JPH06216307A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

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JPH06216307A
JPH06216307A JP5004199A JP419993A JPH06216307A JP H06216307 A JPH06216307 A JP H06216307A JP 5004199 A JP5004199 A JP 5004199A JP 419993 A JP419993 A JP 419993A JP H06216307 A JPH06216307 A JP H06216307A
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JP
Japan
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resin
lead frame
semiconductor element
resistor
semiconductor device
Prior art date
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Pending
Application number
JP5004199A
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English (en)
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Shoji Date
昇司 伊達
Jiro Honda
次郎 本田
Toshiya Nakano
俊哉 中野
Hajime Kato
肇 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Publication of JPH06216307A publication Critical patent/JPH06216307A/ja
Priority to US08/318,447 priority patent/US5459350A/en
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    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電流検出抵抗とリードフレームとの熱膨張の
差を小さくし、熱ストレスによる劣化を防いで高信頼性
の樹脂封止型半導体装置を得ることを目的とする。 【構成】 リードフレーム1の一主面上に半導体素子1
及びその制御用半導体素子3が搭載されている。リード
フレーム1a、1b間には、電流検出用抵抗としてリー
ドフレーム1a、1bとほぼ等しい熱膨張率を有し、か
つ可撓性を持つ金属ワイヤ抵抗4を圧着等により設けら
れている。従って、抵抗値が変動せず、リードフレーム
1a、1bとの熱膨張率の差を吸収できるので、熱スト
レスによる劣化を防止できる。金属ワイヤ抵抗4の代わ
りに、金属チップ抵抗も使用でき、さらにリードフレー
ムの一部を電流検出用抵抗とすることも可能である。 【効果】 熱ストレスによる劣化を防止して、高信頼
性、かつ安価な樹脂封止型半導体装置が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、樹脂封止型半導体装
置、特に、車両用の点火系装置等に使用する樹脂封止型
半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図9は、従来の樹脂封止型半導体装置を
示す概略平面図であり、図10はその透視斜視図であ
る。これらの図において、リードフレーム1上には、半
導体素子2及びこの半導体素子2の制御用集積回路であ
る制御用半導体素子3が搭載されている。リードフレー
ム1は、例えば銅母材にニッケルメッキを施したもので
ある。また、リードフレーム1a、1b間には、電流検
出用抵抗であるセラミックチップ抵抗15が図11に示
すようにハンダ20により固着されている。セラミック
チップ抵抗15は、例えばアルミナ板表面に銀パラジウ
ム等の導体電極が形成されたものである。半導体素子2
のエミッタ電極14、制御用半導体素子3及びセラミッ
クチップ抵抗15は、リードフレーム1aによって電気
的に接続している。
【0003】半導体素子2のベース電極16は、リード
フレーム1cを介して外部入力電極10に電気的に接続
されている。また、リードフレーム1d、1b、1cの
先端部は、それぞれ外部出力電極8、外部接地電極9、
外部入力電極10となっており、図示しない外部回路に
接続される。なお、半導体素子2のエミッタ電極14と
リードフレーム1a、制御用半導体素子3とリードフレ
ーム1a、1b、1c等の電気的接続は、それぞれ金属
細線5例えばアルミニウム線、金属細線6例えば金線等
により行われる。半導体素子2やリードフレーム1等
は、図9に示すように外部出力電極8、外部接地電極
9、外部入力電極10部分を除いてモールド樹脂7によ
り封止されている。なお、図8においては、モールド樹
脂7の図示を省略してある。
【0004】従来の樹脂封止型半導体装置は上述したよ
うに構成され、図9に示した樹脂封止型半導体装置の等
価回路を図12に示す。図において、図示しない外部回
路から外部入力電極10にパルス信号が入力され、半導
体素子2が駆動される。この時、パルス入力信号がハイ
状態であるとき、半導体素子2に所定以上の電流が流れ
ないように、セラミックチップ抵抗15に流れる電流を
検出し、制御用半導体素子3で半導体素子2に流れる電
流が一定になるように制御する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述したような樹脂封
止型半導体装置では、セラミックチップ抵抗15をリー
ドフレーム1a、1bにハンダ付けしており、使用する
ハンダ量によって抵抗値が変化したり、動作耐久試験を
長期間実施するとセラミックチップ抵抗15両端のハン
ダが疲労して抵抗値が変動するなどという問題点があっ
た。また、セラミックチップ抵抗15とリードフレーム
1a、1bとの熱膨張率の差が大きく、動作時に歪みが
起こりハンダにクラックが入る等熱ストレスに弱いとい
う問題点もあった。さらに、セラミック製のチップ抵抗
15は、抵抗値が例えば30mΩと小さい場合、その精
度が落ちるために歩留まりが低下し、高価になるという
問題点もあった。
【0006】この発明は、このような問題点を解決する
ためになされたもので、電流検出用抵抗の抵抗値が変動
せず、熱ストレスが防止された信頼性の高い安価な樹脂
封止型半導体装置を得ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項第1項
に係る樹脂封止型半導体装置は、半導体素子に流れる電
流を検出する電流検出抵抗を、リードフレームの熱膨張
率とほぼ等しい熱膨張率を有する金属チップ抵抗とした
ものである。この発明の請求項第2項に係る樹脂封止型
半導体装置は、半導体素子に流れる電流を検出する電流
検出抵抗を、リードフレームの熱膨張率とほぼ等しい熱
膨張率を有し、かつ可撓性を持つ金属ワイヤ抵抗とした
ものである。この発明の請求項第3項に係る樹脂封止型
半導体装置は、半導体素子に流れる電流を検出する電流
検出抵抗をリードフレームの一部により構成したもので
ある。この発明の請求項第4項に係る樹脂封止型半導体
装置は、半導体素子に流れる電流を検出する電流検出抵
抗をリードフレームの一部により構成すると共に、電流
検出抵抗としたリードフレームの一部に曲げ部分を設け
たものである。
【0008】
【作用】この発明の請求項第1項においては、電流検出
抵抗をリードフレームの熱膨張率とほぼ等しい熱膨張率
を有する金属チップ抵抗としたので、従来のセラミック
チップ抵抗に比べリードフレームとの熱膨張率の差が小
さくなり、熱ストレスによる劣化を防止する。この発明
の請求項第2項においては、電流検出抵抗ををリードフ
レームの熱膨張率とほぼ等しい熱膨張率を有し、かつ可
撓性を持つ金属ワイヤ抵抗としたので、リードフレーム
との熱膨張率が小さくなると共に熱膨張率の差を吸収で
きるので、熱ストレスによる劣化を防止する。この発明
の請求項第3項においては、電流検出抵抗をリードフレ
ーム自体で構成したので、リードフレームとの熱膨張率
の差がなくなり熱ストレスによる劣化を防止する。この
発明の請求項第4項においては、電流検出抵抗をリード
フレーム自体で構成すると共にこれに曲げ部分を設けた
ので、曲げ部分がない場合に比べ小さい面積で形成で
き、樹脂封止型半導体装置の小型化が図れると共に、リ
ードピン数を増やすことができる。
【0009】
【実施例】実施例1.図1は、この発明の実施例1によ
る樹脂封止型半導体装置を示す概略平面図である。な
お、各図中、同一符号は同一又は相当部分を示してい
る。また、図1〜5、7、8においては、モールド樹脂
7の図示を省略してある。図1において、リードフレー
ム1a、1b間には、電流検出用抵抗としてリードフレ
ーム1a、1bとほぼ等しい熱膨張率を有し、かつ可撓
性を持つ金属ワイヤ抵抗4例えば銅ニッケル合金製の金
属ワイヤが例えば圧着等により設けられている。なお、
図12に示した樹脂封止型半導体装置の等価回路は、こ
の発明の各実施例についても同様に適用できる。その
際、セラミックチップ抵抗15は金属ワイヤ抵抗4、金
属チップ抵抗12、リードフレーム抵抗13等に置き換
えるものとする。
【0010】上述したように構成された樹脂封止型半導
体装置では、電流検出用抵抗を金属ワイヤ抵抗4で形成
しこれを圧着しているため、従来装置におけるハンダ使
用による抵抗値の変動は起こらない。また、金属ワイヤ
抵抗4はリードフレーム1a、1bと熱膨張率がほぼ等
しく、かつ可撓性なため、リードフレーム1a、1bと
の熱膨張率の差に起因する熱ストレスが起こらない。従
って、劣化を防ぐことができ、信頼性が高くコストも安
価な樹脂封止型半導体装置が得られる。なお、上述では
銅ニッケル合金製の金属ワイヤ抵抗4を使用したが、銅
製又は鉄ニッケル合金製の金属ワイヤも同様に使用でき
る。また、金属ワイヤ抵抗4は1本を使用したが、所望
の抵抗値を得るためにこれを2本、3本等複数本とした
り、コイル状とすることも可能である。さらに、図2に
示すように、電流検出用抵抗である金属ワイヤ抵抗4を
半導体素子2のエミッタ電極14と外部接地電極9との
間に直接設けても良く、上述と同様の効果を奏する。
【0011】実施例2.図3は、この発明の実施例2に
よる樹脂封止型半導体装置を示す概略平面図である。図
において、リードフレーム1a、1b間には、電流検出
用抵抗としてリードフレーム1a、1bの熱膨張率とほ
ぼ等しい熱膨張率を有する銅ニッケル合金製の金属チッ
プ抵抗12がハンダ付けにより設けられている。従来の
セラミックチップ抵抗15に比べ、リードフレーム1
a、1bと金属チップ抵抗12との熱膨張率の差は小さ
くなり、熱ストレスによる劣化を防ぐことができるので
信頼性が向上すると共に、コスト的にも安価な樹脂封止
型半導体装置が得られる。なお、上述では金属チップ抵
抗12を銅ニッケル合金で形成したが、これを銅又は鉄
ニッケル合金で形成しても良く、上述と同様な効果が得
られる。
【0012】実施例3.図4は、この発明の実施例3に
よる樹脂封止型半導体装置を示す概略平面図である。こ
の実施例では、電流検出用抵抗として銅母材にニッケル
メッキを施したリードフレーム自体を用いリードフレー
ム抵抗13としたものである。このリードフレーム抵抗
13は、リードフレーム1を成形する際に同時に打ち抜
いて一体成形することができる。従って、リードフレー
ム1bとの熱膨張率の差がなくなり、熱ストレスによる
劣化を防ぐことができるので信頼性が向上すると共に、
安価な樹脂封止型半導体装置が得られる。また、リード
フレーム抵抗13をプレス成形により打ち抜いて形成す
るため、寸法が安定で抵抗値の精度を向上させることが
できる。
【0013】なお、上述では銅母材にニッケルメッキを
施したリードフレーム自体をリードフレーム抵抗13と
したが、銅ニッケル合金母材にニッケルメッキを施した
リードフレーム又は鉄ニッケル合金母材にニッケルメッ
キを施したリードフレームをリードフレーム抵抗13と
しても良く、上述と同様の効果を奏する。
【0014】実施例4.図5は、この発明の実施例4に
よる樹脂封止型半導体装置を示す概略平面図である。こ
の実施例では、リードフレーム抵抗21をリードフレー
ム1bとアイランド1fとの間に設け、このリードフレ
ーム抵抗21の表面にストライプ状に銀メッキを施した
ものである。アイランド1fにボンディングにより設け
られている金属細線6のボンディング位置を適宜変更す
ることにより、幅広い抵抗値を選択することができる。
【0015】なお、リードフレーム抵抗21は、その抵
抗値を例えば数10mΩ程度にする必要があるので、リ
ードフレーム抵抗21の幅を0.1mm〜0.8mmの
範囲内で細くしなければならない。そこで、組み立て時
にリードフレーム抵抗21が変形するのを防止するため
に、図6に示すように補助用リードピン22を設けても
良い。この補助用リードピン22は、モールド樹脂7の
側部から突出してリードフレーム1のタイバー23に接
続されている。このタイバー23をカットする際、同時
に補助用リードピン22もカットする。
【0016】実施例5.図7は、この発明の実施例5に
よる樹脂封止型半導体装置を示す概略平面図であり、図
8は、そのB−B線に沿った側断面図である。この実施
例では、リードフレーム自体をリードフレーム抵抗24
とすると共に、リードフレーム抵抗24に曲げ部分を設
けたものである。このリードフレーム抵抗24は、リー
ドフレーム1を平面的に打ち抜いた後に曲げ加工を行う
ことにより形成できる。リードフレーム抵抗24に曲げ
部分を設けることによって、曲げ部分がない場合に比べ
小さい面積で電流検出抵抗を形成できるので、樹脂封止
型半導体装置の小型化が図れると共に、リードピン数を
増やすことができる。
【0017】
【発明の効果】以上説明した通り、請求項第1項に係る
発明は、リードフレームの主面上に半導体素子及びその
制御用半導体素子を搭載し、上記半導体素子に流れる電
流を検出する電流検出抵抗を実装して樹脂封止した樹脂
封止型半導体装置であって、上記電流検出抵抗を、上記
リードフレームの熱膨張率とほぼ等しい熱膨張率を有す
る金属チップ抵抗としたので、金属チップ抵抗とリード
フレームとの熱膨張率の差に起因する熱ストレスによる
劣化を防止でき、信頼性が高く安価な樹脂封止型半導体
装置が得られるという効果を奏する。
【0018】請求項第2項に係る発明は、リードフレー
ムの主面上に半導体素子及びその制御用半導体素子を搭
載し、上記半導体素子に流れる電流を検出する電流検出
抵抗を実装して樹脂封止した樹脂封止型半導体装置であ
って、上記電流検出抵抗を上記リードフレームの熱膨張
率とほぼ等しい熱膨張率を有し、かつ可撓性を持つ金属
ワイヤ抵抗としたので、その抵抗値が変動せず、リード
フレームとの熱膨張率の差が吸収でき、熱ストレスによ
り劣化を防止できると共に、信頼性が高く安価な樹脂封
止型半導体装置が得られるという効果を奏する。
【0019】請求項第3項に係る発明は、リードフレー
ムの主面上に半導体素子及びその制御用半導体素子を搭
載し、上記半導体素子に流れる電流を検出する電流検出
抵抗を実装して樹脂封止した樹脂封止型半導体装置であ
って、上記電流検出抵抗をリードフレームの一部により
構成したので、リードフレームとの熱膨張率の差がなく
なり、熱ストレスによる劣化を防止できると共に、信頼
性が高く安価な樹脂封止型半導体装置が得られるという
効果を奏する。
【0020】請求項第4項に係る発明は、リードフレー
ムの主面上に半導体素子及びその制御用半導体素子を搭
載し、上記半導体素子に流れる電流を検出する電流検出
抵抗を実装して樹脂封止した樹脂封止型半導体装置であ
って、上記電流検出抵抗をリードフレームの一部により
構成すると共に、電流検出抵抗としたリードフレームの
一部に曲げ部分を設けたので、曲げ部分がない場合に比
べ小さい面積で形成できるので、樹脂封止型半導体装置
の小型化が図れると共に、リードピン数を増やすことが
できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1による樹脂封止型半導体装
置を示す概略平面図である。
【図2】この発明の実施例1における他の変形例による
樹脂封止型半導体装置を示す概略平面図である。
【図3】この発明の実施例2による樹脂封止型半導体装
置を示す概略平面図である。
【図4】この発明の実施例3による樹脂封止型半導体装
置を示す概略平面図である。
【図5】この発明の実施例4による樹脂封止型半導体装
置を示す概略平面図である。
【図6】この発明の実施例4における他の変形例による
樹脂封止型半導体装置を示す概略平面図である。
【図7】この発明の実施例5による樹脂封止型半導体装
置を示す概略平面図である。
【図8】図7のB−B線に沿った断面図である。
【図9】従来の樹脂封止型半導体装置を示す概略平面図
である。
【図10】従来の樹脂封止型半導体装置を示す斜視図で
ある。
【図11】図9のA−A線に沿った断面図である。
【図12】樹脂封止型半導体装置の等価回路を示す概略
構成図である。
【符号の説明】
1、1a、1b、1c、1d、1e、1f、1g リー
ドフレーム 1f アイランド 2 半導体素子 3 制御用半導体素子 4 金属ワイヤ抵抗 5、6、6a 金属細線 7 モールド樹脂 8 外部出力電極 9 外部接地電極 10 外部入力電極 12 金属チップ抵抗 13、21、24 リードフレーム抵抗 14 エミッタ電極 16 ベース電極 22 補助用リードピン 23 タイバー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 肇 伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機株式会 社北伊丹製作所内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレームの主面上に半導体素子及
    びその制御用半導体素子を搭載し、上記半導体素子に流
    れる電流を検出する電流検出抵抗を実装して樹脂封止し
    た樹脂封止型半導体装置であって、 上記電流検出抵抗を、上記リードフレームの熱膨張率と
    ほぼ等しい熱膨張率を有する金属チップ抵抗としたこと
    を特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  2. 【請求項2】 リードフレームの主面上に半導体素子及
    びその制御用半導体素子を搭載し、上記半導体素子に流
    れる電流を検出する電流検出抵抗を実装して樹脂封止し
    た樹脂封止型半導体装置であって、 上記電流検出抵抗を、上記リードフレームの熱膨張率と
    ほぼ等しい熱膨張率を有し、かつ可撓性を持つ金属ワイ
    ヤ抵抗としたことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  3. 【請求項3】 リードフレームの主面上に半導体素子及
    びその制御用半導体素子を搭載し、上記半導体素子に流
    れる電流を検出する電流検出抵抗を実装して樹脂封止し
    た樹脂封止型半導体装置であって、 上記電流検出抵抗をリードフレームの一部により構成し
    たことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  4. 【請求項4】 リードフレームの主面上に半導体素子及
    びその制御用半導体素子を搭載し、上記半導体素子に流
    れる電流を検出する電流検出抵抗を実装して樹脂封止し
    た樹脂封止型半導体装置であって、 上記電流検出抵抗をリードフレームの一部により構成す
    ると共に、電流検出抵抗としたリードフレームの一部に
    曲げ部分を設けたことを特徴とする樹脂封止型半導体装
    置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002026419A (ja) * 2000-07-07 2002-01-25 Sanken Electric Co Ltd 磁電変換装置
EP1973229A1 (en) 2007-03-22 2008-09-24 NEC Electronics Corporation Overcurrent detecting circuit and semiconductor device
JP2011200035A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Aisin Seiki Co Ltd 車両用過電流検出装置
JP2014038097A (ja) * 2012-08-16 2014-02-27 Mks Instruments Inc 平面的rfセンサ技術の強化について
JP2016527484A (ja) * 2013-06-10 2016-09-08 イザベレンヒュッテ ホイスラー ゲー・エム・ベー・ハー ウント コンパニー コマンデイトゲゼルシャフト 電気抵抗器製造用の打抜き部品、電流センサ、および対応する製造方法

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5619012A (en) * 1993-12-10 1997-04-08 Philips Electronics North America Corporation Hinged circuit assembly with multi-conductor framework
US5530284A (en) * 1995-03-06 1996-06-25 Motorola, Inc. Semiconductor leadframe structure compatible with differing bond wire materials
JP3907743B2 (ja) * 1995-05-11 2007-04-18 ローム株式会社 半導体装置
US6215174B1 (en) 1997-01-20 2001-04-10 Matsushita Electronics Corporation Lead frame, mold for producing a resin-sealed semiconductor device, resin-sealed semiconductor device using such a lead frame
JP3813775B2 (ja) * 1999-11-05 2006-08-23 ローム株式会社 マルチチップモジュール
TW488045B (en) * 2001-04-12 2002-05-21 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor package with dislocated multi-chips
US6900527B1 (en) * 2001-09-19 2005-05-31 Amkor Technology, Inc. Lead-frame method and assembly for interconnecting circuits within a circuit module
US7145223B2 (en) * 2002-05-22 2006-12-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor device
JP2004356494A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Hitachi Ltd 電子装置および圧力検出装置
US7913458B2 (en) 2004-05-21 2011-03-29 Edward Alan Higginbotham Self cleaning gutter shield
JP2009141080A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Toshiba Corp リードフレームおよび半導体装置
US8519545B2 (en) * 2010-09-17 2013-08-27 Infineon Technologies Ag Electronic device comprising a chip disposed on a pin
DE102015110078A1 (de) * 2015-06-23 2016-12-29 Infineon Technologies Austria Ag Elektronische Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
USD877707S1 (en) 2017-03-30 2020-03-10 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor package
JP1664528S (ja) * 2019-10-28 2020-07-27
JP1664527S (ja) * 2019-10-28 2020-07-27

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6315435A (ja) * 1986-07-08 1988-01-22 Fujitsu Ltd 半導体装置用パツケ−ジ
JPH02238655A (ja) * 1989-03-10 1990-09-20 Nec Corp 半導体パッケージ
JPH0760839B2 (ja) * 1990-03-15 1995-06-28 株式会社東芝 半導体装置
US5287083A (en) * 1992-03-30 1994-02-15 Dale Electronics, Inc. Bulk metal chip resistor
US5229640A (en) * 1992-09-01 1993-07-20 Avx Corporation Surface mountable clock oscillator module

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002026419A (ja) * 2000-07-07 2002-01-25 Sanken Electric Co Ltd 磁電変換装置
EP1973229A1 (en) 2007-03-22 2008-09-24 NEC Electronics Corporation Overcurrent detecting circuit and semiconductor device
US7660091B2 (en) 2007-03-22 2010-02-09 Nec Electronics Corporation Overcurrent detecting circuit and semiconductor device
JP2011200035A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Aisin Seiki Co Ltd 車両用過電流検出装置
JP2014038097A (ja) * 2012-08-16 2014-02-27 Mks Instruments Inc 平面的rfセンサ技術の強化について
US9291649B2 (en) 2012-08-16 2016-03-22 Mks Instruments, Inc. On the enhancements of planar based RF sensor technology
JP2016527484A (ja) * 2013-06-10 2016-09-08 イザベレンヒュッテ ホイスラー ゲー・エム・ベー・ハー ウント コンパニー コマンデイトゲゼルシャフト 電気抵抗器製造用の打抜き部品、電流センサ、および対応する製造方法
US10083782B2 (en) 2013-06-10 2018-09-25 Isabellenhuette Heusler Gmbh & Co. Kg Punched part for producing an electrical resistor, current sensor and corresponding production method

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