DE69635334T2 - Halbleiteranordnung - Google Patents
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Description
- Technisches Gebiet
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung bei der ein Halbleiterelement auf einer Insel montiert ist und insbesondere eine Halbleitervorrichtung bei der eine Insel eine charakteristische Form hat.
- Hintergrund der Erfindung
- Herkömmlicherweise hat eine Halbleitervorrichtung eine Struktur wie im Folgenden beschrieben. Hierbei wird eine Fotodetektorvorrichtung, die ein Halbleiterelement, wie beispielsweise eine Fotodiode hat, als ein Beispiel verwendet.
- Wie in der
4 gezeigt, besteht die Fotodetektorvorrichtung aus einem gemeinsamen Leiter31 , dessen eines Ende ungefähr die Form einer quadratischen Insel31a hat, spezifischen Leitern32 ,33 , die an beiden Seiten und im wesentlichen parallel zu dem gemeinsamen Leiter31 ausgebildet sind, einer Anzahl von Drähten35 , die aus Gold oder einem anderen Material bestehen zum elektrischen Anschließen des Halbleiterelementes34 an die Oberfläche der Insel31a und an spezifische Leiter32 und33 durch Drahtbondieren, und einer annähernd quadratisch geformten Kunstharzdichtung36 aus Epoxydharz zum Abdichten des Halbleiterelementes34 und der Drähte35 (die Harzdichtung36 ist tatsächlich opak, obwohl sie in der4 als transparent gezeigt ist). An der Oberseite des vorstehenden Halbleiterelementes34 sind eine Anzahl von schweißbuckelartigen Elektrodenpads (nicht dargestellt) aus Aluminium oder einem sonstigen Material ausgebildet. An diese Elektrodenpads sind die Drähte35 gebondet, von denen vier an ihrem anderen Ende an die Oberseite der Insel31a gebondet sind und zwei an ihrem anderen Ende an die spezifischen Leiter32 bzw.33 gebondet sind. Die ersten vier Drähte sind elektrisch mit der Insel31a so verbunden, dass sie an Masse gelegt ist und somit dazu dient, den Widerstand gegenüber einem Strom, der zwischen den spezifischen Leitern32 und33 fließt, einzustellen. - Die Harzdichtung ist so ausgebildet, dass sie das Halbleiterelement
34 und die Drähte35 wie in der5 gezeigt, unter Verwendung einer Harzform (nicht dargestellt) abdichtet. Die Harzdichtung36 hat an ihrem Teil ungefähr oberhalb der Halbleitervorrichtung34 eine halbkugelförmige Kondensorlinse37 , um Licht von außen auf das Halbleiterelement34 zu leiten. - Dieser Fotodetektor leidet jedoch an dem folgenden Problem.
- Die Harzdichtung
36 wird erhitzt, um das Halbleiterelement34 und die Drähte35 abzudichten und danach, wenn sich die Harzdichtung36 abkühlt entwickelt sie im Inneren eine Schrumpfspannung. Dies bewirkt, dass die Drähte35 mit dem Harz, aus welchem die Harzdichtung36 besteht, in Richtung der Schrumpfung des Harzes nach innen zusammengezogen werden. Andererseits zieht sich wegen der unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten die Insel31a , an welcher ein Ende jeden Drahtes35 stitch-bondiert ist, weit weniger zusammen, als die Harzdichtung36 . - Als Ergebnis werden die Drähte
35 einer Kraft ausgesetzt, die sie in Richtung der Schrumpfung des Harzes zieht und die die Tendenz hat, die Enden der Drähte35 von der Insel31a abzuscheren und schließlich werden die Drähte35 wie in der6 gezeigt, gebrochen. Darüber hinaus kann das gleiche auch sogar bei Änderungen der Umgebungstemperatur verursacht werden. - Die EP-A-0 026 788 offenbart eine Halbleitervorrichtung mit einem Leiteranschluss, einem Halbleiterelement, Drähten, die das Verbindungselement mit dem Leiteranschluss verbinden, wobei eine Insel des Leiteranschlusses ein Durchgangsloch hat.
- Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine sehr zuverlässige Halbleitervorrichtung mit geringen Kosten zu schaffen, die im wesentlichen frei von Drahtbruch ist.
- Diese Aufgabe wird gemäß der vorliegenden Erfindung durch die Merkmale der Ansprüche 1 oder 6 gelöst.
- Vorteilhafte Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen angegeben.
- Kurze Beschreibung der Zeichnungen
-
1 ist eine teilweise demontierte Draufsicht, die einen Fotodetektor als ein Beispiel der Halbleitervorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt; -
2 sind teilweise demontierte Draufsichten, die jeweils ein modifiziertes Beispiel der Halbleitervorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung zeigen; -
3 ist eine teilweise demontierte Draufsicht, die ein weiteres modifiziertes Beispiel der Halbleitervorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt; -
4 ist eine teilweise demontierte Draufsicht, die eine herkömmliche Halbleitervorrichtung zeigt; -
5 ist eine perspektivische Ansicht des Hauptteils der herkömmlichen Halbleitervorrichtung; und -
6 ist eine schematische Darstellung zur Erläuterung des Zustandes von Drahtbruch bei der herkömmlichen Halbleitervorrichtung. - Beste Art der Durchführung der Erfindung
- Im Folgenden wird eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die
1 und2 beschrieben. In den folgenden Beschreibungen wird eine Fotodetektorvorrichtung, die ein Halbleiterelement aufweist, das ein Fotodiodenelement enthält (im Nachfolgenden wird das Halbleiterelement als ein Fotodiodenelement bezeichnet) als ein Beispiel der Halbleitervorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung behandelt. Dies legt jedoch nicht nahe, dass die Anwendung der vorliegenden Erfindung auf bestimmte Arten von Halbleitervorrichtungen begrenzt ist. - Wie in der
1 gezeigt hat die Halbleitervorrichtung einen gemeinsamen Leiter1 (Leiteranschluss), der an einem Ende eine Insel1a , die annähernd die Form eines Quadrates hat, spezifische Leiter2a und2b , die an beiden Seiten des gemeinsamen Leiters1 und annähernd parallel zu diesem ausgebildet sind, ein Fotodiodenelement3 , das mit der Insel1a durch Die-Bonden verbunden ist, eine Anzahl von Drähten4 aus Gold oder einem anderen Material zur elektrischen Verbindung des Fotodiodenelements3 mit der Oberfläche der Insel1a und mit spezifischen Leitern2a und2b durch Drahtbonden, und eine annähernd quadratischförmige Harzdichtung5 aus Epoxydharz zum Abdichten des Fotodiodenelementes3 und der Drähte4 (die Harzdichtung5 ist tatsächlich opak, obwohl sie in der1 als transparent gezeigt ist). - In der Insel
1a ist ein Schnitt1b zwischen dem Abschnitt, an welchem das Fotodiodenelement3 montiert ist und im Abschnitt, an welchem die Drähte4 angebondet sind, ausgebildet. Dieser Schnitt1b ist entlang einer Seite (die Seite, wo die Stitch-Bondierungen der Drähte4 in der Figur vorhanden sind) des Fotodiodenelementes3 ausgebildet. Die Länge A des Schnittes1b beträgt ungefähr 1,9 mm und die Breite B der Insel beträgt ungefähr 2,3 mm. Daher beträgt die Länge A des Schnittes1b annähernd 80 % der Breite B der Insel. Die Breite C des Schnittes1b beträgt ungefähr 0,4 mm. Darüber hinaus sind an der oberen Fläche des Fotodiodenelementes3 sechs Elektrodenpads (nicht dargestellt) aus Aluminium ausgebildet und an diesen Elektrodenpads sind die Drähte4 einzeln mit einem Ende angebondet. Von diesen Drähten4 sind vier an ihrem anderen Ende an die obere Oberfläche der Insel1a stitch-gebondet, wobei die Drähte über den Schnitt1b gehen und zwei Drähte sind mit ihrem anderen Ende an die spezifischen Leiter2a bzw.2b stitch-gebondet. - In der Fotodetektorvorrichtung mit der vorstehenden Struktur wird die Harzdichtung
5 unter Verwendung einer herkömmlichen Harzgießform durch diesen von Epoxydharz, das ein wärmeaushärtbares Harz ist, zu einer früher beschriebenen Form und wie in der5 gezeigt, geformt. - Im Einzelnen wird die Harzdichtung
