JP2001118731A - チップ型複合電子部品およびその製造方法 - Google Patents
チップ型複合電子部品およびその製造方法Info
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- H01C—RESISTORS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】温度によってインピーダンスを可変できる小型
のチップ型複合電子部品およびその製造方法を提供す
る。 【解決手段】内部コイル導体2を有する複数のセラミッ
ク層4を積層して得られるインダクタ1と、内部電極1
1a,11bを有しかつ所定の抵抗−温度特性を持つ複
数のセラミック層13を積層して得られるサーミスタ1
0とが中間絶縁層20を介して積層され、インダクタ1
の内部コイル導体2の両端とサーミスタ10の内部電極
11a,11bとを一対の外部電極21,22に接続す
ることで、インダクタ1とサーミスタ10とが並列接続
されている。
のチップ型複合電子部品およびその製造方法を提供す
る。 【解決手段】内部コイル導体2を有する複数のセラミッ
ク層4を積層して得られるインダクタ1と、内部電極1
1a,11bを有しかつ所定の抵抗−温度特性を持つ複
数のセラミック層13を積層して得られるサーミスタ1
0とが中間絶縁層20を介して積層され、インダクタ1
の内部コイル導体2の両端とサーミスタ10の内部電極
11a,11bとを一対の外部電極21,22に接続す
ることで、インダクタ1とサーミスタ10とが並列接続
されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はチップ型複合電子部
品およびその製造方法、特にチップインダクタとチップ
サーミスタとの複合電子部品およびその製造方法に関す
るものである。
品およびその製造方法、特にチップインダクタとチップ
サーミスタとの複合電子部品およびその製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来、高周波用フィルタとして、例えば
実開平6−50312号公報に記載のように、積層され
たセラミック層によってチップ素体を構成し、セラミッ
ク層上に形成されるスルーホール部を介してセラミック
層間のコイル導体を接続してチップ素体内を周回するコ
イルを形成し、そのコイルの始端と終端とをそれぞれ別
の外部電極に接続した積層型チップインダクタが知られ
ている。
実開平6−50312号公報に記載のように、積層され
たセラミック層によってチップ素体を構成し、セラミッ
ク層上に形成されるスルーホール部を介してセラミック
層間のコイル導体を接続してチップ素体内を周回するコ
イルを形成し、そのコイルの始端と終端とをそれぞれ別
の外部電極に接続した積層型チップインダクタが知られ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この種の積層型インダ
クタの場合、そのインピーダンスはセラミック材料の組
成や比抵抗、コイル導体の口径寸法や巻き数、コイル導
体の幅や材料などによって左右される。しかしながら、
一度製品が出来てしまうと、そのインピーダンスの周波
数特性が固定化されてしまい、可変できない。
クタの場合、そのインピーダンスはセラミック材料の組
成や比抵抗、コイル導体の口径寸法や巻き数、コイル導
体の幅や材料などによって左右される。しかしながら、
一度製品が出来てしまうと、そのインピーダンスの周波
数特性が固定化されてしまい、可変できない。
【0004】そこで、本発明の目的は、温度によってイ
ンピーダンスを可変できる小型のチップ型複合電子部品
およびその製造方法を提供することにある。また、他の
目的は、安定したインピーダンス特性を持つチップ型複
合電子部品およびその製造方法を提供することにある。
ンピーダンスを可変できる小型のチップ型複合電子部品
およびその製造方法を提供することにある。また、他の
目的は、安定したインピーダンス特性を持つチップ型複
合電子部品およびその製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明は、内部コイル導体を有する
複数のセラミック層を積層して得られるインダクタと、
内部電極を有しかつ所定の抵抗−温度特性を持つ複数の
セラミック層を積層して得られるサーミスタとが互いに
積層され、インダクタの内部コイル導体の少なくとも一
端とサーミスタの内部電極の少なくとも一端とが一対の
外部電極に接続されていることを特徴とするチップ型複
合電子部品を提供する。
め、請求項1に記載の発明は、内部コイル導体を有する
複数のセラミック層を積層して得られるインダクタと、
内部電極を有しかつ所定の抵抗−温度特性を持つ複数の
セラミック層を積層して得られるサーミスタとが互いに
積層され、インダクタの内部コイル導体の少なくとも一
端とサーミスタの内部電極の少なくとも一端とが一対の
外部電極に接続されていることを特徴とするチップ型複
合電子部品を提供する。
【0006】本発明のチップ型複合電子部品はチップイ
ンダクタとチップサーミスタとを積層一体化し、1チッ
プ化したので、小型の複合電子部品を得ることができ
る。また、サーミスタは温度によって抵抗値が変化する
ので、使用温度によってインピーダンスを自動的に可変
することができ、所望の温度特性を持つインダクタを得
ることができる。
ンダクタとチップサーミスタとを積層一体化し、1チッ
プ化したので、小型の複合電子部品を得ることができ
る。また、サーミスタは温度によって抵抗値が変化する
ので、使用温度によってインピーダンスを自動的に可変
することができ、所望の温度特性を持つインダクタを得
ることができる。
【0007】インダクタとサーミスタとを請求項2のよ
うに直列接続してもよいし、請求項3のように並列接続
してもよい。例えば、正特性サーミスタ(PTCサーミ
スタ)をインダクタと直列接続した場合、所定温度以上
でサーミスタの抵抗値が非常に高くなるので、所定温度
以上で回路を遮断することができる。つまり、所定温度
でのスイッチ特性を持たせることができる。また、PT
Cサーミスタをインダクタと並列接続した場合には、所
定温度以上でインダクタの特性をそのままの特性に戻す
ことができる。
うに直列接続してもよいし、請求項3のように並列接続
してもよい。例えば、正特性サーミスタ(PTCサーミ
スタ)をインダクタと直列接続した場合、所定温度以上
でサーミスタの抵抗値が非常に高くなるので、所定温度
以上で回路を遮断することができる。つまり、所定温度
でのスイッチ特性を持たせることができる。また、PT
Cサーミスタをインダクタと並列接続した場合には、所
定温度以上でインダクタの特性をそのままの特性に戻す
ことができる。
【0008】インダクタの場合、その材料によっては、
使用温度が上がるとL成分が正の温度特性を示し、イン
ピーダンスが上昇してしまうものがある。このような場
合には、温度補償用としてNTCサーミスタをインダク
タと並列接続することで、L成分の温度特性と抵抗成分
の温度特性とが相殺され、安定した温度特性を持つイン
ダクタを得ることができる。
使用温度が上がるとL成分が正の温度特性を示し、イン
