DE4017616A1 - Halbleiterspeichereinrichtung mit einem auf dem chip befindlichen testschaltkreis und betriebsverfahren hierfuer - Google Patents
Halbleiterspeichereinrichtung mit einem auf dem chip befindlichen testschaltkreis und betriebsverfahren hierfuerInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich allgemein auf das Testen von Halbleiter
speichereinrichtungen und insbesondere auf eine Halbleiterspeicher
einrichtung mit einem auf dem Chip befindlichen Testschaltkreis
zum Prüfen von Speicherzellen.
Da die Halbleiterspeichereinrichtungen in den vergangenen Jahren
hoch integriert worden sind, besteht auch eine Neigung dazu, daß
die Probleme größer werden. Es ist daher ein Testschaltkreis für
eine Halbleiterspeichereinrichtung erforderlich. Um die Testzeit
zu vermindern, ist die Vorsehung eines Testschaltkreises in der
Halbleiterspeichereinrichtung vorgeschlagen bzw. realisiert worden.
Fig. 1 zeigt ein Blockdiagramm, das eine herkömmliche Halbleiter
speichereinrichtung mit einem eingebauten Testschaltkreis dar
stellt, der in der JP (KOKAI) 62-1 70 100 beschrieben ist. In der
Figur umfaßt die Halbleiterspeichereinrichtung 1 ein Speicher
zellenfeld 2, einen Zeilenadressdekoder 3, einen Spaltenadress
dekoder 4 und einen Leseverstärker 5. Dieser Halbleiterspeicher
einrichtung werden Adressignale A 0- A 7, ein Schreib/Lesesignal W
und einzuschreibende Daten D zugeführt. Ferner umfaßt die Halb
leiterspeichereinrichtung 1 einen Testschaltkreis 6.
Wenn das Schreib/Lesesignal W logisch "0" ist, werden einzuschrei
bende Daten D in die durch die Adressignale A 0- A 7 ausgewählten
Zellen eingeschrieben. Falls das Schreib/Lesesignal W logisch "1"
ist, wird der Inhalt der durch die Adressignal A 0- A 7 ausgewählten
Zellen als RAM-Ausgabedaten O ausgelesen.
Der in der Halbleiterspeichereinrichtung der Fig. 1 eingebaute
Testschaltkreis 6 umfaßt einen Komparator C und ein Register R
zur Speicherung der Testergebnisse.
Die RAM-Ausgabedaten O werden an einen Eingang des Komparators C
und ein extern angelegtes Signal eines Erwartungswertes E an
dessen anderen Eingang angelegt. Falls diese beiden Eingangs
signale nicht übereinstimmen bzw. koinzident sind, gibt der
Komparator C eine logische "0" aus, die an das Register R angelegt
wird. Vor dem Beginn eines Testes wird das Register R durch ein
Setzsignal S auf eine logische "1" gesetzt. Das Register R akzep
tiert die Eingangssignale, wenn ein extern anlegbares Aktivierungs
signal T auf logisch "1" ist. Wenn das Register R einmal auf "0"
gesetzt worden ist, hält es diesen Wert, bis ein Setzsignal S
angelegt wird. Das Testergebnissignal F wird logisch "0" nur dann,
wenn das RAM-Ausgangssignal O und das Signal des Erwartungswertes E
beim Testen nicht übereinstimmen, so daß die Speicherzelle nach
gewiesenermaßen defekt ist.
Nun wird der Testbetrieb der in Fig. 1 gezeigten Halbleiterspei
chereinrichtung beschrieben.
Die Fig. 2 zeigt ein Diagramm einer Systemstruktur, die ein
Beispiel eines Speichertestsystemes zum Prüfen der in Fig. 1
gezeigten Halbleiterspeichereinrichtung darstellt.
Beim in Fig. 2 gezeigten Speichertestsystem legt eine Speicher
testeinrichtung TM an die entsprechenden zu prüfenden Halbleiter
speichereinrichtungen M0-M3-Mn eine Eingangssignalgruppe D, ein
Signal des Erwartungswertes E, ein Setzsignal S zum Setzen eines
Registers und ein Aktivierungssignal T, das angibt, ob ein
Register betrieben werden soll oder nicht, an. Die Testergebnisse
werden durch Leuchtdioden L, die extern mit den entsprechenden
Halbleiterspeichereinrichtungen verbunden sind, angezeigt. Falls
ein Defekt auftritt, leuchtet als Testergebnis eine Leuchtdiode L
auf, so daß die entsprechende der Halbleiterspeichereinrichtungen
M0 - Mn entfernt werden kann.
In diesem können viele parallel geschaltete Halbleiterspeicherein
richtungen gleichzeitig getestet werden, solange die Treiberfähig
keit der Eingangssignaltreiber der Speichertesteinrichtung TM dies
erlaubt.
Als eine derartige Speichertesteinrichtung ist z.B. die ANDO 8042
von Ando Electric Co., Ltd. bekannt.
Da eine herkömmliche Halbleiterspeichereinrichtung wie oben
beschrieben aufgebaut ist, sind insgesamt vier Anschlüsse, d.h.,
einen Anschluß zum Eingeben des Signales für den Erwartungswert
E, einen zum Eingeben des Setzsignales S, einen zum Eingeben des
Aktivierungssignales T und einen zum Ausgeben des Testergebnisses
F für einen Testschaltkreis erforderlich. Daher wird die Anzahl
der Anschlußstifte (Pins) im Vergleich mit einer Standard-Halb
leiterspeichereinrichtung ohne eingebauten Testschaltkreis größer.
Damit ist dieser nicht mit den Standard-Halbleiterspeicherein
richtungen kompatibel, so daß dieser nur einen geringen prak
tischen Wert besitzt.
Da eine Einrichtung zum Erzeugen der oben genannten Signale E, S
und T für einen Test erforderlich ist, wird dieses Testsystem
ferner kompliziert, wodurch wiederum die Herstellung einer Spei
chertesteinrichtung teuer wird.
Aufgabe der Erfindung ist es, die für das Testen von Halbleiter
speichereinrichtungen erforderliche Zeit zu vermindern. Ferner
sollen die Halbleiterspeichereinrichtungen ohne Verwendung
zusätzlicher Anschlußstifte geprüft werden. Außerdem soll eine
Testschaltung für Halbleiterspeichereinrichtungen auf dem Chip
geschaffen werden, die einen einfachen Aufbau aufweist. Weiterhin
ist es Aufgabe der Erfindung, Halbleiterspeichereinrichtungen zu
schaffen, die zusammen mit einer Funktionstestschaltung auf einem
gemeinsamen Halbleitersubstrat gebildet sind. Ferner soll eine
Funktionstestschaltung in einer Halbleiterspeichereinrichtungen
implementiert werden, die nur standardmäßig vorhandene Anschluß
stifte benutzt.
Die erfindungsgemäße Halbleiterspeichereinrichtung umfaßt ein
Speicherfeld, eine Mehrzahl von Funktionsanschlüssen, eine
Dekodiereinrichtung, eine Vergleichseinrichtung und eine Defekt
signal-Anlegeeinrichtung. Das Speicherzellenfeld weist eine
Mehrzahl von Speicherzellen auf und ist in eine Mehrzahl von
Teilfelder unterteilt. Die Mehrzahl von Funktionsanschlüssen
übertragen Ein- und Ausgangssignale zur Steuerung der Funktionen
der Halbleiterspeichereinrichtung. Die Dekodiereinrichtung
bestimmt entsprechende Speicherzellen in den Teilfeldern zum
Einschreiben von Daten und zum Auslesen von Daten aus den Teil
feldern. Die Vergleichseinrichtung vergleicht die von den
entsprechenden Speicherzellen in den Teilfeldern ausgelesenen
Daten und erzeugt ein Defektsignal, falls das in einer der
entsprechenden Speicherzellen eines Teilfeldes gespeicherte Datum
nicht übereinstimmt. Die Defektsignal-Anlegeeinrichtung legt das
Defektsignal an einen vorbestimmten der Funktionsanschlüsse der
Speichereinrichtung an.
Bei der vorliegenden Erfindung wird ein Speicherzellenfeld darauf
geprüft, ob es defekt ist oder nicht, indem dieselben Daten in die
entsprechenden Speicherzellen in jedem Teilfeld des Speicherfeldes
geschrieben und aus den Speicherzellen ausgelesen werden, um durch
eine Vergleichseinrichtung zu bestimmen, ob alle Daten überein
stimmen. Das Bestimmungsausgangssignal der Vergleichseinrichtung
wird an einen der Funktionsanschlüsse, die in der Speichereinrich
tung geschaffen sind, angelegt. Die Funktionsanschlüsse übertragen
die Ein- und Ausgangssignale an die Steuerfunktionen der Speicher
einrichtung und sind auch in einer Standard-Halbleiterspeicherein
richtung ohne Testfunktion vorhanden. Entsprechend werden im
Vergleich mit einer Standard-Halbleiterspeichereinrichtung ohne
Testfunktion keine weiteren Anschlußstifte benötigt.
Da erfindungsgemäß eine Halbleiterspeichereinrichtung mit Test
funktion mit derselben Anzahl von Anschlußstiften wie eine
Standard-Halbleiterspeichereinrichtung ohne eingebaute Testfunktion
geschaffen werden kann, ist diese genauer gesagt kompatibel mit
einer Standard-Halbleiterspeichereinrichtung, so daß diese in
hohem Maße verwendbar ist. Da ferner kein Signal zum Testen
extern erzeugt und der Halbleiterspeichereinrichtung zugeführt
werden muß, kann diese Halbleiterspeichereinrichtung mit einer
einfachen Speichertesteinrichtung geprüft werden.
Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich
aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figuren.
Von den Figuren zeigen:
Fig. 1 ein Blockdiagramm, das eine herkömmliche Halbleiter
speichereinrichtung darstellt;
Fig. 2 ein Diagramm einer Systemstruktur, das ein Beispiel
eines Speichertestsystemes zum Prüfen der in Fig. 1
gezeigten Halbleiterspeichereinrichtung darstellt;
Fig. 3A ein Blockdiagramm, das eine Halbleiterspeicherein
richtung nach einer ersten Ausführungsform der
Erfindung darstellt;
Fig. 3B, 3 C, 3 D Schaltbilder, die detaillierte Strukturen des
Vergleichs- und Bestimmungsschaltkreises, des
Erfassungsschaltkreises für eine Adressänderung bzw.
den Verzögerungsschaltkreis der Fig. 3A darstellen;
Fig. 4A bis 4G Zeitdiagramm zur Erläuterung des Betriebes der
in Fig. 3A gezeigten Ausführungsform;
Fig. 5A bis 5E Flußdiagramme zur Erläuterung des Betriebes der
in Fig. 3A gezeigten Ausführungsform; und
Fig. 6 ein Blockdiagramm, das die Struktur einer zweiten
Ausführungsform der Erfindung darstellt.
In Fig. 3A ist eine Mehrzahl von Speicherzellen in einer Matrix
in einem Speicherzellenfeld 10 angeordnet, wobei die Speicher
zellen in acht Teilfelder aufgeteilt sind. Ein Spaltenadress
dekoder 11 wählt eine entsprechende Spalte der entsprechenden
Teilfelder auf der Basis eines extern angelegten Spaltenadress
signales Adc aus. Ein Zeilenadressdekoder 12 wählt eine entspre
chende Zeile der entsprechenden Teilfelder auf der Basis eines
extern angelegten Zeilenadressignales Adr aus. Jedes Teilfeld
ist über einen Multiplexer 13 mit dem jeweiligen von acht
Leseverstärkern 14 verbunden. Jedes Ausgangssignal der Lesever
stärker 14 wird über einen Datenausgabepuffer 15 an acht
Datenein/ausgabepins 16 angelegt. Die an die Datenein/ausgabepins
16 angelegten Eingabedaten werden über einen Dateneingangspuffer
17 an den Multiplexer 13 angelegt. Jedes Ausgangssignal der
Leseverstärker 14 wird einem Vergleichs/Bestimmungsschaltkreis 18
zugeführt. Der Vergleichs- und Bestimmungsschaltkreis 18 umfaßt,
wie in Fig. 3B gezeigt ist, z.B. einen XOR-Schaltkreis und
bestimmt, ob die Logikpegel der Ausgangssignale aller acht Lese
