DE2808780A1 - Verfahren zum ueberziehen von glas mit einem silizium enthaltenden ueberzug und damit ueberzogenes glas - Google Patents

Verfahren zum ueberziehen von glas mit einem silizium enthaltenden ueberzug und damit ueberzogenes glas

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Description

In dieser DE-OS ist ein Verfahren beschrieben und beansprucht, gemäß dem man das Glas an einer Überzugsstation vorbeibewegtj während die Temperatur des Glases wenigstens 400 0C beträgt, Silan enthaltendes Gas der Überzugsstation zuführt, das Gas nahe der heißen Glasoberfläche mit einem quer über die Glasoberfläche im wesentlichen konstanten Druck in eine heiße Zone abgibt, in der das Gas erhitzt wird, welche Zone zur GlasOberfläche geöffnet ist und sich quer zu dieser erstreckt, so daß das Silan unter Abscheidung eines Silizium enthaltenden Überzugs auf der Glasoberfläche pyrolysiert, und nieht-oxydierende Bedingungen in dieser heißen Zone aufrechterhält. Das so erzeugte Glas hat einen im wesentlichen
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^■3!.M4L /NSPECTT=D
gleichmäßigen Siliziumüberzug und gute Sonnensteuerungseigenschaften sowie ein gefälliges Aussehen.
Es wurde nun gefunden, daß durch Zusatz einer Elektronendona tor verbindung zu dem ;Silan enthaltenden Gas, das nahe einer heißen Glasoberfläche freigelassen wird, die Alkalibeständigkeit des Siliziumüberzuges auf dem Glas verbessert wird.
Es ist aus der Veröffentlichung "Reactions of Silane with Unsaturated Hydrocarbons" von David G. White und Eugene G. Rochow," "journal of the American Chemical Society", Vol. 76, Seiten 3887 - 3902 bekannt, daß während der Erzeugung von Alkylsilanen durch die Reaktion eines Silans mit Äthylen oder Acetylen in einem erhitzten Rohr für eine Zeitdauer von drei Stunden eine dünne Siliziumschicht auf der Innenoberfläche des erhitzten Rohres, durch das die gasförmigen Reaktionspartner geleitet wurden, abgeschieden wurde.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, den überraschenden Befund auszuwerten, daß die Gegenwart einer Elektronendonatorverbindung einem Siliziumüberzug auf Glas Alkalibeständigkeit verleiht.
Gegenstand der Erfindung, womit diese Aufgabe gelöst wird, ist ein Verfahren zum Überziehen von Glas mit einem Silizium enthaltenden Überzug, gemäß dem man das Glas mit einer Temperatur von wenigstens 400 0C an einer Überzugsstation vorbeibewegt und Silan enthaltendes Gas nahe der Glasoberfläche mit einem quer über diese hin im wesentlichen konstanten Druck und unter nicht-oxydierenden Bedingungen so zuführt, daß das Silan unter Abscheidung eines Silizium enthaltenden Über-
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zugs auf der Glasoberfläche pyrolysiert, mit dem Kennzeichen, daß zur Erzielung einer bestimmten Alkalibeständigkeit des Silizium enthaltenden Überzugs das Silan enthaltende Gas einen Anteil einer gasförmigen Elektronendonatorverbindung enthält, die die Alkalibeständigkeit ergibt.
Die Alkalibeständigkeit des SiliziumUberzugs wird in einer im folgenden noch beschriebenen Weise durch Feststellen der Zeit bestimmt, die der Siliziumüberzug einen Angriff durch eine starke alkalische Lösung ohne sichtbare Schädigung aushält.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist für die Behandlung vieler handelsüblich erzeugter Gläser in verschiedenen Formen, die sich anjeiner Uberzugsstation vorbeibewegen lassen, beispielsweise Fensterglas, optisches Glas und Glasfasern,-brauchbar. Solche Gläser enthalten allgemein Oxide von wenigstens zwei Elementen und sind üblicherweise Bleisilikatgläser, Alkalimetallsilikatgläser und Erdalkalimetallsilikatglaser, insbesondere Soda-Kalk-Kieselsäure-Gläser. In einigen Fällen kann in Abhängigkeit von der Alkalibeständigkeit des Glases und dem verwendeten Elektronendonatorverbindungsanteil die Alkalibeständigkeit der nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erzeugten überzogenen Oberfläche größer als die des Glassubstrats sein.