ピーダンスが上昇してしまうものがある。このような場
合には、温度補償用としてNTCサーミスタをインダク
タと並列接続することで、L成分の温度特性と抵抗成分
の温度特性とが相殺され、安定した温度特性を持つイン
ダクタを得ることができる。
【0009】本発明の複合電子部品は、AC電源におい
ては、上述のような温度特性を持つチップ高周波フィル
タとしての使い方ができるが、DC電源においては、チ
ップサーミスタとして使用できるので、1個の部品で両
方の用途に使用できる。
ては、上述のような温度特性を持つチップ高周波フィル
タとしての使い方ができるが、DC電源においては、チ
ップサーミスタとして使用できるので、1個の部品で両
方の用途に使用できる。
【0010】請求項6のように、インダクタとサーミス
タとを、中間絶縁層を介して積層するのが望ましい。す
なわち、インダクタとサーミスタとを接合する方法とし
ては、請求項7のように、グリーンシートの状態で積層
した後、一体に焼成する方法と、請求項8のように、イ
ンダクタとサーミスタとをそれぞれ焼成した後で接着す
る方法とがある。前者の方法では、インダクタ層とサー
ミスタ層との層間で拡散が生じる結果、セラミックの特
性劣化をきたす可能性があるので、拡散防止層を間にし
てインダクタ層とサーミスタ層とを積層し、焼成するこ
とで拡散が防止され、特性劣化を防止できる。また、後
者の場合には、拡散が生じる恐れがないので、中間絶縁
層は接着剤層であってもよい。接着剤層としては、ホウ
ケイ酸鉛系ガラスなどを使用することがでいる。なお、
この中間絶縁層として、インダクタとサーミスタとの熱
膨張係数の中間的な材料を使用すれば、インダクタとサ
ーミスタの温度変化に伴う剥離をなくすことができると
いう利点がある。
タとを、中間絶縁層を介して積層するのが望ましい。す
なわち、インダクタとサーミスタとを接合する方法とし
ては、請求項7のように、グリーンシートの状態で積層
した後、一体に焼成する方法と、請求項8のように、イ
ンダクタとサーミスタとをそれぞれ焼成した後で接着す
る方法とがある。前者の方法では、インダクタ層とサー
ミスタ層との層間で拡散が生じる結果、セラミックの特
性劣化をきたす可能性があるので、拡散防止層を間にし
てインダクタ層とサーミスタ層とを積層し、焼成するこ
とで拡散が防止され、特性劣化を防止できる。また、後
者の場合には、拡散が生じる恐れがないので、中間絶縁
層は接着剤層であってもよい。接着剤層としては、ホウ
ケイ酸鉛系ガラスなどを使用することがでいる。なお、
この中間絶縁層として、インダクタとサーミスタとの熱
膨張係数の中間的な材料を使用すれば、インダクタとサ
ーミスタの温度変化に伴う剥離をなくすことができると
いう利点がある。
【0011】
【発明の実施の形態】図1は本発明にかかるチップ型複
合電子部品の一例を示す。この複合電子部品は、フェラ
イト磁性体などからなるセラミック本体3の内部に内部
コイル導体2を有するインダクタ1と、所定の抵抗−温
度特性を持つサーミスタ材料よりなるセラミック本体1
2の内部に内部電極11a,11bを有するサーミスタ
10とを中間絶縁層20を間にして上下に積層したもの
であり、内部コイル導体2の一端2aと内部電極11a
とを外部電極21に接続し、内部コイル導体2の他端2
bと内部電極11bとを外部電極22に接続すること
で、インダクタ1とサーミスタ10とを図2に示すよう
に並列接続したものである。
合電子部品の一例を示す。この複合電子部品は、フェラ
イト磁性体などからなるセラミック本体3の内部に内部
コイル導体2を有するインダクタ1と、所定の抵抗−温
度特性を持つサーミスタ材料よりなるセラミック本体1
2の内部に内部電極11a,11bを有するサーミスタ
10とを中間絶縁層20を間にして上下に積層したもの
であり、内部コイル導体2の一端2aと内部電極11a
とを外部電極21に接続し、内部コイル導体2の他端2
bと内部電極11bとを外部電極22に接続すること
で、インダクタ1とサーミスタ10とを図2に示すよう
に並列接続したものである。
【0012】インダクタ1は、図3に示すように上面に
例えばL字状のコイル導体2が形成されたセラミック層
4を複数枚積層することにより、スルーホール5の導体
によってコイル導体2を相互に接続し、スパイラルコイ
ルを形成している。なお、最上層および最下層のセラミ
ック層4のコイル導体2のみ、外部電極21,22に接
続するための引出部2a,2bが異なる端面に延設され
ている。なお、コイル導体2の形状やセラミック層4の
枚数は、目標とするインダクタンス値により決定され
る。積層されたセラミック層4の下部および上部には、
導体を有しない複数枚のセラミック層からなるカバーシ
ート6が重ねられている。
例えばL字状のコイル導体2が形成されたセラミック層
4を複数枚積層することにより、スルーホール5の導体
によってコイル導体2を相互に接続し、スパイラルコイ
ルを形成している。なお、最上層および最下層のセラミ
ック層4のコイル導体2のみ、外部電極21,22に接
続するための引出部2a,2bが異なる端面に延設され
ている。なお、コイル導体2の形状やセラミック層4の
枚数は、目標とするインダクタンス値により決定され
る。積層されたセラミック層4の下部および上部には、
導体を有しない複数枚のセラミック層からなるカバーシ
ート6が重ねられている。
【0013】サーミスタ10は、図4に示すように、上
面に中央部から一方の縁部へ延びる内部電極11aを形
成したセラミック層13と、上面に中央部から他方の縁
部へ延びる内部電極11bを形成したセラミック層13
とを上下に複数枚積層したものであり、上下の内部電極
11a,11b同士が一部で重なっている。なお、内部
電極11a,11bの形状やセラミック層13の枚数
は、目標とする抵抗値により決定される。積層されたセ
ラミック層13の下部および上部には、電極を有しない
複数枚のセラミック層からなるカバーシート14が重ね
られている。
面に中央部から一方の縁部へ延びる内部電極11aを形
成したセラミック層13と、上面に中央部から他方の縁
部へ延びる内部電極11bを形成したセラミック層13
とを上下に複数枚積層したものであり、上下の内部電極
11a,11b同士が一部で重なっている。なお、内部
電極11a,11bの形状やセラミック層13の枚数
は、目標とする抵抗値により決定される。積層されたセ
ラミック層13の下部および上部には、電極を有しない
複数枚のセラミック層からなるカバーシート14が重ね
られている。
【0014】中間絶縁層20は、インダクタ1を構成す
るセラミック本体3とサーミスタ10を構成するセラミ
ック本体12との間の拡散を防止する絶縁層、または接
着層である。インダクタ1とサーミスタ10とは中間絶
縁層20を間にして積層され、複合積層体とされる。そ
して、この複合積層体の電極2,11a,11bが露出
した端面に外部電極21,22が形成されて、複合電子
部品となる。外部電極21,22の形成方法は、Agの
焼付け、メッキ(Ni−Sn,Ni−Sn−Sn/P
b)、スパッタ(モネル−Ag−はんだ,Ag−はんだ
等)など、公知の方法で行なうことができる。
るセラミック本体3とサーミスタ10を構成するセラミ