5 beispielsweise durch Aufbringen von durch Erhitzen geschmolzenem Epoxydharz auf das Fotodiodenelement3 und die Drähte4 zum Abdichten desselben aufgebracht und dann lässt man das Harz auf Zimmertemperatur abkühlen. - Wenn das Epoxydharz jedoch nach der Wärmeaushärtung abkühlt, entwickelt es im Inneren Schrumpfspannung. Dies bewirkt, dass sowohl die Drähte
4 als auch das Epoxydharz einer Kraft ausgesetzt sind, die sie in Richtung der Schrumpfung nach Innen zieht. Andererseits verformt sich die Insel1a , die zwischen dem Abschnitt, an welchem das Fotodiodenelement3 montiert ist und dem Abschnitt, an welchem die Drähte4 gebondet sind wie dies früher beschrieben ist, einen Schnitt1b ausgebildet hat, leicht in der Richtung (in der1 durch Pfeile gezeigt) in welcher diese zwei Abschnitte um den Schnitt1b näher zusammen oder auseinander gelangen. Demgemäß ermöglicht die Insel1a , dass ihr Teil um den Schnitt1b sich mit der nach Innenschrumpfung des Epoxydharzes leicht verformt. - Als Ergebnis wird, wenn die an ihren Enden an die Insel
1a gebondeten Drähte4 in der Richtung, in welche das Epoxydharz schrumpft, gezogen werden, die Insel1a ebenfalls in die gleiche Richtung, in welcher das Epoxydharz schrumpft, gezogen. Somit kann die Möglichkeit des Bruches der an ihren Enden an die Insel1a gebondeten Drähte signifikant reduziert werden. - In dieser Ausführungsform ist der Schnitt
1b so ausgebildet, dass er sich unter allen Drähten4 erstreckt, so dass die Insel1a eine Form hat, die leicht in der Richtung zu verformen ist, in welcher ihrer zwei Abschnitte um den Schnitt 1b herum sich annähern oder ausein ander gelangen. Demgemäß erlaubt die Insel1a , dass ihr Teil um den Schnitt1b (einschließlich dem Teil, an welchem die Drähte4 gebondet sind) sich leicht mit der Schrumpfung des Harzes verformt. Als Ergebnis ist die Möglichkeit des Drahtbruches signifikant reduziert. - In der vorstehenden Ausführungsform ist der Schnitt
1b wie in der1 gezeigt, entlang einer Seite des quadratischen Fotodiodenelementes3 ausgebildet, so dass er parallel zu dieser Seite ist. Dies legt jedoch keine Begrenzung der Art und Weise wie der Schnitt1b ausgebildet ist, nahe. In der2 zeigt (a) ein Schnittmuster, das im wesentlichen das Gleiche wie das in der1 gezeigte ist, und (b) bis (e) zeigen andere Schnittmuster, mit welchen die Aufgabe der vorliegenden Erfindung gelöst wird. Kurz gesagt kann der Schnitt1b in irgendeiner Form und irgendeiner Position ausgebildet sein, solange als die Drähte4 über ihn hinweggehen. Darüber hinaus kann, obwohl in der vorstehenden Ausführungsform vier Drähte4 über den Schnitt1b hinweggehen, die vorliegende Erfindung unverändert an Halbleitervorrichtungen angewandt werden, die einen oder mehrere Drähte haben. - Weiterhin sind die Länge und Breite des Schnittes
1b nicht auf besondere Werte wie in der vorstehenden Ausführungsform gezeigt, begrenzt und es ist auch möglich, mehr als einen Schnitt1b auszubilden. - Obwohl der Schnitt
1b mit einem offenen Ende, d.h. wie eine Nase, bei der vorstehenden Ausführungsform ausgebildet ist, kann er ohne ein offenes Ende, d.h. als ein Durchgangsloch6 ausgebildet sein, wie dies in der3 gezeigt ist. In diesem Fall muss jedoch, um die Aufgabe der vorliegenden Erfindung zu lösen das Durchgangsloch6 groß genug sein, um zu ermöglichen, dass sich die Insel leicht mit der Schrumpfung des Epoxydharzes verformt. Im Einzelnen muss der Durchmesser des Durchgangsloches6 (oder die Hauptlänge des Loches, falls dies langgestreckt ist) nahe der Breite der Insel sein. Selbstverständlich ist es auch möglich, mehr als eines solcher Durchgangslöcher6 auszubilden. - Obwohl in der vorstehenden Ausführungsform eine Fotodetektorvorrichtung als ein Beispiel einer Halbleitervorrichtung verwendet worden ist, legt dies weiterhin nicht nahe, dass die Anwendung der vorliegenden Erfindung auf bestimmte Arten von Halbleitervorrichtungen begrenzt ist.
