ES2341700A1 - Procedimiento y dispositivo para el tratamiento quimico humedo de superficies. - Google Patents

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Abstract

Procedimiento y dispositivo para el tratamiento químico húmedo de superficies de un material, en particular tratamiento acelerado de estructuras en tecnología de placas de circuito impreso. Según el procedimiento de la invención, se produce un chorro de pulverización similar a impulsos del fluido de tratamiento y se le dirige contra la superficie del material. Esto provoca una acción de impacto pronunciada contra la base de una estructura a procesar, reduciéndose sustancialmente la cantidad de tiempo de tratamiento que es necesaria. El flujo de salida libre de presión y acelerado del fluido de tratamiento desde los canales de la estructura en las pausas entre impulsos da como resultado que los flancos de las estructuras o los conductores de la placa de circuito se sometan a un menor procesamiento químico húmedo que en la técnica anterior. En caso de un grabado químico, el resultado es un menor corte de rebajado.

Description

Procedimiento y dispositivo para el tratamiento químico húmedo de superficies.
Campo técnico
La presente invención se refiere a un procedimiento y dispositivo para el tratamiento químico húmedo de superficies de material por medio de fluido del tratamiento pulverizado o rociado.
Antecedentes de la invención
Las plantas destinadas a un tratamiento químico húmedo pueden ser plantas de inmersión o plantas de procesamiento continuo. Cuando se usan tales plantas, un experto en la materia emplea toberas o tubos de tobera estacionarios, accionados u oscilantes, de tal manera que el fluido de tratamiento fluya contra la superficie de un material que se va a tratar. Se tiene la intención de que se consiga un resultado suficiente del tratamiento químico húmedo con la mayor rapidez que sea posible. En la práctica del tratamiento de superficies, tal intención es un antagonismo, ya que, con intensidad creciente del tratamiento de superficies, es decir, un tiempo de tratamiento más corto, los resultados que pueden obtenerse cambian a peor.
Un ejemplo típico de aplicación del tratamiento de superficies es la tecnología de circuitos impresos. Hay diversos procedimientos en esta tecnología en los que el procedimiento y el dispositivo de la invención pueden aplicarse favorablemente. Éstos son, por ejemplo, el lavado o enjuagado, el revelado de una película o una materia protectora, el grabado químico de cobre, el desprendimiento de una película o una materia protectora y el grabado químico de metal con materia protectora. Tales procedimientos se llevan a cabo usualmente por medio de una pulverización o rociado contra un material a procesar. En la superficie del material, la transferencia de masa necesaria tiene lugar en la capa de difusión correspondiente. Dicha transferencia de masa puede acelerarse por medio de una presión de pulverización incrementada que da como resultado una cantidad reducida de tiempo de tratamiento. Sin embargo, en tal caso surgen efectos laterales no deseados que influyen desfavorablemente sobre la precisión del resultado del tratamiento. Un ejemplo es el grabado químico de estructuras generales en la superficie de un material o el grabado químico de un patrón conductivo de placas de circuito impreso. Las áreas que no se deben grabar son cubiertas por medio de una película o materia protectora. La materia protectora es estable frente al fluido de grabado químico. Si se realiza un grabado químico por medio de una pulverización o rociado de toberas o tubos de tobera, tal tratamiento no tiene lugar solamente en áreas expuestas de canales de grabado químico entre áreas cubiertas de materia protectora, sino también en flancos de canales de grabado químico. El resultado es un corte de rebajado de la materia protectora que puede tolerarse solamente a una escala muy pequeña. Así, con respecto a las dimensiones y secciones transversales de las pistas conductoras, el resultado de las estructuras restantes es impredecible. Especialmente en la tecnología de conductores de precisión (anchuras y espaciamientos de pistas de conductores de aproximadamente 120 \mum y menos), se requiere una precisión mayor y reproducible de los resultados del tratamiento. Por tanto, tampoco se permite un tratamiento impredecible de flancos de estructuras por medio de otros procedimientos mencionados anteriormente. En general, con el fin de conseguir la precisión necesaria de estructuras químicamente grabadas, se reduce el tiempo de tratamiento, pero esto no resulta apreciable.