ック本体12との間の拡散を防止する絶縁層、または接
着層である。インダクタ1とサーミスタ10とは中間絶
縁層20を間にして積層され、複合積層体とされる。そ
して、この複合積層体の電極2,11a,11bが露出
した端面に外部電極21,22が形成されて、複合電子
部品となる。外部電極21,22の形成方法は、Agの
焼付け、メッキ(Ni−Sn,Ni−Sn−Sn/P
b)、スパッタ(モネル−Ag−はんだ,Ag−はんだ
等)など、公知の方法で行なうことができる。
【0015】なお、この実施例のサーミスタ10は内部
電極11a,11bを一部で重なるように平行に配置し
たものであるが、図5のように内部電極11a,11b
を対向するように平面状に配置したものでもよく、その
他、段差状に配置したものなど、如何なる形状でもよ
い。また、中間絶縁層20は必要に応じて設けられるも
のであり、省略することも可能である。
電極11a,11bを一部で重なるように平行に配置し
たものであるが、図5のように内部電極11a,11b
を対向するように平面状に配置したものでもよく、その
他、段差状に配置したものなど、如何なる形状でもよ
い。また、中間絶縁層20は必要に応じて設けられるも
のであり、省略することも可能である。
【0016】ここで、上記構成よりなる複合電子部品の
製造方法の一例を説明する。まず、インダクタ特性シー
トを次のようにして作成する。 (1)Si02 ,Al2 O3 を主成分とし、BaO,C
aO等を副成分とし、さらにB2 O3 を添加した原材料
をボールミルで15時間混合した後、乾燥した。 (2)得られた混合物を800℃以上の高温で反応さ
せ、これを冷却粉砕し、ボールミルによってさらに微粉
砕した後、乾燥した。 (3)得られた材料粉末に対し、バインダー10〜15
重量%、トルエン20重量%、エタノール20重量%お
よびブタノール40重量%を添加し、ボールミルによっ
て15時間混合した。 (4)得られたスラリーをドクターブレード法を用いて
膜厚30〜80μmの長尺なシートに成形した。 (5)長尺シートを適当な大きさに切断したグリーンシ
ートの必要な位置にスルーホールを設け、裁断後のチッ
プ素体の外部電極間の中点にくるように位置決めし、こ
のスルーホールの位置に応じたコイル導体をAgペース
トやAgPdペーストなどでスクリーン印刷法を用いて
形成した。 (6)得られたコイル導体の印刷済みのグリーンシート
を所定枚数積層し、その上下にコイル導体が印刷されて
いない複数枚のグリーンシートをカバーシートとして重
ねることで、インダクタ特性シートを作成した。なお、
インダクタ材料としては、上記のほか、Mn−Zn−F
e−O,Ni−Zn−Fe−O,Y−In−Ga−Oな
どを用いてもよい。
製造方法の一例を説明する。まず、インダクタ特性シー
トを次のようにして作成する。 (1)Si02 ,Al2 O3 を主成分とし、BaO,C
aO等を副成分とし、さらにB2 O3 を添加した原材料
をボールミルで15時間混合した後、乾燥した。 (2)得られた混合物を800℃以上の高温で反応さ
せ、これを冷却粉砕し、ボールミルによってさらに微粉
砕した後、乾燥した。 (3)得られた材料粉末に対し、バインダー10〜15
重量%、トルエン20重量%、エタノール20重量%お
よびブタノール40重量%を添加し、ボールミルによっ
て15時間混合した。 (4)得られたスラリーをドクターブレード法を用いて
膜厚30〜80μmの長尺なシートに成形した。 (5)長尺シートを適当な大きさに切断したグリーンシ
ートの必要な位置にスルーホールを設け、裁断後のチッ
プ素体の外部電極間の中点にくるように位置決めし、こ
のスルーホールの位置に応じたコイル導体をAgペース
トやAgPdペーストなどでスクリーン印刷法を用いて
形成した。 (6)得られたコイル導体の印刷済みのグリーンシート
を所定枚数積層し、その上下にコイル導体が印刷されて
いない複数枚のグリーンシートをカバーシートとして重
ねることで、インダクタ特性シートを作成した。なお、
インダクタ材料としては、上記のほか、Mn−Zn−F
e−O,Ni−Zn−Fe−O,Y−In−Ga−Oな
どを用いてもよい。
【0017】次に、サーミスタ特性シートを次のように
して作成する。なお、ここではNTCサーミスタを例に
説明する。 (1)Mn,Ni,Coなどの複数の酸化物からなるサ
ーミスタ材料をボールミルで20時間混合した後、乾燥
した。 (2)得られた混合物を800℃以上の高温で反応さ
せ、これを冷却粉砕し、ボールミルによってさらに微粉
砕した後、乾燥した。 (3)得られた材料粉末に対し、有機バインダー、分散
剤、表面活性剤、消泡剤、水を所定量加え、ボールミル
によって16時間混合した。 (4)得られたスラリーをドクターブレード法を用いて
膜厚30〜80μmの長尺なシートに成形した。 (5)長尺シートを適当な大きさに切断したグリーンシ
ート上にAgペーストやAgPdペーストなどでスクリ
ーン印刷法を用いて形成し、内部電極を形成した。 (6)得られた内部電極の印刷済みのグリーンシートを
所定枚数積層し、その上下にコイル導体が印刷されてい
ない複数枚のグリーンシートをカバーシートとして重ね
ることで、サーミスタ特性シートを作成した。
して作成する。なお、ここではNTCサーミスタを例に
説明する。 (1)Mn,Ni,Coなどの複数の酸化物からなるサ
ーミスタ材料をボールミルで20時間混合した後、乾燥
した。 (2)得られた混合物を800℃以上の高温で反応さ
せ、これを冷却粉砕し、ボールミルによってさらに微粉
砕した後、乾燥した。 (3)得られた材料粉末に対し、有機バインダー、分散
剤、表面活性剤、消泡剤、水を所定量加え、ボールミル
によって16時間混合した。 (4)得られたスラリーをドクターブレード法を用いて
膜厚30〜80μmの長尺なシートに成形した。 (5)長尺シートを適当な大きさに切断したグリーンシ
ート上にAgペーストやAgPdペーストなどでスクリ
ーン印刷法を用いて形成し、内部電極を形成した。 (6)得られた内部電極の印刷済みのグリーンシートを
所定枚数積層し、その上下にコイル導体が印刷されてい
ない複数枚のグリーンシートをカバーシートとして重ね
ることで、サーミスタ特性シートを作成した。
【0018】なお、PTCサーミスタを作成する場合に
は、サーミスタ材料として、チタン酸バリウムにイット
リウム,Mn,Pbなどの酸化物を所定量添加し、13
00℃で反応させ、粉砕した後、シート成形して用いれ
ばよい。
は、サーミスタ材料として、チタン酸バリウムにイット
リウム,Mn,Pbなどの酸化物を所定量添加し、13
00℃で反応させ、粉砕した後、シート成形して用いれ
ばよい。
【0019】最後に、複合電子部品の完成までを次のよ
うに行なう。 (1)インダクタ特性シートと、サーミスタ特性シート
の間に絶縁シートを挟み、0.5t/cm2 の圧力で圧
着し、複合積層体とした。 (2)得られた複合積層体をチップ寸法に従って裁断
し、個々のチップ素体を得る。これを500℃で1時間
脱バインダー処理を行なった後、900〜1300℃で
4〜8時間焼成した。 (3)得られた焼結体の端面を研磨し、内部電極を露出
させた上、これに外部電極としてAgペーストやAgP
dペースト等を浸漬法によって塗布し、150℃で15
分乾燥後、800℃にて10分間焼付けを行った。必要
であれば、Ni・Snメッキやはんだディップなどを施
してもよく、またはスパッタリング法などで下地電極を
形成してもよい。また、チップ素体の外部電極以外の外
面部分を絶縁皮膜で覆ってもよい。以上のようにして複
合電子部品を完成する。
うに行なう。 (1)インダクタ特性シートと、サーミスタ特性シート
の間に絶縁シートを挟み、0.5t/cm2 の圧力で圧
着し、複合積層体とした。 (2)得られた複合積層体をチップ寸法に従って裁断
し、個々のチップ素体を得る。これを500℃で1時間
脱バインダー処理を行なった後、900〜1300℃で
4〜8時間焼成した。 (3)得られた焼結体の端面を研磨し、内部電極を露出
させた上、これに外部電極としてAgペーストやAgP
dペースト等を浸漬法によって塗布し、150℃で15
分乾燥後、800℃にて10分間焼付けを行った。必要
であれば、Ni・Snメッキやはんだディップなどを施
してもよく、またはスパッタリング法などで下地電極を
形成してもよい。また、チップ素体の外部電極以外の外
面部分を絶縁皮膜で覆ってもよい。以上のようにして複
合電子部品を完成する。
【0020】上記説明では、グリーンシート状のインダ
クタ特性シートとサーミスタ特性シートとを圧着積層し
た後、焼成したが、インダクタ特性シートとサーミスタ
特性シーのそれぞれの適切な焼成温度が異なる場合に
は、インダクタ特性シートとサーミスタ特性シーとをそ
れぞれ個別の温度で焼成した後、ホウケイ酸鉛系ガラス
ペースト(中間絶縁層)などを用いて積層接着し、その
後でこの複合積層体をチップ寸法に裁断し、個々のチッ
プ素体を得るようにしてもよい。なお、この場合には複
合積層体をチップ素体に裁断する方法として、ダイサー
などを用いて裁断してもよいが、予めグリーンシートの
段階でブレーク溝を形成しておき、そのブレーク溝にそ
ってブレークしてもよい。
クタ特性シートとサーミスタ特性シートとを圧着積層し
た後、焼成したが、インダクタ特性シートとサーミスタ
特性シーのそれぞれの適切な焼成温度が異なる場合に
は、インダクタ特性シートとサーミスタ特性シーとをそ
れぞれ個別の温度で焼成した後、ホウケイ酸鉛系ガラス
ペースト(中間絶縁層)などを用いて積層接着し、その
後でこの複合積層体をチップ寸法に裁断し、個々のチッ
プ素体を得るようにしてもよい。なお、この場合には複
合積層体をチップ素体に裁断する方法として、ダイサー
などを用いて裁断してもよいが、予めグリーンシートの
段階でブレーク溝を形成しておき、そのブレーク溝にそ
ってブレークしてもよい。
【0021】サーミスタ特性シートを作成する場合、内
部電極を形成したグリーンシートを複数枚積層し、その
後で焼成するようにしたが、この場合には、電極材料の
電荷がセラミック側へ移動して電位差が生じ、バリヤー
層が形成され、電気的な障壁となって低抵抗化しにくく
なる可能性がある。そこで、予め焼成済みのセラミック
板に内部電極を形成し、絶縁層を介して積層接着しても
よい。この場合には、サーミスタを低抵抗化できる。
部電極を形成したグリーンシートを複数枚積層し、その
後で焼成するようにしたが、この場合には、電極材料の
電荷がセラミック側へ移動して電位差が生じ、バリヤー
層が形成され、電気的な障壁となって低抵抗化しにくく
なる可能性がある。そこで、予め焼成済みのセラミック
板に内部電極を形成し、絶縁層を介して積層接着しても
よい。この場合には、サーミスタを低抵抗化できる。
【0022】図6はチップインダクタ単体Zと、上記の
ようにNTCサーミスタと複合化(並列接続)されたチ
ップインダクタZ−NP25,Z−NP50とのインピ
ーダンスの周波数特性を示す。ここで、Z−NP25は
25℃における特性を、Z−NP50は50℃における
特性を示す。インダクタはそのインピーダンスZ=12
0Ωであり、サーミスタはB定数が2900Kであり、
25℃で220Ω、50℃で40Ωの温度特性を持つN
TCサーミスタを用いた。なお、B定数とは、ゼロ負荷
抵抗値の温度に対する変化の大きさを表し、任意の2点
の温度から求めた定数をいう。
ようにNTCサーミスタと複合化(並列接続)されたチ
ップインダクタZ−NP25,Z−NP50とのインピ
ーダンスの周波数特性を示す。ここで、Z−NP25は
25℃における特性を、Z−NP50は50℃における
特性を示す。インダクタはそのインピーダンスZ=12
0Ωであり、サーミスタはB定数が2900Kであり、
25℃で220Ω、50℃で40Ωの温度特性を持つN
TCサーミスタを用いた。なお、B定数とは、ゼロ負荷
抵抗値の温度に対する変化の大きさを表し、任意の2点
の温度から求めた定数をいう。
【0023】図6から明らかなように、インダクタ単体
Zの場合には、周波数特性は固定されているのに対し、
本発明のような複合型インダクタの場合には、周囲温度
を25℃から50℃へ上昇させることで、最大インピー
ダンスを80Ωから25Ωへ低下させることができ、逆
に50℃から25℃へ低下させることで、最大インピー
ダンスを25Ωから85Ωへ上昇させることができた。
このように温度によってインピーダンス特性を自由に可
変できることがわかる。また、Z−NP50の場合、抵
抗成分の寄与率が大きくなるため、10MHz〜100
0MHzの領域においてインピーダンスがほぼ一定(2
5Ω)となっていることがわかる。したがって、広帯域
で安定したインピーダンス特性を持つインダクタを得る
ことができた。
Zの場合には、周波数特性は固定されているのに対し、
本発明のような複合型インダクタの場合には、周囲温度
を25℃から50℃へ上昇させることで、最大インピー
ダンスを80Ωから25Ωへ低下させることができ、逆
に50℃から25℃へ低下させることで、最大インピー
ダンスを25Ωから85Ωへ上昇させることができた。
このように温度によってインピーダンス特性を自由に可
変できることがわかる。また、Z−NP50の場合、抵
抗成分の寄与率が大きくなるため、10MHz〜100
0MHzの領域においてインピーダンスがほぼ一定(2
5Ω)となっていることがわかる。したがって、広帯域
で安定したインピーダンス特性を持つインダクタを得る
ことができた。
【0024】上記実施例では、インダクタとサーミスタ
とを並列接続した例を示したが、直列接続してもよい。
図7は直列接続された複合電子部品の一例を示す。すな
わち、インダクタ1の内部コイル導体2の一端2aが一
方の外部電極21に接続され、サーミスタ10の内部電
極11bが他方の外部電極22に接続され、インダクタ
1の内部コイル導体2の他端2bとサーミスタ10の内
部電極11aとが相互に接続されている。インダクタ1
とサーミスタ10との間には中間絶縁層20が設けられ
ている。なお、中間絶縁層20を省略することも可能で
あるし、サーミスタ10として図5のような構造を採用
してもよい。
とを並列接続した例を示したが、直列接続してもよい。
図7は直列接続された複合電子部品の一例を示す。すな
わち、インダクタ1の内部コイル導体2の一端2aが一
方の外部電極21に接続され、サーミスタ10の内部電
極11bが他方の外部電極22に接続され、インダクタ
1の内部コイル導体2の他端2bとサーミスタ10の内
部電極11aとが相互に接続されている。インダクタ1
とサーミスタ10との間には中間絶縁層20が設けられ
ている。なお、中間絶縁層20を省略することも可能で
あるし、サーミスタ10として図5のような構造を採用
してもよい。
【0025】図8はチップインダクタ単体Zと、NTC
サーミスタと複合化(直列接続)されたチップインダク
タZ−NS20,Z−NS50とのインピーダンスの周
波数特性を示す。ここで、Z−NS20は20℃におけ
る特性を、Z−NS50は50℃における特性を示す。
インダクタは図6と同様のインダクタZを用い、サーミ
スタは20℃で20Ω、50℃で10Ωの温度特性を持
つNTCサーミスタを用いた。
サーミスタと複合化(直列接続)されたチップインダク
タZ−NS20,Z−NS50とのインピーダンスの周
波数特性を示す。ここで、Z−NS20は20℃におけ
る特性を、Z−NS50は50℃における特性を示す。
インダクタは図6と同様のインダクタZを用い、サーミ
スタは20℃で20Ω、50℃で10Ωの温度特性を持
つNTCサーミスタを用いた。
【0026】図9はチップインダクタ単体Zと、PTC
サーミスタと複合化(直列および並列接続)されたチッ
プインダクタとのインピーダンスの周波数特性を示す。
ここで、Z−PS20は直列接続した場合の20℃にお
ける特性を、Z−PP20は並列接続した場合の20℃
における特性を、Z−PS50は直列接続した場合の5
0℃における特性を、Z−PP50は並列接続した場合
の50℃における特性を示す。ここで、インダクタは図
6と同様のインダクタZを用い、サーミスタは20℃で
10Ω、50℃で90kΩ(キュリー温度40℃)の温
度特性を持つPTCサーミスタを用いた。
サーミスタと複合化(直列および並列接続)されたチッ
プインダクタとのインピーダンスの周波数特性を示す。
ここで、Z−PS20は直列接続した場合の20℃にお
ける特性を、Z−PP20は並列接続した場合の20℃
における特性を、Z−PS50は直列接続した場合の5
0℃における特性を、Z−PP50は並列接続した場合
の50℃における特性を示す。ここで、インダクタは図
6と同様のインダクタZを用い、サーミスタは20℃で
10Ω、50℃で90kΩ(キュリー温度40℃)の温
度特性を持つPTCサーミスタを用いた。
【0027】図9から明らかなように、PTCサーミス
タとインダクタとを直列接続した場合には、40℃未満
(Z−PS20)ではインダクタ単体Zと近い特性を有
するが、40℃以上(Z−PS50)でインピーダンス
が非常に高くなり、実質的に回路を遮断した状態とな
る。つまり、40℃付近でスイッチ特性を持たせること
ができる。また、PTCサーミスタとインダクタとを並
列接続した場合には、40℃未満(Z−PP20)では
インダクタ単体Zに比べてインピーダンスが低いが、4
0℃以上(Z−PP50)ではインダクタ単体Zと同様
の特性となるので、40℃以上でインダクタそのままの
特性に戻すことができる。
タとインダクタとを直列接続した場合には、40℃未満
(Z−PS20)ではインダクタ単体Zと近い特性を有
するが、40℃以上(Z−PS50)でインピーダンス
が非常に高くなり、実質的に回路を遮断した状態とな
る。つまり、40℃付近でスイッチ特性を持たせること
ができる。また、PTCサーミスタとインダクタとを並
列接続した場合には、40℃未満(Z−PP20)では
インダクタ単体Zに比べてインピーダンスが低いが、4
0℃以上(Z−PP50)ではインダクタ単体Zと同様
の特性となるので、40℃以上でインダクタそのままの
特性に戻すことができる。
【0028】グリーンシート状のインダクタ特性シート
とサーミスタ特性シートとを圧着積層した後、焼成する
方法の場合、中間絶縁層として拡散防止層20を設けた
が、この中間絶縁層20は必須ではなく、省略すること
も可能である。中間絶縁層20をコファイアする場合に
は、その材料としてはSiO2 ,Al2O3 −MgOな
どを用いることができる。インダクタを構成する個々の
セラミック層に形成される内部コイル導体のパターンは
実施例のようなL字形に限らず、コ字形など任意の形状
を採用し得る。
とサーミスタ特性シートとを圧着積層した後、焼成する
方法の場合、中間絶縁層として拡散防止層20を設けた
が、この中間絶縁層20は必須ではなく、省略すること
も可能である。中間絶縁層20をコファイアする場合に
は、その材料としてはSiO2 ,Al2O3 −MgOな
どを用いることができる。インダクタを構成する個々の
セラミック層に形成される内部コイル導体のパターンは
実施例のようなL字形に限らず、コ字形など任意の形状
を採用し得る。
【0029】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、請求項1
に記載の複合電子部品によれば、インダクタとサーミス
タとを積層一体化し、1チップ化したので、小型のチッ
プ型複合電子部品を得ることができる。インダクタとサ
ーミスタとを直列または並列に接続することで、使用温
度によって複合電子部品全体のインピーダンス特性を自
動的に可変することができ、所望の温度特性を持つイン
ダクタを得ることができる。
に記載の複合電子部品によれば、インダクタとサーミス
タとを積層一体化し、1チップ化したので、小型のチッ
プ型複合電子部品を得ることができる。インダクタとサ
ーミスタとを直列または並列に接続することで、使用温
度によって複合電子部品全体のインピーダンス特性を自
動的に可変することができ、所望の温度特性を持つイン
ダクタを得ることができる。
【0030】PTCサーミスタをインダクタと直列接続
した場合、所定温度以上でサーミスタの抵抗値が非常に
高くなるので、所定温度以上で回路を遮断することがで
きる。つまり、所定温度でのスイッチ特性を持たせるこ
とができる。また、PTCサーミスタをインダクタと並
列接続した場合には、所定温度以下でインピーダンスを
下げることができ、所定温度以上でインダクタそのまま
の特性に戻すことができる。
した場合、所定温度以上でサーミスタの抵抗値が非常に
高くなるので、所定温度以上で回路を遮断することがで
きる。つまり、所定温度でのスイッチ特性を持たせるこ
とができる。また、PTCサーミスタをインダクタと並
列接続した場合には、所定温度以下でインピーダンスを
下げることができ、所定温度以上でインダクタそのまま
の特性に戻すことができる。
【0031】またNTCサーミスタをインダクタと並列
接続することで、インダクタのL成分の温度特性と抵抗
成分の温度特性とを相殺でき、安定した温度特性を持つ
インダクタを得ることができる。
接続することで、インダクタのL成分の温度特性と抵抗
成分の温度特性とを相殺でき、安定した温度特性を持つ
インダクタを得ることができる。
【0032】請求項7または8に記載の製造方法によれ
ば、インダクタもサーミスタも共に同様な積層方法を用
いて製造できるので、請求項1のような特徴を持つチッ
プ型複合子部品を量産性よく、かつ安定した品質で製造
できる。
ば、インダクタもサーミスタも共に同様な積層方法を用
いて製造できるので、請求項1のような特徴を持つチッ
プ型複合子部品を量産性よく、かつ安定した品質で製造
できる。