verstärker 14 übereinstimmen oder nicht. Das Ausgangssignal des
Vergleichs- und Bestimmungsschaltkreises 18 wird über einen
Gattertransistor 19 an ein Register 20 angelegt. Das Schalten
des Gattertransistors 19 wird gesteuert von einem Aktivierungs
signal E der Testausgabe, das von einem Erzeugungsschaltkreis 21
für das Schaltsteuersignal erzeugt wird. Der Erzeugungsschaltkreis
21 umfaßt einen Adressänderungs-Erfassungsschaltkreises 211 zum
Erfassen von Änderungen der eingegebenen Spaltenadressignale Adc
und der Zeilenadressignale Adr, einen Verzögerungsschaltkreis 212
zum Verzögern eines ATD-Impulses, der das Ausgangssignal des
Adressänderungs-Erfassungsschaltkreises 211 darstellt, und ein
AND-Gatter 213 zum Empfangen des Ausgangssignales ATDD des
Verzögerungsschaltkreises an einem Eingang, während ein
Schreib/Lesebestimmungssignal WE an den anderen Eingang des
AND-Gatters 213 angelegt wird. Der Adressänderungs-Erfassungs
schaltkreises 211 umfaßt, wie in Fig. 3C gezeigt ist, z.B. einen
Inversionsverzögerungsschaltkreis 211 a und ein AND-Gatter 211 b.
Das AND-Gatter 211 b bewirkt nämlich, daß der ATD-Impuls den
"H"-Pegel erreicht, während das Adressignal ansteigt und nach
einer gewissen Zeitspanne ein verzögertes Inversionssignal von
diesem abfällt. Ferner umfaßt der Verzögerungsschaltkreis 212,
wie in Fig. 3D gezeigt ist, z.B. zwei Inverter 212 a und 212 b
und einen Kondensator 212 c. Das Ausgangssignal eines Schalt
kreises 22 zum Rückstellen beim Einschalten wird als Rückstell
signal an das Register 20 angelegt. Der Schaltkreis 22 zum
Rückstellen beim Einschalten erzeugt einen Impuls, um das
Register 20 anfangs zurückzustellen, wenn die Spannungsversorgung
der Halbleiterspeichereinrichtung der Fig. 3 eingeschaltet wird.
Das Ausgangssignal des Registers 20 wird an das Gate des N-Kanal
Transistors 23 angelegt. Die Source des Transistors 23 ist
geerdet, während die Drain über eine Mehrzahl von N-Kanal Transi
storen 24 mit einem Ausgabeaktivierungspin 25 verbunden ist.
Jeder der Transistoren ist als Diode geschaltet, so daß jeder
Spannungsabfall in Vorwärtsrichtung zur Änderung der Eingangs
impedanz des Ausgabeaktivierungspins 25 benutzt wird. Die oben
beschriebene Struktur der Fig. 3A ist auf einem einzelnen
Halbleitersubstrat gebildet. Am Rand der Halbleiterspeicherein
richtung sind Datenein/ausgabepins 16, Pins zum Eingeben des
Spaltenadressignales Adc und des Zeilenadressignales Adr, ein
Pin zum Eingeben des Schreib/Lesebestimmungssignales WE und ein
Ausgabeaktivierungspin 25 geschaffen. Entsprechende Anschlußstifte
werden auch in einer Standard-Halbleiterspeichereinrichtung ohne
Testfunktion verwendet.
Nun wird der Betrieb der in Fig. 3A gezeigten Ausführungsform unter
Bezugnahme auf die Zeitdiagramme der Fig. 4A bis 4G beschrieben.
Wenn das Spaltenadressignal Adc in den Spaltenadressdekoder 11 und
das Zeilenadressignal Adr in den Zeilenadressdekoder 12 eingegeben
werden, werden entsprechende Speicherzellen eines jeden Teilfeldes
im Speicherzellenfeld 10 ausgewählt. Zu diesem Zeitpunkt erreicht
das Lese/Schreibbestimmungssignal WE den "L"-Pegel, wie in Fig. 4C
gezeigt ist, so daß die Eingabedaten DI (eingegeben vom Datenein/
ausgabepin 16) über den Dateneingangspuffer 17 in jede der ausge
wählten Speicherzellen eingeschrieben werden, wie in Fig. 4D
dargestellt ist. Bei diesem Schreibmodus erreicht das an den
Ausgabeaktivierungspin 25 angelegte Ausgabeaktivierungssignal OE
den "L"-Pegel, d.h., OV, wie dies in Fig. 4G gezeigt ist.
Wenn das Schreib/Lesebestimmungssignal WE wie in Fig. 4C darge
stellt den "H"-Pegel erreicht, werden die in den Speicherzellen
gespeicherten Daten über die Leseverstärker 14 und den Datenaus
gabepuffer 15 an die Datenein/ausgabepins 16 abgegeben. Bei diesem
Lesemodus erreicht das Ausgabeaktivierungssignal OE den "H"-Pegel
(etwa 4,5-5,5 V) , so daß Daten ausgegeben werden können, wie
dies in Fig. 4G gezeigt ist.
Zu diesem Zeitpunkt werden acht Daten, die von den entsprechenden
Speicherzellen in jedem Teilfeld ausgelesen worden sind, in den
Leseverstärkern 14 verstärkt, um im Vergleichs- und Bestimmungs
schaltkreis 18 verglichen zu werden, so daß das Speicherzellenfeld
nachgewiesenermaßen defkt ist, falls ein Datum verschieden ist.
Ein kurzer Impuls des Testergebnisausgabe-Aktivierungssignales E
(s. Fig. 4F), das ein logisches Produkt des verzögerten Signales
ATDD des Adressänderungs-Erfassungssignales ATD und des Schreib/
Lesebestimmungssignales WE (s. Fig. 4C) ist, bewirkt ein Durch
schalten des Gattertransistors 19, so daß das Ergebnis im
Vergleichs- und Bestimmungsschaltkreis 18 vom Register 20 akzep
tiert wird.
Falls beim oben beschriebenen Lesemodus der Transistor 19 durch
geschaltet wird, bevor der Vergleichs- und Bestimmungsschaltkreis
18 ein logisches Produkt der über die Leseverstärker 14 ausge
lesenen Daten von jedem Teilfeld ermittelt, werden die Daten des
Pseudotestergebnisses vom Register 20 akzeptiert. Entsprechend
wird die Zeitabstimmung zum Aufnehmen eines Ausgangssignales des
Vergleichs- und Bestimmungsschaltkreises 18 in das Register 20
vom Steuersignal E gesteuert, das einen geweissen Rahmen für
Adressignaländerungen aufweist.
In diesem Modus wird ein Signal mit einem "HH"-Pegel, der höher ist
als der "H"-Pegel, an den Ausgabeaktivierungspin 25 angelegt, in
den auch ein Ausgabeaktivierungssignal OE zur Steuerung der Ausgabe
von normalen Daten eingegeben wird (s. Fig. 4G). Der "HH"-Pegel
wird auf eine Spannung innerhalb eines Bereiches gesetzt, in dem
keiner der anderen mit dem Ausgabeaktivierungspin 25 verbundenen
Schaltkreise beschädigt wird (z.B. 8-9 V). Zu diesem Zeitpunkt
ist der Transistor 23 in Abhängigkeit von den im Register 20
gespeicherten Daten leitend oder gesperrt. Falls er leitend ist,
sinkt die Eingangsimpedanz des Ausgabeaktivierungspins 25 ab,
so daß ein großer Leckstrom fließt. Falls der Transistor 23
andererseits gesperrt ist, ist die Eingangsimpedanz des Ausgabe
aktivierungspins 25 extrem hoch, so daß nahezu kein Leckstrom
fließt. Entsprechend wird das Ergebnis von den externen Einrich
tungen in Abhängigkeit davon, ob ein Leckstrom existiert oder
nicht, ermittelt. Wenn eine Mehrzahl von Halbleiterspeicherein
richtungen gleichzeitig getestet werden soll, wird eine Mehrzahl
der in Fig. 3A gezeigten Halbleiterspeichereinrichtungen auf eine
Testeinrichtung geladen, so daß eine hohe Spannung von einer in
Fig. 2 gezeigten Speichertestmaschine TM nacheinander an den
Ausgabeaktivierungspin 25 einer jeden Halbleiterspeichereinrichtung
angelegt wird.
Es soll noch erwähnt werden, daß die Betriebsmodi der oben
beschriebenen Ausführungsform in den Flußdiagrammen der Fig. 5A
bis 5E, gezeigt sind, die die gesamte Operation, Details des
Datenschreibmodus, Details des Datenlesemodus, Details des
Bestimmungsergebnis-Speicherungsmodus bzw. Details des Bestigungs
ergebnis-Ausgabemodus darstellen.
Für die Ausführungsform der Fig. 3A ergibt sich aus der obigen
Beschriebung, daß die Halbleiterspeichereinrichtung mit derselben
Anzahl von Anschlußstiften (Pins) geschaffen werden kann, wie bei
einer Standard-Halbleiterspeichereinrichtung ohne Testfunktion,
da alle für den Testschaltkreis benutzten Signale in der Halb
leiterspeichereinrichtung erzeugt werden und das Testergebnis über
einen bereits existiereneden Pin ausgegeben wird, wodurch eine
enorm hohe Kompatibilität mit Standard-Halbleiterspeichereinrich
tungen ohne Testfunktion und große praktische Vorteile erzielt
werden können.
Da bei der Ausführungsform der Fig. 3A die Zeitabstimmung für die
Akzeptierung eines Ergebnisses im Register 20 durch das verzögerte
Signal ATDD des Adressänderungs-Erfassungssignales ATD bestimmt
wird, ist die Taktung weniger eingeschränkt, so daß dieses sicher
als Testschaltkreis betrieben werden kann.
Ferner wird bei der Halbleiterspeichereinrichtung der Fig. 3A
nicht nur die Änderung des Stromes am Ausgabeaktivierungspin 25
geprüft, sondern es kann auch die Qualität der Halbleiterspeicher
einrichtung bestimmt werden, so daß ein Test selbst mit einer
einfachen Speichertesteinrichtung, die eine geringe Genauigkeit
bei der Taktung etc. aufweist, möglich wird.
Obwohl bei der oben beschriebenen Ausführungsform die im Register
20 gespeicherten Ergebnisdaten über den Ausgabeaktivierungspin 25
ausgegeben werden, können diese auch über andere in einer
Standard-Halbleiterspeichereinrichtung vorhandenen Pins ausgegeben
werden. Z.B. können die Ergebnisdaten an einem Pin abgegeben
werden, über den das Schreib/Lesebestimmungssignal WE eingegeben
Bei der in Fig. 3A gezeigten Ausführungsform kann für den Fall,
daß ein Defekt derselben Logik in jedem Teilfeld auftritt, eine
Bestimmung, ob dieses defekt ist oder nicht, nicht einfach durch
Vergleichen der Ausgangssignale der entsprechenden Leseverstärker
14 erfolgen. Es kann ein Signal des erwarteten Wertes über einen
der Mehrzahl von Datenein/ausgabepins 16 eingegeben werden,
wodurch eine ausschließende logische Summe des Signales des
erwarteten Wertes und ein Ausgangssignal der Speicherzelle im
Vergleichs- und Bestimmungsschaltkreis 18 ermittelt wird, so daß
die Qualität der Halbleiterspeichereinrichtung ermittelt werden
kann. In diesem Fall ist es vorteilhaft, wenn ein Defekt ermittelt
werden kann, selbst wenn alle Ausgangssignale der Teilfelder auf
dieselbe logische Weise defekt sind. Eine derartige Ausführungs
form ist in Fig. 6 gezeigt.
In Fig. 6 wird ein über einen vorbestimmten Datenein/ausgabepin 16
eingegebenes Signal des erwarteten Wertes an ein AND-Gatter 29
angelegt. Ferner werden ein Ausgabeaktivierungssignal OE von einem
Ausgabeaktivierungspin 25 und ein Chip-Auswahlsignal CS von einem
Chip-Auswahlpin 26 an das AND-Gatter 29 angelegt. Da der aktive
Pegel des Chip-Auswahlsignales CS auf hohem Potential von etwa
8-9V liegt, wird das Signal an das AND-Gatter 29 angelegt,
nachdem es durch den Spannungsteiler aus einer Mehrzahl von in
Reihe geschalteten N-Kanal Transistoren 27 in ein Signal mit
normalem "H"-Pegel (etwa 4,5-5,5V) konvertiert worden ist. Das
Ausgangssignal des AND-Gatters 29 wird an einen Vergleichs- und
Bestimmungsschaltkreis 18 angelegt, der Gatter zur Ermittlung
logischer ausschließender Summen umfaßt.
