JP4394555B2 - フッ素化合物含有ガスの処理方法及び処理装置 - Google Patents
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Description
CF4+2H2O→CO2+4HF …(式1)
C2F6+3H2O→CO+CO2+6HF …(式2)
CHF3+H2O→CO+3HF …(式3)
SF6+3H2O→SO3+6HF …(式4)
(式2)および(式3)の反応ではCOが生成するが、反応ガス中に酸素が存在すればCOをCO2にすることができる。また、CO酸化触媒をPFC分解触媒の後流に設置すれば、反応塔内でCOをCO2に酸化できる。
分解率(%)=(1−(出口のフッ素化合物量/供給したフッ素化合物量))×100
フッ素化合物分解触媒25には、NiとAlを触媒成分とする触媒を用いた。触媒の調製方法は次の通りである。まず市販のベーマイト粉末を120℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸ニッケル6水和物を210.82g溶かした水溶液を添加して混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾燥し、750℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕、篩い分けして0.5〜1mmの粒径とし調製を終えた。調製後の触媒の組成はモル比でNi:Al=20:80であった。また、NiOとAl2O3のほかにNiとAlの複合酸化物を含んでいた。反応ガスを反応管に5時間連続通気した後のCF4分解率は98.79%であり、連続試験でも極めて高い分解率を維持した。
Claims (6)
- フッ素化合物と珪素化合物を含むガスを水または水溶液と接触させて珪素化合物を固形化して除去する湿式処理工程と、その後、フッ素化合物分解触媒と接触させてフッ素化合物を分解するフッ素化合物分解工程とを有するフッ素化合物含有ガスの処理方法において、前記湿式処理工程での処理を終えたガスに同伴して排出される珪素化合物を500〜850℃で加水分解し、金属酸化物を用いて珪素化合物を捕捉して、ガス中から除去する珪素化合物除去工程を含み、前記珪素化合物除去工程での処理を終えたガスを前記フッ素化合物分解触媒と接触し、前記フッ素化合物分解工程にて処理するようにしたことを特徴とするフッ素化合物含有ガスの処理方法。
- 請求項1において、前記金属酸化物が、SiO 2 との複合化反応の標準ギブスエネルギが負になることを特徴とするフッ素化合物含有ガスの処理方法。
- 請求項1において、前記フッ素化合物としてPFCを含むことを特徴とするフッ素化合物含有ガスの処理方法。
- 珪素化合物とフッ素化合物を含むガスを水または水溶液と接触させて珪素化合物を固形物にして除去する湿式処理装置と、フッ素化合物を触媒と接触させて分解する触媒式反応装置とを備え、前記湿式処理装置で処理されたガスが前記触媒式反応装置にて処理されるようにしたフッ素化合物含有ガス処理装置において、前記湿式処理装置での処理を終えたガスに同伴する珪素化合物を500〜850℃で加水分解し、金属酸化物を用いて捕捉して、ガス中から珪素化合物を除去する珪素化合物除去装置を備え、前記珪素化合物除去装置で処理されたガスを前記フッ素化合物分解触媒と接触させ、前記触媒式反応装置に導入されるようにしたことを特徴とするフッ素化合物含有ガスの処理装置。
- 請求項4において、前記触媒式反応装置でフッ素化合物が分解することによって生成されたフッ化水素をガス中から除去する排ガス洗浄装置を備えたことを特徴とするフッ素化合物含有ガスの処理装置。
- 請求項4において、前記金属酸化物が、SiO 2 との複合化反応の標準ギブスエネルギが負になるものであることを特徴とするフッ素化合物含有ガスの処理装置。
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