WO2008011870A1

WO2008011870A1 - Verfahren und vorrichtung zum beschleunigten nasschemischen behandeln von oberflächen

Info

Publication number: WO2008011870A1
Application number: PCT/DE2007/001306
Authority: WO
Inventors: Marcus Lang
Original assignee: Lp Vermarktungs Gmbh & Co.Kg
Priority date: 2006-07-25
Filing date: 2007-07-21
Publication date: 2008-01-31

Abstract

Die Erfindung betrifft das nasschemische Behandeln der Oberflächen (5) von Gut (6). Sie eignet sich insbesondere zur beschleunigten Behandlung von Strukturen, wie sie z.B. bei der Leiterplattentechnik vorkommen. Hierzu werden pulsförmige Strahlen (4) der Behandlungsflüssigkeit erzeugt und gegen die Oberfläche des Gutes gerichtet. Dies verursacht eine verstärkte Schlagwirkung am Boden der zu bearbeitenden Strukturen, wodurch die erforderliche Behandlungszeit wesentlich verringert wird. Durch das drucklose und beschleunigte Abfließen der Behandlungsflüssigkeit aus den Strukturkanälen in den Pulspausen werden die Flanken der Strukturen oder Leiterbahnen im Vergleich zum Stand der Technik weniger nasschemisch bearbeitet, was ein weiteres Ziel der Erfindung ist. So erfolgt z.B. beim chemischen Ätzen bei gegebener Behandlungszeit ein geringeres Unterätzen, oder bei gleichem Unterätzen kann die Behandlungszeit wesentlich verringert werden.

Description

Verfahren und Vorrichtung zum beschleunigten nasschemischen Behandeln von Oberflächen Beschreibung

Die Erfindung betrifft die nasschemische Behandlung der Oberfläche von Gut mittels gesprühter oder gespritzter Behandlungsflüssigkeit. Bei den hierzu erforderlichen Anlagen kann es sich um Tauchbadanlagen oder um Durchlaufanlagen handeln. Aus ruhenden, bewegten oder oszillierenden Düsen oder Düsenstöcken strömt die Behandlungsflüssigkeit gegen die Oberfläche des zu behandelnden Gutes. Dabei ist es das Ziel, dass bei möglichst kleiner Behandlungszeit ein präzises Behandlungsergebnis erzielt wird. Dies ist in der Praxis der Oberflächenbehandlung ein Widerspruch. Mit zunehmender Behandlungsintensität, d.h. kürzerer Behandlungszeit, nimmt die Präzision des Ergebnisses ab. Typische Anwendungsbeispiele zur Oberflächenbehandlung bestehen in der Leiterplattentechnik. Hier gibt es mehrere Prozesse, bei denen die Erfindung vorteilhaft angewendet werden kann. Als Beispiel sollen das Reinigen oder Spülen, Film- oder Resistentwickeln, Kupferätzen, Film- oder Resiststrippen und das Metallresistätzen genannt werden. Diese Verfahren erfolgen in der Regel durch Besprühen oder Bespritzen des Gutes. Dabei erfolgt der erforderliche Stoffaustausch in der Diffusionsschicht an der zu behandelnden Oberfläche. Mit zunehmendem Spritzdruck kann dieser Stoffaustausch beschleunigt werden, was die Behandlungszeit verringert. Allerdings treten dabei unerwünschte Nebeneffekte auf, die die Präzision des Behandlungsergebnisses negativ beeinflussen. Als Beispiel sei hier das Ätzen von allgemeinen Strukturen auf einem Gut, oder des Leiterbildes von Leiterplatten genannt. Die nicht zu ätzenden Bereiche sind mit einem Film oder Resist abgedeckt. Dieser Resist ist beständig gegen die Ätzflüssigkeit. Beim Sprüh- oder Spritzätzen aus Düsen oder Düsenstöcken werden nicht nur die freien Stellen des Ätzkanales zwischen den mit Resist abgedeckten Bereichen geätzt, sondern auch die Flanken des Ätzkanales. Dies bewirkt ein so genanntes Unterätzen der Resistschicht, das nur sehr begrenzt zulässig ist. Das Behandlungsergebnis der verbleibenden Strukturen bzw. Leiterzüge ist in Folge des Unterätzens letztendlich unvorhersehbar bezüglich ihrer Abmessungen und der Form der Strukturquerschnitte. Insbesondere in der Feinleitertechnik ist eine zunehmend größere und reproduzierbare Präzision der Behandlungsergebnisse erforderlich. Aus gleichen Gründen ist auch bei den anderen genannten Prozessen eine unvorhersehbare Flankenbearbeitung der Strukturen unzulässig. Im Allgemeinen wird zur Erzielung der erforderlichen Präzision der Behandlung die Behandlungszeit verringert, was jedoch aus wirtschaftlichen Gründen unerwünscht ist.

Ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Lösung der genannten Probleme bei der Behandlung von Oberflächen ist in der Druckschrift DE 195 24 523 A1 beschrieben. In speziellen Düsen wird unter hohem Druck ein mit Kavitationsblasen behafteter Flüssigkeitsstrahl erzeugt. Der Strahl führt den erforderlichen unverbrauchten Stoff zur Diffusionsschicht an der Oberfläche des Gutes. Dort implodieren die Kavitationsblasen und bewirken den Stoffaustausch. Dieses Verfahren ist für die oben genannten Anwendungen und besonders für die Leiterplattentechnik geeignet. Der technische Aufwand, der für die Hochdruckaggregate erforderlich ist, ist jedoch sehr hoch.

Zum nasschemischen Ätzen von Strukturen beschreibt die Druckschrift DE 31 04 522 A1 einen Inhibitor, der der Ätzlösung zugesetzt wird. Der Inhibitor bildet eine schützende Haut als Flankenschutz an den Ätzflanken der Strukturen, wodurch der seitliche Ätzangriff verringert werden soll. Dieses Verfahren erfordert für die jeweiligen Prozesse individuelle Inhibitoren, was einer allgemeinen Verbreitung entgegensteht.

Ein weiteres Verfahren zum Ätzen von unterschiedlich dicken Schichten auf den beiden Seiten eines flachen Trägergegenstandes beschreibt die Druckschrift DE 199 08 960 C2. Hier wird die individuelle Behandlungszeit an jeder Seite des Trägergegenstandes proportional zur Dicke der zu ätzenden Schicht eingestellt. Dies geschieht durch zeitliche Unterbrechungen der Behandlung, wenn eine kleinere Zeit im Vergleich zur längsten erforderlichen Behandlungszeit nötig ist. Für die maximal zu bearbeitende Schichtdicke kann die Dauer der Unterbrechungen Null sein.

In DE 199 08 960 C2 wird in Absatz [0021] darauf hingewiesen, dass bei jeder Unterbrechung des Ätzvorganges durch die anhaftende Ätzlösung ein zeitlich begrenztes Nachätzen erfolgt. Unterbrechungszeiten, die kleiner sind als dieses Nachätzen, sind für die genannte Anwendung nicht sinnvoll. Die Verringerung der Ätzzeiten zur Anpassung an die dünnere zu ätzende Schichtdicke kann unter Beachtung der Nachätzzeit auch periodisch erfolgen.

Ein Verfahren zur Verringerung des Flankenangriffs beim Ätzen beschreibt die Druckschrift DE 101 54 886 A1. Der Metallabtrag erfolgt in zwei Verfahrensschritten. Zunächst wird das Metall unter Anlegen eines gepulsten elektrischen Feldes elektrolytisch abgetragen. Dieses Ätzen erfolgt bevorzugt in die Tiefe des Ätzkanales. Die Flanken werden weniger angegriffen. Für das vollständige elektrolytische Ätzen der Kanäle geht bei Erreichen einer bestimmten Tiefe der Ätzkanäle die elektrische Verbindung einzelner Strukturen verloren. Deshalb müssen die Bereiche am Boden der Ätzkanäle chemisch in einem weiteren Prozeß nachgeätzt werden, was einen zusätzlichen technischen Aufwand erfordert.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung vorzuschlagen, die nasschemische Prozesse zur präzisen Behandlung von Strukturen an Ober- flächen bei gleichzeitig kleiner Behandlungszeit ermöglichen.