- In einer Halbleitervorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung hat eine Insel einen Schnitt, der zwischen einem Abschnitt, an welchem ein Halbleiterelement montiert ist und einem Abschnitt, an welchem Drähte gebondet sind, ausgebildet. Dies bietet die folgenden Vorteile.
- Die Halbleitervorrichtung ist beispielsweise durch Aufbringen eines in der Hitze geschmolzenen wärmeaushärtbaren Harzes auf das Halbleiterelement und die Drähte so ausgebildet, dass diese in einer Harzdichtung abgedichtet sind. Das Harz, welches nach dem Aushärten abkühlt, entwickelt im Inneren Schrumpfungsspannnung. Dies bewirkt, dass die Drähte sowie auch das Harz einer Kraft unterworfen sind, die diese in Richtung der Schrumpfung nach Innen zieht. Andererseits hat die Insel wie vorstehend beschrieben zwischen dem Abschnitt, an welchem das Halbleiterelement montiert ist und dem Abschnitt, an welchem die Drähte gebondet sind, einen Schnitt ausgebildet, so dass die Insel eine Form hat, die sich in Richtung, in welcher diese zwei Abschnitte um den Schnitt sich leicht verformen können, um sich aneinander anzunähern oder voneinander zu entfernen. Demgemäß erlaubt die Insel ihrem Teil um den Schnitt, dass er sich leicht mit der nach Innenschrumpfung des Harzes verformt.
- Als Ergebnis wird, wenn die Drähte, die mit ihren Enden an die Insel gebondet sind, in der Richtung in welcher das Epoxydharz schrumpft, gezogen werden, die Insel
1a ebenfalls in der gleichen Richtung, in welcher das Epoxydharz schrumpft, gezogen. Somit kann die Möglichkeit des Bruches der Drähte an ihren an die Insel1a gebondeten Enden signifikant reduziert werden. - Industrielle Anwendbarkeit
- Wie vorstehend beschrieben, kann die vorliegende Erfindung nützlich bei Halbleitervorrichtungen angewandt werden, die ein Fotodiodenelement oder irgendeine andere Art von Halbleiterelement aufweisen und ist insbesondere für Halbleitervorrichtungen geeignet, deren Halbleiterelemente Leiteranschlüsse und diese verbindende Drähte in Harz vergossen sind.
Claims (9)
- Halbleitervorrichtung mit: einer Insel (
1a ) an einem Ende von nur einem Leiteranschluss (1 ), wobei die Insel einen ersten Abschnitt und einen zweiten Abschnitt hat, einem Halbleiterelement (3 ), dessen Unterseite auf den ersten Abschnitt der Insel druckgebondet und montiert ist, einer Anzahl von Drähten (4 ), die eine Oberseite des Halbleiterelementes (3 ) an den zweiten Abschnitt der Insel anschließen, und einer Kunstharzdichtung (5 ), die das Halbleiterelement und die Drähte abdichtet, wobei die Insel (1a ) zwischen a) dem ersten Abschnitt der Insel, auf welchem das Halbleiterelement (3 ) montiert ist und b) dem zweiten Abschnitt der Insel, auf welchem alle Drähte (4 ) gebondet sind, einen Schnitt (1b ) im Wesentlichen parallel zu einer Seite des Halbleiterelementes ausgebildet hat. - Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, wobei der Schnitt so ausgebildet ist, dass er sich unter allen Drähten erstreckt.
- Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Kunstharz ein Epoxydharz ist.
- Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Halbleiterelement eine quadratische Form hat und der Schnitt entlang einer Seite des Halbleiterelementes ausgebildet ist, und wobei die Drähte, die an einem Ende an das Halbleiterelement angeschlossen sind, an eine Oberseite der Insel so stitchgebondet sind, dass die Drähte über den Schnitt laufen.
- Halbleitervorrichtung nach Anspruch 4, wobei der Schnitt so ausgebildet ist, dass er eine Länge gleich ungefähr 80% der Breite der Insel hat.
- Halbleitervorrichtung mit: einer Insel (
1a ) an einem Ende von nur einem Leiteranschluss (1 ), wobei die Insel einen ersten Abschnitt und einen zweiten Abschnitt hat, einem Halbleiterelement (3 ), dessen Unterseite an den ersten Abschnitt der Insel druckgebondet und auf diesem montiert ist, einer Anzahl von Drähten (4 ), die die Oberseite des Halbleiterelementes an den zweiten Abschnitt der Insel anschließen, und einer Kunstharzdichtung (5 ), die das Halbleiterelement und die Drähte abdichtet, wobei die Insel ein Durchgangsloch (6 ) aufweist, das im Wesentlichen parallel zu einer Seite des Halbleiterelementes (3 ) zwischen a) dem ersten Abschnitt der Insel, auf welchem das Halbleiterelement (3 ) montiert ist, und b) dem zweiten Abschnitt der Insel, an welchen alle Drähte (4 ) gebondet sind, ausgebildet ist. - Halbleitervorrichtung nach Anspruch 6, wobei das Durchgangsloch so ausgebildet ist, dass es sich unter allen Drähten erstreckt.
- Halbleitervorrichtung nach Anspruch 6, wobei das Kunstharz Epoxydharz ist.
- Halbleitervorrichtung nach Anspruch 6, wobei das Halbleiterelement eine quadratische Form hat und das Durchgangsloch entlang einer Seite des Halbleiterelementes ausgebildet ist, und wobei die Drähte, die an ein Ende des Halbleiterelementes angeschlossen sind, an die Oberfläche der Insel so stitchgebondet sind, dass die Drähte über das Durchgangsloch gehen.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11330395 | 1995-05-11 | ||
JP11330395 | 1995-05-11 | ||
JP10572596 | 1996-04-25 | ||
JP10572596A JP3907743B2 (ja) | 1995-05-11 | 1996-04-25 | 半導体装置 |
PCT/JP1996/001267 WO1996036074A1 (fr) | 1995-05-11 | 1996-05-10 | Dispositif semi-conducteur |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69635334D1 DE69635334D1 (de) | 2005-12-01 |
DE69635334T2 true DE69635334T2 (de) | 2006-07-20 |
Family
ID=26445967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69635334T Expired - Fee Related DE69635334T2 (de) | 1995-05-11 | 1996-05-10 | Halbleiteranordnung |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6242801B1 (de) |
EP (1) | EP0771027B1 (de) |
JP (1) | JP3907743B2 (de) |
KR (1) | KR100370550B1 (de) |
CN (1) | CN1134073C (de) |
DE (1) | DE69635334T2 (de) |
TW (1) | TW301046B (de) |
WO (1) | WO1996036074A1 (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4198284B2 (ja) * | 1999-10-07 | 2008-12-17 | ローム株式会社 | 面実装用光半導体装置 |
JP2002353383A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-06 | Moric Co Ltd | 半導体装置 |
JP3913574B2 (ja) * | 2002-02-27 | 2007-05-09 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52129379A (en) * | 1976-04-23 | 1977-10-29 | Hitachi Ltd | Plastic molded semiconductor device |
JPS55120152A (en) * | 1979-03-09 | 1980-09-16 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
JPS57154863A (en) * | 1981-03-19 | 1982-09-24 | Fujitsu Ltd | Manufacture of resin sealing type electronic parts |
JPS6234154A (ja) | 1985-08-08 | 1987-02-14 | Oji Paper Co Ltd | 写真印画紙用支持体 |
JPH06101579B2 (ja) * | 1986-08-22 | 1994-12-12 | 松下電工株式会社 | フオトカプラの製法 |
JPH0625978B2 (ja) | 1987-11-09 | 1994-04-06 | 日本電気株式会社 | 相互監視制御方式 |
JPH01123356U (de) * | 1988-02-16 | 1989-08-22 | ||
JPH01312858A (ja) * | 1988-06-10 | 1989-12-18 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
JPH02191378A (ja) * | 1988-10-25 | 1990-07-27 | Omron Tateisi Electron Co | 光電素子、光電素子の製造方法及び光電素子駆動装置 |
JPH02159750A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-19 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH04280664A (ja) * | 1990-10-18 | 1992-10-06 | Texas Instr Inc <Ti> | 半導体装置用リードフレーム |
JPH04262560A (ja) * | 1991-02-18 | 1992-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 樹脂封止電界効果型半導体装置およびその製造方法 |
JPH05109959A (ja) * | 1991-10-17 | 1993-04-30 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP3167769B2 (ja) * | 1992-01-16 | 2001-05-21 | シャープ株式会社 | リードフレームおよびこれを利用した光学装置の製造方法 |
JP2708320B2 (ja) * | 1992-04-17 | 1998-02-04 | 三菱電機株式会社 | マルチチップ型半導体装置及びその製造方法 |
JP2805563B2 (ja) * | 1992-08-07 | 1998-09-30 | シャープ株式会社 | 反射型光結合装置およびその製造方法 |
JP2695736B2 (ja) * | 1992-12-11 | 1998-01-14 | 三菱電機株式会社 | 樹脂封止型半導体装置及びその抵抗線を備えたリードフレームの製造方法 |
JPH06216307A (ja) * | 1993-01-13 | 1994-08-05 | Mitsubishi Electric Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
JPH06244430A (ja) * | 1993-02-16 | 1994-09-02 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
JP2500785B2 (ja) * | 1993-09-20 | 1996-05-29 | 日本電気株式会社 | 半導体パッケ―ジ用フィルムキャリアテ−プ及びこれを用いた半導体装置 |
JP2701712B2 (ja) * | 1993-11-11 | 1998-01-21 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
JPH08139113A (ja) * | 1994-11-09 | 1996-05-31 | Mitsubishi Electric Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
US5491360A (en) * | 1994-12-28 | 1996-02-13 | National Semiconductor Corporation | Electronic package for isolated circuits |
JP3429921B2 (ja) * | 1995-10-26 | 2003-07-28 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
-
1996
- 1996-04-25 JP JP10572596A patent/JP3907743B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-10 WO PCT/JP1996/001267 patent/WO1996036074A1/ja active IP Right Grant
- 1996-05-10 KR KR1019970700116A patent/KR100370550B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-05-10 CN CNB96190481XA patent/CN1134073C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-10 US US08/750,974 patent/US6242801B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-10 DE DE69635334T patent/DE69635334T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-10 EP EP96913744A patent/EP0771027B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-11 TW TW085105585A patent/TW301046B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1996036074A1 (fr) | 1996-11-14 |
KR970705180A (ko) | 1997-09-06 |
JP3907743B2 (ja) | 2007-04-18 |
EP0771027B1 (de) | 2005-10-26 |
EP0771027A4 (de) | 2000-01-05 |
EP0771027A1 (de) | 1997-05-02 |
CN1154180A (zh) | 1997-07-09 |
US6242801B1 (en) | 2001-06-05 |
CN1134073C (zh) | 2004-01-07 |
TW301046B (de) | 1997-03-21 |
KR100370550B1 (ko) | 2003-07-18 |
JPH0927577A (ja) | 1997-01-28 |
DE69635334D1 (de) | 2005-12-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |