上。
环亚烷基为例如C3-C12环亚烷基、C3-C8环亚烷基，例如环亚丙基、环亚戊基、环亚己基、环亚辛基、环亚十二烷基，尤其是环亚戊基和环亚己基、优选环亚己基。然而，C3-C12环亚烷基也还代表结构单元例如 ，式中X和Y各自分别为0-6，而且X+Y的总和小于或等于6，或者
Figure A9981278300223
式中X和Y各自分别为0-7，而且x+y的总和小于或等于7。
亚苯基指的是1,4-亚苯基、1,2-亚苯基或者1,3-亚苯基，尤其是1,4-亚苯基。
C2-C12-链烯基基团可以是一个或者多个不饱和的直链或者支链链烯基基团，例如C2-C8链烯基、C2-C6链烯基或者C2-C4链烯基。实例有烯丙基、甲代烯丙基、1,1-二甲代烯丙基、1-丁烯基、2-丁烯基、1,3-戊二烯基、1-己烯基、1-辛烯基、十一烯基或者十二烯基，尤其是烯丙基。
如果R7和R8共同构成C2-C6亚烷基，则它们与所连的碳原子一起表示一个C3-C7环烷基环。C3-C7环烷基例如为环丙基、环戊基、环己基、环庚基、尤其是环戊基和环己基，优选环己基。
RcRbC=CRa-指的是例如-CH=CH2或者C(CH3)=CH2，优选-CH=CH2。
所述光引发剂可在形成自由基的放电或者照射(工艺步骤a))停止以后，譬如在一个可加热的装置中，进行真空蒸发，使之在被处理工件上沉积，并在此与游离基位点发生反应。所述蒸发可以固态物、熔融液形式进行，或者在有适当溶剂的情况下进行，此时溶剂的蒸汽压优选接近光引发剂的蒸汽压。
在大气条件下进行电晕放电时，光引发剂也可以用溶液喷雾法来涂布。优选将涂布步骤尽可能紧接着电晕放电之后进行，例如在连续的工艺方法中，在放电区域后面用喷嘴进行涂布。
涂覆光引发剂后紧接着可将工件存放起来，或者直接进行后续加工，并且用已知方法可涂布含烯不饱和键的可照射固化漆层。这可以用浇涂、浸涂、喷涂、擦涂、刮涂、辊涂或者离心涂进行。
照射固化漆料组合物中的不饱和化合物可含一个或多个烯不饱和双键。它们可以是低分子量化合物(单体)或者高分子量化合物(低聚物)。单双键的单体例子有丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯，或者丙烯酸羟烷基酯或甲基丙烯酸羟烷基酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己基酯或者丙烯酸2-羟基乙基酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸甲酯或者甲基丙烯酸乙酯。令人关注的还自硅氧烷-丙烯酸酯。其他实例有丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-取代(甲基)丙烯酰胺，乙烯基酯如醋酸乙烯酯、乙烯基醚如异丁基乙烯基醚、苯乙烯、烷基苯乙烯和卤代苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮、氯乙稀或者偏二氯乙烯。
多双键单体的例子有乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊基二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯或双酚-A-二丙烯酸酯、4,4’-双(2-丙烯酰氧乙氧基)二苯基丙烷、三羟甲基丙烷-三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯或季戊四醇四丙烯酸酯、丙烯酸乙烯基酯、二乙烯基苯、琥珀酸二乙烯基酯、邻苯二甲酸二烯丙酯、磷酸三烯丙基酯、异氰脲酸酯三烯丙基酯、三(羟乙基)异氰脲酸酯三丙烯酸酯或三(2-丙烯酰基乙基)异氰脲酸酯。
较高分子量(低聚物)多不饱和化合物的例子有，丙烯化的环氧树脂、丙烯化或含乙烯基醚基团或环氧基团的聚酯、聚氨酯和聚醚。不饱和低聚物的其他例子有不饱和聚酯树酯，它们大多用马来酸、邻苯二甲酸和一种或多种二元醇作原料来制备，分子量约500至3000。此外，也可使用乙烯基醚单体和乙烯基醚低聚物，并可使用主链为聚酯、聚氨酯、聚醚、聚乙烯醚和环氧化合物的马来酸酯封端低聚物。如特别是WO 90/01512中所记叙，连有乙烯基醚基的低聚物与聚合物相结合尤为相宜。然而，还可以考虑采用乙烯基醚和马来酸官能化的单体制成的共聚物。这样的不饱和低聚物也可称作预聚物。
特别适宜的，例如有烯不饱和羧酸和多元醇的酯或聚环氧化合物，以及链中或侧基中有烯不饱和基团的聚合物，例如不饱和聚酯、聚酰胺和聚氨酯以及由此的共聚物、醇酸树脂、聚丁二烯以及丁二烯共聚物、聚异戊二烯以及异戊二烯共聚物、侧链中有(甲基)丙烯基的聚合物以及共聚物，以及一种或多种此聚合物的混合物。
不饱和羧酸的例子有丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、衣康酸、肉桂酸、不饱和脂肪酸如亚麻酸或油酸。优选为丙烯酸和甲基丙烯酸。
多元醇以芳香族和特别是脂肪族和环脂族多元醇为宜。芳香族多元醇的例子有氢醌、4,4’-二羟基二苯基、2,2-二(4-羟基苯基)丙烷，以及酚醛清漆和可溶酚醛树脂。聚环氧化合物的例子有那些以所提及多元醇和环氧氯丙烷为原料，尤其以芳香族多元醇和环氧氯丙烷为原料制得的聚环氧化合物。此外，还有那些在聚合物主链或侧基中含有羟基的聚合物和共聚物宜作多元醇用，例如聚乙烯醇及其共聚物，或者聚甲基丙烯酸羟烷基酯或其共聚物。其他适宜多元醇是具有端羟基的酯类低聚物。
脂肪族多元醇和环脂族多元醇的例子有亚烷基二醇，优选2至12个C原子的，如乙二醇、1,2-或者1,3-丙二醇、1,2-、1,3-或者1,4-丁二醇、戊二醇、已二醇、辛二醇、十二基二醇、二甘醇、三甘醇、分子量优选200至1500的聚乙二醇、1,3-环戊二醇、1,2-、1,3-或者1,4-环己二醇、1,4-二羟基甲基环己烷、丙三醇、三(9-羟基-乙基)胺、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇和山梨醇。
多元醇可用单种或不同种不饱和羧酸部分或完全酯化，其中，在部分酯化中，可将游离羟基加以改变，例如可被醚化或用其他羧酸进行酯化。
酯的例子有：
三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三季戊四醇八丙烯酸酯、五季戊四醇二甲基丙烯酸酯、五季戊四醇三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯、三季戊四醇八甲基丙烯酸酯、五季戊四醇二衣康酸酯、二季戊四醇三衣康酸酯、二季戊四醇五衣康酸酯、二季戊四醇六衣康酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇双丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二衣康酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、山梨醇四丙烯酸酯、季戊四醇改性三丙烯酸酯、山梨醇四甲基丙烯酸酯、山梨醇五丙烯酸酯、山梨醇六丙烯酸酯、低聚酯丙烯酸酯和低聚酯甲基丙烯酸、丙三醇的二丙烯酸酯和三丙烯酸酯、1,4-环己烷二丙烯酸酯、分子量为200至1500的聚乙二醇二丙烯酸酯和聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，或者它们的混合物。
宜作组分用的还有同一或不同不饱和芳香族、环脂族和脂肪族聚胺羧酸的酰胺，其中聚胺优选有2至6个氨基基团，尤其优选有2至4个氨基基团。这种聚胺的例子有乙二胺、1,2-丙二胺或1,3-丙二胺、1,2-丁二胺、1,3-丁二胺或1,4-丁二胺、1,5-戊二胺、1,6-己二胺、辛二胺、十二烷基二胺、1,4-二氨基-环己烷、异弗酮二胺、苯二胺、双苯二胺、二-β-氨基乙基醚、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、二(β-氨基乙氧基)-或者二(β-氨基丙氧基)乙烷。适用的其他聚胺有那些聚合物和共聚物，其中具有氨端基的侧链和酰胺类低聚物中有着视需要附加的氨基基团。这种不饱和酰胺的例子有：亚甲基-双-丙烯酰胺、1,6-环己烷-双-丙烯基-酰胺、二亚乙基三胺-三甲基丙烯酰胺、双(甲基丙烯酰胺基丙氧基)-乙烷，β-甲基丙基-酰胺基乙基甲基丙烯酸酯、N[(β-羟基乙氧基)乙基]-丙烯酰胺。
适用的不饱和聚酯和聚酰胺例如衍生于马来酸和二元醇或二胺。所述马来酸可以部分地用其他二元羧酸来代替。它们可以同诸如苯乙烯之类的烯不饱和共聚用单体一起使用。所述聚酯和聚酰胺也可以衍生于二元羧酸和烯不饱和二元醇或二胺，尤其较长链如6至20个碳原子的二元羧酸和烯不饱和二元醇或二胺。聚氨酯的例子有那些由饱和或不饱和二异氰酸酯和饱和或不饱和二元醇形成的聚氨酯。
其中，聚丁二烯和聚异戊二烯及其共聚物是众所周知的。举例来说，适用的共聚单体有链烯烃如乙烯、丙烯、丁烯、己烯、(甲基)丙烯酸酯、丙烯腈、苯乙烯或氯乙稀。侧链中有(甲基)丙烯酸酯基的聚合物同样众所周知。举例来说，这可涉及以酚醛树脂为基本组成的环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物，涉及用(甲基)丙烯酸酯化了的乙烯醇或其羟烷基衍生物的均聚物或共聚物，或者涉及用羟烷基(甲基)丙烯酸酯酯化了的(甲基)丙烯酸酯均聚物和共聚物。
尤其优选将丙烯酸酯化合物或甲基丙烯酸酯化合物用作单烯不饱和化合物或多烯不饱和化合物。
完全特别优选的是如上面已提及的多重不饱和的丙烯酸酯化合物。
特别优选的是一种工艺，其中照射固化组合物的至少一种烯不饱和单体或低聚物是一种单官能、双官能、三官能或者四官能的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯。
所述组合物除了包括至少一种烯不饱和单体或低聚物之外，还优选包括至少一种光引发剂或者助引发剂，以供UV/VIS照射固化之用。
在本发明范围内，UV/NIS照射应理解成在250nm至450nm波长范围内的电磁照射。优选的波段是305nm至450nm。适用的灯是专业人员众所周知的，而且市购可得。
辐照固化漆中的光引发剂不但可以使用通式Ⅰ或Ⅰa所示的化合物，而且也可以使用由现有技术已知的所有其余的引发剂。
