DE3546063A1 - Verfahren zur herstellung eines fluessigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes - Google Patents
Verfahren zur herstellung eines fluessigkeitsstrahlaufzeichnungskopfesInfo
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Description
Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkeitsstrahlauf zeichnung skopf es
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung
eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes, der
in einem TintenstrahlaufZeichnungssystem Verwendung findet
und eine Aufzeichnungsflüssigkeit in der Form von Flüssig-S
keitströpfchen ausstößt.
Ein in einem Tintenstrahlaufzeichnungssystem (einem Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungssystem)
Verwendung findender Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf besitzt üblicherweise eine
feine Flüssigkeitsabgabeöffnung (hiernach nur als öffnung bezeichnet), eine Flüssigkeitsströmungsbahn und eine Einrichtung
zur Erzeugung der Flüssigkeitsabgabeenergie, die entlang der Flüssigkeitsströmungsbahn angeordnet ist. Bislang
konnte ein derartiger Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf beispielsweise dadurch hergestellt werden, daß feine Rillen
auf einer Glasplatte, einer Metallplatte u.a. durch Schneiden oder Ätzen ausgebildet wurden und die Rillenplatte mit einer
anderen geeigneten Platte verbunden wurde, um die Flüssigkeitsströmungsbahnen zu erzeugen. Bei einem nach dem vorstehend
erwähnten herkömmlichen Verfahren hergestellten Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf ist jedoch die Rauhigkeit
der Innenwand der eingeschnittenen Flüssigkeitsströmungsbahn
zu hoch oder die Flüssigkeitsströmungsbahn ist aufgrund von unterschiedlichen Ätzgraden Spannungen ausgesetzt.
Es ist daher mit Schwierigkeiten verbunden, eine Flüssigkeitsströmungsbahn mit einem konstanten Strömungsbahnwiderstand
auszubilden, so daß daher die Flüssigkeitsabgabeeigenschaften
eines auf diese Weise hergestellten Flüssigkeitsstrahlauf zeichnungskopfes nicht gleichmäßig sind.
Während des Einschneidens kann die Platte leicht reißen oder brechen. Somit ist die Ausbeute gering. Wenn ein Ätzvorgang
ausgeführt wird, steigt die Anzahl der Herstellschritte an, was mit einer Zunahme der Herstellkosten verbunden
ist. Darüberhinaus haben die vorstehend erwähnten herkömmlichen Verfahren die nachfolgend aufgeführten gerneinsamen
Nachteile:
1. Eine Oberlagerungsplatte, in der ein Antriebselement, beispielsweise ein piezoelektrisches Element, ein
elektrothermischer Wandler u.a., die erforderliche Energie für die Abgabe der Aufzeichnungsflüssigkeitströpfchen
erzeugt, wird nicht genau auf die Rillenplatte gesetzt, in der die Flüssigkeitsströmungsbahn ausgebildet
ist; und
2. es ist unmöglich, große Mengen zu produzieren.
Normalerweise befindet sich der Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf
in der Umgebung seines Einsatzes immer in Kontakt mit der Aufzeichnungsflüssigkeit. Bei dieser Auf-Zeichnungsflüssigkeit
handelt es sich normalerweise um Tinte, die in erster Linie aus Wasser besteht, das in
vielen Fällen nicht neutral ist, oder um Tinte, die in
erster Linie aus einem organischen Lösungsmittel besteht.
Es ist daher wünschenswert, ein Material für den Flüssigkeitsstrahlauf
zeichnungskopf zu verwenden, das durch den
Einfluß der Aufzeichnungsflüssigkeit keine Reduzierung in seiner Festigkeit erfährt, und eine Aufzeichnungsflüssigkeit einzusetzen, die keinen schädlichen Bestandteil
aufweist, der eine Verschlechterung der Eignung der Aufzeichnungsflüssigkeit bewirkt. Bei den herkömmlichen Verfahren
konnte jedoch aufgrund von Beschränkungen des Behandlungsverfahrens etc. nicht immer ein Material gefunden
werden, das diese Bedingungen erfüllt.
In der US-PS 4 412 224 ist ein Verfahren zur Herstellung eines Tintenstrahlaufzeichnungskopfes beschrieben, das
nachfolgend erläutert wird. Bei diesem bekannten Verfahren werden folgende Schritte hintereinander ausgeführt:
(1) Unter Verwendung eines Negativ-Fotoresistes wird ein Resist-Muster ausgebildet, das die Flüssigkeitsströmungsbahn
auf dem Substrat bildet, (2) der Seitenwandteil der Flüssigkeitsbahn wird auf galvanischem Wege auf dem Abschnitt,
auf dem das vorstehend erwähnte Resist-Muster nicht vorhanden ist, ausgebildet, (3) das Resist-Muster
wird vom Substrat entfernt, und (4) es wird eine Deckplatte vorgesehen.
Zur Entfernung des Resist-Musters vom Substrat (Schritt
(3) ) läßt man das Muster jedoch nur in einer Flüssigkeit quellen, da sich das aus dem Negativ-Fotoresist bestehende
Muster nicht in einer Flüssigkeit löst. Dies hat den Nachteil, daß das Muster teilweise am Substrat und der
Flüssigkeitsströmungsbahnwand haften bleibt, so daß auf
diese Weise die Genauigkeit in bezug auf die Abmessungen
der Flüssigkeitsbahn reduziert wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes zur
Verfügung zu stellen, das billig, genau und äußerst zuverlässig ist.
Die Erfindung bezweckt ferner die Schaffung eines Verfahrens zur Herstellung eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes,
gemäß dem die Flüssigkeitsströmungsbahn mit guter Ausbeute sehr genau mit großer Feinheit bearbeitet werden kann.