Gelöst wird die Aufgabe durch das Verfahren gemäß Patentanspruch 1 und durch die Vorrichtung gemäß Patentanspruch 15. Vorteilhafte Ausführungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.

Die Erfindung wird an Hand der Beispiele in den Figuren 1 bis 5 detailliert beschrieben.

Figur 1 zeigt schematisch das grundsätzliche Prinzip zur beschleunigten nasschemischen Behandlung von Oberflächen. - A -

Figur 2 a zeigt im Ausschnitt eine erste Ausführung mit einem rotierenden

Unterbrechungsmittel als Scheibe vor den Düsen. Figur 2 b zeigt das Unterbrechungsmittel der Figur 2 a im Detail. Figur 3 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel in zwei Ansichten mit einem rotierenden Zylinder als Unterbrechungsmittel.

Figur 4 zeigt die Abwicklung des rotierenden Zylinders der Figur 3 in zwei

Ansichten.

Figur 5 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Erfindung mit einem vibrierenden Unterbrechungsmittel in zwei Positionen desselben.

In Figur 1 strömt aus einer Öffnung oder Düse 1 ein Strahl 2 der Behandlungsflüssigkeit, der von einem bewegten und mit Durchbrüchen versehenen Unterbrechungsmittel 3 zerhackt, d.h. regelmäßig wiederkehrend unterbrochen wird. Der zyklisch unterbrochene Strahl gelangt als Wirkstrahl 4 hydrodynamisch pulsierend an die zu behandelnde Oberfläche 5 des Gutes 6. Diese Flüssigkeit wird nachfolgend Wirkflüssigkeit 8 genannt. Die in den Pulspausen am Unterbrechungsmittel 3 anfallende und nicht genutzte Behandlungsflüssigkeit soll als Blindflüssigkeit 9 bezeichnet werden. Diese Blindflüssigkeit 9 wird vom Unterbrechungsmittel 3 weitgehend von der Oberfläche 5 des zu behandelnden Gutes 6 fern gehalten. Dies verringert anhaftende Behandlungsflüssigkeit an der Oberfläche 5 des Gutes 6. Dadurch wird der dynamische Einfluß des unterbrochenen und pulsierenden Wirkstrahles 4 bei der chemischen Behandlung wesentlich erhöht. Durch diesen Wirkstrahl 4 wird nämlich an der zu behandelnden Oberfläche 5 des Gutes 6 ein ständiges Einschlagen und Durchschlagen der mit Behandlungsflüssigkeit benetzten Oberfläche 5 erreicht. Diese Schlagwirkung fördert ganz entscheidend den eigentlichen nasschemischen Prozess durch die Verringerung der Dicke der Diffusionsschicht. Diese hydrodynamische Unterstützung ist für alle oben genannten Prozesse einschließlich der Spülprozesse hilfreich. Durch die Schlagwirkung ist es möglich, die Behandlungszeit nahezu zu halbieren. Dabei liegt ein wesentlicher Vorteil darin, dass die Präzision bei einer Strukturbehandlung nicht nachteilig beeinflußt wird. Dies ist sehr überraschend, weil sich bisherige Verfahren zur Beschleunigung der nasschemischen Prozesse nachteilig auf die Qualität der Behandlungsergebnisse auswirken. Die zyklische Unterbrechung der Behandlungsstrahlen erfolgt mit einer Frequenz, die mindestens 0,5 Hz beträgt, bevorzugt 10 Hz bis 100 Hz oder größer. Das Puls/Pause Verhältnis beträgt 10:1 bis 1 :10, bevorzugt 2:1 bis 1 :2. Hierzu kann der Antrieb des Unterbrechungsmittels elektromotorisch, elektromagnetisch, pneumatisch, hydraulisch oder durch andere Aktorbetätigungsmittel erfolgen. Die Erfindung kann in Kombination mit anderen bekannten Maßnahmen zur Verbesserung des nasschemischen Behandlungsergebnisses kombiniert werden, z.B. mit Inhibitoren in der Behandlungsflüssigkeit.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren wurde z.B. beim Ätzen von Feinleitern auf Leiterplatten trotz Verringerung der bisher üblichen Behandlungszeit um 33% kein stärkeres Unterätzen des Resistes festgestellt, als dies beim Stand der Technik der Fall ist. Die Flanken in den Ätzkanälen blieben auch bei dem intensiveren Ätzen beim Einsatz des erfindungsgemäßen Verfahrens und der Vorrichtung stehen. Als Ursache hierfür wird vermutet, dass die Schlagwirkung am Boden des Ätzkanales im Gegensatz zur Wirkung an den Flanken der Strukturen sehr viel größer ist. Ferner ist anzunehmen, dass durch das pulsartige Ätzen in den Pulspausen einerseits die Behandlungsflüssigkeit nicht zur Oberfläche des Gutes strömt und andererseits die Behandlungsflüssigkeit aus den Ätzkanälen ungehindert abfließen kann. Beim darauf folgenden Ätzpuls ist die im Ätzkanal verbliebene Behandlungsflüssigkeit drucklos und der Wirkstrahl 4 durchdringt die dünnere Diffusionsschicht in einer größeren Tiefe. Besonders bei der Feinleitertechnik, der so genannten HDI Technik, erreicht die erforderliche Ätztiefe der Ätzkanäle die Breite der Leiterzüge. Dies stellt für alle Prozesse der Leiterplattentechnik eine große Herausforderung dar. Durch das pulsierende Behandeln der tiefen Strukturkanäle wird der sonst übliche seitliche Druckaufbau der Behandlungsflüssigkeit weitgehend vermieden. Dadurch werden die Flanken der Strukturen deutlich weniger nasschemisch bearbeitet als der Grund der Strukturkanäle. Damit ist es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren möglich, bei gegebener Behandlungszeit die Präzision der nasschemischen Behandlung wesentlich zu erhöhen und/oder die Behandlungszeit wesentlich zu verringern, ohne Einbußen bei der Qualität der Behandlung in Kauf nehmen zu müssen. Der Abstand der Düsen 1 zur Oberfläche 5 des Gutes 6 betrug bei den Ätzversuchen mit Leiterplatten 100 mm. Bei einem Druck von 3 bar betrug die Durchflussmenge der Behandlungsflüssigkeit durch jede der 30°-Kegeldüsen 1,6 Liter pro Minute.

Die Figur 2 a zeigt partiell einen rohrförmigen Sprühstock 10, der mit mindestens 5 einer Reihe von Düsen 1 ausgerüstet ist. An Stelle der Düsen können sich kostengünstig auch nur Löcher mit z.B. 0,5 mm bis 3 mm Durchmesser als Düsenöffnungen befinden. Die Behandlungsflüssigkeit strömt durch den Zulauf 7 unter Druck in den Düsenstock 10 ein und aus den Düsen 1 unter Druck verteilt wieder aus. Der Druck kann in einem großen Bereich variieren. Abhängig vom 0 Prozeß, den Strukturabmessungen und von der Positionierung an der Unterseite oder Oberseite des zu transportierenden Gutes kann er 1 ,1 bis 100 bar betragen. Vor den Düsen 1 befindet sich ein rotierend gelagertes Unterbrechungsmittel als gelochte oder geschlitzte Lochscheibe 11. Die Lochscheibe 11 ist mit aufgestellten Mitnehmern 12 versehen, gegen die ein Teil des Strahles 2 der 5 Behandlungsflüssigkeit gerichtet ist. Dadurch wird die Lochscheibe in Rotation versetzt. Die Lochscheibe 11 zerhackt den Strahl 2, so dass die Behandlungsflüssigkeit als Wirkstrahl 4 pulsförmig die Oberfläche 5 des Gutes 6 erreicht. Dargestellt ist eine Lochscheibe 11 für je zwei Düsen 1. Die jeweils zwei Düsen 1 sind entsprechend der Drehrichtung des Lochscheibe 11 unterschiedlich 0 geneigt am Düsenstock 10 angeordnet, damit beide zum Antrieb der Lochscheibe beitragen. In der Lochscheibe 11 befinden sich Öffnungen 13 als Löcher oder Schlitze. Details der Lochscheibe 11 zeigt die Figur 2 b in zwei Ansichten. Das Unterbrechungsmittel kann auch als gelochte oder geschlitzte Leiste axial vor den Düsen oder Löchern über der gesamten Länge eines Düsenstockes

15 angeordnet sein. Die Leiste wird in axialer Richtung zyklisch zur Unterbrechung des Strahles 2 bewegt.

Die Düsenstöcke 10 können z.B. in einer Durchlaufanlage mit horizontalem oder vertikalem Transport des Gutes 6 ortsfest im Abstand von z.B. 100 mm in Transportrichtung angeordnet werden. Sie können jedoch auch bewegt

)0 angeordnet sein, wie es in derartigen nasschemischen Anlagen bekannt ist. Hierzu können die erfindungsgemäßen Düsenstöcke 10 zusammen mit den Unterbrechungsmitteln 3 z. B. radial und/oder axial schwenkende oder oszillierende Bewegungen ausführen. Durch diese Kombinationen kann bei Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens u.a. der bekannte Pfützeneffekt an der Oberseite des Gutes verringert oder vermieden werden. Figur 3 zeigt im Ausschnitt einen weiteren Düsenstock 10 mit Düsenlöchem 14, der jedoch auch mit Düsen bestückt sein könnte. Koaxial zum Düsenstock 10 ist ein Zylinder 15 drehbar gelagert angeordnet, der mit Schlitzen 16 oder Löchern versehen ist. Die Löcher im Zylinder 15 sind an dessen Umfang kongruent zu den Löchern im Düsenstock 10 angeordnet. Die Schlitze 16 oder Löcher sind innerhalb des Zylinders 15 beidseitig mit einem Kragen 17 versehen. Diese Kragen 17 dienen als Angriffsfläche für die geringfügig schräg gerichteten Strahlen 2, wodurch der Zylinder in Rotation versetzt wird. Des Weiteren fangen die Kragen 17 sehr vorteilhaft die Behandlungsflüssigkeit auf, die in den Pulspausen nicht an die Oberfläche 5 des Gutes 6 gelangen soll. Sie würde dort die Benetzung der Oberfläche des Gutes nachteiligerweise vergrößern. Die Behandlungsflüssigkeit wird seitlich aus dem Zylinder ausgeleitet. Durch geringfügige Schrägstellung des Düsenstockes 10 und des Zylinders 15 kann das seitliche Abfließen dieser Behandlungsflüssigkeit beschleunigt werden. Somit gelangt diese Behandlungsflüssigkeit nicht auf die Oberfläche des Gutes. Dadurch wird die Benetzung der zu behandelnden Oberfläche auf ein Mindestmaß verringert, was die beschriebene Schlagwirkung verstärkt. Diese Vorrichtung eignet sich besonders vorteilhaft zur nasschemischen Behandlung der Oberseite von Gut, wenn dieses horizontal durch eine Durchlaufanlage transportiert wird. Nicht benötigte Behandlungsflüssigkeit wird von der Oberseite des Gutes ferngehalten. Der Zylinder kann an den Enden des Düsenstockes gelagert werden. Hierzu kann je ein Wälzlager 18 dienen, das in der jeweils verwendeten Behandlungsflüssigkeit chemisch resistent ist. Geeignet sind z.B. Kugellager aus Kunststoff oder Keramik.

Auch motorisch kann das zylinderförmige Unterbrechungsmittel ebenso wie andere Unterbrechungsmittel durch einen elektrischen, pneumatischen oder hydrodynamischen Antrieb in Bewegung versetzt werden. Dadurch wird die Drehzahl unabhängig von den physikalischen Eigenschaften der Strahlen 2. Insbesondere lassen sich große Drehzahlen und damit eine schnellere Pulsfolge einstellen, z.B. 1000 Impulse pro Sekunde. Dadurch geht der Wirkstrahl bei hohem Druck des Zulaufes 7 in eine schnelle Folge von hoch beschleunigten Tropfen der Behandlungsflüssigkeit über. Dies ist für den nasschemischen Prozess besonders wirksam. Als Motoren eignen sich wegen der rauhen Atmosphäre besonders luftgekühlte Motoren oder entsprechend geschützte Elektromotoren. Elektrische und elektronische Steuerungsmittel der nasschemischen Anlage stellen die Prozeßparameter in Abhängigkeit der erforderlichen Behandlung des Gutes ein, einschließlich der Wahl der Unterbrechungsfrequenz und des Puls/Pause Verhältnisses des Wirkstrahles 4.

Die Figur 4 zeigt die Abwicklung des Zylinders 15 in zwei Ansichten. Zur Stabilisierung des mit Schlitzen 16 versehenen Zylinders 15 können Stege 19 so zwischen Düsenpositionen angeordnet werden, dass die Strahlen 2 nicht behindert werden. Im die Behandlungsflüssigkeit auffangenden Bereich des Zylinders 15 kann am Boden ein elastischer Werkstoff als Dämpfer 20 eingelegt sein. Dieser Dämpfer 20 verringert ein unkontrolliertes Spritzen der Behandlungsflüssigkeit beim Auftreffen auf die Innenwand des Zylinders. Dies beschleunigt zugleich das seitliche Abfließen der Behandlungsflüssigkeit aus dem Zylinder 15. Die Figuren 5a und 5b zeigen eine Düse 1 mit einem Unterbrechungsmittel 3 als vibrierendes Plättchen 21. Dieses elastische Konstruktionselement ist in einem Festpunkt 23 eingespannt. Es ist so vor der Düse 1 angeordnet, dass der Strahl 2 das obere Ende des Plättchens 21 trifft. Der Strahl wird ablenkt. Dadurch wird das Plättchen in Strahlrichtung gebogen, wodurch ein Durchlaß 22 im Plättchen 21 in die Strahlrichtung gelangt. Diese Situation zeigt die Figur 5 b. Der Durchlaß 22 gibt den Weg zur Oberfläche des Gutes 6 frei. Das Gut wird von der Behandlungsflüssigkeit als Wirkstrahl schlagartig erreicht. Zugleich geht der Staudruck auf das Plättchen 21 verloren. Es geht dadurch schlagartig in die Ausgangsposition zurück, wie sie die Figur 5 a zeigt. In dieser Position wird der Strahl 2 der Behandlungsflüssigkeit als Blindstrahl abgelenkt und von einer Auffangrinne 24 aufgefangen. Die Auffangrinne 24 leitet die Behandlungsflüssigkeit, die nicht auf die Oberfläche des Gutes gelangen soll seitlich und quer zum Düsenstock ab. Deshalb eignet sich auch diese Ausführungsform der Erfindung zur beidseitigen Behandlung von Gut bei horizontalem Transport desselben. Die elastischen Eigenschaften und Abmessungen des Plättchens sowie die hydrodynamischen Bedingungen der Behandlungsflüssigkeit bestimmen die optimale Frequenz der pulsförmigen nasschemischen Behandlung. Dieses Unterbrechungsmittel eignet sich sinngemäß mit entsprechend kleinen Abmessungen auch zum Einbau in die Düsen selbst. Mit derartig oder ähnlich ausgerüsteten Düsen wird das Ausströmen der Behandlungsflüssigkeit in den Pulspausen vermieden. Damit eignen sich diese speziellen Düsen ebenfalls zur Anordnung an der Oberseite des horizontal transportierten Gutes. Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist eine zusätzliche Absaugvorrichtung zum Absaugen der Behandlungsflüssigkeit, die während der Strahlbeaufschlagung von der Oberfläche 5 des Gutes 6 reflektiert, vorgesehen. Damit wird einem Flüssigkeitsstau auf der Oberfläche des Gutes vorgebeugt und unnötige Rückstände von Fluid werden vermieden, so dass das Unterätzen noch besser verhindert werden kann.

Liste der Bezugszeichen

1 Düse, Öffnung

2 Strahl, Strahl der Behandlungsflüssigkeit

3 Unterbrechungsmittel

4 Wirkstrahl, pulsierender Strahl

5 Oberfläche, die zu behandeln ist

6 Gut, Behandlungsgut

7 Zulauf

8 Wirkflüssigkeit

9 Blindflüssigkeit

10 Sprühstock, Düsenstock

11 Lochscheibe, rotierend

12 Mitnehmer

13 Öffnungen

14 Düsenlöcher

15 Zylinder

16 Schlitze

17 Kragen

18 Wälzlager, Lager

19 Steg

20 Dämpfer

21 Plättchen, vibrierend

22 Durchlass

23 Festpunkt

24 Auffangrinne

Claims

Patentansprüche

5 1. Verfahren zur nasschemischen Behandlung einer Oberfläche eines Gutes (6) wie zum Beispiel einer Leiterplatte, eines Wafers oder eines Hybridmaterials mittels einer Behandlungsflüssigkeit in einer Tauchbadanlage oder Durchlaufanlage, wobei die Behandlungsflüssigkeit als Spritzstrahl (2) in Richtung zum Gut (6) transportiert wird, dadurch gekennzeichnet, dass ein0 Spritzstrahl-Unterbrechungsmittel (3) so verlagert wird, dass der Spritzstrahl

(2) diskontinuierlich auf das Gut (6) trifft.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Spritzstrahl (2) mittels einer Düse (1) erzeugt wird, wobei die Behandlungsflüssigkeit auf das Unterbrechungsmittel (3) trifft, welches vor der Düse (1), innerhalb der 5 Düse (1) oder nach der Düse (3) angeordnet ist.

3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Verlagerung des Unterbrechungsmittels (3) durch eine Rotation, Schwenkbewegung oder Linearbewegung erzielt wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass »0 das diskontinuierliche Auftreffen des Spritzstrahls (2) auf das Gut (6) zyklisch erfolgt, wobei eine Unterbrechungsfrequenz von mindestens 0,5 Hz, insbesondere 10 Hz bis 100 Hz, erreicht wird.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Spritzstrahl (2) mit Überdruck tropfenförmig mit bis zu 1000 Tropfen pro

5 Sekunde gegen das Gut (6) strömt.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass der diskontinuierlich auf das Gut (6) treffende Spritzstrahl (2) in einem Verhältnis von einer Auftreffdauer auf das Gut (6) zu einer Auftreffpause in einer Höhe von 10:1 bis 1 :10, vorzugsweise 2:1 bis 1:2 auftrifft.

0 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) als rotierendes, schwingendes oder vibrierendes Konstruktionselement durch die mit Überdruck ausströmende Behandlungsflüssigkeit in Rotation, Schwingung bzw. in Vibration versetzt wird.

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Verlagerung des Unterbrechungsmittels (3) durch einen elektrischen, pneumatischen oder hydrodynamischen Antrieb erfolgt.

9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass 5 flaches Gut (6) einseitig oder zugleich beidseitig behandelt wird.