Elektronendonatorverbindungen, die verwendet werden, um dem Siliziumüberzug Alkalibeständigkeit zu verleihen, enthalten in ihrem Elektronenaufbau entweder in Bindungen oder als Einzelpaarelektronen Elektronen, die in den Elektronenaufbau geeigneter Akzeptormoleküle oder -atome eingebaut werden können. Die Elektronendonatorverbindung kann ein Olefin sein.
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Vorzugsweise enthält das Silan enthaltende Gas Stickstoff als Trägergas und bis zu 6 Vol. % einer gasförmigen Elektronendonatorverbindung.
Besonders geeignete Elektronendonatorverbindungen sind Olefine, insbesondere Äthylen.
Das Silan enthaltende Gas kann Monosilan in Stickstoff als Trägergas und bis zu 6 Vol. % eines gasförmigen Olefins enthalten bzw. daraus bestehen.
Das Verhältnis der Elektronendonatorverbindung zu Silan im Gas kann im Bereich von 0,1 bis 2,0 liegen. Vorzugsweise liegt das Verhältnis im Bereich von 0,2 bis 0,5. Anteils Verhältnisse außerhalb dieser Bereiche können unter bestimmten Umständen vorteilhaft sein.
Weiter kann das Silan enthaltende Gas erfindungsgemäß 1 bis 7 Vol. % Monosilan, 0.,5 bis 6 Vol. % Äthylen und fakultativ einen Anteil an Wasserstoff sowie Rest Stickstoff enthalten.
Nach einer Ausgestaltung der Erfindung wird ein Silan enthaltendes Gas mit 0,3 bis 7 Vol. % Monosilan, 0,2 bis 6 Vol. % einer gasförmigen Elektronendonatorverbindung, fakultativ einem Anteil an Wasserstoff und Rest Stickstoff verwendet.
Wenn Wasserstoff vorhanden ist, kann das Silan enthaltende Gas bis zu 10 Vol. % Wasserstoff enthalten. Auch ein größerer Wasserstoffanteil kann unter Umständen verwendet werden.
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Die Elektronendonatorverbindung kann ein acetylenischer (d. h. die C=C-Bindung enthaltender) Kohlenwasserstoff, ζ. Β. Acetylen sein. Weiter kann die Elektronendonatorverbindung auch ein aromatischer Kohlenwasserstoff, z. B. Benzol, Toluol oder Xylol sein.
Die Elektronendonatorverbindung kann auch Ammoniak sein.
Gegenstand der Erfindung ist auch mit einem reflektierenden Siliziumüberzug überzogenes Glas, mit dem Kennzeichen, daß der Überzug einen Brechungsindex im Bereich von 2,5 bis 3,5 und eine derartige Alkalibeständigkeit aufweist, daß der Überzug nach Eintauchen in 1 N Natriumhydroxid bei 90 0C für mindestens 60 s für das bloße Auge kein Anzeichen von Schädigung zeigt.
Vorzugsweise zeigt der Überzug kein Anzeichen von Schaden für wenigstens 5 min.
Vorzugsweise ist der Überzug darart beschaffen, daß 30 % des Lichts von einer C.I.E. (Commission Internationale de l'Eclairage) Illuminant C-Quelle, das]auf die überzogene Seite des Glases einfällt, reflektiert werden.
Der Brechungsindex des Überzugs kann im Bereich von 2,8 bis 3,k liegen. Das Glas kann Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas sein.
Zum besseren Verständnis der Erfindung werden nun einige Beispiele des Überziehens von Glas, beispielsweise Flachglas einer Soda-Kalk-Kieselsäure-Zusammensetzung, mit einem Silizium enthaltenden Überzug beschrieben.
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Das mit einem Silizium enthaltenden Überzug zu überziehende Glassubstrat ist ein normales handelsübliches gefärbtes Sonnenstrahlungssteuerungs-Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas, das geringe Mengen von Selen und Kobaltoxid als färbende Bestandteile enthält, und zwar von der Art, die in Bahnform auf einem Metallschmelzebad erzeugt wird.
Das Glas wird überzogen, während es sich auf einer Temperatur von wenigstens 400 0C befindet und an einer Überzugs station vorbei in der in der oben erwähnten DE-OS 2 526 209 beschriebenen Weise, worauf Bezug genommen wird, vorwärtsbewegt wird.