En el documento DE 195 24 523 A1, se describen un procedimiento y un dispositivo para resolver un problema como el que se menciona anteriormente, el cual se plantea durante el tratamiento químico húmedo de superficies. Se crea un chorro de fluido combinado con burbujas de cavitación a alta presión en toberas específicas. El chorro de fluido transporta la masa fresca necesaria hasta la capa de difusión aplicada sobre la superficie del material. Las burbujas de cavitación implosionan allí dando como resultado una transferencia de masa. Este procedimiento es adecuado para las aplicaciones antes mencionadas y especialmente para la tecnología de circuitos impresos. Sin embargo, la complejidad técnica de las unidades de alta presión es muy grande.
En el documento DE 31 04 522 A1, se describe un inhibidor para el grabado químico húmedo de estructuras, en el que se añade el inhibidor a una solución de grabado químico. El inhibidor crea una piel protectora para la protección de los flancos de los canales de grabado químico. Se describe que el inhibidor reduce la reacción en los flancos. Sin embargo, este procedimiento requiere inhibidores específicos para los respectivos procesos, lo que restringe una aplicación general de este procedimiento.
En el documento DE 199 08 960 se describe un procedimiento adicional para grabar químicamente capas de un soporte plano, en el que el espesor de la capa de un lado es diferente del espesor de la capa del otro lado opuesto. Se ajusta un tiempo de tratamiento individual para cada lado del soporte y el tiempo de tratamiento es proporcional al espesor de la capa a grabar químicamente. Esto se lleva a cabo mediante una interrupción temporal del procesamiento si es necesario un tiempo más corto en comparación con el tiempo de tratamiento más largo posible. El periodo para la interrupción puede ser cero en caso de un espesor de capa máximo.
En el documento DE 199 08 960 C2 se describe en el párrafo [0021] que durante cada interrupción de un proceso de grabado químico, tiene lugar un regrabado químico temporal por efecto de la solución de grabado químico adherida No es razonable para esta aplicación un periodo de interrupción que sea más corto que el periodo en el que tiene lugar el regrabado químico. En general, puede grabarse químicamente una capa delgada en un tiempo de grabado químico reducido. En caso de un regrabado químico, tiene pleno sentido una interrupción periódica.
En el documento DE 101 54 886 A1 se describe un procedimiento para la reducción del grabado químico en flancos de canales de grabado químico. La retirada de material metálico se realiza en dos pasos del procedimiento. En primer lugar, el material metálico es retirado electrolíticamente aplicando un campo eléctrico pulsado Este grabado químico tiene lugar preferentemente en la dirección de la profundidad del canal de grabado químico, en la que los flancos son atacados en menor grado. Después de alcanzar cierta profundidad de los canales de grabado químico, se desconectan las conexiones eléctricas de algunas estructuras. Por tanto, el área en la base de tal canal de grabado químico tiene que regrabarse químicamente en un proceso adicional que requiere un esfuerzo técnico adicional.
Breve sumario de la invención
A la vista de los problemas de la técnica anterior, un objetivo principal de la presente invención es proporcionar un procedimiento y un dispositivo que permitan un proceso químico húmedo para un tratamiento preciso de estructuras sobre superficies, consiguiendo de este modo un corto tiempo de tratamiento.
Éste y otros objetivos de la invención pueden alcanzarse proporcionando un procedimiento según la reivindicación 1 y un dispositivo según la reivindicación 15. En las reivindicaciones subordinadas se describen formas de realización ventajosas.
Breve descripción de los dibujos
La presente invención se describe a continuación haciendo referencia a los dibujos adjuntos, en los que:
la figura 1 es una vista en sección de una primera forma de realización del dispositivo según la presente invención;
la figura 2a es una vista frontal de una segunda forma de realización del dispositivo según la presente invención, en la que se ilustra unos primeros medios de interrupción rotativos;
la figura 2b es una vista en planta superior y una vista lateral de los primeros medios de interrupción ilustrados en la figura 2a;
la figura 3 es una vista en sección de una tercera forma de realización del dispositivo según la presente invención;
la figura 4 es una vista desarrollada de una parte de la tercera forma de realización del dispositivo según la presente invención;
la figura 5a es una vista lateral de una cuarta forma de realización del dispositivo según la presente invención en una primera posición; y
la figura 5b es una vista lateral de una cuarta forma de realización del dispositivo según la presente invención en una segunda posición.