10.Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass

Betriebsparameter wie zum Beispiel eine Frequenz des diskontinuierlichen

Auftreffens des Spritzstrahls (2) auf das Gut (6) oder das Verhältnis aus

Auftreffdauer zu Auftreffpause des Spritzstrahls auf das Gut (6) durch ein 0 Steuerungsmittel eingestellt werden.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die nasschemische Behandlung von Leiterplatten durch Reinigung, Spülen, Filmentwickeln, Kupferätzen, Filmstrippen und Metallresistätzen erfolgt.

12. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 11 , dadurch gekennzeichnet, 5 dass die Düsen (1) mit Schwenkeinrichtungen oder oszillierenden

Einrichtungen zusammenwirken.

13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) Behandlungsflüssigkeit auffängt und von der zu behandelnden Oberfläche des Gutes (6) fernhält.

20 14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungsflüssigkeit mittels eines Kragens (17) oder einer Auffangrinne (24) von der Oberfläche des Gutes ferngehalten wird.

15. Vorrichtung zur nasschemischen Behandlung einer Oberfläche eines Gutes (6), wie zum Beispiel einer Leiterplatte, eines Wafers oder eines

>5 Hybridmaterials mittels einer Behandlungsflüssigkeit in einer Tauchbadanlage oder Durchlaufanlage, wobei mittels der Vorrichtung die Behandlungsflüssigkeit als Spritzstrahl (2) in Richtung zum Gut (6) transportierbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung mindestens ein Spritzstrahl-Unterbrechungsmittel (3) aufweist, welches so verlagerbar ist,

>0 dass sich der Spritzstrahl (2) diskontinuierlich auf das Gut (6) lenken lässt.

16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass sich der Spritzstrahl (2) mittels einer Düse (1) erzeugen lässt, und das Unterbrechungsmittel (3), bezogen auf die Strömungsrichtung der Behandlungsflüssigkeit, vor der Düse (1), innerhalb der Düse (1) oder nach der Düse (1) angeordnet ist.

17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Verlagerung des Unterbrechungsmittels (3) durch eine Rotation, Schwenkbewegung oder Linearbewegung erzielbar ist.

18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Verlagerung des Unterbrechungsmittels (3) durch eine Kraft erreichbar ist, welche von dem mit Überdruck strömenden Spritzstrahl (2) der Behandlungsflüssigkeit ausgeübt wird.

19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Verlagerung des Unterbrechungsmittels (3) durch einen elektrischen, pneumatischen oder hydrodynamischen Antrieb erzielbar ist.

20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) zwischen der Düse (1) und dem zu behandelnden Gut (6) angeordnet und als Zylinder (15) ausgebildet ist, welcher um die Düse (1) drehbar oder schwenkbar ist.

21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) in den Düsen (1) als vibrierendes oder schwingendes Konstruktionselement ausgebildet ist.

22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 21 , dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) als vibrierendes Plättchen (21) ausgebildet ist.

23. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) eine rotierende und mit Öffnungen versehene Lochscheibe (11) ist.

24. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) eine Auffangrinne (24) oder einen Kanal aufweist, die/der sich parallel zur zu behandelnden Oberfläche erstreckt und geeignet ist, nicht benötigte Anteile des Spritzstrahls von der Oberfläche (5) des Gutes (6) aufzufangen.

25. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) als zyklisch bewegte Leiste mit Öffnungen ausgebildet ist.

26. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterbrechungsmittel (3) so ausgebildet ist, dass sich Behandlungsflüssigkeit auffangen und von der zu behandelnden Oberfläche des Gutes (6) fernhalten lässt.

27. Vorrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass sich aufgefangene Behandlungsflüssigkeit mittels eines Kragens (17) oder einer Auffangrinne (24) von der Oberfläche des Gutes (6) fernhalten lässt.

28. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Absaugvorrichtung zum Absaugen von Behandlungsflüssigkeit aufweist.