【図1】本発明にかかるチップ型複合電子部品の第1実
施例の断面図である。
施例の断面図である。
【図2】図1の電気回路図である。
【図3】インダクタの構造を示す分解斜視図である。
【図4】サーミスタの構造を示す分解斜視図である。
【図5】本発明にかかるチップ型複合電子部品の第2実
施例の断面図である。
施例の断面図である。
【図6】インダクタ単体とNTCサーミスタとの複合電
子部品(並列接続形)とのインピーダンスの周波数特性
図である。
子部品(並列接続形)とのインピーダンスの周波数特性
図である。
【図7】本発明にかかるチップ型複合電子部品の第3実
施例の断面図である。
施例の断面図である。
【図8】インダクタ単体とNTCサーミスタとの複合電
子部品(直列接続形)とのインピーダンスの周波数特性
図である。
子部品(直列接続形)とのインピーダンスの周波数特性
図である。
【図9】インダクタ単体とPTCサーミスタとの複合電
子部品とのインピーダンスの周波数特性図である。
子部品とのインピーダンスの周波数特性図である。
1 インダクタ 2 内部コイル導体 3 セラミック本体 10 サーミスタ 11a,11b 内部電極 12 セラミック本体 20 中間絶縁層 21,22 外部電極
フロントページの続き Fターム(参考) 5E034 AA10 AB01 AC06 BA10 BB01 BC02 5E043 AA09 AB09 EA03 EA04 EA05 EA06 EB05 5E070 AA01 AB03 AB10 BA12 CB03 CB13 CB17 CB18 CB20 DB08 EA01 EB03
Claims (8)
- 【請求項1】内部コイル導体を有する複数のセラミック
層を積層して得られるインダクタと、内部電極を有しか
つ所定の抵抗−温度特性を持つ複数のセラミック層を積
層して得られるサーミスタとが互いに積層され、インダ
クタの内部コイル導体の少なくとも一端とサーミスタの
内部電極の少なくとも一端とが一対の外部電極に接続さ
れていることを特徴とするチップ型複合電子部品。 - 【請求項2】上記インダクタの内部コイル導体の一端が
一方の外部電極に接続され、サーミスタの内部電極の一
端が他方の外部電極に接続され、インダクタの内部コイ
ル導体の他端とサーミスタの内部電極の他端とが相互に
接続されていることを特徴とする請求項1に記載のチッ
プ型複合電子部品。 - 【請求項3】上記インダクタの内部コイル導体の一端お
よびサーミスタの内部電極の一端が一方の外部電極に接
続され、インダクタの内部コイル導体の他端およびサー
ミスタの内部電極の他端が他方の外部電極に接続されて
いることを特徴とする請求項1に記載のチップ型複合電
子部品。 - 【請求項4】上記サーミスタは負特性サーミスタである
ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の
チップ型複合電子部品。 - 【請求項5】上記サーミスタは正特性サーミスタである
ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の
チップ型複合電子部品。 - 【請求項6】上記インダクタとサーミスタとは、中間絶
縁層を介して積層されていることを特徴とする請求項1
ないし5のいずれかに記載のチップ型複合電子部品。 - 【請求項7】内部コイル導体を有するセラミック層を積
層してインダクタ特性シートを得る工程と、内部電極を
有しかつ所定の抵抗−温度特性を持つセラミック層を積
層してサーミスタ特性シートを得る工程と、インダクタ
特性シートとサーミスタ特性シートとを拡散防止層を間
にして圧着し、複合積層体を得る工程と、複合積層体を
焼成する工程と、内部コイル導体の少なくとも一端部お
よび内部電極の少なくとも一端部が露出した複合積層体
の端面に外部電極を形成する工程と、を有するチップ型
複合電子部品の製造方法。 - 【請求項8】内部コイル導体を有するセラミック層を積
層してインダクタ特性シートを得る工程と、上記インダ
クタ特性シートを焼成する工程と、内部電極を有しかつ
所定の抵抗−温度特性を持つセラミック層を積層してサ
ーミスタ特性シートを得る工程と、上記サーミスタ特性
シートを焼成する工程と、焼成済みのインダクタ特性シ
ートとサーミスタ特性シートとを積層接着し、複合積層
体を得る工程と、内部コイル導体の少なくとも一端部お
よび内部電極の少なくとも一端部が露出した複合積層体
の端面に外部電極を形成する工程と、を有するチップ型
複合電子部品の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29608599A JP2001118731A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | チップ型複合電子部品およびその製造方法 |
US09/690,870 US6525395B1 (en) | 1999-10-19 | 2000-10-17 | Chip-type composite electronic component and manufacturing method thereof |
US10/090,806 US6846693B2 (en) | 1999-10-19 | 2002-03-06 | Chip-type composite electronic component and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29608599A JP2001118731A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | チップ型複合電子部品およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001118731A true JP2001118731A (ja) | 2001-04-27 |
Family
ID=17828933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29608599A Pending JP2001118731A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | チップ型複合電子部品およびその製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
US (2) | US6525395B1 (ja) |
JP (1) | JP2001118731A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002324630A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Murata Mfg Co Ltd | 電子機器及び電源コンセント |
JP2013516775A (ja) * | 2010-01-05 | 2013-05-13 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 成形体、加熱装置、及び成形体の製造方法 |
KR101792382B1 (ko) * | 2016-01-04 | 2017-11-01 | 삼성전기주식회사 | 복합 전자부품 및 그 실장기판 |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AUPP693398A0 (en) * | 1998-11-05 | 1998-12-03 | Resmed Limited | Fault diagnosis in CPAP and NIPPV devices |
US20040016110A1 (en) * | 1999-11-08 | 2004-01-29 | Masahiko Kawase | Method of producing chip thermistor |
DE10159451A1 (de) * | 2001-12-04 | 2003-06-26 | Epcos Ag | Elektrisches Bauelement mit einem negativen Temperaturkoeffizienten |
US6759940B2 (en) * | 2002-01-10 | 2004-07-06 | Lamina Ceramics, Inc. | Temperature compensating device with integral sheet thermistors |
US7177137B2 (en) * | 2002-04-15 | 2007-02-13 | Avx Corporation | Plated terminations |
US7463474B2 (en) * | 2002-04-15 | 2008-12-09 | Avx Corporation | System and method of plating ball grid array and isolation features for electronic components |
US7576968B2 (en) * | 2002-04-15 | 2009-08-18 | Avx Corporation | Plated terminations and method of forming using electrolytic plating |
US7152291B2 (en) * | 2002-04-15 | 2006-12-26 | Avx Corporation | Method for forming plated terminations |
US6982863B2 (en) * | 2002-04-15 | 2006-01-03 | Avx Corporation | Component formation via plating technology |
US6960366B2 (en) * | 2002-04-15 | 2005-11-01 | Avx Corporation | Plated terminations |
JP3846378B2 (ja) * | 2002-07-25 | 2006-11-15 | 株式会社村田製作所 | 負特性サーミスタの製造方法 |
JP2007048764A (ja) * | 2003-10-30 | 2007-02-22 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型正特性サーミスタおよびその設計方法 |
KR100803916B1 (ko) * | 2003-10-31 | 2008-02-15 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층형 저항소자 |
JP4293553B2 (ja) | 2005-05-31 | 2009-07-08 | Tdk株式会社 | 積層型電子部品及び積層セラミックコンデンサ |
JP4811464B2 (ja) * | 2006-06-20 | 2011-11-09 | 株式会社村田製作所 | 積層コイル部品 |
DE102007020783A1 (de) * | 2007-05-03 | 2008-11-06 | Epcos Ag | Elektrisches Vielschichtbauelement |
DE102007031510A1 (de) * | 2007-07-06 | 2009-01-08 | Epcos Ag | Elektrisches Vielschichtbauelement |
US7626802B2 (en) * | 2007-10-19 | 2009-12-01 | Oh Young Joo | Metal capacitor and manufacturing method thereof |
TWI398887B (zh) * | 2007-10-23 | 2013-06-11 | Pixart Imaging Inc | 可變平行電容板之製造方法 |
TWI384739B (zh) * | 2008-01-03 | 2013-02-01 | Delta Electronics Inc | 組合式電路及電子元件 |
JP5211801B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-06-12 | Tdk株式会社 | 電子部品 |
US7855615B1 (en) * | 2008-05-02 | 2010-12-21 | Smiths Interconnect Microwave Components, Inc. | Frequency adaptive temperature variable attenuator |
JP2011071457A (ja) * | 2008-12-22 | 2011-04-07 | Tdk Corp | 電子部品及び電子部品の製造方法 |
US8584348B2 (en) * | 2011-03-05 | 2013-11-19 | Weis Innovations | Method of making a surface coated electronic ceramic component |
DE102011014965B4 (de) * | 2011-03-24 | 2014-11-13 | Epcos Ag | Elektrisches Vielschichtbauelement |
KR101922863B1 (ko) * | 2011-05-31 | 2018-11-28 | 삼성전기 주식회사 | 적층형 세라믹 전자부품 및 그 제조방법 |
KR101503967B1 (ko) * | 2011-12-08 | 2015-03-19 | 삼성전기주식회사 | 적층형 인덕터 및 그 제조방법 |
CN102592817A (zh) * | 2012-03-14 | 2012-07-18 | 深圳顺络电子股份有限公司 | 一种叠层线圈类器件的制造方法 |
JP6201900B2 (ja) * | 2013-08-20 | 2017-09-27 | 株式会社村田製作所 | セラミック電子部品 |
TWI539753B (zh) | 2013-10-07 | 2016-06-21 | 宏碁股份有限公司 | 電子裝置 |
CN104578748B (zh) * | 2013-10-16 | 2017-04-12 | 宏碁股份有限公司 | 具温度补偿的无源元件及使用其的电子装置 |
KR101548808B1 (ko) * | 2013-10-24 | 2015-08-31 | 삼성전기주식회사 | 복합 전자부품 및 그 실장 기판 |
JP2015133359A (ja) * | 2014-01-09 | 2015-07-23 | 株式会社村田製作所 | 負特性サーミスタおよびその製造方法 |
DE102014107450A1 (de) * | 2014-05-27 | 2015-12-03 | Epcos Ag | Elektronisches Bauelement |
KR102004793B1 (ko) * | 2014-06-24 | 2019-07-29 | 삼성전기주식회사 | 적층 전자부품 및 그 실장기판 |
JP6582648B2 (ja) * | 2015-07-10 | 2019-10-02 | 株式会社村田製作所 | 複合電子部品 |
JP6702296B2 (ja) * | 2017-12-08 | 2020-06-03 | 株式会社村田製作所 | 電子部品 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07120605B2 (ja) | 1989-09-11 | 1995-12-20 | 株式会社村田製作所 | Lc複合部品 |
DE9003816U1 (ja) | 1990-04-02 | 1991-08-01 | Tax Imbh, 8000 Muenchen, De | |
JPH05335183A (ja) | 1992-05-28 | 1993-12-17 | Murata Mfg Co Ltd | 多層基板を備えた電子部品及びその製造方法 |
US5321573A (en) * | 1992-07-16 | 1994-06-14 | Dale Electronics, Inc. | Monolythic surge suppressor |
US5339068A (en) * | 1992-12-18 | 1994-08-16 | Mitsubishi Materials Corp. | Conductive chip-type ceramic element and method of manufacture thereof |
JPH07288351A (ja) * | 1994-04-19 | 1995-10-31 | Fujitsu Ltd | ペルチェ制御回路及びその素子構造 |
DE4441279C1 (de) * | 1994-11-19 | 1995-09-21 | Abb Management Ag | Vorrichtung zur Strombegrenzung |
DE4441280C2 (de) * | 1994-11-19 | 1998-08-27 | Asea Brown Boveri | Kaltleiter und Vorrichtung zur Strombegrenzung mit mindestens einem Kaltleiter |
JP3254970B2 (ja) | 1995-03-22 | 2002-02-12 | 三菱マテリアル株式会社 | 積層型複合素子の製造方法及び積層型複合素子 |
JP3067698B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2000-07-17 | 松下電器産業株式会社 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
JPH1167508A (ja) | 1997-08-19 | 1999-03-09 | Mitsubishi Materials Corp | 複合素子及びその製造方法 |
US20010043121A1 (en) * | 1997-11-27 | 2001-11-22 | Yuji Kakuta | Semiconductor circuit with a stabilized gain slope |
DE69942902D1 (de) * | 1998-03-31 | 2010-12-16 | Tdk Corp | Elektronisches Bauelement in Chipbauweise und Verfahren zu seiner Herstellung |
JPH11340005A (ja) * | 1998-05-28 | 1999-12-10 | Murata Mfg Co Ltd | チップ型電子部品 |
JP3494431B2 (ja) * | 1998-12-03 | 2004-02-09 | 株式会社村田製作所 | セラミック電子部品の製造方法およびセラミック電子部品 |
US6254715B1 (en) * | 1999-03-22 | 2001-07-03 | Tdk Corporation | Process for production of electronic component having terminal electrode |
-
1999
- 1999-10-19 JP JP29608599A patent/JP2001118731A/ja active Pending
-
2000
- 2000-10-17 US US09/690,870 patent/US6525395B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-03-06 US US10/090,806 patent/US6846693B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002324630A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Murata Mfg Co Ltd | 電子機器及び電源コンセント |
JP2013516775A (ja) * | 2010-01-05 | 2013-05-13 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 成形体、加熱装置、及び成形体の製造方法 |
KR101792382B1 (ko) * | 2016-01-04 | 2017-11-01 | 삼성전기주식회사 | 복합 전자부품 및 그 실장기판 |
US10321571B2 (en) | 2016-01-04 | 2019-06-11 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Composite electronic component and board having the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6846693B2 (en) | 2005-01-25 |
US20020125547A1 (en) | 2002-09-12 |
US6525395B1 (en) | 2003-02-25 |
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