Wenn das Glas direkt im Zuge seiner Erzeugung auf einem Metallschmelzebad überzogen wird, kann der Überzug innerhalb und nahe des Auslaßendes des das Metallschmelzebad, längs dessen das Glas in Bahnform vorrückt, enthaltenden Behälters aufgebracht werden. Im Bereich des Auslaßendes des Bades, wo der Überzugsνorgang stattfindet, liegt die Temperatur des Glases im Bereich von 600 bis 650 0C.
Alternativ kann der Überzug auf eine Glasbahn aufgebracht werden, wenn sie durch einen Glühofen vorrückt, wobei der Gasverteiler im Glühofen dort angeordnet wird, wo die Glastemperatur im Bereich von 400 bis 750 0C ist. Das zu überziehende Glas kann auch nach einem Walzverfahren oder nach einem Vertikalziehverfahren erzeugtes Glas sein. Die Erfindung ist insbesondere auf das Überziehen von Flachglas, einschließlich Drahtglas, in Bahn- oder Bandform, geformten Glaskörpern und Glasfasern anwendbar.
Um eine annehmbare Silanzersetzungsgeschwindigkeit zu erzielen, soll das Glas auf einer Temperatur von mindestens
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- ίο -
400 0C und im Bereich von 400 bis 850 0C, vorzugsweise im Bereich von 500 bis 850 0C sein. Um unerwünschte Nebenreaktionen, z. B. zur Bildung von Siliziumkarbid führende Iteaktionen, zu vermeiden, ist es erwünscht, Glastemperaturen über 850 0C zu vermeiden. In einigen Fällen kann durch die Weichheit der Glasoberfläche auch eine niedrigere Maximaltemperaturgrenze bedingt sein.
Um die Erfindung zu veranschaulichen, wurden Versuche durch Überziehen von flachem, gefärbtem Sonnenstrahlungssteuerungs-Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas unter Verwendung verschiedener Anteile an Äthylen (CpHn) in einem Silan enthaltenden, aus 5 Vol. % Monosilan (SiH^) in Stickstoff als Trägergas bestehenden Gas durchgeführt. Die erhaltenen Ergebnisse sind in den Tabellen I und II aufgeführt.
Tabelle I
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Tabelle I
co ο co
Probe GASSTROM (l/min 50 SiH4/N2 ) GAS VoI .0 SiH4 N2 C2H4:S iH4-
Verhältnis		 R max ARmax
(nm)		 Brechurgs.
index		 Über
zug-
dicke
(•nm)		 Alkalibe-
ständig-
keit
1 C2H4 45 C2H4 5 95 0 58,7 430 3,35 32,1 18 S
2 0 45 0 5 93,9 0,22:1 45,8 425 2,80 37,9 lh 5 min
3 0,5 55 1,1 5 94,1 0,18:1 52,9 450 3,10 36,3 lh
4 0,5 60 0,9 5 94,2 0,17:1 54,3 475 3,15 37,7 lh
VJl 0,5 45 0,8 4,9 92,9 0,44:1 44,6 475 2,75 43,2 2h 20 min
6 1 55 2,2 4,9 93,3 0,36:1 51,0 455 3,00 37,9 lh 30 min
7 1 60 1,8 4,9 93,5 0,33:1 52,4 470 3,05 38,5 2h 45 min
8 1 45 1,6 4,8 91,5 0,78:1 37,2 405 2,50 40,5 3h
9 1,75 55 3,7 4,8 91,7 0,73:1 40,1 420 2,60 40,4 3h
10 2 60 3,5 4,8 92 0,67:1 42,3 415 2,65 39,2 3h 30 min
11 2 55 3,2 4,7 89,6 1,20:1 35,3 405 2,45 41,3 5h 50 min
12 3,3 60 5,7 4,7 90,1 1,10:1 35,7 405 2,45 41,3 7h 20 min
3,3 5,2
In der obigen Tabelle bedeuten:
R max die als Prozentsatz des einfallenden Lichts ausgedrückte maximale Lichtreflexion;
X R max die Wellenlänge, bei der die Lichtreflexion vom Überzug maximal ist;
Der Brechungsindex des Glases ist bekannt, so daß der Brechungsindex des Überzuges unter Verwendung einer Standardlichtquelle bestimmt werden kann. Die Überzugsdicke läßt sich aus optischen Dickemessungen in bekannter Weise ermitteln.
Alle in der Beschreibung erwähnten optischen Messungen wurden in bekannter Weise mit der überzogenen Oberfläche des Glases zur Lichtquelle hin vorgenommen, die eine C.I.E.(Commission Internationale de l'Eclairage) Illuminant C-Quelle war.
Die Tabelle I zeigt, daß der auf dem Glas der Proben 2 bis 12 mit einem Äthylenanteil im Gas erzeugte Siliziumüberzug eine verbesserte Alkalibeständigkeit im Vergleich mit dem überzogenen Glas der Probe 1, der Kontrollprobe, hatte, die ohne einen Äthylenzusatz im Silan enthaltenden Gas erzeugt wurde. Geringe Änderungen im Anteil des vorhandenen Äthylens scheinen nur geringe Änderungen der optischen Eigenschaften hervorzurufen, die sich für das Glas durch den Silizium enthaltenden Überzug ergaben.
Die Ergebnisse zeigen, daß bei einem geringen Verhältnis von Äthylen zu Monosilan, wie bei den Proben 2, 5 und 4, keine wesentliche Änderung der optischen Eigenschaften auftritt, sich jedoch ein überraschender Anstieg der Beständigkeit
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des Silizium enthaltenden Überzugs gegenüber Alkaliangriff ergibt, indem kein sichtbares Anzeichen eines Angriffs auftrat, bis das Glas für mindestens 1 h in Berührung mit dem 1 N Natriumhydroxid gewesen war.
Die optischen Eigenschaften der Silizium enthaltenden Überzüge der Proben 1, 2, 4, 5, 10 und 12 wurden gemessen. Bei Vornahme der Messungen gab es eine Kompensation für die Färbung des Glassubstrats durch Vergleichen überzogener und nichtüberzogener Proben des gefärbten Glassubstrats. Und zwar wurde das gefärbte Substrat durch 6 mm dickes klares Flachglas ersetzt. Die Ergebnisse, die in der Tabelle II aufgeführt sind, sind die optischen Eigenschaften von Proben aus 6 mm dickem klarem Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas, das auf einem Metallschmelzebad erzeugt war und den auf einem gefärbten Glassubstrat gemäß der Beschreibung bezüglich der Tabelle I erzeugten äquivalente Überzüge trug.
Tabelle II
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Tabelle II
Über
zug der
Probe Hc. 		C^H^: S JH^ -
Verhält
nis		 Lichtdurch-
lässigkeit
% 		Lichtre
flexion
% 		Direkte
Sonnen-
wärme-
durch 3ässig-
keit % 		Sonnenwärme-
reflexion % 		Sonnerwärme
absorption
% 		Gesamtsonnen-
wärmecUrch-
lässigkeit
%
1 0 31 54 45 38 19 49
2 0,22 45 41 51 28 21 58
4 0,17 32 52 45 37 20 49
5 0,44 41 43 49 30 21 56
10 0,67 47 56 53 25 22 60
12 1,10 57 29 59 20 21 66
CO OO CO
CO
O CO ·<! OO CD
Wenn das Verhältnis von Äthylen zu Silan im Gas geringer als 0,1 ist, gibt es keine größere Änderung der Eigenschaften des überzogenen Glases im Vergleich mit der Probe 1, die ohne Äthylen im Silan enthaltenden Gas erzeugt war.
Wenn die Äthylenmenge steigt, gibt es einen stetigen Anstieg der Alkalibeständigkeit, die anhand der Zeit bestimmt wird, bevor ein sichtbarer Angriff auftritt bis zu einer Zeit von wenigstens 5 h 50 min, wenn das Äthylen:Silan-Verhältnis 1,2:1 ist.
Die Erhöhung des Verhältnisses von Äthylen zu Silan führte allgemein zu einer Verringerung des Brechungsindex des Siliziumüberzugs und einer folglichen Änderung der optischen Eigenschaften des überzogenen Glases. Durch Steuerung des Stroms von Äthylen relativ zum Strom von Silan in Stickstoff war es möglich, vorbestimmte optische Eigenschaften, insbesondere eine hohe Reflexionskraft, zu erzielen und gleichzeitig den Vorteil einer hohen Alkalibeständigkeit aufgrund der Anwesenheit von Äthylen in dem Silan enthaltenden Gas zu erhalten.
Bei Bewitterungsversuchen, in denen das überzogene Glas einer feuchten Atmosphäre ausgesetzt wurde, überlebte der Silizium enthaltende Überzug der Probe 1, d. h. die Kontrollprobe, für etwa 10 Tage. Es gab keine sichtbare Änderung im Siliziumüberzug der Proben 2 bis 12 nach einer sechswöchigen PrüfPeriode. Die Prüfung wurde mit Packungen von fünf überzogenen Scheiben von je 300 mm Quadrat durchgeführt, die durch teilchenförmiges Zwischenmaterial getrennt waren und in ein Bewitterungsgehäuse eingesetzt wurden, in dem die Temperatur bei 60 °C ι
gehalten wurden.
ratur bei 60 °C und die relative Feuchtigkeit auf 95 bis
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Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren unter Verwendung von Äthylen erzeugte Silizium enthaltende Überzüge wurden überprüft und mit in Abwesenheit einer Elektronendonatorverbindung erzeugten Siliziumüberzügen verglichen. Das erwähnenstwerteste Merkmal ist ein offenbarer Anstieg des Sauerstoffgehalts des Überzugs, d. h. ein Abfall des Silizium: Sauerstoff-Verhältnisses als Ergebnis der Verwendung einer Elektronendonatorverbindung. Wenigstens etwas Sauerstoff in dem erfindungsgemäß erzeugten Überzug liegt vermutlich in einer anderen Form als irgendein in ain Abwesenheit einer
anwesender Sauerstorf
Elektronendonatorverbindung hergestellten Überzügen/vor. Dieser Sauerstoff ist offenbar für eine Änderung der Spitzenlagen und -intensitäten der Siliziumelektronen verantwortlich, wie sie durch ESCA (Elektronenspektroskopie für chemische Analyse) beobachtet werden. Beispielsweise wird, wenn man einen hohen Äthylenanteil verwendet, die erste Silizium (2p)-Spitze klar bei 102,0 eV im Vergleich zu Spitzen bei 103,3 eV und 99,4 eV beobachtet, die Siliziummetall bzw. oxydiertem Silizium zugeschrieben werden (s. CD. Wagner, "Faraday Discussions of the Chemical Society" 60, 1975, 296).
Die Alkalibeständigkeit des Überzugs scheint mit dem hohen Sauerstoffanteil im Überzug verknüpft zu sein, der wie die Alkalibeständigkeit mit dem Steigen des Verhältnisses der Elektronendonatorverbindung zum Silan im Gas zu wachsen scheint.
Eine Analyse zeigte, daß Ionen, wie z. B. Natrium, Kalzium und Magnesium, im Überzug vorliegen können und ihre Verteilungen innerhalb der Glasoberfläche und des Überzugs vom Äthylen:Silan-Verhältnis abhängen, und Änderungen dieser Verteilungen spiegeln Änderungen in der Verteilung und im Zustand des Sauerstoffs im Überzug wider..
Wenn der Äthylengehalt des Silan enthaltenden Gases wuchs, verringerte sich fortlaufend der Brechungsindes des Überzugs.
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Infolgedessen ergab sich ein stetiger Abfall sowohl der Lichtreflexion als auch der Sonnenwärmereflexion. Dies wurde nicht von irgendeinem merklichen Anstieg der optischen Absorption durch die SiliziumUberzüge begleitet, so daß irgendeine Verringerung der Reflexion durch einen Anstieg der Licht- und Sonnenwärmedurchlassigkeit ausgeglichen wurde. Die Änderung des Brechungsindex fand ohne irgendeine wesentliche Änderung der Dicke des Überzugs statt, wie die Tabelle I zeigt.
In einer anderen Versuchsreihe wurde klares Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas auf einem Metallschmelzebad erzeugt und mit einem Silizium enthaltenden Überzug nach dem erfindungsgemäßen Verfahren überzogen,und der Überzug erwies sich als überraschend beständig gegenüber Alkaliangriff.
Das Glas wurde nahe dem Auslaßende des das Metallschmelzebad enthaltenden Behälters überzogen, wo die Glastemperatur im Bereich von 600 bis 65O 0C lag. Die erhaltenen Ergebnisse sind in den Tabellen III und IV aufgeführt.