Descripción detallada de las formas de realización preferidas
La figura 1 muestra una primera forma de realización del dispositivo según la presente invención. Una intensa corriente o chorro de pulverización 2 de fluido de tratamiento fluye a través de una abertura o tobera 1 en la que el chorro de pulverización 2 es interrumpido de una manera repetida y preferentemente regular por unos medios de interrupción 3 que están provistos de aberturas. En esta forma de realización, el chorro de pulverización 2 cíclicamente interrumpido alcanza la superficie 5 de un material 6 a tratar de tal manera que, según la invención, el chorro de pulverización 2 impacta o choca discontinuamente contra la superficie 5 del material 6. El chorro de pulverización 2 funciona como un chorro efectivo 4 que es hidrodinámicamente pulsante. El fluido del chorro efectivo 4 se denomina en lo sucesivo fluido efectivo 8. El fluido de tratamiento que se acumula en los medios de interrupción 3 durante una pausa de impulso y no se utiliza de momento, se denomina en lo que sigue fluido reactivo 9. Este fluido reactivo 9 se mantiene ampliamente apartado de la superficie 5 del material 6 a tratar. Esto reduce la adherencia de fluido de tratamiento sobre la superficie 5 del material 6. Así, se mejora significativamente la influencia dinámica del chorro efectivo 4 interrumpido y pulsante durante el tratamiento químico. Sobre la superficie 5 del material 6 a tratar se consigue un impacto permanente y una perforación de la superficie humedecida con fluido de tratamiento. Tal acción de impacto soporta sustancialmente el procedimiento químico húmedo real al reducir el espesor de la capa de difusión. Este soporte hidrodinámico es útil para todos los procesos mencionados anteriormente, incluido el proceso de enjuagado. El tiempo de tratamiento se reduce hasta un 50% por medio de la acción de impacto. La precisión conseguida durante el tratamiento de la estructura no se ve influenciada de una manera negativa, lo que es una ventaja significativa y resulta muy sorprendente, dado que los procedimientos para forzar procesos químicos húmedo según la técnica anterior tienen una influencia desfavorable sobre la calidad de los resultados del tratamiento en general y sobre la calidad de los canales de grabado químico en particular.
La interrupción cíclica del chorro de tratamiento se realiza con una frecuencia., que es de por lo menos 0,5 Hz, favorablemente de 10 Hz a 100 Hz o más. La relación de tiempo de impulso de impacto a pausa de impacto es de por lo menos 10:1 a 1:10, favorablemente de 2:1 a 1:2, ajustándose la relación por medio de un dispositivo de control. El accionamiento de los medios de interrupción puede realizarse por vía electromotriz, electromagnética, neumática, hidráulica o por medio de otros dispositivos actuadores. La invención puede combinarse con otras medidas conocidas para mejorar los resultados del tratamiento químico húmedo, por ejemplo con inhibidores en un fluido de trata-
miento.
El solicitante ha aplicado el procedimiento y el dispositivo de la invención para grabar químicamente pistas de precisión en placas de circuito impreso. El resultado fue una reducción del tiempo de tratamiento de aproximadamente un 33% y no se descubrió ningún corte de rebajado adicional de la materia protectora en comparación con los resultados conseguidos por procedimientos según la técnica anterior. A pesar del proceso de intenso grabado químico, los flancos en los canales de grabado químico permanecieron inalterados. Se supone que el efecto de impactos sobre la base del canal de grabado químico es mucho mayor en comparación con el efecto sobre los flancos de las estructuras. Además, se sospecha que, durante las pausas entre impulsos, por un lado, el fluido de tratamiento no fluye hacia la superficie de material y, por otro lado, el fluido de tratamiento puede extraerse de los canales de grabado químico. Durante el siguiente impulso de grabado químico, el fluido de tratamiento que ha permanecido en los canales de grabado químico está libre de presión y el chorro efectivo 4 penetra en la capa de difusión más delgada hasta una profundidad mayor. Especialmente en la tecnología de conductores de precisión, la llamada tecnología HDI, la profundidad de corte necesaria de un canal de grabado químico alcanza la anchura de la pista. Esto es un gran reto para todos los procesos de la tecnología de placas de circuito impreso. La presión de fluido en los flancos provocada por el fluido de tratamiento, como se conoce en la técnica anterior, es evitada por medio del tratamiento pulsante de canales estructurados profundos según la invención. En consecuencia, los flancos de las estructuras son menos tratados químicamente húmedo en comparación con la base de los canales. Así, aplicando el procedimiento de la invención, es posible mejorar significativamente la precisión del tratamiento químico húmedo mientras se reduce significativamente el tiempo de tratamiento sin pérdida de calidad.
Durante los experimentos de grabado químico realizados por el solicitante, la distancia de las toberas 1 a la superficie 5 del material 6 ascendió a 100 mm. El caudal del fluido de tratamiento a través de cada una de las toberas estrechadas con un ángulo de 30º en el vértice ascendió a 1,6 litros por minuto a una presión de 3 bares
(300.000 N/m^{2}).