下面列举的是一些典型示例，它们不但可以单独使用，而且也可以互相混合使用。举例来说，二苯甲酮、二苯甲酮衍生物、乙酰苯、乙酰苯衍生物如α-羟基环烷基苯基酮或者2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙酮、二烷氧基乙酰苯、α-羟基-或者α-氨基乙酰苯，如(4-甲基硫代苯甲酰基)-1-甲基-1-吗啉代-乙烷、(4-吗啉代-苯甲酰)-1-苄基-1-二甲基氨基丙烷、4-芳酰基-1,3-二氧戊环、苯偶姻烷基醚和偶苯酰缩酮，如联苯酰二甲基缩酮、苯基乙醛酸酯及其衍生物、二聚苯基乙醛酸酯、一酰基氧化膦，如(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基-氧化膦、双酰基氧化膦，如双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-(2,4,4-三甲基-戊-1-基)氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基-氧化膦或者双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-(2,4-二戊氧基苯基)氧化膦、三酰基氧化膦、铁茂化合物(Ferroceniumverbindungen)或者钛茂，如二环戊二烯基-双-(2,6-二氟-3-吡咯并苯基)-钛。另一类适宜的光引发剂是肟酯类。示例性列举下列化合物：1-(4-苯基硫烷基-苯基)-丁烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基-苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基-苯基)-辛烷-1-酮2-肟-O-乙酸酯、1-(4-苯基硫烷基-苯基)-丁烷-1-酮肟-O-乙酸酯或者1-(4-苯基硫烷基-苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯。
助引发剂例如可以考虑使用那些移动或加宽光谱灵敏度的感光剂，从而加速光聚合。这尤其是芳香族羰基化合物，例如二苯甲酮衍生物、噻吨酮衍生物、尤其还有异丙基噻吨酮、蒽醌衍生物及3-酰基香豆素衍生物、三联苯、苯乙烯酮、以及3-(芳酰基亚甲基)-噻唑啉、樟脑醌、然而也曙红染料、若丹明染料及赤藓红染料。诸如胺之类的物质也可考虑用作光敏剂，只要是本发明的接枝光引发剂层由二苯甲酮或二苯甲酮衍生物构成。
其他光敏剂的例子有
1．噻吨酮
噻吨酮，2-异丙基噻吨酮，2-氯噻吨酮，2-十二烷基噻吨酮，2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、1-甲氧基羰基噻吨酮、2-乙氧基羰基噻吨酮、3-(2-甲氧基乙氧基羰基)-噻吨酮、4-丁氧基羰基噻吨酮、3-丁氧基羰基-7-甲基噻吨酮、1-氰基-3-氯噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-氯噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-乙氧基噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-氨基噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-苯基硫酰基噻吨酮、3,4-二[2-(2-甲氧乙氧基)乙氧基-羰基]-噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-(1-甲基-1-吗啉代乙基)噻吨酮、2-甲基-6-二甲氧基甲基-噻吨酮、2-甲基-6-(1,1-二甲氧基苄基)-噻吨酮、2-吗啉代甲基噻吨酮、2-甲基-6-吗啉代甲基噻吨酮、N-烯丙基噻吨酮-3,4-二羧酰亚胺、N-辛基噻吨酮-3,4-二羧酰亚胺、N-(1,1,3,3-四甲基丁基)噻吨酮-3,4-二羧酰亚胺、1-苯氧基噻吨酮、6-乙氧基羰基-2-甲氧基噻吨酮、6-乙氧基羰基-2-甲基噻吨酮、噻吨酮-2-聚乙二醇酯、2-羟基-3-(3,4-二甲基-9-氧代-9H-噻吨酮-2-基氧)-N,N,N-三甲基-1-丙烷氯化铵；
2．二苯甲酮
二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、4,4’-二甲氧基二苯甲酮、4,4’-二甲基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、4,4’-二甲基氨基二苯甲酮、4,4’-二乙基氨基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、4-(4-甲基硫苯基)-二苯甲酮、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、甲基-2-苯甲酰苯甲酸酯、4-(2-羟基乙硫基)-二苯甲酮、4-(4-甲苯基硫)二苯甲酮、4-苯甲酰基-N,N,N-三甲基苯甲烷氯化铵、2-羟基-3-(4-苯甲酰苯氧基)-N,N,N-三甲基-1-丙烷氯化铵一水合物、4-(13-丙烯酰基-1,4,7,10,13-五氧三癸基)-二苯甲酮、4-苯甲酰-N,N-二甲基-N-[2-(1-氧代-2-丙烯基)氧基]乙基-苯甲烷-氯化铵；
3．3-酰基香豆素
3-苯甲酰香豆素、3-苯甲酰-7-甲氧基香豆素、3-苯甲酰-5,7-二(丙氧基)-香豆素、3-苯甲酰-6,8-二氯香豆素、3-苯甲酰-6-氯-香豆素、3,3’-羰基-双[5,7-二(丙氧基)-香豆素]、3,3’-羰基-双(7-甲氧基香豆素)、3,3’-羰基-双(7-二乙基氨基-香豆素)、3-异丁酰基香豆素、3-苯甲酰-5,7-二甲氧基香豆素、3-苯甲酰-5,7-二乙氧基-香豆素、3-苯甲酰-5,7-二丁氧基-香豆素、3-苯甲酰-5,7-二(甲氧乙氧基)-香豆素、3-苯甲酰-5,7-二(烯丙氧基)-香豆素、3-苯甲酰-7-二甲基胺基香豆素、3-苯甲酰-7-二乙基胺基香豆素、3-异丁酰基-二甲基胺基香豆素、5,7-二甲氧基-3-(1-萘甲酰基)香豆素、5,7-二甲氧基-3-(1-萘甲酰基)香豆素、3-苯甲酰基苯并[f]香豆素、7-二乙基胺基-3-噻吩酰香豆素、3-(4-氰基苯甲酰基)-5,7-二甲氧基香豆素；
4．3-(芳酰基亚甲基)-噻唑啉
3-甲基-2-苯甲酰基亚甲基-β-萘并噻唑啉、3-甲基-2-苯甲酰基亚甲基-苯并噻唑啉、3-乙基-2-丙酰亚甲基-β-萘并噻唑啉、
5．其他羰基化合物
苯乙酮、3-甲氧基苯乙酮、4-苯基苯乙酮、苯偶酰、2-乙酰基萘、2-萘甲醛、9,10-蒽醌、9-芴酮、二苯并环庚酮、呫吨酮、2,5-双(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮、α-(对二甲基氨基亚苄基)酮，例如2-(4-二甲基氨基-亚苄基)-茚-1-酮或者3-(4-二甲基氨基-苯基)-1-茚-5-基-丙烯酮、3-苯基硫代苯邻二甲酰亚胺、N-甲基-3,5-二(乙硫基)-苯邻二甲酰亚胺、N-甲基-3,5-二(乙硫基)-苯邻二甲酰亚胺。
除了上述那些对漆的固化有着重要意义的添加剂之外，照射固化组合物中还可含有其他添加剂，尤其是防光剂。
选择适宜光引发剂，可在所述漆料中掺加颜料，此时不但可以使用各种彩色颜料，而且也可使用白色颜料。
漆料可涂覆到约1μm至约100μm的漆层厚度，优选约为1μm至40μm。在涂层厚度＜5μm的范围时，色漆也称作印刷油墨。
可将紫外线吸收剂作为防光剂来添加，紫外线吸收剂例如羟苯基-苯三唑类、羟苯基-二苯甲酮类、草酰胺类或者羟苯基-S-三嗪类。这些吸收剂可以单个使用，或者也可用这些化合物的混合物，并可使用或者不使用位阻胺(HALS)。
这种紫外线吸收剂和防光剂的例子有
1,2-(2’-羟苯基)-苯并三唑，如2-(2’-羟基-5’-甲基苯基)-苯并三唑、2-(3’,5’-二-叔-丁基-2’-羟苯基)-苯并三唑、2-(5’-叔丁基-2’-羟苯基)-苯并三唑、2-(2’-羟基-5’-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯基)-苯并三唑、2-(3’,5’-二叔丁基-2’-羟基苯基)-5-氯-苯并三唑、2-(3’-叔丁基-2’-羟基-5’-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3’-仲丁基-5’-叔丁基-2’-羟基苯基)-苯并三唑、2-(3’,5’-双-(α,α-二甲基苄基)-2’-羟基苯基)-苯并三唑、2-(3’-叔丁基-2’-羟基-5’-(2-辛氧基羰基乙基)苯基)-5-氯-苯并三唑，2-(3’-叔丁基-5’-[2-(2-乙基-己氧基)-羰基乙基]-2’-羟基苯基)-5-氯-苯并三唑、2-(3’-叔丁基-2’-羟基-5’-(2-甲氧基羰基乙基)苯基)-5-氯-苯并三唑、2-(3’-叔丁基-2’-羟基-5’-(2-甲氧基羰基乙基)苯基)-苯并三唑、2-(3’-叔丁基-2’-羟基-5’-(2-辛氧基羰基乙基)苯基)-苯并三唑、2-(3’-叔丁基-5’-[2-(2-乙基己氧基)羰基乙基]-2’-羟苯基)-苯并三唑、2-(3’-十二烷基-2’-羟基-5’-甲基苯基)-苯并三唑、和2-(3’-叔丁基-2’-羟基-5’-(2-异辛氧基羰基乙基)苯基-苯并三唑的混合物、2,2’-亚甲基-双[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-苯并三唑-2-基-酚]；2-[3’-叔丁基-5’-(2-甲氧基羰基乙基)-2’-羟基-苯基]-苯并三唑与聚乙二醇300的反应产物；[R-CH2CH2-COO(CH2)3]2-其中R=3’-叔丁基-4’-羟基-5’-2H-苯并三唑-2-基-苯基。
2．2-羟基二苯甲酮，例如4-羟基衍生物、4-甲氧基衍生物、4-辛氧基衍生物、4-癸氧基衍生物、4-十二烷氧基衍生物、4-苄氧基衍生物、4,2’,4’-三羟基衍生物、2’-羟基-4,4’-二甲氧基衍生物。
3．视需要取代的苯甲酸酯，例如4-叔丁基-苯基水杨酸酯、苯基水杨酸酯、辛基苯基-水杨酸酯、二苯甲酰基间苯二酚、双-(4-叔丁基苯甲酰基)-间苯二酚、苯甲酰基间苯二酚、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸-2,4-二叔丁基苯基酯、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸十六烷基酯、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸-十八烷基酯、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸-2-甲基-4,6-二叔丁基苯基酯。
4．丙烯酸酯，例如α-氰基-β,β-二苯基丙烯酸-乙酯或-异辛酯、α-甲酯基-肉桂酸甲酯、α-氰基-β-甲基-对-甲氧基-肉桂酸甲酯或者丁酯
α-甲酯基-对甲氧基-肉桂酸-甲酯、N-(β-甲酯基-β-氰乙烯基)-2-甲基-二氢吲哚。
5．位阻胺、例如双-(2,2,6,6-四甲基-哌啶基)-癸二酸酯、双-(2,2,6,6-四甲基-哌啶基)-琥珀酸酯、双-(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-癸二酸酯、正丁基-3,5-二-叔丁基-4-羟苄基-丙二酸-双(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-酯、1-羟乙基-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶和琥珀酸的缩合产物、N,N’-双-(2,2,6,6-四甲基-4-亚哌啶基)-六亚甲基二胺和4-叔-辛基胺基-2,6-二氯-1,3,5-s-三嗪的缩合产物、三(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-次氮基三乙酸酯、四(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁四酸酯、1,1’-(1,2-乙烷二基)-双-(3,3,5,5-四甲基-哌嗪酮)、4-苯甲酰-2,2,6,6-四甲基哌啶、4-硬脂酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、双-(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-2-正丁基-2-(2-羟基-3,5-二-叔-丁基苄基)丙二酸酯、3-正-辛基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮杂螺-[4.5]癸烷-2,4-二酮、双-(1-辛氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶基)-癸二酸酯、双-(1-辛氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶基)-琥珀酸酯、N,N’-双-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,6-己二胺和4-吗啉代-2,6-二氯-1,3,5-三嗪的缩合产物、2-氯-4,6-二-(4-正-丁基氨基-2,2,6,6-四甲基哌啶基)-1,3,5-三嗪和1,2-双-(3-氨基丙基氨基)-乙烷的缩合产物、2-氯-4,6-二-(4-正丁基氨基-1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-1,3,5-三嗪和1,2-双-(3-氨基丙基氨基)-乙烷的缩合产物、8-乙酰基-3-十二烷基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮杂螺[4.5]癸烷-2,4-二酮、3-十二烷基-1-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-吡咯烷-2,5-二酮、3-十二烷基-1-(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)-吡咯烷-2,5-二酮。
6．草酰二胺,例如4,4’-二-辛氧基-草酰替苯胺、2,2’-二乙氧基-草酰替苯胺、2,2’-二-辛基氧基-5,5’-二-叔丁基-草酰替苯胺、2,2’-二-十二烷氧基-5,5’二-叔丁基-草酰替苯胺、2-乙氧基-2’-乙基-草酰替苯胺,N,N’-双-(3-二甲基氨基丙基)-草酰替苯胺，2-乙氧基-5-叔丁基-2’-乙基草酰替苯胺及其与2-乙氧基-2’-乙基-5,4’-二-叔丁基-草酰替苯胺的混合物、邻甲氧基取代和对甲氧基-取代以及邻乙氧基-二-取代和对乙氧基-二-取代的草酰替苯胺类化合物的混合物。
7．2-(2-羟苯基)-1,3,5-三嗪，例如2,4,6-三(2-羟基-4-辛基氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羟基-4-辛基氧基苯基)-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2,4-二羟基苯基)-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(2-羟基-4-丙氧基-苯基)-6-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羟基-4-辛基氧基苯基)-4,6-双(4-甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羟基-4-十二烷氧基苯基)-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羟基-4-(十二烷基氧基苯基]-4,6-二(2,4-二甲基-苯基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羟基-4-(2-羟基-3-丁基氧基-丙基氧基)苯基]-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羟基-4-(2-羟基-3-辛基氧基-丙基氧基)苯基]-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-[4-十二烷基/三癸基-氧-(2-羟基丙基)氧-2-羟基-苯基]-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪。
除了上面提及的防光剂之外，也可以使用其他稳定剂如亚磷酸酯或者亚膦酸酯。
8．亚磷酸酯和亚膦酸酯，例如亚磷酸三苯酯、亚膦酸二苯基烷基酯、
苯基二烷基亚磷酸酯、三(壬基苯基)-亚磷酸酯、三月桂基亚磷酸酯、三(十八烷基)亚磷酸酯、二硬脂基-季戊四醇亚二磷酸酯、三(2,4-二-叔丁基苯基)-亚磷酸酯、二异癸基季戊四醇-二亚磷酸酯、双-(2,4-二-叔丁基苯基)-季戊四醇二亚磷酸酯、双-(2,6-二-叔丁基-4-甲基苯基)-季戊四醇二亚磷酸酯、双-异癸基氧基-季戊四醇二亚磷酸酯、双-(2,4-二-叔丁基-6-甲基苯基)-季戊四醇二亚磷酸酯、双-(2,4,6-三叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、三硬脂基-山梨醇三亚磷酸酯、四-(2,4-二-叔丁基亚苯基-)-4,4’-双亚联苯基-二亚膦酸酯、6-异辛基氧基-2,4,8,10-四-叔丁基-12H-二苯[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin、6-氟-2,4,8,10-四-叔丁基-12-甲基-二苯[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin、双-(2,4-二-叔丁基-6-甲基苯基)-甲基亚磷酸酯、双-(2,4-二-叔丁基-6-甲基苯基)-乙基亚磷酸酯。
此外，还可使用技术上常用的添加剂，例如抗静电剂、均涂剂(Verlaufshilfsmittel)和增粘剂。
如果以固态附着层形式涂覆一种金属层、金属氧化物层或两性金属氧化物层，则优选涉及下列金属：金、银、铬、钼、铝或铜，特别优选铝和铜。优选的是下列另一些两性金属氧化物和金属氧化物：氧化铝、氧化铬、氧化铁、氧化铜和氧化硅。
此时，金属、两性金属氧化物或金属氧化物经真空蒸发，在紫外光照射下沉积在预先涂覆过光引发剂的基体上。蒸发过程所用的坩埚温度取决于所用金属，并优选为300至2000℃，特别优选800至1800℃。
沉积过程中，紫外线照射例如可以借助阳极弧光来产生。
镀覆过金属的基体适用于扩散阻挡层、电磁屏蔽或者其构成装饰性元件。
优选将工艺步骤a)用低温等离子放电法来进行。
该方法可在宽广的压力范围内进行，以此使随压力升高的放电特性从单纯低温等离子向电晕放电方向移动，并最后在大约1000-1100mbar的大气压力下，转到单纯电晕放电。
该方法优选在10-6毫巴至大气压力(1013毫巴)的工艺压力下进行，特别优选在10-4至10-2毫巴范围内作为等离子法和在大气压力下作为电晕法来进行。
优选使用一种惰性气体，或者优选使用由一种惰性气体与一种反应性气体组成的混合物作为等离子气体，来进行该方法。
特别优选将氦、氩、氪、氙、氮气、氧气或水，单独或以混合物形式用作等离子气体。
光引发剂在真空蒸发的温度，优选在20℃和250℃之间，特别优选在40℃至150℃之间。
所沉积光引发剂层的厚度优选为单分子层至100nm，特别优选10nm至60nm。
无机基体或者有机基体的等离子处理a)优选进行1s至300s、特别优选进行l0s至200s。
在工艺步骤b)中，光引发剂的沉积，优选在真空中进行1秒至10分钟。
如果进行电晕放电，则优选将光引发剂的溶液或熔融液直接在放电区域终端喷雾。电晕放电也可在保护气氛下进行。
如果基体用等离子气体放电或电晕放电进行预处理，或者用高能射线照射进行预处理，则后续处理时间取决于所形成自由基在表面上的寿命长短。原则上适用的是，由于起初就有许多反应性自由基存在于进行接枝反应的表面上，所以尽可能快地涂覆光引发剂是有利的。然而，对许多应用场合来说，时间上延迟进行反应步骤b)也是可以接受的。然而，优选在工艺步骤a)之后直接进行工艺步骤b)，或者工艺步骤a)之后10小时内进行工艺步骤b)。
本发明的另一个主题是，含有一个或多个烯不饱和基团的光引发剂在无机基体或有机基体上用来制备强附着力涂层的应用，其特征在于，在第一步骤中
a)令低温等离子放电、电晕放电、高能量紫外线辐照或者电子束照射对无机基体或有机基体表面起作用，接着停止照射或放电；在另一步骤中
b)在真空或常压下，将一种或多种含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂涂覆在无机基体或有机基体上，并使之与其中产生的游离基位点发生反应，以及
c1)如此预先涂布了光引发剂的基体上涂布以含有至少一种烯不饱和单体或低聚物的组合物，并用UV/VIS照射，使覆层固化；或者
c2)在紫外光照射下，于如上所述那样预先涂布了光引发剂的基体上，自气相沉积一层金属、两性金属或金属氧化物。
本发明的主题还是按上述方法制得的强附着力涂层。
这种强附着力涂层还可掺加颜料，因此不但作为保护涂层或者涂料有其重要性，而且对成像涂层例如在光刻胶技术领域中也有其重要性。
下列各实施例解释阐明了本发明。
实施例1
所述等离子处理，以40kHz在商业上通用的平行板式反应器中进行。
用PP/EPDM制成的3mm厚度系列、已改性成一半硬而另一半软的塑料构件作为基体。
这样的基体，一个在3×10-2毫巴压力下用氩等离子气体处理20秒，另一个用氩/氧等离子气体(75/25)进行处理，在此过程中，所述基体各置于一个支架上，使之只有一个侧面暴露于等离子气体。停止供给离子气体，并将压力降到2×10-4毫巴。在等离子室中，在一个可加热的坩埚中将下列结构式所示的光引发剂在50-52℃下蒸发180秒，此过程中涂层厚度达约30nm。厚度测量用商业上通用的石英振荡器进行。
将如此预先涂覆过的上述基体，在一种用89％Ebecryl604(UCB)、10％SR344(Sartomer)、1％Ebecryl350(UCB)和2％Darocur 1173(西巴特种化学公司)制成、可照射固化的环氧丙烯酸酯一组合物中浸泡。
将浸泡过的试样两侧依次在AETEK公司产、装有两个80W/cm2中压汞灯的处理装置中，以3m/min的传送带速度固化。
粘附性用栅格刻划和胶带剥离法测定。
两个试样无光引发剂层的背面上，漆层完全脱落。
在用光引发剂预处理过的侧面上，十字刻痕处仅只揭下微不足道的碎片，试样的软、硬部分上结合力同样良好。经受氩/氧等离子气体作用过的试样，其粘附力结果略有改善。
太阳光照射10天后，出众的粘附值保持不变。
实施例2
用厚为1mm的Teflon箔片作基体。等离子条件和光引发剂相应于实施例1。将得自实施例1的漆组合物涂覆到30μm厚。
两个试样无光引发剂层的背面上，漆层完全脱落。
在用光引发剂预处理过的侧面上，仅在十字刻痕处揭下微不足道的碎片，附着力优秀。经受过氩/氧等离子气体作用的试样，其粘附力略有改善。
实施例3 PTFE上的铜涂层
用厚为5mm的Teflon箔片作基体。等离子条件和光引发剂相应于实施例1。
涂覆光引发剂层后，在同一个反应器中，于2×10-4mbar压力下，以阳极弧光法(VALlCO法)沉积一层铜。坩埚温度为1500-1600℃。本发明中，在1分钟内，沉积的覆层厚度为1μm。
用胶带进行的剥离试验不能将铜镀层从基体上揭下。
实施例4．真空紫外线预处理
在真空室中，用波长为172nm的短波波长紫外光对不同的聚合物箔片照射2分钟。为进行照射起见，使用了激态原子灯(ExcivacHeraeus Nobellight公司产，kleinostheim)，压室中压力为3×10-2 mbar。用激发辐照法进行照射时，将箔片的一半用铝箔遮盖两侧，以使其中不产生自由基。照射结束后，将压力降到8×104mbar，并在可加热的坩埚中，将得自实施例1的光引发剂在2分钟内蒸发到至多120℃的温度。
用刷涂法，在涂覆后的基体上，涂覆得自实施例1的可照射固化复配物。在AETEK公司产、装有两个80W/cm2中压汞灯的处理装置中，以10m/min.的传送带速度使试样固化。粘附性用栅格刻划法测定。
以聚丙烯箔片作基体时，在曝光、蒸发区域上，漆膜结合力容易得到提高，而在未曝光、未蒸发侧面上根本不粘附。同样，在只经曝光的箔片上，也不粘附。
以聚酯箔片(MylarDuPont，100μm)作基体时，在曝光、蒸发区域上得到的漆膜粘附力非常好(漆层不能再剥离)，而在未处理过的区域上油漆易于剥离。在仅只曝光的膜层上，粘附力没有根本性提高。

Claims (21)

1．一种在无机基体或有机基体上制作粘着性覆层的方法，其特征在于，在第一步骤中
a)令低温等离子放电、电晕放电、高能量紫外线辐照或者电子束照射对无机基体或有机基体上起作用，接着停止照射或放电；在另一步骤中，
b)在真空下或者在常压下，将一种或多种含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂涂布在无机或有机基体上，并令其与涂层中产生的自由基位置(Radikalstellen)进行反应；并且
c1)如此预先涂布了光引发剂的基体上涂布以含有至少一种烯不饱和单体或低聚物的组合物，并用UV/VIS照射，使覆层固化；或者
c2)在紫外光存在下，于如上所述那样预先涂布了光引发剂的基体上由气相沉积金属、半金属或金属氧化物。
2．权利要求1所述的方法，其特征在于，所述无机或有机基体的存在形式为粉末、纤维、薄膜，或者以三维工件的形式存在。
3．权利要求1所述的方法，其特征在于，所述无机或有机基体为热塑性聚合物、高弹性聚合物、结构交联聚合物或交联聚合物、金属氧化物或者玻璃。
4．权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光引发剂是通式Ⅰ或者通式Ⅰa所示的化合物(RG)-A-(IN)  (Ⅰ)，     (IN)-A-(RG’)-A-(IN)    (Ⅰa)，式中
(IN)为光引发剂的基本结构，
A代表间隔基团或者单键，
(RG)为至少一个官能性烯不饱和基团，并且
(RG’)代表二价基团，该基团含有至少一个官能性烯不饱和基团。
5．权利要求4所述的方法，其中通式Ⅰ或Ⅰa所示化合物中(IN)为通式(Ⅱ)或(Ⅲ)所示的光引发剂基本结构  (Ⅱ)，
Figure A9981278300032
  (Ⅲ)R1为(A)、(B)或(Ⅲ)所示的基团
Figure A9981278300033
 (A)，-CR6R7R8 (B)；R2可为氢、C1-C12烷基、卤素、(RG)-A-基团，或者如果R1代表(A)所示的基团，两个邻位于羰基的基团R2也可一起代表-S-或
R3及R4各自分别为C1-C6烷基、C1-C6烷酰基、苯基或苯甲酰基，其中苯基和苯甲酰基各视需要而定取代以卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷基硫基或者C1-C6烷氧基；
R5为氢、卤素、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基，或者(RG)-A-基团；
R6为OR9或N(R9)2或者代表
Figure A9981278300035
或者SO2R9；
R7和R8各自分别为H、C1-C12烷基、C2-C12链烯基、C1-C12烷氧基、苯基、苄基或者共同为C2-C6亚烷基；
R9为氢、C1-C6烷基或者C1-C6烷酰基；
R10为氢、C1-C12烷基或者苯基；并且
X1为氧或硫。
6．权利要求4所述的方法，其中通式Ⅰ或Ⅰa所示化合物中(IN)为
Figure A9981278300042
或者
Figure A9981278300043
中的基团。
7．权利要求4所述的方法，其中通式Ⅰ或Ⅰa所示化合物中
A代表间隔基-Z-[(A1)a-Y]c-[(A2)b-X]d；
X、Y和Z各自分别为单键、-O-、-S-、-N(R10)-、-(CO)-、-(CO)O-、-(CO)N(R10)-、-O-(CO)-、-N(R10)-(CO)-或-N(R10)-(CO)O-；
A1和A2各自分别为C1-C4亚烷基、C3-C12亚环烷基、亚苯基、亚苯基-C1-C4-亚烷基或者C1-C4-亚烷基-亚苯基-C1-C4-亚烷基；
a、b、c和d各自分别为0至4的数；以及
R10为如前所定义者。
8．权利要求7所述的方法，其中通式Ⅰ或Ⅰa所示化合物中的A为间隔基团-Z-[(CH2)a-Y]c-[(CH2)b-X]d，式中X、Y、Z、a、b、c和d的含义如前所述。
9．权利要求4所述的方法，其中通式Ⅰ或Ⅰa所示化合物中(RG)代表RcRbC=CRa-，(RG’)为 ，并且Ra、Rb、Rc各自为H或者C1-C6烷基，尤其为H或CH3。
10．权利要求1所述的方法，其特征在于，组合物中至少有一种烯不饱和单体或低聚物是一、二、三或四官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
11．权利要求1所述的方法，其特征在于，所述组合物含有至少一种烯不饱和单体或低聚物，还含有至少一种光引发剂或助引发剂，以便用UV/VIS照射进行固化。
12．权利要求1所述的方法，其特征在于，所用工艺压力为10-6mbar至大气压力。
13．权利要求1所述的方法，其特征在于，用作等离子气体的是惰性气体或者惰性气体与反应性气体的混合物。
14．权利要求13所述的方法，其特征在于，单独使用N2、He、Ar、Kr、Xe、O2或H2O，或者将其以混合物形式使用。
15．权利要求1所述的方法，其特征在于，光引发剂蒸发的温度在20℃至250℃之间。
16．权利要求1所述的方法，其特征在于，所沉积光引发剂层或金属层的厚度为单分子层至100nm。
17．权利要求1所述的方法，其特征在于，所述等离子处理a)进行时间为1s至300s。
18．权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光引发剂沉积b)进行时间为1s至10min。
19．权利要求1所述的方法，其特征在于，所述工艺步骤b)直接进行或者在工艺步骤a)之后10小时进行。
20．含有一个或多个烯不饱和基团的光引发剂在无机基体或有机基体上制作粘着型覆层的应用，其特征在于，在第一步骤中
a)令低温等离子放电、电晕放电、高能量紫外线辐照或者电子束照射对无机基体或有机基体上起作用，接着停止照射或放电；在另一步骤中，
b)在真空下或者在常压下，将一种或多种含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂涂布在无机或有机基体上，并令其与涂层中产生的自由基位置(Radikalstellen)进行反应；并且
c1)如此预先涂布了光引发剂的基体上涂布以含有至少一种烯不饱和单体或低聚物的组合物，并用UV/VIS照射，使覆层固化；或者
c2)在紫外光存在下，于如上所述那样预先涂布了光引发剂的基体上由气相沉积金属、半金属或金属氧化物。
21．按照权利要求1所述方法制得的粘着性涂层。
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