Nun wird der Betrieb der in Fig. 6 gezeigten zweiten Ausführungs
form beschrieben. Der Betrieb im Schreibmodus stimmt mit dem
jenigen der in Fig. 3A gezeigten Ausführungsform überein. Beim
Lesemodus erreicht das Ausgabeaktivierungssignal OE den "H"-Pegel.
Ferner wird bei dieser Gelegenheit eine hohe Spannung an den
Chip-Auswahlpin 26 angelegt. Entsprechend wird das über den
Datenein/ausgabepin 16 eingegebene Signal des erwarteten Wertes
über das Gatter 29 an den Vergleichs- und Bestimmungsschaltkreis
18 angelegt, in dem das Signal mit dem Ausgangssignal eines
jeden Leseverstärkers 14 verglichen wird. Der Betrieb im
Bestimmungsergebnis-Speicherungsmodus und im Bestimmungsergebnis-
Ausgabemodus stimmt mit demjenigen der Fig. 3A überein.
Claims (10)
1. Halbleiterspeichereinrichtung mit Testfunktion, umfassend ein
Speicherzellenfeld (10) mit einer Mehrzahl von Speicherzellen,
das in eine Mehrzahl von Teilfeldern unterteilt ist, eine Mehrzahl
von in jedem Teilfeld gebildeten Datenein/ausgabepins (16) eine
Dekodiereinrichtung (11, 12) zum Bestimmen entsprechender Speicher
zellen in jedem Teilfeld, um über die Datenein/ausgabepins einge
gebene Daten in jedes Teilfeld einzuschreiben, und um in jedem
Teilfeld gespeicherte Daten auszulesen und über die Datenein/
ausgabepins auszugeben, eine Vergleichs- und Bestimmungseinrichtung
(18) zum Bestimmen, ob die aus entsprechenden Speicherzellen
ausgelesenen Daten übereinstimmen oder nicht, eine Registerein
richtung (20) zum Speichern des Ergebnisses der Vergleichs- und
Bestimmungseinrichtung, eine Akzeptanztaktsignal-Steuereinrichtung
(19, 21) zum Steuern der Zeitabstimmung bzw. des Taktsignales,
für das die Registereinrichtung das Ergebnis der Vergleichs- und
Bestimmungseinrichtung akzeptiert, eine Rückstelleinrichtung (22)
zum anfänglichen Rücksetzen der Registereinrichtung, und eine
Eingangsimpedanz-Änderungseinrichtung (24, 23), die von dem in
der Registereinrichtung gespeicherten Datum abhängig ist, zum
Ändern der Eingangsimpedanz vorbestimmter Pins, wobei alle Ein
richtungen auf einem einzelnen Halbleitersubstrat begildet sind.
2. Halbleiterspeichereinrichtung mit Testfunktion nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Akzeptanztaktsignal-Steuereinrich
tung eine zwischen der Vergleichs- und Bestimmungseinrichtung (18)
und der Registereinrichtung (20) gebildete Schalteinrichtung (19)
und eine Schaltsteuereinrichtung (21) zum Steuern des Schaltens
der Schalteinrichtung (19) umfaßt.
3. Halbleiterspeichereinrichtung mit Testfunktion nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Schaltsteuereinrichtung (21) ein
Signal zum Steuern des Schaltens der Schalteinrichtung (19) auf
der Basis eines Modusdefinitionssignales zum Definieren eines an
die Dekodereinrichtung (11, 12) angelegten Adressignales und dem
Lese- und Schreibmodus des Speicherzellenfeldes (10) erzeugt.
4. Halbleiterspeichereinrichtung mit Testfunktion nach einem der
Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Signal eines
erwarteten Wertes, das dieselben Daten wie die für den Test in
jede Speicherzelle eingeschriebenen Daten aufweist, an einen der
Datenein/ausgabepins (16) eingegeben wird, und daß die Vergleichs
und Bestimmungseinrichtung (18) bestimmt, ob das Signal des
erwarteten Wertes und alle aus den entsprechenden Speicherzellen
eines jeden Teilfeldes ausgelesenen Daten übereinstimmen oder
nicht.