La figura 2a ilustra una sección transversal de un dispositivo de pulverización tubular 10 que está equipado con varias toberas 1. En lugar de toberas, es más barato dotar al dispositivo 10 con orificio de un diámetro de abertura de, por ejemplo, 0,5 mm a 3 mm. El fluido de tratamiento fluye presurizado a través de la entrada 7 hacia el dispositivo de pulverización 10 y se descarga presurizado del dispositivo 10 a través de las toberas 1. La presión puede variar ampliamente. La presión puede ser de 1,1 a 100 bares dependiendo del proceso, las dimensiones de las estructuras y el posicionamiento de las toberas con relación al lado inferior o al lado superior del material 6. Unos medios de interrupción rotativos, tales como un disco perforado 11 con orificios o rebajos, están situados delante de las toberas 1. El disco perforado está provisto de fiadores 12 que están expuestos a una parte del chorro de pulverización 2 del fluido de tratamiento. De ese modo, se pone en movimiento el disco perforado 11. El disco 11 interrumpe el chorro de pulverización 2, de modo que el fluido de tratamiento como chorro efectivo 4 alcance de una manera pulsada la superficie 5 del material 6. En la figura 2b se ilustra un disco perforado para dos pares de toberas 1. Cada par de toberas 1 está dispuesto en el dispositivo de pulverización 10 de tal manera que cada par de toberas 1 citado esté inclinado de forma diferente según la dirección predeterminada de rotación del disco perforado 11. En el disco perforado 11 hay aberturas 13 en forma de orificios o ranuras, tal como se ilustra en la figura 2b.
Según una forma de realización adicional, los medios de interrupción son una tira perforada o ranurada axialmente dispuesta delante de las toberas o orificios y que se extiende a lo largo de toda la longitud del dispositivo de pulverización. La tira con aberturas se mueve cíclicamente y en dirección axial con el fin de interrumpir el chorro de pulverización 2.
Los dispositivos de pulverización pueden estar situados de manera estacionaria en una planta de procesamiento continuo con transporte horizontal o vertical del material 6, estando los dispositivos de pulverización separados 100 mm uno de otro en la dirección de transporte. Sin embargo, pueden disponerse de manera móvil como se conoce en máquinas de tratamiento químico húmedo según la técnica anterior. A este respecto, los dispositivos de pulverización 10 de la invención, en combinación con medios de interrupción 3, pueden realizar movimientos pivotantes u oscilantes en dirección radial y/o axial. De ese modo, se reduce una acumulación de fluido sobre la superficie del material.
La figura 3 ilustra una forma de realización adicional de la invención, en la que un dispositivo de pulverización 10 está provisto de unos orificios 14 o toberas. Un cilindro pivotante o rotativo 15 está situado coaxialmente con el dispositivo de pulverización 10, estando el cilindro 15 provisto de ranuras 16 o orificios dispuestos en la circunferencia del cilindro y que son congruentes con los orificios del dispositivo de pulverización 10. Las ranuras 16 o orificios están provistos cada uno de ellos de un collar 17 en ambos lados de los mismos. Tal collar 17 sirve como superficie de contacto para el chorro de pulverización 2 ligeramente inclinado mediante el cual se pone en movimiento el cilindro. Además, los collares 17 acumulan el fluido de tratamiento que no deberá alcanzar la superficie 5 del material 6 durante una pausa entre impulsos. El fluido de tratamiento es descargado lateralmente del cilindro. Una ligera inclinación del dispositivo de pulverización 10 y del cilindro 15 soporta la descarga lateral del fluido de tratamiento. Por tanto, esta porción de fluido no alcanza la superficie 5 del material 6. De ese modo, el humedecimiento de la superficie a tratar se reduce a un mínimo, con lo que se mejora el efecto de impacto descrito anteriormente. El dispositivo de la invención es muy adecuado para tratamiento químico húmedo de una superficie de un material si este material es transportado horizontalmente a través de una planta de procesamiento continuo. El fluido de tratamiento que no es necesario se mantiene alejado de la superficie del artículo a tratar.
Los cojinetes del cilindro pueden estar dispuestos al final del dispositivo de pulverización. Pueden usarse para esto cojinetes de rodadura 18, teniendo que ser tales cojinetes químicamente resistentes contra un respectivo fluido de tratamiento. Son adecuados los cojinetes de rodadura compuestos de plástico o cerámica.
Los medios de interrupción cilíndricos y los demás medios de interrupción pueden ser puestos en movimiento por un accionamiento eléctrico, neumático o hidrodinámico. De ese modo, la velocidad de rotación es independiente de las propiedades físicas del chorro de pulverización 2. Especialmente, pueden ajustarse elevadas velocidades de rotación y un alto ciclo de impulsos, por ejemplo 1.000 impulsos por segundo. De ese modo, el chorro efectivo se transforma en un corto ciclo de gotas de fluido de tratamiento altamente aceleradas en caso de una presión elevada en la entrada 7. Esto es particularmente efectivo para procesos químicos húmedo. Debido a la dura atmósfera, son aplicables motores refrigerados por aire o motores eléctricos adecuadamente protegidos.
Los dispositivos de control eléctricos y electrónicos de la planta de tratamiento químico húmedo ajustan los parámetros del proceso dependiendo del tratamiento requerido del material. Lo mismo sucede con el ajuste de la frecuencia de interrupción y la relación entre el tiempo de impulso y la pausa entre impulsos del chorro efectivo 4.
En la figura 4 se ilustra una vista desarrollada del cilindro 15 en vista en planta desde arriba y en vista lateral, respectivamente. Un puente o alma 19 puede estar dispuesto entre posiciones de tobera con el fin de estabilizar el cilindro 15 provisto de ranuras 16, de modo que no se pongan trabas al chorro de pulverización 2. Sobre la base de un área del cilindro 15 donde se acumula el fluido de tratamiento, puede insertarse un elemento elástico en calidad de amortiguador 20. Este amortiguador 20 reduce una salpicadura incontrolada del fluido de tratamiento cuando el fluido golpea sobre la pared interior del cilindro 15. Además, esto acelera la descarga lateral del fluido de tratamiento del cilindro 15.
En la figura 5a y en la figura 5b, se ilustran una tobera 1 y unos medios de interrupción 3 en forma de una lámina vibrante 21. Este elemento de máquina elástico está montado en un punto fijo 23. Los medios de interrupción están dispuestos delante de la tobera 1, de tal modo que el chorro de pulverización 2 golpee el extremo superior de la lámina 21, con lo que se desvía el chorro de pulverización 2. De este modo, la lámina 21 se dobla en dirección al chorro de pulverización 2, con lo que una salida 22 en la lámina 21 está posicionada en la dirección del chorro; véase la figura 5b. La salida 22 abre la trayectoria a la superficie del material 6 a tratar. El chorro efectivo del fluido de tratamiento alcanza bruscamente el material 6. Simultáneamente, se reduce la presión dinámica sobre la lámina 21. De este modo, la lámina 21 vuelve bruscamente a su posición de partida como se ilustra en la figura 5a. En esta posición, el chorro de pulverización 2 del fluido de tratamiento se desvía en forma de un chorro reactivo y es recogido por un canal de recogida 24. El fluido tratamiento, que no deberá alcanzar la superficie del material, es desviado lateral y transversalmente al dispositivo de pulverización por el canal de recogida 24. El canal de recogida 24 se extiende en paralelo a la superficie 5. Esta forma de realización de la presente invención es adecuada para un tratamiento en ambos lados de un material horizontalmente transportado. Las propiedades elásticas y las dimensiones de la lámina y las condiciones hidrodinámicas del fluido de tratamiento determinan la frecuencia óptima de impulsos del tratamiento químico húmedo.
Los medios de interrupción según esta forma de realización son adecuados también para acomodarse en la propia tobera en caso de respectivas dimensiones pequeñas. Con el uso de toberas provistas de tales medios de interrupción o de unos medios de interrupción similares se impide la descarga de fluido de tratamiento durante una pausa entre impulsos. De este modo, estas toberas son adecuadas además para situarse en el lado superior de un material horizontalmente transportado.
Según una forma de realización adicional de la invención, se proporciona un dispositivo de succión adicional para un escape de fluido de tratamiento que se refleje desde la superficie 5 del material 6. Se impide con ello una acumulación de fluido en la superficie 5 del material 6 y se evitan residuos innecesarios de fluido, con lo que se reduce adicionalmente el corte de rebajado de las pistas conductoras.
La descripción se proporciona a título ilustrativo y explicativo. Resultará, evidente para los expertos en la materia que pueden realizarse cambios y modificaciones en la invención descrita anteriormente sin apartarse de su alcance o espíritu.
Lista de referencias
1
Tobera, abertura
2
Chorro de pulverización del fluido de tratamiento
3
Medios de interrupción
4
Chorro efectivo, chorro pulsante
5
Superficie a tratar
6
Artículo
7
Entrada
8
Fluido efectivo
9
Fluido reactivo
10
Dispositivo de pulverización
11
Disco perforado
12
Fiador
13
Abertura
14
Orificio
15
Cilindro
16
Ranura
17
Collar
18
Cojinete de rodadura
19
Puente
20
Amortiguador
21
Lámina
22
Salida
23
Punto fijo
24
Canal de recogida

Claims (13)

1. Procedimiento para el tratamiento químico húmedo de una superficie de un material (6), tal como por ejemplo una placa de circuito impreso, una pastilla o un material híbrido, por medio de un fluido de tratamiento en una planta de inmersión o en una planta de procesamiento continuo, siendo transportado el fluido de tratamiento como un chorro de pulverización (2) en dirección al material (6), desplazándose unos medios de interrupción (3) del chorro de pulverización de tal modo que el chorro de pulverización (2) impacte discontinuamente contra el material (6), generándose el chorro de pulverización (2) mediante una tobera (1), caracterizado porque el fluido de tratamiento impacta sobre los medios de interrupción (3) dispuestos detrás de la tobera (3).
2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque el desplazamiento de los medios de interrupción (3) se consigue con ayuda de un movimiento rotativo, pivotante o lineal.
3. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 ó 2, caracterizado porque el impacto discontinuo del chorro de pulverización (2) contra el material (6) se realiza cíclicamente, consiguiéndose una frecuencia de interrupción de por lo menos 0,5 Hz, en particular de 10 Hz a 100 Hz.
4. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque el impacto discontinuo del chorro de pulverización (2) contra el material (6) tiene lugar con una relación entre una duración del impacto sobre el material (6) y una pausa del impacto comprendida entre 10:1 y 1:10, preferentemente entre 2:1 y 1:2.
5. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque los medios de interrupción (3) recogen el fluido de tratamiento y mantienen el fluido apartado de la superficie del material (6) que se va a tratar.
6. Procedimiento según la reivindicación 5, caracterizado porque el fluido de tratamiento se mantiene apartado de la superficie del material por medio de un collar (17) o de un canal de recogida (24).
7. Dispositivo para el tratamiento químico húmedo de una superficie de un material (6), tal como por ejemplo una placa de circuito impreso, una pastilla o un material híbrido, por medio de un fluido de tratamiento en una planta de inmersión o en una planta de procesamiento continuo, pudiendo transportarse el fluido de tratamiento por medio del dispositivo como un chorro de pulverización (2) en dirección al material (6), en el que el dispositivo presenta por lo menos unos medios de interrupción (3) del chorro de pulverización, que se pueden desplazar de tal manera que el chorro de pulverización (2) pueda ser guiado de manera discontinua al material (6), en el que el chorro de pulverización (2) se puede generar mediante una tobera (1), caracterizado porque los medios de interrupción (3), en relación a la dirección de flujo del fluido de tratamiento están dispuestos detrás de la tobera (1).
8. Dispositivo según la reivindicación 7, caracterizado porque el desplazamiento de los medios de interrupción (3) puede conseguirse con ayuda de un movimiento rotativo, pivotante o lineal.
9. Dispositivo según una de las reivindicaciones 7 u 8, caracterizado porque el desplazamiento de los medios de interrupción (3) puede conseguirse con ayuda de una fuerza que es ejercida por el chorro de pulverización (2) del fluido de tratamiento que fluye con sobrepresión.
10. Dispositivo según una de las reivindicaciones 7 a 9, caracterizado porque los medios de interrupción (3) están dispuestos entre la tobera (1) y el material (6) que se va a tratar, y están conformados como un cilindro (15) que puede girar o pivotar alrededor de la tobera (1).
11. Dispositivo según una de las reivindicaciones 7 a 10, caracterizado porque los medios de interrupción (3) están conformados como un elemento de construcción vibrante u oscilante.
12. Dispositivo según una de las reivindicaciones 7 a 11, caracterizado porque los medios de interrupción (3) comprenden un canal de recogida (24) o un canal, que se extiende en paralelo a la superficie que se va a tratar, siendo el mismo apto para recoger porciones del chorro de pulverización de la superficie (5) del material (6) que no son necesarias.
13. Dispositivo según una de las reivindicaciones 7 a 12, caracterizado porque el dispositivo comprende un dispositivo de succión para un escape del fluido de tratamiento.
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