JP2001293335A - フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法 - Google Patents
フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法Info
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
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-
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Abstract
(57)【要約】
【課題】 パーフッ素化合物（ＰＦＣ）を効率よく、し
かも長時間にわたって処理することが可能である排ガス
の処理方法及び処理装置を提供する。更にはＰＦＣに加
えて、Ｆ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等の酸化性ガス、ＨＦ、ＨＣ
ｌ、ＨＢｒ、ＳｉＦ4、ＳｉＣｌ4、ＳｉＢｒ4、ＣＯＦ2
等の酸性ガスやＣＯをも効率よく処理することができる
排ガスの処理方法及び処理装置を提供する。 【解決手段】 本発明に係る排ガスの処理方法は、フッ
素含有化合物を含む排ガスを、前記排ガス中の固形物を
分離した後に触媒を用いて処理する方法であって、前記
触媒として、Ｘ線回折装置で測定した回折角２θのう
ち、３３゜±１゜、３７゜±１゜、４０゜±１゜、４６
゜±１゜、６７゜±１゜の５つの角度で強度１００以上
の回折線が出現する結晶構造を有するγ−アルミナを用
いることを特徴とする。更に、本発明の好ましい態様に
係る排ガスの処理方法は、更に排ガスにＨ2、Ｏ2及びＨ
2Ｏのいずれか１種以上の分解補助ガスを添加すること
を特徴とする。
かも長時間にわたって処理することが可能である排ガス
の処理方法及び処理装置を提供する。更にはＰＦＣに加
えて、Ｆ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等の酸化性ガス、ＨＦ、ＨＣ
ｌ、ＨＢｒ、ＳｉＦ4、ＳｉＣｌ4、ＳｉＢｒ4、ＣＯＦ2
等の酸性ガスやＣＯをも効率よく処理することができる
排ガスの処理方法及び処理装置を提供する。 【解決手段】 本発明に係る排ガスの処理方法は、フッ
素含有化合物を含む排ガスを、前記排ガス中の固形物を
分離した後に触媒を用いて処理する方法であって、前記
触媒として、Ｘ線回折装置で測定した回折角２θのう
ち、３３゜±１゜、３７゜±１゜、４０゜±１゜、４６
゜±１゜、６７゜±１゜の５つの角度で強度１００以上
の回折線が出現する結晶構造を有するγ−アルミナを用
いることを特徴とする。更に、本発明の好ましい態様に
係る排ガスの処理方法は、更に排ガスにＨ2、Ｏ2及びＨ
2Ｏのいずれか１種以上の分解補助ガスを添加すること
を特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素含有化合物
を含む排ガスの処理方法に関し、特に半導体工業で、Ｃ
2Ｆ6、Ｃ3Ｆ8、ＣＦ4、ＣＨＦ3、ＳＦ6、ＮＦ3等のパー
フッ素化合物により半導体製造装置の内面等をドライク
リーニングする工程や各種成膜をエッチングする工程等
で排出されるパーフッ素化合物を効率よく、しかも長時
間にわたって処理することが可能である排ガスの処理方
法及び処理装置に関する。更に好ましい態様において
は、本発明は、上記に加えて、Ｆ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等の
酸化性ガス、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＳｉＦ4、ＳｉＣ
ｌ4、ＳｉＢｒ4、ＣＯＦ2等の酸性ガスやＣＯを効率よ
く処理することができる排ガスの処理方法及び処理装置
に関する。
を含む排ガスの処理方法に関し、特に半導体工業で、Ｃ
2Ｆ6、Ｃ3Ｆ8、ＣＦ4、ＣＨＦ3、ＳＦ6、ＮＦ3等のパー
フッ素化合物により半導体製造装置の内面等をドライク
リーニングする工程や各種成膜をエッチングする工程等
で排出されるパーフッ素化合物を効率よく、しかも長時
間にわたって処理することが可能である排ガスの処理方
法及び処理装置に関する。更に好ましい態様において
は、本発明は、上記に加えて、Ｆ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等の
酸化性ガス、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＳｉＦ4、ＳｉＣ
ｌ4、ＳｉＢｒ4、ＣＯＦ2等の酸性ガスやＣＯを効率よ
く処理することができる排ガスの処理方法及び処理装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体工業においては、半導体製造工程
の中で多種類の有害ガスが使用され、環境への汚染が懸
念される。エッチング工程やＣＶＤ工程等からの排ガス
中に含まれるパーフッ素化合物（ＰＦＣ）は、地球温暖
化ガスとしてその除去システムの確立が急務とされてい
る。
の中で多種類の有害ガスが使用され、環境への汚染が懸
念される。エッチング工程やＣＶＤ工程等からの排ガス
中に含まれるパーフッ素化合物（ＰＦＣ）は、地球温暖
化ガスとしてその除去システムの確立が急務とされてい
る。
【０００３】従来からＰＦＣの除去方法として、破壊技
術や回収技術が提案されており、特に破壊技術のうち触
媒加熱分解方式が種々提案されている。例えば、従来法
としては、アルミナに種々の金属を含有させてなるアル
ミナ系触媒を用いた排ガスの処理方法；金属としてのＮ
ａ量が０．１重量％以下であるアルミナを用いる排ガス
の処理方法；アルミナの存在下で分子状酸素と排ガスと
を接触させる排ガスの処理方法；水蒸気の存在下でＡｌ
を含む触媒を用いて２００〜８００℃の温度でフッ素含
有化合物を含む排ガスを処理する方法；各種金属触媒を
用いて、分子状酸素と水との存在下に、フッ素含有化合
物を含む排ガスを処理する方法；などが提案されてい
る。
術や回収技術が提案されており、特に破壊技術のうち触
媒加熱分解方式が種々提案されている。例えば、従来法
としては、アルミナに種々の金属を含有させてなるアル
ミナ系触媒を用いた排ガスの処理方法；金属としてのＮ
ａ量が０．１重量％以下であるアルミナを用いる排ガス
の処理方法；アルミナの存在下で分子状酸素と排ガスと
を接触させる排ガスの処理方法；水蒸気の存在下でＡｌ
を含む触媒を用いて２００〜８００℃の温度でフッ素含
有化合物を含む排ガスを処理する方法；各種金属触媒を
用いて、分子状酸素と水との存在下に、フッ素含有化合
物を含む排ガスを処理する方法；などが提案されてい
る。
【０００４】
【発明の解決しようとする課題】しかし、これらの従来
の提案では、未だ含フッ素化合物の分解率が低く、十分
な処理性能が得られなかったり、アルミナ触媒の寿命が
短く、一旦設定した処理系で、長時間に亘って連続して
処理することができないなどという問題があった。
の提案では、未だ含フッ素化合物の分解率が低く、十分
な処理性能が得られなかったり、アルミナ触媒の寿命が
短く、一旦設定した処理系で、長時間に亘って連続して
処理することができないなどという問題があった。
【０００５】そこで、本発明の目的は、従来技術が有す
る前記問題点を解決し、ＰＦＣの分解率が高く、長時間
有効にＰＦＣを分解除去することができるフッ素含有化
合物を含む排ガスの処理方法及び処理装置を提供するこ
とにある。
る前記問題点を解決し、ＰＦＣの分解率が高く、長時間
有効にＰＦＣを分解除去することができるフッ素含有化
合物を含む排ガスの処理方法及び処理装置を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明者は鋭意研究を重ねた結果、種々の結晶構造
を有するアルミナのうち、特定の結晶構造を有するもの
を用いることで前記目的を達成しうることを見出した。
即ち、本発明は、フッ素含有化合物を含む排ガスを触媒
を用いて処理する方法であって、該触媒として、Ｘ線回
折装置で測定した回折角２θのうち、３３゜±１゜、３
７゜±１゜、４０゜±１゜、４６゜±１゜、６７゜±１
゜の５つの角度で強度１００以上の回折線が出現する結
晶構造を有するγ−アルミナを用いることを特徴とする
排ガスの処理方法に関する。
に、本発明者は鋭意研究を重ねた結果、種々の結晶構造
を有するアルミナのうち、特定の結晶構造を有するもの
を用いることで前記目的を達成しうることを見出した。
即ち、本発明は、フッ素含有化合物を含む排ガスを触媒
を用いて処理する方法であって、該触媒として、Ｘ線回
折装置で測定した回折角２θのうち、３３゜±１゜、３
７゜±１゜、４０゜±１゜、４６゜±１゜、６７゜±１
゜の５つの角度で強度１００以上の回折線が出現する結
晶構造を有するγ−アルミナを用いることを特徴とする
排ガスの処理方法に関する。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を更に詳細に説明す
る。
る。
【０００８】まず、本発明において用いられる前記の結
晶構造を有するγ−アルミナについて説明する。
晶構造を有するγ−アルミナについて説明する。
【０００９】元来、活性アルミナとは、水和物（３水和
物：Ａｌ2Ｏ3・３Ｈ2Ｏ、１水和物：Ａｌ2Ｏ3・Ｈ2Ｏ）
とα−アルミナ（構造が緻密）の中間体とをいい、Ａｌ
2Ｏ 3で表される。
物：Ａｌ2Ｏ3・３Ｈ2Ｏ、１水和物：Ａｌ2Ｏ3・Ｈ2Ｏ）
とα−アルミナ（構造が緻密）の中間体とをいい、Ａｌ
2Ｏ 3で表される。
【００１０】活性アルミナは、７種類（カッパ、シー
タ、デルタ、ガンマ、イータ、カイ、ロー）の準安定ア
ルミナに分類される。これらのアルミナは、ふつうアル
ミナ水和物の加熱処理によって得られ、Ａｌ2Ｏ3 １モ
ルあたり０〜０．５モルの水を含んでいるが、その含量
は熱処理温度によって変わる。
タ、デルタ、ガンマ、イータ、カイ、ロー）の準安定ア
ルミナに分類される。これらのアルミナは、ふつうアル
ミナ水和物の加熱処理によって得られ、Ａｌ2Ｏ3 １モ
ルあたり０〜０．５モルの水を含んでいるが、その含量
は熱処理温度によって変わる。
【００１１】γ−アルミナは、こうした活性アルミナの
１種類であり、特定の結晶構造（Ｘ線回折ピークのパタ
ーン）を有するアルミナが、不安定で活性が高いとされ
ている。そして、水和物の種類や製造方法の違いにより
活性の異なる種々のγ−アルミナができる。本発明者
は、このような種々の結晶構造を有するγ−アルミナに
ついて、結晶構造の違いによるフッ素含有化合物の分解
性能について検討した結果、Ｘ線回折装置で測定した回
折角２θのうち、３３゜±１゜、３７゜±１゜、４０゜
±１゜、４６゜±１゜、６７゜±１゜の５つの角度で、
それぞれ強度１００以上の回折線が出現する結晶構造を
有するγ−アルミナ（以下、「本γ−アルミナ」という
場合にはこの結晶構造を有するγ−アルミナを指す）
が、特に優れた分解性能を有することを見出し、本発明
を完成するに至った。
１種類であり、特定の結晶構造（Ｘ線回折ピークのパタ
ーン）を有するアルミナが、不安定で活性が高いとされ
ている。そして、水和物の種類や製造方法の違いにより
活性の異なる種々のγ−アルミナができる。本発明者
は、このような種々の結晶構造を有するγ−アルミナに
ついて、結晶構造の違いによるフッ素含有化合物の分解
性能について検討した結果、Ｘ線回折装置で測定した回
折角２θのうち、３３゜±１゜、３７゜±１゜、４０゜
±１゜、４６゜±１゜、６７゜±１゜の５つの角度で、
それぞれ強度１００以上の回折線が出現する結晶構造を
有するγ−アルミナ（以下、「本γ−アルミナ」という
場合にはこの結晶構造を有するγ−アルミナを指す）
が、特に優れた分解性能を有することを見出し、本発明
を完成するに至った。
【００１２】このような結晶構造を有するγ−アルミナ
は、例えば、アルミナゾルを、球状アルミナヒドロゲル
（Ａｌ(ＯＨ)y・ｎＨ2Ｏ）として焼成することにより得
ることができる。
は、例えば、アルミナゾルを、球状アルミナヒドロゲル
（Ａｌ(ＯＨ)y・ｎＨ2Ｏ）として焼成することにより得
ることができる。
【００１３】また、本γ−アルミナにおけるＮａ2Ｏの
含有量は、γ−アルミナ全体量中で０．０２ｗｔ％以下
であるのが、フッ素含有化合物の分解性能の点で好まし
い。
含有量は、γ−アルミナ全体量中で０．０２ｗｔ％以下
であるのが、フッ素含有化合物の分解性能の点で好まし
い。
【００１４】本発明で使用されるγ−アルミナは、前述
の結晶構造を持つものであればその形状は特に限定され
ないが、球状であるのが取り扱い上好ましい。また、本
発明で使用されるγ−アルミナの粒度は、通ガス時に通
気抵抗が上昇しない範囲であれば、接触面積を大きくと
るために細かいほうがよく、特に０．８ｍｍ〜２．６ｍ
ｍが好ましい。
の結晶構造を持つものであればその形状は特に限定され
ないが、球状であるのが取り扱い上好ましい。また、本
発明で使用されるγ−アルミナの粒度は、通ガス時に通
気抵抗が上昇しない範囲であれば、接触面積を大きくと
るために細かいほうがよく、特に０．８ｍｍ〜２．６ｍ
ｍが好ましい。
【００１５】このようなγ−アルミナの具体例として
は、水澤化学製の商品名「ネオビードＧＢ−０８」等の
市販品を挙げることができる。
は、水澤化学製の商品名「ネオビードＧＢ−０８」等の
市販品を挙げることができる。
【００１６】本発明に係る排ガスの処理方法を実施する
には、フッ素含有化合物を含む排ガスを前記のような結
晶構造を有する本γ−アルミナを触媒として用いて処理
することにより行うことができる。そして、好ましく
は、本γ−アルミナを６００〜９００℃、さらに好まし
くは６５０〜７５０℃に加熱する。
には、フッ素含有化合物を含む排ガスを前記のような結
晶構造を有する本γ−アルミナを触媒として用いて処理
することにより行うことができる。そして、好ましく
は、本γ−アルミナを６００〜９００℃、さらに好まし
くは６５０〜７５０℃に加熱する。
【００１７】本発明により処理することのできるフッ素
含有化合物としては、ＣＨＦ3等のフッ化炭化水素や、
Ｃ2Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＳＦ6，ＮＦ3等のパーフルオロ化合物
（ＰＦＣ）等が挙げられる。
含有化合物としては、ＣＨＦ3等のフッ化炭化水素や、
Ｃ2Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＳＦ6，ＮＦ3等のパーフルオロ化合物
（ＰＦＣ）等が挙げられる。
【００１８】前記フッ素含有化合物を含有する排ガスと
しては、半導体工業で半導体製造装置の内面等をドライ
クリーニングする工程や各種製膜をエッチングする工程
で排出される排ガスを挙げることができる。
しては、半導体工業で半導体製造装置の内面等をドライ
クリーニングする工程や各種製膜をエッチングする工程
で排出される排ガスを挙げることができる。
【００１９】また、本発明の好ましい態様においては、
ＰＦＣを効率よく分解できるのに加えて、酸化性ガス、
酸性ガスやＣＯをも処理することのできる方法が提供さ
れる。
ＰＦＣを効率よく分解できるのに加えて、酸化性ガス、
酸性ガスやＣＯをも処理することのできる方法が提供さ
れる。
【００２０】半導体製造工程から排出される排ガス中に
は、ＰＦＣばかりでなく、他にＦ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等の
酸化性ガス、ＨＦ、ＳｉＦ4、ＣＯＦ2、ＨＣｌ、ＨＢ
ｒ、ＳｉＣｌ4、ＳｉＢｒ4等の酸性ガスやＣＯが含まれ
る。Ｆ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等の酸化性ガスは、湿式処理し
ようとした場合、水だけでは完全に処理することができ
ず、アルカリ剤や還元剤を使用する必要があり、管理や
装置が複雑になる上にコストがかかる等の問題点があっ
た。また、ＣＯは、ＰＦＣの分解時に副生成物として発
生するため、これを分解除去する必要がある。
は、ＰＦＣばかりでなく、他にＦ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等の
酸化性ガス、ＨＦ、ＳｉＦ4、ＣＯＦ2、ＨＣｌ、ＨＢ
ｒ、ＳｉＣｌ4、ＳｉＢｒ4等の酸性ガスやＣＯが含まれ
る。Ｆ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等の酸化性ガスは、湿式処理し
ようとした場合、水だけでは完全に処理することができ
ず、アルカリ剤や還元剤を使用する必要があり、管理や
装置が複雑になる上にコストがかかる等の問題点があっ
た。また、ＣＯは、ＰＦＣの分解時に副生成物として発
生するため、これを分解除去する必要がある。
【００２１】本発明の好ましい態様においては、処理す
べき排ガスに、Ｈ2、Ｏ2、Ｈ2Ｏのいずれか１種以上の
分解補助ガスを添加して前記処理を行う。このような分
解補助ガスを用いることにより、本γ−アルミナの触媒
としての寿命を更に格段に延長させることができ、より
長時間効率よく前記排ガスの処理を行うことができる。
また、ＰＦＣの分解工程で副生成物として発生するＣＯ
をも効率的に分解することができる。
べき排ガスに、Ｈ2、Ｏ2、Ｈ2Ｏのいずれか１種以上の
分解補助ガスを添加して前記処理を行う。このような分
解補助ガスを用いることにより、本γ−アルミナの触媒
としての寿命を更に格段に延長させることができ、より
長時間効率よく前記排ガスの処理を行うことができる。
また、ＰＦＣの分解工程で副生成物として発生するＣＯ
をも効率的に分解することができる。
【００２２】前記分解補助ガスを添加した場合には、Ｐ
ＦＣ等のフッ素含有化合物や、酸化性ガス、ＣＯは、次
の反応式に従い、酸性ガスとＣＯ2とに分解される。 ＣＦ4＋２Ｈ2＋Ｏ2 → ＣＯ2＋４ＨＦ ＣＦ4＋２Ｈ2Ｏ＋Ｏ2 → ＣＯ2＋４ＨＦ＋Ｏ2 Ｆ2＋Ｈ2 → ２ＨＦ ２Ｆ2＋２Ｈ2Ｏ → ４ＨＦ＋Ｏ2 ２ＣＯ＋Ｏ2 → ２ＣＯ2 すなわち、ＣＦ4は、Ｈ2とＯ2又はＨ2Ｏとの反応により
ＣＯ2とＨＦとに分解され、Ｆ2等の酸化性ガスはＨ2又
はＨ2Ｏとの反応によりＨＦ等の酸性ガスに分解され、
ＣＯはＣＯ2に酸化される。
ＦＣ等のフッ素含有化合物や、酸化性ガス、ＣＯは、次
の反応式に従い、酸性ガスとＣＯ2とに分解される。 ＣＦ4＋２Ｈ2＋Ｏ2 → ＣＯ2＋４ＨＦ ＣＦ4＋２Ｈ2Ｏ＋Ｏ2 → ＣＯ2＋４ＨＦ＋Ｏ2 Ｆ2＋Ｈ2 → ２ＨＦ ２Ｆ2＋２Ｈ2Ｏ → ４ＨＦ＋Ｏ2 ２ＣＯ＋Ｏ2 → ２ＣＯ2 すなわち、ＣＦ4は、Ｈ2とＯ2又はＨ2Ｏとの反応により
ＣＯ2とＨＦとに分解され、Ｆ2等の酸化性ガスはＨ2又
はＨ2Ｏとの反応によりＨＦ等の酸性ガスに分解され、
ＣＯはＣＯ2に酸化される。
【００２３】ここで、Ｈ2，Ｏ2，Ｈ2Ｏの添加量は、Ｐ
ＦＣについては、ＰＦＣ中のＦ原子がＨＦになるのに必
要なモル数以上のＨ2及び／又はＨ2Ｏ、Ｃ原子がＣＯ2
になるのに必要なモル数（最小値）以上のＯ2とするの
が好ましい。更には、Ｈ2及び／又はＨ2ＯについてはＰ
ＦＣ１モルに対して６倍〜２０倍とし、Ｏ2については
上述の最小値に１モル加えたモル数以上とするのが好ま
しい。また、酸化性ガスについては、酸化性ガス中のハ
ロゲン原子（Ｘ）が酸性ガス（ＨＸ）になるのに必要な
モル数以上のＨ2とするのが好ましい。
ＦＣについては、ＰＦＣ中のＦ原子がＨＦになるのに必
要なモル数以上のＨ2及び／又はＨ2Ｏ、Ｃ原子がＣＯ2
になるのに必要なモル数（最小値）以上のＯ2とするの
が好ましい。更には、Ｈ2及び／又はＨ2ＯについてはＰ
ＦＣ１モルに対して６倍〜２０倍とし、Ｏ2については
上述の最小値に１モル加えたモル数以上とするのが好ま
しい。また、酸化性ガスについては、酸化性ガス中のハ
ロゲン原子（Ｘ）が酸性ガス（ＨＸ）になるのに必要な
モル数以上のＨ2とするのが好ましい。
【００２４】本発明の処理方法を実施するための装置の
１実施形態としては、排ガス中の固形物を分離するため
の固形物分離装置と、前記の結晶構造を有する本γ−ア
ルミナが充填されてなる触媒処理装置と、酸性ガス処理
装置とが、配管を介して連結されている装置を挙げるこ
とができる。
１実施形態としては、排ガス中の固形物を分離するため
の固形物分離装置と、前記の結晶構造を有する本γ−ア
ルミナが充填されてなる触媒処理装置と、酸性ガス処理
装置とが、配管を介して連結されている装置を挙げるこ
とができる。
【００２５】ここで、固形物分離装置及び酸性ガス処理
装置としては、通常公知のものを特に制限なく用いるこ
とができる。例えば、固形物分離装置及び酸性ガス処理
装置として、水スクラバー（水スプレー塔）等を用いる
ことができる。
装置としては、通常公知のものを特に制限なく用いるこ
とができる。例えば、固形物分離装置及び酸性ガス処理
装置として、水スクラバー（水スプレー塔）等を用いる
ことができる。
【００２６】また、前記触媒処理装置は、本発明に係る
γ−アルミナ触媒を加熱するための加熱装置を有してい
ることが好ましい。具体例としては、触媒処理装置の外
周面がヒーターで覆われた円筒状の充填カラムからな
り、前記充填カラムの上面が排ガス注入管に連結されて
おり、下面が処理後の排ガス排出管に連結されている構
造のものを挙げることができ、前記充填カラム中に前記
γ−アルミナを充填して用いることができる。
γ−アルミナ触媒を加熱するための加熱装置を有してい
ることが好ましい。具体例としては、触媒処理装置の外
周面がヒーターで覆われた円筒状の充填カラムからな
り、前記充填カラムの上面が排ガス注入管に連結されて
おり、下面が処理後の排ガス排出管に連結されている構
造のものを挙げることができ、前記充填カラム中に前記
γ−アルミナを充填して用いることができる。
【００２７】本発明の好ましい態様に係る排ガスの処理
方法を実施するには、例えば以下のようにして行うこと
ができる。
方法を実施するには、例えば以下のようにして行うこと
ができる。
【００２８】まず、排ガスを前段の固形物分離装置に通
し、ここで、固形物を除去する。また、前記ヒーターに
より充填カラム中の本発明に係るγ−アルミナを６００
〜９００℃の温度に加熱し、その後、固形物の除去され
た排ガスを、前記分解補助ガスと共に、γ−アルミナを
充填した触媒処理装置に通し、γ−アルミナの触媒作用
により、ＰＦＣ等のフッ素含有化合物を酸性ガスとＣＯ
2とに分解し、更に、酸化性ガス及びＣＯの分解も同時
に行う。このように、前記分解補助ガスと前記排ガスと
は、混合された混合ガスとして触媒が充填されて形成さ
れた触媒層に注入されるのが好ましい。
し、ここで、固形物を除去する。また、前記ヒーターに
より充填カラム中の本発明に係るγ−アルミナを６００
〜９００℃の温度に加熱し、その後、固形物の除去され
た排ガスを、前記分解補助ガスと共に、γ−アルミナを
充填した触媒処理装置に通し、γ−アルミナの触媒作用
により、ＰＦＣ等のフッ素含有化合物を酸性ガスとＣＯ
2とに分解し、更に、酸化性ガス及びＣＯの分解も同時
に行う。このように、前記分解補助ガスと前記排ガスと
は、混合された混合ガスとして触媒が充填されて形成さ
れた触媒層に注入されるのが好ましい。
【００２９】触媒処理装置からの排ガス中には、酸性ガ
ス（ＨＸ）とＣＯ2のみが存在し、水スプレー塔等の酸
性ガス処理装置で酸性ガスを除去して、排ガスの処理を
終了することができる。
ス（ＨＸ）とＣＯ2のみが存在し、水スプレー塔等の酸
性ガス処理装置で酸性ガスを除去して、排ガスの処理を
終了することができる。
【００３０】図１に本発明の好ましい態様に係る排ガス
処理装置のフロー概略図を示す。図１において、１は固
形物分離装置（水スプレー塔）、２は本発明に係る特定
の結晶構造を有するγ−アルミナ充填層、３は触媒処理
装置、４は洗浄水循環ポンプ、５は酸性ガス処理装置
（水スプレー塔）、６はＦＴ−ＩＲ分析装置、７は空気
エジェクター、８はバイパスバルブである。
処理装置のフロー概略図を示す。図１において、１は固
形物分離装置（水スプレー塔）、２は本発明に係る特定
の結晶構造を有するγ−アルミナ充填層、３は触媒処理
装置、４は洗浄水循環ポンプ、５は酸性ガス処理装置
（水スプレー塔）、６はＦＴ−ＩＲ分析装置、７は空気
エジェクター、８はバイパスバルブである。
【００３１】ＰＦＣ、酸化性ガス、酸性ガス、ＣＯを含
んだ排ガス９は、先ずスプレー塔である固形物分離装置
１に通ガスされ、ここで固形物やＳｉ化合物が除去され
る。次に、本γ−アルミナ２を充填した触媒処理装置３
に通ガスされ、Ｈ2、Ｏ2、Ｈ 2Ｏを導入して、ＰＦＣ、
酸化性ガス、ＣＯが酸性ガスとＣＯ2に分解される。更
に、後段のスプレー塔である酸性ガス処理装置５で酸性
ガスが除去され、処理ガス１０として排出される。ま
た、これらの処理装置内の圧力を調整するために、空気
エジェクター７を設け、処理ガスの管理のためにＦＴ−
ＩＲ分析装置６を汲み込んだ装置とすることが好まし
い。スプレー塔に用いる水は、酸性ガス処理装置５のス
プレー塔に水１１を導入して用い、この使用済の水を洗
浄水循環ポンプ４により、固形物分離装置１のスプレー
に用いた後、排水として排出する。
んだ排ガス９は、先ずスプレー塔である固形物分離装置
１に通ガスされ、ここで固形物やＳｉ化合物が除去され
る。次に、本γ−アルミナ２を充填した触媒処理装置３
に通ガスされ、Ｈ2、Ｏ2、Ｈ 2Ｏを導入して、ＰＦＣ、
酸化性ガス、ＣＯが酸性ガスとＣＯ2に分解される。更
に、後段のスプレー塔である酸性ガス処理装置５で酸性
ガスが除去され、処理ガス１０として排出される。ま
た、これらの処理装置内の圧力を調整するために、空気
エジェクター７を設け、処理ガスの管理のためにＦＴ−
ＩＲ分析装置６を汲み込んだ装置とすることが好まし
い。スプレー塔に用いる水は、酸性ガス処理装置５のス
プレー塔に水１１を導入して用い、この使用済の水を洗
浄水循環ポンプ４により、固形物分離装置１のスプレー
に用いた後、排水として排出する。
【００３２】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３３】実施例１ 回折角２θのうち３３゜±１゜、３７゜±１゜、４０゜
±１゜、４６゜±１゜、６７゜±１゜の５つの角度で強
度１００以上の回折線が出現する結晶構造を持つγ−ア
ルミナとして水澤化学製の市販品（商品名「ネオビード
ＧＢ−０８」、Ｎａ2Ｏ含有量０．０１ｗｔ％以下）を
用い、またその粒径は０．８ｍｍとした。ネオビードＧ
Ｂ−０８の結晶構造は、理学電機社製Ｘ線回折分析計Ｒ
ＩＮＴ−２０００を用い、Ｘ線源としてＣｕＫα線を用
いて測定を行い確認した。充填カラムとして内径２５ｍ
ｍの石英製カラムを用い、これに層高１００ｍｍとなる
ように、前記γ−アルミナを充填した。この充填カラム
をセラミック電気管状炉に装着し、触媒層を８００℃に
加熱した。
±１゜、４６゜±１゜、６７゜±１゜の５つの角度で強
度１００以上の回折線が出現する結晶構造を持つγ−ア
ルミナとして水澤化学製の市販品（商品名「ネオビード
ＧＢ−０８」、Ｎａ2Ｏ含有量０．０１ｗｔ％以下）を
用い、またその粒径は０．８ｍｍとした。ネオビードＧ
Ｂ−０８の結晶構造は、理学電機社製Ｘ線回折分析計Ｒ
ＩＮＴ−２０００を用い、Ｘ線源としてＣｕＫα線を用
いて測定を行い確認した。充填カラムとして内径２５ｍ
ｍの石英製カラムを用い、これに層高１００ｍｍとなる
ように、前記γ−アルミナを充填した。この充填カラム
をセラミック電気管状炉に装着し、触媒層を８００℃に
加熱した。
【００３４】ここに、Ｎ2ガスでＣＦ4を希釈してなる疑
似排ガスに、分解補助ガスとしてＨ 2及びＯ2を、Ｈ
2は、ＣＦ4のＦ原子量に対してＨ原子量が等原子量以上
となる量で、また、Ｏ2は、導入するＨ2量の等モル以上
になるように混合し、得られた混合ガスを流量４０８ｓ
ｃｃｍで、流入濃度はそれぞれ混合ガス中ＣＦ4 １ｗ
ｔ％、Ｈ2 ３．０ｗｔ％、Ｏ2 ５．７ｗｔ％となるよ
うに、前記充填カラム中に注入した。処理性能をみるた
め、カラムの出口から排出される処理済みのガスを適宜
分析し、ＣＦ4の除去率が９８％以下に下がった時点で
通ガスを停止し、それまでの通ガス量からＣＦ4の処理
量を求めた。ＣＦ4の分析は、質量検出器付ガスクロマ
トグラフ装置によった。
似排ガスに、分解補助ガスとしてＨ 2及びＯ2を、Ｈ
2は、ＣＦ4のＦ原子量に対してＨ原子量が等原子量以上
となる量で、また、Ｏ2は、導入するＨ2量の等モル以上
になるように混合し、得られた混合ガスを流量４０８ｓ
ｃｃｍで、流入濃度はそれぞれ混合ガス中ＣＦ4 １ｗ
ｔ％、Ｈ2 ３．０ｗｔ％、Ｏ2 ５．７ｗｔ％となるよ
うに、前記充填カラム中に注入した。処理性能をみるた
め、カラムの出口から排出される処理済みのガスを適宜
分析し、ＣＦ4の除去率が９８％以下に下がった時点で
通ガスを停止し、それまでの通ガス量からＣＦ4の処理
量を求めた。ＣＦ4の分析は、質量検出器付ガスクロマ
トグラフ装置によった。
【００３５】その結果、通ガスを開始して９２０ｍｉｎ
後に除去率が９８％に下がり、この時点でのＣＦ4の通
ガス量から処理量を求めると７７リットル／リットルと
なった。この間のＣＯの排出濃度は、常時許容濃度（２
５ｐｐｍ）以下であった。
後に除去率が９８％に下がり、この時点でのＣＦ4の通
ガス量から処理量を求めると７７リットル／リットルと
なった。この間のＣＯの排出濃度は、常時許容濃度（２
５ｐｐｍ）以下であった。
【００３６】実施例２ 実施例１と同じ装置を用い、γ−アルミナの充填量は実
施例１と同じにして、以下のように処理を行った。
施例１と同じにして、以下のように処理を行った。
【００３７】温度を７００℃にし、総ガス流量は４０８
ｓｃｃｍで、分解補助ガスをＨ2ＯとＯ2とし、Ｈ2Ｏを
流量比でＣＦ4の１４倍に相当する量の０．０４１ｍｌ
／ｍｉｎ注入し、Ｏ2はＣＦ4のＣ原子がＣＯ2になるの
に必要なモル数以上の量注入した。得られた混合ガスに
おける流入濃度は、それぞれＣＦ4 ０．８８％、Ｏ
2３．０％とした。
ｓｃｃｍで、分解補助ガスをＨ2ＯとＯ2とし、Ｈ2Ｏを
流量比でＣＦ4の１４倍に相当する量の０．０４１ｍｌ
／ｍｉｎ注入し、Ｏ2はＣＦ4のＣ原子がＣＯ2になるの
に必要なモル数以上の量注入した。得られた混合ガスに
おける流入濃度は、それぞれＣＦ4 ０．８８％、Ｏ
2３．０％とした。
【００３８】そして、実施例１と同様にして処理性能を
見た結果、通ガス７４ｈｒまでは除去率９９％以上の処
理が可能で、通ガス９４ｈｒ後においてＣＦ4の除去率
が９８％に低下し、このときの処理量は４１３リットル
／リットルであった。また、この間ＣＯは常時許容濃度
以下に処理されていた。実施例１と実施例２とを比較す
ることにより、同じγ−アルミナを用いた場合でも、分
解補助ガスとしてＨ2Ｏ／Ｏ2を用いると（実施例２）、
Ｈ2／Ｏ2を用いた場合よりも優れた分解性能を示すこと
が分かった。
見た結果、通ガス７４ｈｒまでは除去率９９％以上の処
理が可能で、通ガス９４ｈｒ後においてＣＦ4の除去率
が９８％に低下し、このときの処理量は４１３リットル
／リットルであった。また、この間ＣＯは常時許容濃度
以下に処理されていた。実施例１と実施例２とを比較す
ることにより、同じγ−アルミナを用いた場合でも、分
解補助ガスとしてＨ2Ｏ／Ｏ2を用いると（実施例２）、
Ｈ2／Ｏ2を用いた場合よりも優れた分解性能を示すこと
が分かった。
【００３９】比較例１ 回折角２θのうち、３７゜±１゜、４６゜±１゜、６７
゜±１゜の３つの角度で強度１００以上の回折線が出現
する結晶構造を持つ比較品としてのγ−アルミナとして
水澤化学製の市販品（商品名「ネオビードＧＢ−２
６」、Ｎａ2Ｏ含有量０．０２ｗｔ％）を触媒に用い、
また粒径は粉砕して０．８ｍｍにふるい分けた。ネオビ
ードＧＢ−２６の結晶構造は、理学電機社製Ｘ線回折分
析計ＲＩＮＴ−２０００を用い、Ｘ線源としてＣｕＫα
線を用いて測定を行い確認した。
゜±１゜の３つの角度で強度１００以上の回折線が出現
する結晶構造を持つ比較品としてのγ−アルミナとして
水澤化学製の市販品（商品名「ネオビードＧＢ−２
６」、Ｎａ2Ｏ含有量０．０２ｗｔ％）を触媒に用い、
また粒径は粉砕して０．８ｍｍにふるい分けた。ネオビ
ードＧＢ−２６の結晶構造は、理学電機社製Ｘ線回折分
析計ＲＩＮＴ−２０００を用い、Ｘ線源としてＣｕＫα
線を用いて測定を行い確認した。
【００４０】実施例１と同じ試験装置で、γ−アルミナ
の充填量は実施例１と同じにして、以下のように処理を
行った。温度は７００℃にし、総ガス流量は４０８ｓｃ
ｃｍで、分解補助ガスを、Ｈ2ＯとＯ2とし、Ｈ2Ｏを流
量比でＣＦ4の２０倍に相当する量の０．０５６ｍｌ／
ｍｉｎ注入し、Ｏ2はＣＦ4のＣ原子がＣＯ2になるのに
必要なモル数以上の量注入した。得られた混合ガスにお
ける流入濃度は、それぞれＣＦ4 ０．８６％、Ｏ2
３．１％とした。
の充填量は実施例１と同じにして、以下のように処理を
行った。温度は７００℃にし、総ガス流量は４０８ｓｃ
ｃｍで、分解補助ガスを、Ｈ2ＯとＯ2とし、Ｈ2Ｏを流
量比でＣＦ4の２０倍に相当する量の０．０５６ｍｌ／
ｍｉｎ注入し、Ｏ2はＣＦ4のＣ原子がＣＯ2になるのに
必要なモル数以上の量注入した。得られた混合ガスにお
ける流入濃度は、それぞれＣＦ4 ０．８６％、Ｏ2
３．１％とした。
【００４１】そして、実施例１と同様にして処理性能を
見た結果、通ガス３３ｈｒまでは除去率９９％以上の処
理が可能で、通ガス５０ｈｒ後においてＣＦ4の除去率
が９８％に低下し、このときの処理量は２１４リットル
／リットルであった。この間ＣＯは常時許容濃度以下に
処理されていた。
見た結果、通ガス３３ｈｒまでは除去率９９％以上の処
理が可能で、通ガス５０ｈｒ後においてＣＦ4の除去率
が９８％に低下し、このときの処理量は２１４リットル
／リットルであった。この間ＣＯは常時許容濃度以下に
処理されていた。
【００４２】比較例２ 回折角２θのうち、３７゜±１゜、４６゜±１゜、６７
゜±１゜の３つの角度で強度１００以上の回折線が出現
する結晶構造を持つ比較品としてのγ−アルミナとして
水澤化学製の市販品（商品名「ネオビードＧＢ−４
５」、Ｎａ2Ｏ含有量０．０１ｗｔ％以下）を触媒に用
い、また粒径は粉砕して０．８ｍｍにふるい分けた。ネ
オビードＧＢ−４５の結晶構造は、理学電機社製Ｘ線回
折分析計ＲＩＮＴ−２０００を用い、Ｘ線源としてＣｕ
Ｋα線を用いて測定を行い確認した。
゜±１゜の３つの角度で強度１００以上の回折線が出現
する結晶構造を持つ比較品としてのγ−アルミナとして
水澤化学製の市販品（商品名「ネオビードＧＢ−４
５」、Ｎａ2Ｏ含有量０．０１ｗｔ％以下）を触媒に用
い、また粒径は粉砕して０．８ｍｍにふるい分けた。ネ
オビードＧＢ−４５の結晶構造は、理学電機社製Ｘ線回
折分析計ＲＩＮＴ−２０００を用い、Ｘ線源としてＣｕ
Ｋα線を用いて測定を行い確認した。
【００４３】実施例１と同じ試験装置で、前記の比較品
としてのγ−アルミナの充填量は実施例１と同じにし
て、以下のように処理を行った。温度は７００℃にし、
総ガス流量は４０８ｓｃｃｍで、分解補助ガスを、Ｈ2
ＯとＯ2とし、Ｈ2Ｏを流量比でＣＦ4の２０倍に相当す
る量の０．０５７ｍｌ／ｍｉｎ注入し、Ｏ2はＣＦ4のＣ
原子がＣＯ2になるのに必要なモル数以上の量注入し
た。得られた混合ガスにおける流入濃度は、それぞれＣ
Ｆ4 ０．８７％、Ｏ2 ３．１％とした。
としてのγ−アルミナの充填量は実施例１と同じにし
て、以下のように処理を行った。温度は７００℃にし、
総ガス流量は４０８ｓｃｃｍで、分解補助ガスを、Ｈ2
ＯとＯ2とし、Ｈ2Ｏを流量比でＣＦ4の２０倍に相当す
る量の０．０５７ｍｌ／ｍｉｎ注入し、Ｏ2はＣＦ4のＣ
原子がＣＯ2になるのに必要なモル数以上の量注入し
た。得られた混合ガスにおける流入濃度は、それぞれＣ
Ｆ4 ０．８７％、Ｏ2 ３．１％とした。
【００４４】そして、実施例１と同様にして処理性能を
見た結果、通ガス２７ｈｒまでは除去率９９％以上の処
理が可能で、通ガス４１ｈｒ後においてＣＦ4の除去率
が９８％に低下し、このときの処理量は１７７リットル
／リットルであった。この間ＣＯは常時許容濃度以下に
処理されていた。
見た結果、通ガス２７ｈｒまでは除去率９９％以上の処
理が可能で、通ガス４１ｈｒ後においてＣＦ4の除去率
が９８％に低下し、このときの処理量は１７７リットル
／リットルであった。この間ＣＯは常時許容濃度以下に
処理されていた。
【００４５】比較例３ 回折角２θのうち、３７゜±１゜、４６゜±１゜、６７
゜±１゜の３つの角度で強度１００以上の回折線が出現
する結晶構造を持つ比較品としてのγ−アルミナとして
水澤化学製の市販品（商品名「ネオビードＲＮ」、Ｎａ
2Ｏ含有量０．４８ｗｔ％）を触媒として用い、また粒
径は粉砕して０．８ｍｍにふるい分けた。ネオビードＲ
Ｎの結晶構造は、理学電機社製Ｘ線回折分析計ＲＩＮＴ
−２０００を用い、Ｘ線源としてＣｕＫα線を用いて測
定を行い確認した。
゜±１゜の３つの角度で強度１００以上の回折線が出現
する結晶構造を持つ比較品としてのγ−アルミナとして
水澤化学製の市販品（商品名「ネオビードＲＮ」、Ｎａ
2Ｏ含有量０．４８ｗｔ％）を触媒として用い、また粒
径は粉砕して０．８ｍｍにふるい分けた。ネオビードＲ
Ｎの結晶構造は、理学電機社製Ｘ線回折分析計ＲＩＮＴ
−２０００を用い、Ｘ線源としてＣｕＫα線を用いて測
定を行い確認した。
【００４６】実施例１と同じ試験装置で、前記の比較品
としてのγ−アルミナの充填量は実施例１と同じにし
て、以下のように処理を行った。
としてのγ−アルミナの充填量は実施例１と同じにし
て、以下のように処理を行った。
【００４７】すなわち、温度は７００℃にし、総ガス流
量は４０８ｓｃｃｍで、分解補助ガスを、Ｈ2ＯとＯ2と
し、Ｈ2Ｏを流量比でＣＦ4の２０倍に相当する量の０．
０５５ｍｌ／ｍｉｎ注入し、Ｏ2はＣＦ4のＣ原子がＣＯ
2になるのに必要なモル数以上の量注入した。得られた
混合ガスにおける流入濃度は、それぞれＣＦ4 ０．８
４％、Ｏ2 ３．１％とした。
量は４０８ｓｃｃｍで、分解補助ガスを、Ｈ2ＯとＯ2と
し、Ｈ2Ｏを流量比でＣＦ4の２０倍に相当する量の０．
０５５ｍｌ／ｍｉｎ注入し、Ｏ2はＣＦ4のＣ原子がＣＯ
2になるのに必要なモル数以上の量注入した。得られた
混合ガスにおける流入濃度は、それぞれＣＦ4 ０．８
４％、Ｏ2 ３．１％とした。
【００４８】そして、実施例１と同様にして処理性能を
見た結果、通ガス２ｈｒで、ＣＦ4が出口で２９５０ｐ
ｐｍ検出され、除去率は６３％に低下していた。
見た結果、通ガス２ｈｒで、ＣＦ4が出口で２９５０ｐ
ｐｍ検出され、除去率は６３％に低下していた。
【００４９】同じ分解補助ガス（Ｈ2Ｏ／Ｏ2）を用いた
実施例２と比較例１〜３とを比較すると、本発明に係る
特定の結晶構造を有するγ−アルミナ触媒が従来のγ−
アルミナと比較して極めて優れた分解性能を示すことが
分かる。
実施例２と比較例１〜３とを比較すると、本発明に係る
特定の結晶構造を有するγ−アルミナ触媒が従来のγ−
アルミナと比較して極めて優れた分解性能を示すことが
分かる。
【００５０】
【発明の効果】本発明によれば、半導体製造工程から排
出される有害且つ地球温暖化を促進させるＰＦＣ等のフ
ッ素化合物を含む排ガスを高い分解率で分解処理するこ
とが可能であり、しかも長い時間良好な分解処理性能で
処理を行うことができる。更に、本発明の好ましい態様
によれば、ＰＦＣを分解できるだけでなく、Ｆ2、Ｃ
ｌ2、Ｂｒ2等の酸化性ガス、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｓ
ｉＦ4、ＳｉＣｌ4、ＳｉＢｒ4、ＣＯＦ2等の酸性ガスや
ＣＯを効率よく処理することができる。
出される有害且つ地球温暖化を促進させるＰＦＣ等のフ
ッ素化合物を含む排ガスを高い分解率で分解処理するこ
とが可能であり、しかも長い時間良好な分解処理性能で
処理を行うことができる。更に、本発明の好ましい態様
によれば、ＰＦＣを分解できるだけでなく、Ｆ2、Ｃ
ｌ2、Ｂｒ2等の酸化性ガス、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｓ
ｉＦ4、ＳｉＣｌ4、ＳｉＢｒ4、ＣＯＦ2等の酸性ガスや
ＣＯを効率よく処理することができる。
【図１】本発明の一態様に係る排ガス処理装置のフロー
概略図である。
概略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/3065 Ｆターム(参考） 4D002 AA18 AA19 AA22 AA23 AA24 AA26 AC10 BA02 CA01 DA35 EA05 HA01 4D048 AA11 AB03 AC01 AC06 AC10 BA03X BA41X BB01 CC38 CC53 CD05 DA03 DA06 DA20 4G069 AA02 BA01A BA01B CA02 CA10 CA19 DA06 EA01X EB18Y EC22X 5F004 AA16 BC02 DA00 DA02 DA04 DA13 DA17 DA18 DA20 5F045 BB08 BB20 EF20 EG05 EG08 GB11
Claims (7)
- 【請求項１】 フッ素含有化合物を含む排ガスを、前記
排ガス中の固形物を分離した後に触媒を用いて処理する
方法であって、前記触媒として、Ｘ線回折装置で測定し
た回折角２θのうち、３３゜±１゜、３７゜±１゜、４
０゜±１゜、４６゜±１゜、６７゜±１゜の５つの角度
で強度１００以上の回折線が出現する結晶構造を有する
γ−アルミナを用いることを特徴とするフッ素含有化合
物を含む排ガスの処理方法。 - 【請求項２】 前記γ−アルミナを６００〜９００℃に
加熱し、更に、Ｈ2、Ｏ2及びＨ2Ｏのいずれか１種以上
の分解補助ガスを添加する請求項１記載のフッ素含有化
合物を含む排ガスの処理方法。 - 【請求項３】 処理された排ガスから酸性ガスを除去す
る工程を更に含む請求項１又は２に記載のフッ素含有化
合物を含む排ガスの処理方法。 - 【請求項４】 フッ素含有化合物を含む排ガスから固形
物を分離する固形物分離装置と、前記固形物分離装置か
らの排ガスを触媒によって処理するための触媒処理装置
とを有する処理装置であって、前記触媒処理装置に触媒
としてＸ線回折装置で測定した回折角２θのうち、３３
゜±１゜、３７゜±１゜、４０゜±１゜、４６゜±１
゜、６７゜±１゜の５つの角度で強度１００以上の回折
線が出現する結晶構造を有するγ−アルミナが充填され
ていることを特徴とする、フッ素含有化合物を含む排ガ
スの処理装置。 - 【請求項５】 前記固形物分離装置からの排ガスに分解
補助ガスとしてＨ2、Ｏ2及びＨ2Ｏのいずれか１種以上
を添加する添加手段を更に有する請求項４に記載のフッ
素含有化合物を含む排ガスの処理装置。 - 【請求項６】 前記触媒処理装置中のγ−アルミナを６
００〜９００℃に加熱する加熱手段を有する請求項４又
は５に記載のフッ素含有化合物を含む排ガスの処理装
置。 - 【請求項７】 触媒処理装置からの排ガスから酸性ガス
を除去する酸性ガス除去装置を更に有する請求項４〜６
のいずれかに記載のフッ素含有化合物を含む排ガスの処
理装置。
Priority Applications (5)
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|---|---|---|---|
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| EP2373249B1 (en) | 2008-12-30 | 2018-04-11 | Ultradent Products, Inc. | Dental curing light having unibody design that acts as a heat sink |
| FR3013606B1 (fr) * | 2013-11-28 | 2015-11-13 | Arkema France | Procede de purification d'acide chlorhydrique |
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| CN108579324B (zh) * | 2018-07-11 | 2023-05-09 | 遵义师范学院 | 一种回收含溴烟气中Br2的装置及方法 |
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| DE69820926T2 (de) | 1997-06-20 | 2004-09-02 | Hitachi, Ltd. | Verfahren, Vorrichtung und Verwendung eines Katalysators zur Zersetzung fluorierter Verbindungen |
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-
2000
- 2000-04-12 JP JP2000110668A patent/JP2001293335A/ja active Pending
-
2001
- 2001-04-10 TW TW090108515A patent/TW542746B/zh not_active IP Right Cessation
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- 2001-04-11 US US10/257,264 patent/US6790421B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-11 KR KR1020027013638A patent/KR20030001414A/ko not_active Application Discontinuation
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