Erfindungsgemäß soll ferner ein Verfahren zur Herstellung eines
Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes zur Verfügung gestellt werden, mit dem sich ein Kopf herstellen läßt, der
keinen schädlichen Beeinflussungen durch die Aufzeichnungsflüssigkeit aus-gesetzt ist und eine ausgezeichnete
mechanische Festigkeit sowie chemische Beständigkeit aufweist.
Die vorstehend genannte Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes,
der eine Flüssigkeitsströmungsbahn, eine mit der Flüssigkeitsströmungsbahn in Verbindung stehende
Flüssigkeitsausstoßöffnung und ein Element zur Erzeugung der entsprechenden Flüssigkeitsausstoßenergie, das entlang
der Flüssigkeitsströmungsbahn angeordnet ist, aufweist, gelöst, das die folgenden Schritte umfaßt:
(a) Ausbilden einer festen Schicht, die einen Fotoresist eines positiven lichtempfindlichen Materials enthält,
auf einem Substrat gemäß dem Muster der Flüssigkeitsströmungsbahn,
Cb) Auffüllen der Ausnehmungen auf dem Substrat, in denen die feste Schicht nicht vorhanden ist, mit einem
Material zur Erzeugung einer Flüssigkeitsströmungsbahnwand und
(c) Entfernen der festen Schicht vom Substrat.
Weiterbildungen des Erfindungsgegenstandes gehen aus den Unteransprüchen hervor.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der Zeichnung im einzelnen erläutert.
Es zeigen:
die Figuren 1-6
in schematischer Weise Schritte von Ausführungsformen des erfindungsgemäßen
Verfahrens und dabei im einzelnen
Figur
Figur 2A
Figur 2B
Figur
eine schematische Schrägansicht eines mit Elementen zur Erzeugung von
Flüssigkeitsausstoßenergie versehenen
Substrates vor der Ausbildung einer festen Schicht;
eine schemati'sche Draufsicht nach der Ausbildung der festen Schicht;
einen schematischen Schnitt entlang Linie A-A' in Figur 2A;
einen schematischen Schnitt an der gleichen Stelle wie bei Figur 2B
nach Auflaminieren eines Materials zur Ausbildung einer Flüssigkeits-
strömungsbahnwand;
Figur
10 15 20
Figur
Figur
Figur einen schematischen Schnitt an der gleichen Stelle wie bei Figur 2B
bei Verwendung eines flüsigen aushärtenden Materiales als Material zur Erzeugung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand
und nach dem Aushärten des Materials;
einen schematischen Schnitt an der gleichen Stelle wie bei Figur 2B
nach dem Entfernen der festen Schicht;
eine schematische Schrägansicht eines vervollständigten Flüssigkeitsstrahlauf
zeichnungskopf es; und
eine schematische Schrägansicht einer anderen Ausführungsform eines erfindungsgemäß
hergestellten Flüssigkeitsstrahlauf zeichnungskopf es vor
dem Anheften einer Deckplatte.
Die Figuren 1 bis 6 zeigen in schematischer Weise die grundlegenden
Verfahrensschritte der Erfindung. Ferner zeigen diese Figuren ein Beispiel eines erfindungsgemäß hergestellten
Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes. Bei diesem Ausführungsbeispiel besitzt der Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf
zwei öffnungen. Das erfindungsgemäße Verfahren schließt jedoch ebenfalls die Herstellung von Flüssigkeits-
Strahlaufzeichnungsköpfen mit einer Vielzahl von öffnungen
hoher Dichte sowie die Herstellung von Flüssigkeitsstrahlauf zeichnungsköpf en mit nur einer öffnung ein. Darüberhinaus
betrifft dieses Ausführungsbeispiel die Herstellung eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungsköpfes, durch dessen öffnung
eine Flüssigkeit in eine entsprechende Richtung abgegeben wird, wie die Flüssigkeit strömt. Die Erfindung ist jedoch
ebenfalls nicht auf einen solchen Fall beschränkt und umfaßt
beispielsweise auch ein Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungsköpfes, durch dessen öffnung
die Flüssigkeit in eine Richtung abgegeben wird, die senkrecht zu der der Flüssigkeitsströmung verläuft.
Bei diesem Ausführungsbeispiel findet ein Substrat 1 Verwendung, das beispielsweise aus Glas, Keramik oder Metall
etc. besteht, wie in Figur 1 gezeigt. Figur 1 zeigt eine
schematische Schrägansicht eines solchen Substrates, auf dem eine Einrichtung zur Erzeugung von Flüssigkeitsabgabeenergie
angeordnet ist, vor Ausbildung einer festen Schicht.
Es kann ein Substrat 1 ohne Beschränkungen hinsichtlich seiner Form, der Qualität des Materials u.a. verwendet
werden, wenn das Substrat als Teil des Elementes zur Ausbildung der Flüssigkeitsströmungsbahn oder als Träger zur
Ausbildung einer festen Schicht und der Flüssigkeitsströmungsbahnwand dient, wie nachfolgend beschrieben. Auf diesem
Substrat 1 wird eine gewünschte Anzahl (in Figur 1 zwei) von Einrichtungen 2 zur Erzeugung der entsprechenden
Flüssigkeitsabgabeenergie, bei denen es sich um elektrothermische Wandler oder piezoelektrische Elemente etc.
handelt, angeordnet. Die zur Erzeugung der Aufzeichnungsflüssigkeitströpfchen
erforderliche Abgabeenergie wird der
- ro -
Tintenflüssigkeit durch die Einrichtung 2 zugeführt. Wenn daher beispielsweise ein elektrothermischer Wandler als
Flüsigkeitsabgabeenergieerzeugungseinrichtung 2 Verwendung findet, wird die Aufzeichnungsflüssigkeit auf der Ein-S
richtung und in der Nachbarschaft von der Einrichtung erhitzt,
um Abgabeenergie zu erzeugen. Wenn ein piezoelektrisches Element als Einrichtung 2 verwendet wird, wird die Abgabeenergie
durch mechanische,^ Schwingungen dieses Elementes erzeugt.
10
10
Eine Elektrode zur Eingabe eines gesteuerten Signales (in der Figur nicht gezeigt) ist an die vorstehend genannte
Einrichtung 2, d.h. den elektrothermischen Wandler bzw. das piezoelektrische Element, angeschlossen, um diese zu
betreiben. Normalerweise ist eine Funktionsschicht, beispielsweise eine Schutzschicht u.a., vorgesehen, um die
Haltbarkeit der Einrichtung zur Erzeugung der Abgabeenergie zu verbessern. Auch bei der vorliegenden Erfindung kann
eine derartige Funktionsschicht Verwendung finden. Bei dieser Ausführungsform wird die Einrichtung zur Erzeugung der
Abgabeenergie auf dem Substrat vorgesehen, bevor die Flüssigkeitsströmungsbahn ausgebildet wird. Die Einrichtung
kann jedoch auch zu irgendeinem anderen beliebigen Zeitpunkt auf dem Substrat angeordnet werden.
25
Als nächstes wird die feste Schicht 3 auf dem zur Ausbildung der Flüssigkeitsströmungsbahn bestimmten Abschnitt, auf dem
die Einrichtung 2 zur Erzeugung der Abgabeenergie vorher angeordnet worden war, des Substrates hergestellt, wie in
den Figuren 2 A und 2 B gezeigt. Figur 2A zeigt eine schematische Draufsicht nach der Ausbildung der festen
Schicht. Figur 2B ist ein Schnitt entlang der strichpunktierten Linie A-A1 in Figur 2A.
Die feste Schicht 3 wird vom Substrat 1 entfernt, nachdem
ein Material zur Ausbildung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand in der nachfolgend beschriebenen Weise vorgesehen worden
ist. Es ist naturgemäß möglich, die Flüssigkeitsströmungsbahn in einer gewünschten Form auszubilden. Die für die Ausbildung
der Flüssigkeitsströmungsbahn vorgesehene feste Schicht 3 kann in Abhängigkeit von der Form der Flüssigkeitsströmungsbahn
ausgestaltet werden. >-Bei dieser Ausführungsform, bei der gemäß zwei Einrichtungen zur Erzeugung von Abgabeenergie
Aufzeichnungströpfchen von zwei öffnungen abgegeben werden,
umfaßt der durch Entfernung der festen Schicht gebildete Abschnitt zwei feine Flüssigkeitsströmungsbahnen und eine gemeinsame
Flüssigkeitskammer zur Zuführung einer Aufzeichnungsflüssigkeit
zu den zwei Bahnen.
Gemäß der Erfindung handelt es sich bei dem die feste Schicht bildenden Material um ein positives lichtempfindliches
Material. Ein solches Material hat diverse Vorteile: Ci) die Auflösung ist besser als bei einem negativen lichtempfindlichen
Material, (ii) das Reliefmuster besitzt eine vertikale und glatte Seitenwandfläche und (iii) das Reliefmuster
kann durch Verwendung einer Entwicklungsflüssigkeit oder eines organischen Lösungsmittels u.a. gelöst und entfernt
werden. Daher stellt ein positives lichtempfindliches
Material ein wünschenswertes Material zur Ausbildung der festen Schicht dar. Dieses Material kann entweder die Form
einer Flüssigkeit oder die eines trockenen Filmes besitzen. Ein positives lichtempfindliches Material in der Form eines
trockenen Filmes stellt das am meisten bevorzugte Material dar, da ein dicker Film von beispielsweise 10 - 100 pm erzeugt
und die Filmdicke in einfacher Weise gesteuert werden kann. Ferner sind die Gleichmäßigkeit und die Handhabung
ausgezeichnet.
---12
Als positives lichtempfindliches Material können beispielsweise die folgenden Materialien Anwendung finden: Materialien,
die o-Naphthochinondiazide und alkalilösliche Phenolharze enthalten, und Materialien, die alkalilösliche Harze
und Substanzen enthalten, die in der Lage sind, durch Photolyse letztendlich Phenol zu erzeugen, wie Diazoniumsalze,
beispielsweise Benzoldiazoniumsalze. Von diesen Materialien kann beispielsweise ein Film Verwendung finden,
der aus einer Polyesterlage und dem vorstehend erwähnten positiv lichtempfindlichen Material besteht, das die Polyesterlage
überlagert und bei dem es sich um das Material "OZATEC R 225" (Handelsname der Firma Hoechst Japan Co.) handelt.
Die feste Schicht kann nach dem sogenannten Bilderzeugungsverfahren
unter Verwendung eines positiven lichtempfindlichen Materiales hergestellt werden.
Erfindungsgemäß kann die feste Schicht so hergestellt werden, daß eine in einem Lösungsmittel lösliche Polymerschicht und
eine Positiv-Fotoresistschicht einer gewünschten Dicke nacheinander auf einem Substrat 1 laminiert werden und daß
ein Muster in der Positiv-Resistschicht ausgebildet wird, wonach die in einem Lösungsmittel lösliche Polymerschicht
wahlweise entfernt wird.
Als in einem Lösungsmittel lösliches Polymer können beliebige hochpolymere Verbindungen Verwendung■finden, die in der Lage
sind, durch Beschichtung einen Film zu erzeugen, wenn ein entsprechendes Lösungsmittel vorhanden ist, das das Polymer
lösen kann.
Als Positiv-Fotoresist kann ein Material Verwendung finden, das ein Phenolharz vom Novolactyp und ein Naphthochinondiazid
enthält u.a. .
Vom Standpunkt der Verfahrensgenauigkeit, der leichten Entfernung
und der Durchführbarkeit des Verfahrens her ist es optimal, einen positiven lichtempfindlichen Trockenfilm zu
verwenden.
5
5
Das Substrat 1, das mit der festen Schicht 3 versehen ist, wird beispielsweise mit einem solchen Material 4 zur Ausbildung
einer Flüssigkeitsströmungsbahnwand bedeckt, wie es in Figur 3 gezeigt ist. Figur 3 zeigt einen schematischen
Schnitt an einer der Figur 2B entsprechenden Stelle, nachdem
das die Flüssigkeitsströmungsbahnwand formende Material 4 aufgebracht worden ist.
Als Material zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand kann vorzugsweise irgendein Material Verwendung finden, das
das vorstehend erwähnte feste Material abdecken kann.
Da es sich bei diesem Material um ein Baumaterial zur Ausbildung eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes durch
Herstellung von Flüssigkeitsströmungsbahnen handeln soll, wird es vorgezogen, ein Material auszuwählen, das ausgezeichnete
Adhäsionseigenschaften an einem Substrat, eine gute mechanische Festigkeit, gute Dimensionsbeständigkeit
und einen guten Korrosionswiderstand aufweist.
Als solche Materialien finden vorzugsweise Flüssigkeiten
Verwendung, die durch Hitzeeinwirkung, UV-Strahlung oder Elektronenstrahlen gehärtet werden können. Insbesondere
werden vorzugsweise Epoxidharze, Acrylharze, Diglycoldialkylcarbonatharze, ungesättigte Polyesterharze, Polyurethanharze,
Polyimidharze, Melaminharze, Phenolharze, Harnstoffharze u.a. verwendet. Ferner können Metalle Verwendung finden, die durch galvanische Abscheidung, Bedampfen,
Besprühen o.a. laminiert werden können,vie beispielsweise
Cu, Ag, Au, Ni, Cr, Sn, Pb, Zn, Al, Ti u.a. Beim Bedampfen
oder Besprühen können Verbindungen, wie Metalloxide, Sulfide u.a., Verwendung finden.
5
5
Erfindungsgemäß wird vom Standpunkt des Wirkungsgrades her vorzugsweise das vorstehend erwähnte flüssige aushärtende
Material als Material zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand
eingesetzt.
10
10
Wenn das vorstehend erwähnte flüssige aushärtende Material als Material zur Formung der FlüssigkeitstrÖmungsbahnwand
verwendet wird, wird das Material in einer gewünschten Dicke mit Hilfe einer bekannten Technik, beispielsweise durch
Streichbeschichten, Walzbeschichten, Sprühbeschichten u.a., auf das Substrat aufgebracht. Eine Beschichtung nach einer
Entlüftung des Materiales wird bevorzugt, um das Mitführen von Luftblasen zu verhindern.
Wenn beispielsweise ein Material 4 zur Ausbildung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand das Substrat in der in Figur
gezeigten Weise überlagert und das Material aus dem vorstehend erwähnten aushärtenden Material besteht, wird es
in einem vorgegebenen Zustand in einem solchen Stadium ausgehärtet, daß ein Fließen und ein Ausströmen der Flüssigkeit
verhindert wird. Falls gewünscht, wird eine Pressplatte auf den oberen Abschnitt gebracht.
Figur 4 zeigt einen schematischen Schnitt durch eine Ausführungsform,
bei der ein flüssiges Aushärten des Materials als Material zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand
verwendet wird, wobei der Schnitt an der gleichen Stelle wie bei Figur 2B geführt worden ist.
Wenn bei Raumtemperatur oder durch Erhitzen ausgehärtet wird, läßt man das Material 30 min bis 2 h stehen. Wenn mit
UV-Strahlung o.a. ausgehärtet wird, kann eine Strahlung
über 10 min oder weniger das Material aushärten.
Das gemäß der Erfindung am meisten bevorzugte Verfahren zum Laminieren des Materiales 4 zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand
ist ein Aushärtungsverfahren, bei dem Epoxidharze mit einer Verbindung Verwendung finden, die in
der Lage ist, durch aktive Strahlung eine Lewis-Säure, wie beispielsweise aromatische Diazoniumsalze, aromatische
Oniumsalze u.a., freizusetzen.
Nach dem Aushärten wird die feste Schicht 3 von dem mit der festen Schicht 3 und dem Material 4 zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand
versehenen Substrat entfernt, um die Flüssigkeitsströmungsbahnen auszubilden.
Obwohl die Mittel zur Entfernung der festen Schicht 3 nicht kritisch sind, wird es beispielsweise bevorzugt, das Substrat
in einer Flüssigkeit einzuweichen, die in der Lage ist, die feste Schicht 3 zu lösen und zu entfernen. Nach dem Entfernen
der festen Schicht können, falls gewünscht, diverse Mittel zur Beschleunigung der Entfernung Verwendung finden,
beispielsweise eine Ultraschallbehandlung, Sprühen, Erhitzen, Rühren u. ä.
25
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Als Flüssigkeit zum Entfernen können beispielsweise Verwendung finden: halogenenthaltende Kohlenwasserstoffe, Ketone,
Ester, aromatische Kohlenwasserstoffe, Äther, Alkohole, N-Methylpyrrolidon,
Dimethylformamid, Phenole, Wasser, wäßrige Lösungen von starkem Alkali u.a. Falls erforderlich, können
zu der Flüssigkeit grenzflächenaktive Stoffe zugesetzt
werden. Es wird bevorzugt, die feste Schicht desweiteren mit Licht zu bestrahlen, beispielsweise UV-Licht u.a. Es
wird ferner bevorzugt, die Flüssigkeit auf 40 - 60° C zu erhitzen.
Figur 6 zeigt eine Ausführungsform, bei der die feste Schicht 3 durch Auflösung entfernt wird. Flüssigkeitszuführöffnungen
6 werden geformt, bevor die feste Schicht durch Auflösung entfernt wird, wonach die Entfernung der Schicht durchgeführt
wird. Figur 6 zeigt eine schematische Schrägansicht des Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes nach der Entfernung
der festen Schicht. Figur 5 ist ein schematischer Schnitt an der gleichen Stelle wie bei Figur 2B nach Entfernung der
festen Schicht 3.
Bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform wird die feste Schicht 3 in eine Flüssigkeit eingeweicht, die in der
Lage ist, den Feststoff zu lösen, und wird durch die Flüssigkeitszuführöffnungen
6 gelöst und entfernt. Wenn die Spitzen der öffnungen nicht freiliegen, wird die aus dem Substrat,
der festen Schicht und dem Material zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahnwand
bestehende Einheit entlang der strichpunktierten Linie C-C in Figur 6 zertrennt, bevor
die Entfernung mittels Auflösung durchgeführt wird, um auf diese Weise die Spitzen der öffnungen freizulegen.
Ein derartiges Abtrennen der Öffnungsspitzen der Substrateinheit ist jedoch nicht immer erforderlich. Wenn beispielsweise
ein flüssiges aushärtendes Material als Material zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahn und eine Form zum
Laminieren der Materialien verwendet wird, die Spitzenabschnitte der öffnungen nicht abgedeckt und flach ausgebildet
sind, ist ein derartiges Abtrennen nicht erforderlich.
Wie vorstehend erläutert, wird ein Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf
hergestellt, in dem gewünschte Flüssigkeits-
•3S<6Ö63
strömungsbahnen S an gewünschten Stellen des Substrates 1,
das mit Elementen 2 zur Erzeugung von Ausstoßenergie versehen ist, ausgebildet werden. Falls dies gewünscht wird, erfolgt
nach dem Ausbilden der Flüssigkeitsströmungsbahnen eine Abtrennung
entlang der Linie C-C in Figur 6. Diese Abtrennung wird durchgeführt, um den Abstand zwischen dem Element 2
zur Erzeugung der Flüssigkeitsausstoßenergie und der öffnung zu optimieren, wobei der abzutrennende Bereich wahlweise festgelegt
werden kann. Falls gewünscht, können die Spitzen der öffnungen poliert und geglättet werden, um den Flüssigkeitsausstoß zu optimieren.
Wie in Figur 7 gezeigt, wird beispielsweise nach der Ausbildung der festen Schicht ein Material zur Formung der
Flüssigkeitsströmungsbahnwand in einer gewünschten Dicke auf die feste Schicht laminiert. Danach wird die feste
Schicht durch die vorstehend erwähnten Verfahren entfernt, um nur noch die Flüssigkeitsströmungsbahnwände 7 aus dem entsprechenden
Material auszubilden. Danach wird eine gewünschte Deckplatte 9 auf das Material zum Formen der Flüssigkeitsströmungsbahn
geheftet, um die Herstellung des Flüssigkeitsstrahlauf zeichnungskopf es zu beenden.
Figur 7 ist eine schematische Schrägansicht eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes
vor dem Anheften der Deckplatte. Falls gewünscht, kann der Kopf entlang der Linie B-B1 durchtrennt
werden.
Wenn bei der vorliegenden Ausführungsform die Strömungsbahnwand 7 und die feste Schicht die gleiche Höhe besitzen, kann
die feste Schicht nach oder vor dem Anheften der Deckplatte 9 entfernt werden. Durch das Anheften der Deckplatte 9 nach
dem Entfernen der festen Schicht kann die feste Schicht in
sicherer Weise entfernt werden,und es ist möglich, die
Produktionsausbeute sowie Produktivität zu verbessern.
Produktionsausbeute sowie Produktivität zu verbessern.
Bei dem erfindungsgemäß ausgebildeten Flüssigkeitsströmungsbahnbauteil
können die Strömungsbahnwand 7 und die Deckplatte 9 voneinander getrennt, wie in Figur 7 gezeigt, oder einstückig
miteinander ausgebildet sein, wie in Figur 6 gezeigt.
Es wird bevorzugt, die Strömungsbahnwand 7 und die Abdeckplatte 9 einstückig auszubilden, da auf diese Weise die Herstellschritte
einfach sind. In diesem Fall ist es nicht erforderlich, einen Kleber zu verwenden, so daß auf diese Weise
nicht der Nachteil auftritt, daß der Kleber in die Rillen fließt und diese verstopft sowie an den Elementen zur Erzeugung der Flüssigkeitsausstoßenergie haftet, so daß deren Funktion beeinträchtigt wird. Darüberhinaus kann eine hohe Dimensionsgenauigkeit erzielt werden.
nicht der Nachteil auftritt, daß der Kleber in die Rillen fließt und diese verstopft sowie an den Elementen zur Erzeugung der Flüssigkeitsausstoßenergie haftet, so daß deren Funktion beeinträchtigt wird. Darüberhinaus kann eine hohe Dimensionsgenauigkeit erzielt werden.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben.
Nach dem in den Figuren 1 bis 6 gezeigten Verfahren wurden Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungsköpfe hergestellt, die den
in Figur 6 dargestellten Aufbau aufwiesen.
Zuerst wurde auf ein Glassubstrat, das mit elektrothermischen Wandlern (Material HfB2) als Elementen zur Erzeugung der
Flüssigkeitsausstoßenergie versehen war, eine lichtempfindliche
Schicht einer Dicke von 50 pm durch Laminieren aufge-
bracht, die aus einem Positiv-Trockenfilm "OZATEC R 225"
(Produkt der Firma Hoechst Japan K.K.) bestand. Eine Fotomaske mit einem Figur 6 entsprechenden Muster wurde auf die
lichtempfindliche Schicht gebracht, und der übrige Abschnitt, in dem keine Flüssigkeitsströmungsbahnen ausgebildet werden
sollten, wurde mit einer UV-Strahlung von 70 mJ/cma bestrahlt.
Die Längen der Flüssigkeitsströmungsbahnen betrugen 3 mm. Danach wurde eine Sprühentwicklung mit 1 %-iger
caustischer Sodalösung durchgeführt, um eine feste Reliefschicht
einer Dicke von etwa 50 pm auf dem erwähnten Ab"
schnitt des die elektrothermischen Wandler umfassenden Glassubstrates, auf dem die Flüssigkeitsströmungsbahnen
ausgebildet werden sollten, zu erzeugen.
Nach dem gleichen Verfahren wir vorstehend beschrieben,
wurden insgesamt drei Substrate mit einer darauf angeordneten Festschicht hergestellt. Danach wurde der ausgenommene
Abschnitt eines jeden Substrates, in dem sich die feste Schicht nicht ausgebildet hatte, mit einem flüssigen
Material gefüllt, das das in Tabelle 1 aufgeführte Aushärtungsvermögen
besaß. Diese Behandlung wurde in der folgenden Weise durchgeführt:
Die entsprechenden Materialien zum Aushärten a, b, und c,
die mit einem Katalysator vermischt waren (1 Gew.-I Methyläthylketonperoxid wurde bei b oder c zugesetzt) oder
denen ein Härter zugesetzt war, falls erforderlich, wurden mit Hilfe einer Vakuumpumpe entgast. Die entgasten drei
Materiaien wurden dann in einer Dicke von 100 pm mit
Hilfe einer geeigneten Aufbringungseinrichtung auf die vorstehend erwähnten Substrate, auf denen die feste
Schicht ausgebildet worden war, aufgebracht. Die drei verschiedenen Substrate ließ man dann 12 h lang bei 30° C
stehen, um die auf den Substraten vorhandenen ent-
sprechenden flüssigen Materialien vollständig auszuhärten.
Nach dem Aushärten wurden die drei Substrate mit UV-Strahlung von 3.00OmJ/cm2 bestrahlt, um die feste Schicht des Positiv-Trockenfilmes
zu lösen. Nach der Lösungsbehandlung wurden die entsprechenden drei Substrate an der Stelle, wo die Öffnungen
ausgebildet werden sollten, zertrennt, so daß eine freiliegende Endfläche ausgebildet wurde.
Die Substrate, deren Endfläche freilag, wurden dann in eine wäßrige 51-ige NaOH-Lösung eingetaucht, und es wurde in einem
Ultraschallreinigungskessel eine Lösungsentfernungsbehandlung etwa 10 min lang durchgeführt. Nach dieser Behandlung wurden
die entsprechenden Substrate 5 min lang mit reinem Wasser gespült und getrocknet.
a) | Harz | Tabelle 1 | Hersteller | |
20 | b) | Epoxidharz | Handelsname | Ciba-Geigy A.G. |
c) | ungesättigtes Polyesterharz |
Araldit CY230/HY956 |
Dainihon Ink K.K. |
|
25 | Acrylharz | Polylit CH304 |
Mitsubishi Rayon Co. |
|
Acrysirup | ||||
In keiner Flüssigkeitsströmungsbahn der drei auf diese Weise hergestellten Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungsköpfe
konnte ein restlicher Teil einer festen Schicht aufgefunden werden. Die entsprechenden Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungsköpfe
wurden in einer Aufzeichnungsvorrichtung montiert, und es wurden entsprechende Aufzeichnungen durchgeführt, wobei
eine Tinte verwendet wurde, die aus reinem Wasser/ Glyzerin/Direct Black 154 (wasserlöslicher schwarzer Farbstoff)
= 65/30/5 bestand. Es wurde ein beständiger Druck erhalten.
Ein Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf mit dem Aufbau der
Figur 6 wurde hergestellt, indem Ni und Cr als Materialien zur Ausbildung der Flüssigkeitsströmungsbahnwände verwendet
wurden.
Als erstes wurde eine lichtempfindliche Schicht einer Dicke von 25 μια aus einem Positiv-Trockenfilm "OZATEC R 225"
(von der Firma Hoechst Japan K.K.) auf einem Glassubstrat
ausgebildet, das mit elektrothermischen Wandlern (Material H^B-) als Elementen zur Erzeugung der Flüssigkeitsausstoßenergie
versehen war. Dann wurde eine Glasfotomaske entsprechend Figur 6 aufgebracht, und der übrige Abschnitt,
auf dem keine Flüssigkeitsströmungsbahnen ausgebildet werden sollten, tcrde mit einer UV-Strahlung von 40 mJ/cm2 bestrahlt.
Danach wurde eine Sprühentwicklung durchgeführt, indem eine ll-ige wäßrige caustische Sodalösung verwendet wurde, um
eine feste Schicht einer Dicke von etwa 25 pm auf dem erwähnten
Abschnitt des Glassubstrates einschließlich der elektrothermischen Wandler auszubilden, auf dem die Flüssigkeitsströmungsbahnen erzeugt werden sollten. Die auf diese
Weise ausgebildeten Öffnungsabschnitte besaßen eine Länge von 2 mm, eine Breite von 20 pm und waren in Abständen von
30 μΐη angeordnet.
Das Substrat, auf dem die festen Schichten ausgebildet
worden waren, wurde in eine Zerstäubungsvorrichtung vom Magnetron-Typ eingebracht, und eine dünne Schicht aus
metallischem Cr mit einer Dicke von 0,1 pm wurde auf der
Oberfläche des Substrates, wo die festen Schichten ausgebildet worden waren, hergestellt. Danach wurde das Substrat
in ein Elektrolytbad mit einem pH von 4,5 getaucht, das in erster Linie Nickelchlorid und Nickelsulfat enthielt. Eine
galvanische Abscheidung wurde bei 50° C über 60 min lang durchgeführt, wobei eine Nickelschicht mit einer Dicke
von etwa 80 pm ausgebildet wurde.
Nachdem das Auflaminieren von Ni und Cr als Materialien zur
" Formung der Flüssigkeitsströmungsbahnwände beendet worden war, wurden Einlasse zur Zuführung von Flüssigkeit perforiert,
und das Ende der Öffnung wurde durch Zertrennen des Substrates freigelegt. Danach wurde das Substrat in ein Flüssigkeitsgemisch
eingetaucht, das aus Äthanol/Dodecylbenzolsulfonsäure
(Gewichtsteilverhältnis 95 : 5) bestand,und es wurde in einem
Ultraschallreinigungskessel eine Entfernungsbehandlung durch Auflösung über etwa 10 min durchgeführt. Nach dieser Behandlung
wurde das Substrat über 5 min mit reinem Wasser ( 25 gespült und getrocknet.
Der auf diese Weise hergestellte Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf
wurde in eine^ Auf Zeichnungsvorrichtung montiert, und es wurde ein Aufzeichnungstest über drei Monate durchgeführt.
Hierbei traten keine Ausfällungen in den Tinten bzw. Ausstoßschwankungen durch Verstopfungen auf, und es
wurde ein guter Druck erhalten. Ferner war kein Abblättern bzw. eine Verformung der Öffnungen o.a. zu beobachten.
Es wurde ein Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf nach dem
Verfahren der Figuren 1 bis 6 hergestellt, der den in Figur 6 gezeigten Aufbau aufwies.
Zuerst wurde auf einem Glassubstrat, das mit elektrothermischen Wandlern (Material Η,γΒ^) als Elementen zur Erzeugung
der Flüssigkeitsaüsstoßenergie versehen war, eine lichtempfindliche Schicht aus einem Trockenfilm hergestellt,
indem ein Lumirror Q-8 0-Film (Handelsname der Firma
Toray) mit 30 Teilen eines Phenolharzes vom Cresol-Novolac-Typ, 25 Teilen eines veresterten Produktes von Naphthochinon-(l,2)-Diazid-(2)-5-Sulfonsäure
und 2,3, 4-Trihydroxybenzophenon, 15 Teilen von Polyäthylacrylat (durchschnittliches Molekulargewicht
8.000) und 30 Teilen einer Polyvinylmethylätherlösung (Lutonal A-25, Handelsname der Firma BASF) in
Äthylenglycolmonomethyläther in einer Filmdicke nach dem Trocknen von 50 pm beschichtet wurde. Eine Fotomaske, die
ein Muster entsprechend Figur 6 aufwies, wurde auf die lichtempfindliche
Schicht gebracht, und der übrige Abschnitt, auf dem keine Flüssigkeitsströmungsbahnen ausgebildet
werden sollten, wurde mit einer UV-Strahlung von 70 mJ/cm2 bestrahlt. Die Längen der Flüssigkeitsströmungsbahnen betrugen
3 mm. Danach wurde eine Sprühentwicklung mit 1 l-iger caustischer Sodalösung durchgeführt, um eine feste Reliefschicht
einer Dicke von etwa5 pm auf dem erwähnten Abschnitt des Glassubstrates einschließlich der elektrothermischen Wandler,
auf dem die Flüssigkeitsströmungsbahnen ausgebildet werden sollten, zu erzeugen. Auf dem Substrat, auf dem die feste
Schicht ausgebildet worden war, wurde ein flüssiges Material mit Aushärtungsvermögen laminiert. Die entsprechende Behandlung
wurde wie folgt durchgeführt:
Ein aushärtbares Material, das aus fünf Teilen Triphenylsulfoniumhexafluoroborat mit der folgenden Struktur
50 Teilen Epoxidharz UVR-6100 (Hersteller: Union Carbide)
und 45 Teilen Epoxidharz UVR-6351 (Hersteller: Union Carbide) bestand, wurde in einer Dicke von 100 μΐη auf das
Substrat aufgebracht, auf dem die vorstehend erwähnte feste Schicht ausgebildet worden war. Das Substrat wurde mit einer
UV-Strahlung einer Intensität von 40 mW/cm2 und einer
Wellenlänge von 365 nm über 60 see bestrahlt, um eine vollständige
Aushärtung des flüssigen aushärtbaren Materiales auf dem Substrat zu bewirken.
Nach dem Aushärten wurde das Substrat mit einer UV-Strahlung von 3.000 mJ/cm2 bestrahlt, um die feste Schicht des Positiv-Trockenfilmes
zu lösen. Nach der Lösungsbehandlung wurde das Substrat an der Stelle, wo die öffnungen ausgebildet werden
sollten, durchtrennt, und es wurde eine freiliegende Endfläche geformt.
25
25
Das mit der freiliegenden Endfläche versehen Substrat wurde in eine 51-ige NaOH-Lösung eingetaucht, und die Entfernungsbehandlung durch Auflösung wurde in einem Ultraschallreinigungskessel
etwa 10 min lang durchgeführt. Nach dieser Behandlung wurde das Substrat 5 min lang mit reinem Wasser
gespült und getrocknet.
In keiner Flüssigkeitsströmungsbahn des auf diese Weise hergestellten
Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes wurden
3546G63
irgendwelche Reste der festen Schicht festgestellt. Der Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopf wurde desweiteren in
einer Aufzeichnungsvorrichtung montiert, und es wurde eine
Aufzeichnung durchgeführt, indem eine Tinte verwendet wurde, die aus reinem Wasser/Glycerin, Direct Black 1S4 (wasserlöslicher
schwarzer Farbstoff) = 65/30/5 bestand, wobei ein beständiger Druck enthalten wurde.
Wie vorstehend beschrieben, werden durch die Erfindung die folgenden Vorteile erreicht:
(1) Da die Hauptverfahrensschritte zur Herstellung des
Kopfes auf einer sog. Drucktechnik, d.h. einer Mikrotechnik unter Verwendung von Fotoresists, lichtempfindlichen Trocken-
VS filmen u.a., beruhen, können Teile des Kopfes, an die sehr
hohe Genauigkeitsanforderungen gestellt werden, sehr einfach in einem gewünschten Muster ausgebildet werden und viele
Köpfe mit dem gleichen Aufbau können gleichzeitig hergestellt werden.
(2) Da als Materialien zur Ausbildung des Kopfes solche verwendet
werden,die durch eine Aufzeichnungsflüssigkeit, die aus einer nicht neutralen wäßrigen Lösung besteht oder
organische Lösungsmittel als Medium erhält, nicht negativ beeinflußt werden und darüberhinaus ausgezeichnete Adhäsionseigenschaften sowie eine gute mechanische Festigkeit besitzen,
kann die Haltbarkeit und Zuverlässigkeit der Aufzeichnungsvorrichtung
verbessert werden.
(3) Die relativ wenigen Herstellschritte führen zu einer hohen Produktivität.
(4) Da solche Verfahrensschritte oder Behandlungen der Kopfspitze wie Durchtrennen,Schleifen u.a. nicht unbedingt
-It-
erforderlich sind, können eine erhöhte Ausbeute oder niedrigere
Kosten erreicht werden.
(5) Da die Ausrichtung der Hauptteile schnell und genau durchgeführt
werden kann, kann ein Kopf mit einer hohen Dimensionsgenauigkeit und einer hohen Ausbeute hergestellt werden.
(6) Durch ein einfaches Verfahren können Köpfe einer Mehrfachanordnung
mit hoher Dichte hergestellt werden.
(7) Die Dicke der Rillenwände, die die Flüssigkeitsströmungsbahnen
begrenzen, kann ohne Schwierigkeiten gesteuert werden, so daß daher Flüssigkeitsströmungsbahnen mit gewünschten Abmessungen
(beispielsweise der Rillentiefe) in Abhängigkeit von der Dicke der festen Schicht erhalten werden können.
(8) Eine kontinuierliche Massenproduktion ist möglich.
(9) Da Ätzlösungen (starke Säuren, wie Fluorwasserstoffsäure u.a.) nicht unbedingt erforderlich sind, ist das Verfahren
sicherer und sauberer.
Erfindungsgemäß wird somit ein Verfahren zur Herstellung eines
Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes vorgeschlagen, das die folgenden Schritte umfaßt: (a) Ausbilden einer festen Schicht,
die einen Fotoresist aus einem positiven lichtempfindlichen
Material enthält, auf einem Substrat in Abhängigkeit von dem Muster einer Flüssigkeitsströmungsbahn, (b) Auffüllen der
Ausnehmungen auf dem Substrat, wo die feste Schicht nicht vorhanden ist, mit einem Material zur Formung einer Flüssigkeitsströmungsbahnwand
und (c) Entfernen der festen Schicht vom Substrat.
Claims (1)
- Patentansprüche1. Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkeitsstrahlaufzeichnungskopfes, der eine Flüssigkeitsströmungsbahn, eine Flüssigkeitsausstoßöffnung, die mit der Flüssigkeitsströmungsbahn in Verbindung steht, und ein Element zur Erzeugung der Flüssigkeitsausstoßenergie, das entlang der Flüssigkeitsströmungsbahn angeordnet ist, aufweist, g ekennzeichnet durch die folgenden Schritte:(a) Ausbilden einer festen Schicht, die einen Fotoresist aus einem positiven lichtempfindlichen Material enthält, auf einem Substrat gemäß dem Muster der Flüssigkeitsströmungsbahn,(b) Auffüllen der Ausnehmungen auf dem Substrat, wo die feste Schicht nicht vorhanden ist, mit einem Material zur Formung einer Flussigkeitsströmungsbahnwand und(c) Entfernen der festen Schicht vom Substrat.Verfahren nach Anspruch l,dadurch gekennzeichne t, daß es sich bei dem positiven lichtempfindlichen Material um einen lichtempfindlichen Positiv-Trockenfilm handelt.3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem Material zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahn um ein flüssiges aushärtbares Material handelt.
54. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem Material zur Formung der Flüssigkeitsströmungsbahn um ein Metall oder eine Metallverbindung handelt.105. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Seitenwände der Flüssigkeitsströmungsbahn und die obere Wand der Flüssigkeitsströmungsbahn einstückig hergestellt werden.6. Verfahren nach einem der Ansprüche Ibis 4, dadurch gekenn zeichnet, daß in Schritt (b) die Seitenwände der Flüssigkeitsströmungsbahn und danach die obere Wand der Flüssigkeitsströmungsbahn ausgebildet werden.7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennze ichnet, daß nach Schritt (c) ein zusätzlicher Schritt zur Ausbildung einer oberen Wand der Flüssigkeitsströmungsbahn durchgeführt wird.8. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß vor Schritt (c) die feste Schicht mit Licht bestrahlt wird.309. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß mit UV-Strahlung bestrahlt wird.
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