5. Halbleiterspeichereinrichtung mit Selbsttestfunktion, umfassend
ein Speicherfeld (10) mit einer Mehrzahl von Speicherzellen, das
in eine Mehrzahl von Teilfeldern unterteilt ist, eine Mehrzahl von
Funktionsanschlüssen zum Übertragen von Ein- und Ausgangssignalen
für die Steuerung der Funktionen der Speichereinrichtung, eine
Dekodiereinrichtung (11, 12) zum Bestimmen entsprechender Speicher
zellen in den Teilfeldern, um Daten in diese Teilfelder einzu
schreiben oder Daten aus diesen Teilfeldern auszulesen, eine
Einrichtung (18) zum Vergleichen der aus den entsprechenden
Speicherzellen in den Teilfeldern ausgelesenen Daten und zum
Erzeugen eines Defektsignales, falls die in einer der entspre
chenden Speicherzellen eines Teilfeldes gespeicherten Daten nicht
übereinstimmen, und eine Einrichtung (23, 24) zum Anlegen des
Defektsignales an einen vorbestimmten (25) der Funktionsanschlüsse
der Speichereinrichtung.
6. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Defektsignal-Anlegungseinrichtung (23, 24) eine
Einrichtung (23) zum Verändern der Eingangsimpedanz des vorbe
stimmten Funktionsanschlusses (25) umfaßt.
7. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 6, gekennzeichnet
durch ein Register (20) zum Speichern des Defektsignales, wobei
die Eingangsimpedanz-Änderungseinrichtung (23) vom Ausgangssignal
des Registers (20) abhängig ist.
8. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 5, gekennzeichnet
durch eine Registereinrichtung (20) zum Speichern des Defekt
signales, eine Einrichtung (23, 24) zum Anlegen des Registeraus
gangssignales an den vorbestimmten Funktionsanschluß (25), und
eine von einer Änderung eines von der Dekodereinrichtung (11, 12)
erzeugten Adressignales abhängige Einrichtung (19) zum Speichern
des Defektsignales im Register (20).
9. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 8, gekennzeichnet
durch eine Verzögerungseinrichtung (212) zum Verzögern des
Ausgangssignales der Adressignal-Änderungseinrichtung (211), um
ein verzögertes Adressänderungssignal zu bilden, und eine Logik
einrichtung (213) zum Steuern der Speichereinrichtung (19) in
Abhängigkeit vom verzögerten Adressänderungssignal und einem
Schreibaktivierungssignal.
10. Verfahren zum Testen einer Halbleiterspeichereinrichtung mit
einem Speicherfeld, das eine Mehrzahl von Speicherzellen umfaßt
und in eine Mehrzahl von Teilfelder unterteilt ist, und mit einer
Mehrzahl von Funktionsanschlüssen zum Übertragen von Ein- und
Ausgangssignalen, um die Funktionen der Speichereinrichtung zu
steuern, gekennzeichnet durch die Schritte:
Bestimmen entsprechender Speicherzellen in den Teilfeldern zum
Einschreiben von Daten in die Teilfelder und zum Auslesen von
Daten aus den Teilfeldern, Vergleichen der aus den entsprechenden
Zellen in den Teilfeldern ausgelesenen Daten, Erzeugen eines
Defektsignales, falls die in einer der entsprechenden Speicher
zellen eines Teilfeldes gespeicherten Daten nicht koinzident sind,
und Anlegen eines Defektsignales an einen vorbestimmten der
Funktionsanschlüsse der Speichereinrichtung.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1141522A JP2938470B2 (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4017616A1 true DE4017616A1 (de) | 1990-12-06 |
DE4017616C2 DE4017616C2 (de) | 1991-09-26 |
Family
ID=15293925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4017616A Granted DE4017616A1 (de) | 1989-06-01 | 1990-05-31 | Halbleiterspeichereinrichtung mit einem auf dem chip befindlichen testschaltkreis und betriebsverfahren hierfuer |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5132937A (de) |
JP (1) | JP2938470B2 (de) |
DE (1) | DE4017616A1 (de) |
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Legal Events
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---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |