WO2001076725A1 - Procede de traitement de gaz d'echappement contenant un compose fluore - Google Patents

Procede de traitement de gaz d'echappement contenant un compose fluore Download PDF

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WO2001076725A1
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gas
fluorine
catalyst
alumina
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Yoichi Mori
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Ebara Corporation
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    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
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    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/02—Boron or aluminium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J21/04—Alumina
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
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    • Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Definitions

  • the present invention relates to a method for treating an exhaust gas containing a fluorine-containing compound, and particularly to a semiconductor industry in a semiconductor industry by using a perfluorinated compound such as C 2 F 6 , C 3 F 8 , CF 4 , CHF 3 , SF 6 , and NF 3.
  • a perfluorinated compound such as C 2 F 6 , C 3 F 8 , CF 4 , CHF 3 , SF 6 , and NF 3.
  • Exhaust gas treatment method and treatment device that can efficiently treat perfluorinated compounds discharged in the process of dry cleaning the inner surface of the device and the process of etching various film formations over a long period of time About.
  • the present invention in addition to the above, F 2, C i 2, oxidizing gases Br 2, etc., HF, HC 1, HB r , S i F 4, S i C 1 4 , S i Br 4 , ⁇ ?
  • the present invention relates to a method and an apparatus for treating an exhaust gas capable of efficiently treating acidic gas and C ⁇ such as the second . Background art
  • an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to improve the PFC decomposition rate. It is to provide a device. Disclosure of the invention
  • the present invention relates to a method for treating exhaust gas containing a fluorine-containing compound using a catalyst, wherein the catalyst comprises 33 ° ⁇ 1 ° of a diffraction angle of 20 measured by an X-ray diffractometer. °, 37 ° ⁇ 1 °, 40 ° ⁇ 1 °, 46 ° soil, and a crystal structure with diffraction lines with an intensity of 100 or more appear at five angles of 67 ° ⁇ 1 °.
  • the present invention relates to a method for treating exhaust gas, which comprises using alumina.
  • FIG. 1 is a schematic flow chart of an exhaust gas treatment apparatus according to one embodiment of the present invention.
  • the active alumina hydrates trihydrate: A 1 2 0 3 ⁇ 3 H 2 ⁇ , 1 hydrate thereof: ⁇ 1 2 0 3 ⁇ ⁇ 2 ⁇
  • shed one alumina structure refers to the intermediate dense, represented by a 1 2 ⁇ 3.
  • Activated alumina is classified into seven types of metastable alumina (Kappa, Shi-Ichi, Delta, Gamma, I-Ichi, Chi, Rho). These aluminas are usually Obtained by heat treatment of hydrate, A 1 2 ⁇ 3 per mole 0-0. Although contains 5 moles of water, the content varies by the heat treatment temperature.
  • Alumina is one type of such activated alumina, and alumina having a specific crystal structure (X-ray diffraction peak pattern) is considered to be unstable and highly active. Then, various kinds of aluminas having different activities depending on the kind of the fuwa and the production method are produced.
  • the present inventor studied the decomposition performance of fluorine-containing compounds due to the difference in crystal structure of T-alumina having such various crystal structures.As a result, among the diffraction angles 2 measured with an X-ray diffractometer, A crystal structure in which diffraction lines with an intensity of 100 or more appear at five angles of 33 ° ⁇ 1 °, 37 ° ⁇ 1 °, 40 ° ⁇ ⁇ , 46 ° ⁇ , 67 ° Sat It has been found that an alumina having the following formula (hereinafter referred to as an “alumina having this crystal structure” when referred to as “the present ⁇ -alumina”) has particularly excellent ⁇ ⁇ performance, and has been completed. Reached. '
  • ⁇ having such a crystal structure - alumina, for example, alumina sol, it is possible to obtain by firing as spherical alumina hydrogel (A l (OH) y ⁇ nH 2 0).
  • the content of Na 2 ⁇ in the present alumina is preferably not more than 0.02 wt% in the whole amount of the alumina, in view of the ⁇ performance of the fluorine-containing conjugate.
  • the shape of the alumina used in the present invention is not particularly limited as long as it has the above-mentioned crystal structure, but a spherical shape is preferable in terms of force handling.
  • the particle size of T-alumina used in the present invention is preferably as small as possible in order to increase the contact area as long as the gas flow resistance does not increase when gas is passed, particularly from 0.8 mm to 2.6 mm. preferable.
  • Neobead GB-08J (trade name, manufactured by ⁇ ⁇ zawa Chemical Co., Ltd.).
  • the exhaust gas containing the fluorine-containing compound is converted into a book having the above-mentioned crystal structure.
  • "-Alumina can be used as a catalyst to carry out the treatment.
  • the present r-alumina is brought to a temperature of 600 to 900 ° C, more preferably to a temperature of 65 to 75 ° C. Heat.
  • the fluorine-containing compounds include fluorinated hydrocarbons such as CHF 3 and perfluoro compounds such as C 2 F 6 , C 3 F 8 , SF 6 and NF 3
  • Examples of the exhaust gas containing the fluorine-containing compound include an exhaust gas discharged in a process of dry cleaning an inner surface of a semiconductor manufacturing apparatus or a process of etching various films in the semiconductor industry.
  • Exhaust gas emitted from the semiconductor manufacturing process includes not only PFC but also oxidizing gases such as F 2 , Ci 2 , Br 2 , HF, Si F 4 , C ⁇ F 2 , HC 1, HB r,
  • S i C 1 4 includes acid gases and CO force such as S i B r 4.
  • F 2, C 1 2, B oxidizing gases r 2, etc. when trying cane wet processing, scratches that only water is fully processed, it is necessary to use an alkali agent or a reducing agent, management Ya There were problems such as complicated equipment and high cost. Also, since CO is generated as a by-product during PFC, it must be removed ⁇ .
  • the exhaust gas to be treated, H 2 performs the processing additive Caro the ⁇ 2, any one or more of the decomposition assist gas H 2 0.
  • a ?? auxiliary gas By using such a ?? auxiliary gas, the life of the present alumina as a catalyst can be further extended significantly, and the exhaust gas can be efficiently treated for a longer time.
  • CO generated as a by-product in the PFC decomposition process can be decomposed efficiently.
  • the added amount of H 2, ⁇ 2, H 2 0 is, for the PFC,? H 2 and / or H 2 ⁇ more than the number of moles required for the atoms in ⁇ to become HF, and ⁇ 2 more than the number of moles (minimum value) required for the C atoms to become C ⁇ 2 Is preferred. Further, it is preferable that H 2 and Z or H 2 ⁇ be 6 to 20 times with respect to 1 mol of PFC, and ⁇ 2 be at least the number of moles obtained by adding 1 mol to the above-mentioned minimum value. .
  • a halogen atom in the oxidizing gas (X) that force S preferably is with H 2 over moles required to become acidic gas (HX).
  • a solid substance separation apparatus for separating solid substances in exhaust gas, and a solid alumina having the above crystal structure are filled.
  • a device in which a catalyst treatment device and an acid gas treatment device are connected via a pipe can be cited.
  • the solid separation device and the acid gas treatment device generally known devices can be used without any particular limitation.
  • a water scrubber water spray tower or the like can be used as the solid separation device and the acid gas treatment device.
  • the catalyst treatment device has a heating device for heating the alumina catalyst according to the present invention.
  • the outer peripheral surface of the catalyst treatment device is formed of a cylindrical packed column covered with a heater, the upper surface of the packed column is connected to an exhaust gas injection pipe, and the lower surface is connected to a treated exhaust gas discharge pipe.
  • One having a connected structure can be mentioned, and the packed column can be filled with the r-alumina.
  • the method for treating exhaust gas according to a preferred embodiment of the present invention can be carried out, for example, as follows.
  • the exhaust gas is passed through the solid matter separation device at the preceding stage, where the solid matter is removed.
  • the heater also heats the alumina of the present invention in the packed column to a temperature of 600 to 900 ° C., and then removes the exhaust gas from which solids have been removed by the decomposition aid.
  • the gas is passed through a catalyst treatment device filled with alumina to produce alumina catalyst.
  • the use to decompose the fluorine-containing compounds such as PFC in the acid gas C_ ⁇ 2 and performs further Sani ⁇ gas and CO ⁇ ! Simultaneously.
  • the decomposition assist gas and the exhaust gas are injected as a mixed gas into the catalyst layer formed by filling the catalyst with the catalytic power S.
  • the exhaust gas from the catalytic treatment apparatus only C_ ⁇ 2 and acid gases (HX) is present in acid gas treatment apparatus, such as water spray tower to remove acid gases, it can terminate the processing of the exhaust gas .
  • FIG. 1 shows a schematic flow chart of an exhaust gas treatment apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
  • 1 is a solid separation device (water spray tower)
  • 2 is an alumina packed bed having a specific crystal structure according to the present invention
  • 3 is a catalyst treatment device
  • 4 is a washing water circulation pump
  • 5 is an acid Gas processing unit (7K spray tower)
  • 6 is FT-IR analyzer
  • 7 is air ejector
  • 8 is bypass valve.
  • Exhaust gas 9 containing PFC, oxidizing gas, acid gas, and CO is first passed through a solids separation device 1, which is a spray tower, where solids and Si compounds are removed.
  • a catalyst treatment device 3 filled with alumina 2 and H 2 , ⁇ 2 , H 2 ⁇ is introduced, and PFC, oxidizing gas, and CO are decomposed into acid gas and CO 2.
  • the acid gas is removed by an acid gas treatment device 5 which is a subsequent spray tower, and is discharged as a treatment gas 10.
  • an air ejector 17 is provided to adjust the pressure in these processing devices, and a device into which the FT-IR analyzer 6 is drawn in for controlling the processing gas.
  • the water used in the spray tower was introduced into the spray tower of the acid gas treatment equipment 5 and the water 11 was introduced into the spray tower.
  • the used water was used for spraying the solid matter separation device 1 by the washing water circulation pump 4 and then drained. To be discharged.
  • a crystal structure in which diffraction lines with an intensity of 100 or more appear at five angles of 33 ° ⁇ 1 °, 37 ° ⁇ ⁇ , 4 ° ⁇ 1 °, 46 ° ⁇ 1 °, and 67 ° ⁇ ⁇ out of 2 ° diffraction angle A commercial product manufactured by Mizusawa Chemical as an alumina (product name "NEOBEAD GB-08" Na 2 ⁇ content 0.01% by weight or less) and the particle size was 0.8 mm.
  • the crystal structure of Neobead GB-08 was confirmed by measurement using an X-ray diffraction analyzer RINT-2000 manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd., and using CuK ⁇ -> radiation as an X-ray source.
  • a quartz column having an inner diameter of 25 mm was used as a packing column, and the columnar alumina was filled so as to have a layer height of 100 mm.
  • This packed column was mounted on a ceramic electric tubular furnace, and the catalyst layer was heated to 800 ° C.
  • the pseudo exhaust gas obtained by diluting the CF 4 in N 2 gas, ⁇ H 2 and 0 2 as an auxiliary gas, H 2 is 0? 4?
  • H atoms that Do with an equal atomic weight or more with respect to atomic weight also ⁇ 2 were mixed so that the above equimolar H 2 amount to be introduced, the resulting et a mixed gas at a flow rate 408 sccm, flowing each mixed gas concentration CF 4 lwt%, H 2 3. 0wt%, so that ⁇ 2 5. 7 wt%, was injected into the filling power ram.
  • the processed gas discharged from the outlet of the column is analyzed as appropriate, and when the CF 4 removal rate falls to 98% or less, the gas flow is stopped, and the The throughput of CF 4 was determined. Analysis of CF 4 was by gas chromatograph with mass detector.
  • Example 2 Using the same apparatus as in Example 1, the same amount of alumina was used as in Example 1, and the following treatment was performed.
  • the temperature is brought to 700 ° C, a total gas flow rate at 408 sc cm, a decomposition assist gas to the H 2 0 and ⁇ 2, the amount of 0. 041 ml, which corresponds to 14 times the CF 4 and H 2 0 at a flow rate ratio / mi and n injection, ⁇ 2 was the amount injected over the moles necessary for the C atom of the CF 4 is C_ ⁇ 2.
  • the inflow concentration in the obtained mixed gas was CF 4
  • Example 2 As a result viewed to performance in the same manner as in Example 1, to a flow-through gas 74 hr is capable of dividing Saritsu 99% of the processing, the removal rate of CF 4 after passing gas 94 hr 9 8% The treatment amount at this time was 413 liters / liter. Also, During this time, CO was constantly treated to below the allowable concentration.
  • Neobead GB-26 The crystal structure of Neobead GB-26 was confirmed by measurement using an X-ray diffraction analyzer RINT-2000 manufactured by Rigaku Denki Co., using CuKo; rays as an X-ray source. Using the same test apparatus as in Example 1, the same amount of r-alumina was used as in Example 1, and the treatment was performed as follows. The temperature was 700 ° C, the total gas flow was 408 sccm, and the decomposition auxiliary gases were H 2 0 and 0 2 , and the H 2 0 flow rate ratio was 0.05 emlZmi, an amount equivalent to 20 times CF 4. n injection, ⁇ 2 ⁇ ? 4 (:. Atom is the amount or longer infusion moles required to be C_ ⁇ 2 flows in the mixed gas obtained concentrations, their respective CF 4 0. 86%, 0 2 3. 1% and did.
  • the removal rate was 99% or more up to 33 hr of passing gas, and the CF 4 removal rate was 98% after 50 hr of passing gas.
  • the throughput at this time was 214 liters Z liters. During this time
  • Neobead GB-45 As a comparison product with a crystal structure in which diffraction lines with an intensity of 100 or more appear at three angles of 37 ° ⁇ 1 °, 46 ° ⁇ 1 °, and 67 ° ⁇ 1 ° out of 20 diffraction angles Mizusawa chemical Co. commercially available (trade name "Neopi one de GB-45", Na 2 0 content of 0. 01wt% under) with the catalyst, the particle diameters sieved to 0. 8 mm and Kona ⁇ .
  • the crystal structure of Neobead GB-45 was confirmed by measurement using an X-ray diffraction analyzer RINT-2000 manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. using Cu C ⁇ -rays as an X-ray source.
  • Example 2 The same test apparatus as in Example 1 was used, and the processing was carried out as follows, with the same amount of monoalumina as the comparative product being the same as in Example 1. Temperature to 700 ° C, a total gas flow rate 408 sc cm, ⁇ auxiliary gas, 1 ⁇ 2 0 0 2, and 0 in an amount corresponding to 20 times the CF 4 at a flow rate ratio of H 2 ⁇ . 057ml / mi and n injection, 0 2. Of four . Atom is the amount or longer infusion moles required to be C_ ⁇ 2.
  • the removal rate was 99% or more at up to 27 hr of passing gas, and the CF 4 removal rate was 98% after 41 r of passing gas.
  • the throughput was 177 liters.
  • CO was constantly treated to below the allowable concentration.
  • Neobide RN was confirmed by measurement using a CuKa line as an X-ray source for an X-ray diffraction analyzer RINT-2000 manufactured by Rigaku Corporation.
  • Example 1 The same test apparatus as in Example 1 was used, and the processing was performed as follows, with the same filling amount of the alumina as the comparative product as in Example 1.
  • the total gas flow rate is 408 sccm
  • the decomposition assisting gases are H 2 0 and ⁇ 2
  • H 2 0 is a flow rate ratio of '0' corresponding to 20 times CF 4. . 055M LZM and in injecting, ⁇ 2 was the amount injected over the moles necessary for ⁇ atoms C 4 becomes ⁇ 0 2.
  • Inlet concentration in the mixed gas obtained is, CF 4 0. 84%, respectively, and the 0 2 3. 1%.
  • the alumina catalyst having a specific crystal structure according to the present invention is the same as the conventional alumina. It can be seen that the composition exhibits extremely excellent decomposition performance as compared with. Industrial applicability
  • ADVANTAGE OF THE INVENTION it is possible to decompose exhaust gas containing a fluorine compound such as PFC which emits harmful and promotes global warming emitted from a semiconductor manufacturing process at a high decomposition rate, and furthermore, it is possible to decompose the exhaust gas for a long time. Processing can be performed with decomposition processing performance. Further, according to a preferred embodiment of the present invention, not only can the PFC be angled, but also oxidizing gases such as F 2 , Cl 2 , Br 2 , HF, HC 1, HBr, Si F 4 , Si C 1 4,
  • the C OF 2 such as acid gases and CO can be force efficiently processed.

Description

明 細 書 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法 技術分野
本発明は、 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法に関し、 特に半導体工業 で、 C2F6、 C3F8、 CF4、 CHF3、 SF6、 NF 3等のパーフッ素化合物に より半導体製造装置の内面等をドライクリーニングする工程や各種成膜をエッチ ングする工程等で排出されるパーフッ素化合物を効率よく、 しかも長時間にわた つて処理することが可能である排ガスの処理方法及び処理装置に関する。 更に好 ましい態様においては、 本発明は、 上記に加えて、 F2、 C i 2、 Br2等の酸化 性ガス、 HF、 HC 1、 HB r、 S i F4、 S i C 14、 S i B r4、 〇〇？2等 の酸性ガスや C〇を効率よく処理することができる排ガスの処理方法及び処理装 置に関する。 背景技術
半導体工業においては、 半導体製造工程の中で多種類の有害ガスが使用され、 環境への汚染が懸念される。 エツチング工程や CVD工程等からの排ガス中に含 まれるパ一フッ素化合物 -(PFC) は、 地球温暖ィ匕ガスとしてその除去システム の確立が急務とされている。
¾έ¾から PFCの除去方法として、 破壊技術や回収技術が提案されており、 特 に破壌技術のうち触媒加熱^^方式が種々提案されている。 例えば、 従来法とし ては、 アルミナに種々の金属を含有させてなるアルミナ系触媒を用いた排ガスの 処理方法；金属としての N a量が 0. 1重量％以下であるアルミナを用いる排ガ スの処理方法；アルミナの存在下で分子状酸素と排ガスとを接触させる排ガスの 処理方法；水蒸気の存在下で A 1を含む触媒を用いて 200〜800°Cの温度で' フッ素含有化合物を含む排ガスを処理する方法；各種金属触媒を用いて、 状 酸素と水との存在下に、 フッ素含有化合物を含む排ガスを処理する方法；などが 提案されている。 しかし、 これらの従来の提案では、 未だ含フッ素化合物の分解率が低く、 十分 な処理性能が得られなかったり、 アルミナ触媒の寿命が短く、 一旦設定した処理 系で、 長時間に亘つて連続して処理すること力できないなどという問題があった。 そこで、 本発明の目的は、 従来技術が有する前記問題点を解決し、 P F Cの分 解率が高ぐ 長時間有効に P F Cを分解除去することができるフッ 有化合物 を含む排ガスの処理方法及び処理装置を提供することにある。 発明の開示
.前記課題を解決するために、 本発明者は鋭意研究を重ねた結果、 種々の結晶構 造を有するアルミナのうち、 特定の結晶構造を有するものを用いることで前記目 的を達成しうることを見出した。 即ち、 本発明は、 フッ素含有化合物を含む排ガ スを触媒を用いて処理する方法であって、 該触媒として、 X線回折装置で測定し た回折角 2 0のうち、 3 3° ± 1 ° 、 3 7° ± 1 ° 、 4 0° ± 1 ° 、 4 6° 土 Γ 、 6 7° ± 1 ° の 5つの角度で強度 1 0 0以上の回折線が出現する結晶構造 を有するァ一アルミナを用いることを特徴とする排ガスの処理方法に関する。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の一態様に係る排ガス処理装置のフロー概略図である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明を更に詳細に説明する。
まず、 本発明において用いられる前記の結晶構造を有するァ—アルミナについ て説明する。
元来、 活性アルミナとは、 水和物 （3水和物： A 1 203 · 3 H2〇、 1水和 物： Α 1 203 · Η2〇） とひ一アルミナ （構造が緻密） の中間体とをいい、 A 1 2〇3で表される。
活性アルミナは、 7種類 （カッパ、 シ一夕、 デルタ、 ガンマ、 ィ一夕、 カイ、 ロー） の準安定アルミナに分類される。 これらのアルミナは、 ふつうアルミナ水 和物の加熱処理によって得られ、 A 1 2〇3 1モルあたり 0〜0. 5モルの水 を含んでいるが、 その含量は熱処理温度によって変わる。
ァ—アルミナは、 こうした活性アルミナの 1種類であり、 特定の結晶構造 (X 線回折ピークのパターン） を有するアルミナが、 不安定で活性が高いとされてい る。 そして、 フ和物の種類や製造方法の違いにより活性の異なる種々のァ—アル ミナができる。 本発明者は、 このような種々の結晶構造を有する T一アルミナに ついて、 結晶構造の違いによるフッ素含有化合物の分解性能について検討した結 果、 X線回折装置で測定した回折角 2 のうち、 3 3 ° ± 1 ° 、 3 7° ± 1 ° 、 4 0° ± Γ 、 4 6° ± 、 6 7 ° 土 Γ の 5つの角度で、 それぞれ強度 1 0 0以上の回折線が出現する結晶構造を有するァ—アルミナ （以下、 「本 τ—アル ミナ」 という場合にはこの結晶構造を有するァ—アルミナを指す） が、 特に優れ た^ ^性能を有することを見出し、 本発明を完成するに至った。 '
このような結晶構造を有するァ—アルミナは、 例えば、 アルミナゾルを、 球状 アルミナヒドロゲル （A l (OH)y · nH20) として焼成することにより得るこ とができる。
また、 本ァ一アルミナにおける N a 2〇の含有量は、 ァーアルミナ全体量中で 0. 0 2w t %以下であるのが、 フッ素含有ィ匕合物の^^性能の点で好ましい。 本発明で使用されるァ—アルミナは、 前述の結晶構造を持つものであればその 形状は特に限定されないが、 球状であるの力取り扱い上好ましい。 また、 本発明 で使用される T—アルミナの粒度ば、 通ガス時に通気抵抗が上昇しない範囲であ れば、 接触面積を大きくとるために細かいほうがよく、 特に 0. 8mm〜2. 6 mmが好ましい。
このようなァ一アルミナの具体例としては、 τΚ澤化学製の商品名 「ネオビード GB - 0 8 J 等の市販品を挙げることができる。
本発明に係る排ガスの処理方法を実施するには、 フッ素含有化合物を含む排ガ スを前記のような結晶構造を有する本？ "—アルミナを触媒として用いて処理する ことにより行うことができる。 そして、 好ましくは、 本 r—アルミナを 6 0 0〜 9 0 0 °C、 さらに好ましくは 6 5 0〜7 5 0 °Cに加熱する。 本発明により処理することのできるフッ素含有化合物としては、 CHF 3等の フッ化炭化水素や、 C2F6, C3F8， SF6, NF 3等のパーフルォロ化合物
(PFC) 等が挙げられる。
前記フッ素含有化合物を含有する排ガスとしては、 半導体工業で半導体製造装 置の内面等をドライクリーニングする工程や各種製膜をエッチングする工程で排 出される排ガスを挙げることができる。
また、 本発明の好ましい態様においては、 PFCを効率よく分解できるのに加 えて、 酸化性ガス、 酸性ガスや COをも処理することのできる方法が提供される。 半導体製造工程から排出される排ガス中には、 PFCばかりでなく、 他に F2、 C i 2、 Br2等の酸化性ガス、 HF、 S i F4、 C〇F2、 HC 1、 HB r、
S i C 14、 S i B r4等の酸性ガスや CO力含まれる。 F2、 C 12、 B r 2等の 酸化性ガスは、 湿式処理しょうとした場合、 水だけでは完全に処理することがで きず、 アルカリ剤や還元剤を使用する必要があり、 管理や装置が複雑になる上に コストがかかる等の問題点があった。 また、 COは、 PFCの 時に副生成物 として発生するため、 これを^^除去する必要がある。
本発明の好ましい態様においては、 処理すべき排ガスに、 H2、 〇2、 H20の いずれか 1種以上の分解補助ガスを添カロして前記処理を行う。 このような^?補 助ガスを用いることにより、 本ァ—アルミナの触媒としての寿命を更に格段に延 長させることができ、 より長時間効率よく前記排ガスの処理を行うことができる。 また、 PFCの分解工程で副生成物として発生する COをも効率的に分解するこ とができる。
前記^！補助ガスを添加した場合には、 PFC等のフッ素含有ィ匕合物や、 酸ィ匕 性ガス、 COは、 次の反応式に従い、 酸性ガスと C02とに分解される。
CF4+ 2H2 + 02 → C〇2+4HF
CF4+.2H2〇 + 02 → C02 + 4HF + 02
F2 + H2 → 2HF
2F2+2H20 → 4HF +〇2
2CO +〇2 → 2 C02 すなわち、 C F 4は、 H2と〇2又は H 2〇との反応により C〇2と H Fとに分解 され、 F 2等の酸化性ガスは H2又は H2〇との反応により H F等の酸性ガスに分 解され、 C 0は C O 2に酸化される。
ここで、 H2， 〇2, H20の添加量は、 P F Cについては、 ？ 〇中の 原子 が H Fになるのに必要なモル数以上の H 2及び/又は H2〇、 C原子が C〇2にな るのに必要なモル数 （最小値） 以上の〇2とするのが好ましい。 更には、 H 2及 び Z又は H2〇については P F C 1モルに対して 6倍〜 2 0倍とし、 〇2につい ては上述の最小値に 1モル加えたモル数以上とするのが好ましい。 また、 酸化性 ガスについては、 酸化性ガス中のハロゲン原子 (X) が酸性ガス （HX) になる のに必要なモル数以上の H2とするの力 S好ましい。
本発明の処理方法を実施するための装置の 1実施形態としては、 排ガス中の固 形物を分離するための固形物分離装置と、 前記の結晶構造を有する本ァ一アルミ ナが充填されてなる触媒処理装置と、 酸性ガス処理装置とが、 配管を介して連結 されている装置を挙げることができる。
ここで、 固形物分離装置及び酸性ガス処理装置としては、 通常公知のものを特 に制限なく用いることができる。 例えば、 固形物分離装置及び酸性ガス処理装置 として、 水スクラバ一 （水スプレー塔） 等を用いることができる。
また、.前記触媒処理装置は、 本発明に係るァ一アルミナ触媒を加熱ずるための 加熱装置を有していることが好ましい。 具体例としては、 触媒処理装置の外周面 がヒーターで覆われた円筒状の充填カラムからなり、 前記充填カラムの上面が排 ガス注入管に連結されており、 下面が処理後の排ガス排出管に連結されている構 造のものを挙げることができ、 前記充填カラム中に前記 r―アルミナを充填して 用いることができる。
本発明の好ましい態様に係る排ガスの処理方法を実施するには、 例えば以下の ようにして行うことができる。
まず、 排ガスを前段の固形物分離装置に通し、 ここで、 固形物を除去する。 ま た、 前記ヒータ一により充填カラム中の本発明に係るァ一アルミナを 6 0 0〜9 0 0 °Cの温度に力 [I熱し、 その後、 固形物の除去された排ガスを、 前記分解補助ガ スと共に、 ァ一アルミナを充填した触媒処理装置に通し、 ァ—アルミナの触媒作 用により、 PFC等のフッ素含有化合物を酸性ガスと C〇2とに分解し、 更に、 酸ィ匕性ガス及び COの^!も同時に行う。 このように、 前記分解補助ガスと前記 排ガスとは、 混合された混合ガスとして触媒力 S充填されて形成された触媒層に注 入されるのが好ましい。
触媒処理装置からの排ガス中には、 酸性ガス （HX) と C〇2のみが存在し、 水スプレー塔等の酸性ガス処理装置で酸性ガスを除去して、 排ガスの処理を終了 することができる。
図 1に本発明の好ましい態様に係る排ガス処理装置のフロー概略図を示す。 図 1において、 1は固形物分離装置 （水スプレー塔） 、 2は本発明に係る特定の結 晶構造を有するァ—アルミナ充填層、 3は触媒処理装置、 4は洗浄水循環ポンプ、 5は酸性ガス処理装置 （7Kスプレー塔） 、 6は FT— I R分析装置、 7は空気ェ ジェクタ一、 8はバイパスバルブである。
PFC、 酸化性ガス、 酸性ガス、 COを含んだ排ガス 9は、 先ずスプレー塔で ある固形物分離装置 1に通ガスされ、 ここで固形物や S i化合物が除去される。 次に、 本ァ一アルミナ 2を充填した触媒処理装置 3に通ガスされ、 H2、 〇2、 H2〇を導入して、 PFC、 酸化性ガス、 COが酸性ガスと C02に分解される。 更に、 後段のスプレー塔である酸性ガス処理装置 5で酸性ガスが除去され、 処理 ガス 10として排出される。 また、 これらの処理装置内の圧力を調整するために、 空気ェジェクタ一 7を設け、 処理ガスの管理のために FT— I R分析装置 6を汲 み込んだ装置とすることが好ましい。 スプレー塔に用いる水は、 酸性ガス処理装 置 5のスプレー塔に水 11を導入して用い、 この使用済の水を洗浄水循環ポンプ 4により、 固形物分離装置 1のスプレーに用いた後、 排水として排出する。
実施例
以下、 本発明を実施例により具体的に説明するが、 本発明はこれらに限定され るものではない。
実施例 1
回折角 2 Θのうち 33° ±1° 、 37° ±Γ 、 4 Τ ±1° 、 46° ±1° 、 67° ±Γ の 5つの角度で強度 100以上の回折線が出現する結晶構造を持つ ァーアルミナとして水澤化学製の市販品 （商品名 「ネオビード GB— 08」 、 Na2〇含有量 0. 01wt%以下） を用い、 またその粒径は 0. 8mmとした。 ネオビード GB— 08の結晶構造は、 理学電機社製 X線回折分析計 R I NT— 2 000を用い、 X線源として CuK«線を用いて測定を行い確認した。 充填カラ ムとして内径 25 mmの石英製カラムを用い、 これに層高 100mmとなるよう に、 前記ァーアルミナを充填した。 この充填カラムをセラミック電気管状炉に装 着し、 触媒層を 800°Cに加熱した。
ここに、 N2ガスで CF4を希釈してなる疑似排ガスに、 ^補助ガスとして H2及び 02を、 H2は、 0?4の？原子量に対して H原子量が等原子量以上とな る量で、 また、 〇2は、 導入する H2量の等モル以上になるように混合し、 得ら れた混合ガスを流量 408 s c c mで、 流入濃度はそれぞれ混合ガス中 C F 4 lwt%、 H2 3. 0wt%、 〇2 5. 7wt%となるように、 前記充填力 ラム中に注入した。 処理性能をみるため、 カラムの出口から排出される処理済み のガスを適宜分析し、 CF4の除去率が 98%以下に下がった時点で通ガスを停 止し、 それまでの通ガス量から CF4の処理量を求めた。 CF4の分析は、 質量 検出器付ガスクロマトグラフ装置によった。
その結果、 通ガスを開始して 920m i n後に除去率が 98 %に下がり、 この 時点での C F 4の通ガス量から処理量を求めると 77リツトル Zリットルとなつ た。 この間の COの排出濃度は、 常時許容濃度 (25ppm) 以下であった。 実施例 2
実施例 1と同じ装置を用い、 ァ一アルミナの充填量は実施例 1と同じにして、 以下のように処理を行った。
温度を 700°Cにし、 総ガス流量は 408 s c cmで、 分解補助ガスを H20 と〇2とし、 H20を流量比で CF4の 14倍に相当する量の 0. 041 ml /mi n注入し、 〇2は CF4の C原子が C〇2になるのに必要なモル数以上 の量注入した。 得られた混合ガスにおける流入濃度は、 それぞれ CF4
0. 88%、 〇2 3. 0%とした。
そして、 実施例 1と同様にして処理性能を見た結果、 通ガス 74 h rまでは除 去率 99 %以上の処理が可能で、 通ガス 94 h r後において C F4の除去率が 9 8 %に低下し、 このときの処理量は 413リツトリレ /リットルであった。 また、 この間 COは常時許容濃度以下に処理されていた。 実施例 1と実施例 2とを比較 することにより、 同じ τ—アルミナを用いた場合でも、 分解補助ガスとして H2OZ〇2を用いると （実施例 2) 、 H2Z〇2を用いた場合よりも優れた^? 性能を示すことが分かった。
比較例 1
回折角 のうち、 37° ±1° 、 46° 土 Γ 、 67° ±1° の 3つの角度 で強度 100以上の回折線が出現する結晶構造を持つ比較品としての丁—アルミ ナとして水澤化学製の市販品 滴品名 「ネオビ一ド GB— 26」 、 Na2〇含有 量 0. 02 w t %) を触媒に用い、 また粒径は粉碎して 0. 8 mmにふるい分け た。 ネオビード GB— 26の結晶構造は、 理学電機社製 X線回折分析計 R I NT -2000を用い、 X線源として CuKo;線を用いて測定を行い確認した。 実施例 1と同じ試験装置で、 r—アルミナの充填量は実施例 1と同じにして、 以下のように処理を行った。 温度は 700°Cにし、 総ガス流量は 408 s c cm で、 分解補助ガスを、 H20と 02とし、 H20を流量比で CF4の 20倍に相当 する量の 0. 05 emlZmi n注入し、 〇2は〇？4の(：原子が C〇2になるの に必要なモル数以上の量注入した。 得られた混合ガスにおける流入濃度は、 それ ぞれ CF4 0. 86%、 02 3. 1%とした。
そして、 実施例 1と同様にして処理性能を見た結果、 通ガス 33 h rまでは除 去率 99 %以上の処理が可熊で、 通ガス 50 h r後において C F4の除去率が 9 8 %に低下し、 このときの処理量は 214リツトル Zリットルであった。 この間
C 0は常時許容濃度以下に処理されていた。
比較例 2
回折角 20のうち、 37° ±1° 、 46° ±1° 、 67° ±1° の 3つの角度 で強度 100以上の回折線が出現する結晶構造を持つ比較品としてのァ—アルミ ナとして水澤化学製の市販品 （商品名 「ネオピ一ド GB— 45」 、 Na20含有 量 0. 01wt% 下） を触媒に用い、 また粒径は粉碎して 0. 8mmにふるい 分けた。 ネオビード GB— 45の結晶構造は、 理学電機社製 X線回折分析計 R I NT— 2000を用い、 X線源として C u Κ α線を用いて測定を行い確認し た。 実施例 1と同じ試験装置で、 前記の比較品としてのァ一アルミナの充填量は実 施例 1と同じにして、 以下のように処理を行った。 温度は 700°Cにし、 総ガス 流量は 408 s c cmで、 ^^補助ガスを、 1^20と02とし、 H2〇を流量比で CF4の 20倍に相当する量の 0. 057ml /mi n注入し、 02は。 4の。 原子が C〇2になるのに必要なモル数以上の量注入した。 舉られた混合ガスにお ける流入濃度は、 それぞれ CF4 0. 87 %、 〇2 3. 1%とした。
そして、 実施例 1と同様にして処理性能を見た結果、 通ガス 27h rまでは除 去率 99 %以上の処理が可能で、 通ガス 41 r後において C F4の除去率が 9 8 %に低下し、 このときの処理量は 177リツトル リットルであった。 この間 COは常時許容濃度以下に処理されていた。 '
比較例 3
回折角 20のうち、 37° 土 Γ 、 46° ±Γ 、 67° ± の 3つの角度 で強度 100以上の回折線が出現する結晶構造を持つ比較品としてのァ—アルミ ナとして水澤ィ匕学製の市販品 （商品名 「ネオビ一ド RN」 、 Na20含有量 0. 48wt %) を触媒として用い、 また粒径は粉碎して 0.· 8 mmにふるい分 けた。 ネオビ一ド RNの結晶構造は、 理学電機社製 X線回折分析計 R I NT— 2000を用レ X線源として CuKa線を用いて測定を行い確認した。
実施例 1と同じ試験装置で、 前記の比較品としてのァ—アルミナの充填量は実 施例 1と同じにして、 以下のように処理を行った。
すなわち、 は 700°Cにし、 総ガス流量は 408 s c cmで、 分解補助ガ スを、 H20と〇2とし、 H20を流量比で CF4の 20倍に相当する量の' 0. 055m lZm i n注入し、 〇2は C 4の〇原子が < 02になるのに必要な モル数以上の量注入した。 得られた混合ガスにおける流入濃度は、 それぞれ CF4 0. 84%, 02 3. 1%とした。
そして、 実施例 1と同様にして処理性能を見た結果、 通ガス 2 h rで、 CF4 が出口で 2950 p pm検出され、 除去率は 63 %に低下していた。
同じ分解補助ガス （H20/02) を用いた実施例 2と比較例 1~3とを比較 すると、 本発明に係る特定の結晶構造を有する了―アルミナ触媒が従来の Ύ一 Ύ ルミナと比較して極めて優れた分解性能を示すことが分かる。 産業上の利用の可能性
本発明によれば、 半導体製造工程から排出される有害且つ地球温暖化を促進さ せる P F C等のフッ素化合物を含む排ガスを高い分解率で分解処理することが可 能であり、 しかも長い時間良好な分解処理性能で処理を行うことができる。 更に、 本発明の好ましい態様によれば、 PFCを分角できるだけでなく、 F2、 C l 2、 B r 2等の酸化性ガス、 HF、 HC 1、 HB r、 S i F4、 S i C 14、
S i B r4、 C OF 2等の酸性ガスや COを効率よく処理すること力できる。

Claims

1. フッ素含有化合物を含む排ガスを、 前記排ガス中の固形物を分離した 後に触媒を用いて処理する方法であって、 前記触媒として、 X線回折装置で測定 した回折角 2 Sのうち、 33° ±1° 、 37° ±1° 、 40° 土 、 46° 士 Γ 、 67° 土 の 5つの角度で強度 100以上の回折線が出現する結晶構造 を有する了—アルミナを用いることを特徴とするフッ素含有ィ匕合物を含む排ガス の処理方法。
2. 前記ァ—アルミナを 600〜900°Cに加熱し、 更に、 H2、 02及 び H 20のいずれか 1種以上の分解補助ガスを添加する請求項 1記載のフッ素含 有化合物を含む排ガスの処理方法。
3. 処理された排ガスから酸性ガスを除去する工程を更に含む請求項 1又 は 2に記載のフッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法。
4. フッ素含有化合物を含む排ガスから固形物を分離する固形物分離装置 と、 前記固形物分離装置からの排ガスを触媒によって処理するための触媒処理装 置とを有する処理装置であって、 前記触媒処理装置に触媒として X線回折装置で 測定した回折角 20のうち、 33° ± 、 37° ±Γ 、 40° ±1° 、 46° ±Γ 、 67° ±Γ の 5つの角度で強度 100以上の回折線が出現する 結晶構造を有する了—アルミナが充填されていることを特徴とする、 フッ素含有 化合物を含む排ガスの処理装置。
5. 前記固形物分離装置からの排ガスに分解補助ガスとして Η2、 〇2及 び Η20のいずれか 1種以上を添加する添加手段を更に有する請求項 4に記載の フッ素含有化合物を含む排ガスの処理装置。
6. 前記触媒処理装置中のァ—アルミナを 600〜900°Cに加熱する加 熱手段を有する請求項 4又は 5に記載のフッ素含有ィヒ合物を含む排ガスの処理装
7. 触媒処理装置からの排ガスから酸性ガスを除去する酸性ガス除去装置 を更に有する請求項 4〜 6のいずれかに記載のフッ素含有化合物を含む排ガスの
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6764666B2 (en) 2001-02-02 2004-07-20 Ebara Corporation Process for treating gas containing fluorine-containing compounds and CO
WO2004089515A1 (en) 2003-04-01 2004-10-21 Ebara Corporation Method and apparatus for treating exhaust gas
WO2020011151A1 (zh) * 2018-07-11 2020-01-16 遵义师范学院 一种回收含溴烟气中Br2的装置及方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4211227B2 (ja) * 2001-03-16 2009-01-21 株式会社日立製作所 過弗化物の処理方法及びその処理装置
JP4065672B2 (ja) * 2001-10-10 2008-03-26 株式会社荏原製作所 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置
JP3737082B2 (ja) * 2001-12-04 2006-01-18 株式会社荏原製作所 排ガスの処理方法および装置
WO2003047729A1 (en) * 2001-12-04 2003-06-12 Ebara Corporation Method and apparatus for treating exhaust gas
JP3855081B2 (ja) * 2002-07-01 2006-12-06 株式会社日立国際電気 フッ素ガスによるクリーニング機構を備えたｃｖｄ装置およびｃｖｄ装置のフッ素ガスによるクリーニング方法
KR100654922B1 (ko) * 2006-01-26 2006-12-06 주식회사 코캣 반도체 제조공정으로부터 발생하는 배가스 처리장치 및방법
JP2008155070A (ja) * 2006-12-20 2008-07-10 Hitachi Ltd ハロゲン化合物の分解処理方法及び装置
GB0702837D0 (en) * 2007-02-14 2007-03-28 Boc Group Plc Method of treating a gas stream
JP2009018290A (ja) 2007-07-13 2009-01-29 Ebara Corp 排ガス洗浄装置
BR122019024420B8 (pt) 2008-12-30 2021-06-22 Ultradent Products Inc dispositivo de luz para cura dental
FR3013606B1 (fr) * 2013-11-28 2015-11-13 Arkema France Procede de purification d'acide chlorhydrique
US9259683B2 (en) 2014-01-22 2016-02-16 Micron Technology, Inc. Methods and apparatus for treating fluorinated greenhouse gases in gas streams
JP7137597B2 (ja) * 2020-07-10 2022-09-14 大旺新洋株式会社 環境汚染ガスの分解方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0885648A1 (en) * 1997-06-20 1998-12-23 Hitachi, Ltd. A treatment method for decomposing fluorine compounds, and catalyst and apparatus therefor
WO2000009258A1 (fr) * 1998-08-17 2000-02-24 Ebara Corporation Procede et appareil pour traiter des gaz residuaires contenant des composes fluores

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2569421B2 (ja) 1993-09-10 1997-01-08 九州大学長 弗素化合物ガスの分解処理用触媒
JP3976459B2 (ja) 1999-11-18 2007-09-19 株式会社荏原製作所 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0885648A1 (en) * 1997-06-20 1998-12-23 Hitachi, Ltd. A treatment method for decomposing fluorine compounds, and catalyst and apparatus therefor
WO2000009258A1 (fr) * 1998-08-17 2000-02-24 Ebara Corporation Procede et appareil pour traiter des gaz residuaires contenant des composes fluores

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6764666B2 (en) 2001-02-02 2004-07-20 Ebara Corporation Process for treating gas containing fluorine-containing compounds and CO
WO2004089515A1 (en) 2003-04-01 2004-10-21 Ebara Corporation Method and apparatus for treating exhaust gas
JP2006521925A (ja) * 2003-04-01 2006-09-28 株式会社荏原製作所 排ガスの処理方法および装置
WO2020011151A1 (zh) * 2018-07-11 2020-01-16 遵义师范学院 一种回收含溴烟气中Br2的装置及方法

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