Tabelle III
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■Tabelle III
ο co co co
CD co
Probe Gesamtgasstrom
1/min		 Gas Vol. % C2H4 SiH2, N2 H2 CpHh ϊ SiHh-
Verhält
nis		 Ar max
(nm)		 Brechungs
index		 Über
zug
dicke
(nm)		 Alkali-
best än-
digkeit
15 140 0 4,6 92 3,4 0 400 3,36 30,0 18 s
16 180 0,6 5,2 91,6 2,6 0,11 455 3,18 35,8 45 s
17 180 1,1 6,0 91,5 1,4 0,18 460 3,29 35,0 5 min
18 180 1,1 5,4 91,4 2,1 0,20 - - 5 min 30s
19 i8o 2 6,9 91,1 0 0,29 480 3,23 37,2 30 min
oo
OO O 00
00 CD
Einige optische Eigenschaften dieser Proben sind in der Tabelle IV aufgeführt.
Tabelle IV
Probe Licht- Licht
reflexion % durchlässigkeit %
15 51,5 32,0
16 51,8 29,1
17 5^,3 27,2
18 - -
19 5^,9 27,0
Leere Felder in den Tabellen III und IV deuten an, daß die Werte während der Versuche nicht gemessen wurden.
Man fand überraschend, daß bei Verwendung von Äthylen zur Verbesserung der Alkalibeständigkeit von auf von einem Metallschmelzebad getragenem Plachglas erzeugten Siliziumüberzügen das Äthylengas die Wirkung einer Abschwächung der anscheinenden Diskontinuitäten im Überzug infolge einer Abscheidung von kleinen metallhaltigen Teilchen auf der Glasoberfläche hatte.
Ähnliche Versuche wurden mit gewalztem Plattenglas einer Soda-Kalk-Kieselsäure-Zusammensetzung bei einer Temperatur von 600 0C durchgeführt, und die in der Tabelle V zusammengefaßten Ergebnisse zeigen eine gleichwertige Dauerhaftigkeit des Siliziumüberzugs, wenn er dem Alkalibeständigkeitstest durch Kontakt mit 1 N NaOH bei 90 0C unterworfen wurde. Die Strömungsgeschwindigkeiten von Äthylen und Silan in ihrem
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Trägergas wurden justiert, um bestimmte optische Eigenschaften durch Variieren des ÄthylenrSilan-Verhältnisses zu erzeugen und dadurch den Brechungsindex des Überzugs zu bestimmen.
Tabelle V
Probe Cp Hh i S iH|i ~
Verhältnis		 Brechungs
index		 Überzug
dicke (nm)		 Lichtdurch
lässigkeit
% 		Lichtre
flexion
% 		Alkalibe
ständigkeit
20
21
22
23		 0
0,33
0,36
0,45		 3,15
3,09
3,07
2,78		 32,5
33,2
34,6
36,4		 31,9
31,2
30,0
40,8		 48,1
47,0
47,9
38,7		 18 s
7 min
20 min
50 min
Andere Silane, die sich auf heißem Glas zersetzen, z.B. höhere Silane, wie z. B. Disilan oder Trisilan, oder substituierte Silane, wie z. B. Chlorsilane, die allgemein in der Gegenwart von Wasserstoff verwendet werden, können auch zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens eingesetzt werden.
Diese Ergebnisse zeigen,daß man bei Verwendung von Äthylen als der Elektronendonatorverbindung vorzugsweise mit einem Verhältnis von Äthylen zu Silan im Gas im Bereich von 0,1 bis 2,0 arbeitet. Insbesondere liegt das Äthylen:Silan-Verhältnis im Gas im Bereich von 0,2 bis 0,5.
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Die in diesen Versuchen verwendete bevorzugte Gaszusammensetzung war, wie gezeigt wurde, ein Silan enthaltendes Gas mit 1 bis 7 Vol. % Monosilan (SiH1^), 0,5 bis 6 Vol. % Äthylen (CgH^), nach Wunsch Wasserstoff (H2) und Rest Stickstoff (Ng).
Der Brechungsindex der reflektierenden, alkalibeständigen erzeugten Überzüge wurde als im Bereich von 2,5 bis 3*5* insbesondere 3,1 + 0,3 liegend befunden.
Es wurden auch andere Elektronendonatorverbindungen als Bestandteil des Silan enthaltenden Gases verwendet. Andere Olefine, die verwendbar sind, sind Butadien (C^Hg) und Penten (C5H10).
Die Elektronendonatorverbindung kann auch ein acetylenischer (eine C=C-Bindung aufweisender) Kohlenwasserstoff sein. Acetylen wurde als Bestandteil des Gases verwendet. Weiter kann auch ein aromatischer Kohlenwasserstoff als Elektronendonator Bestandteil des Gases, z. B. Benzol (CgHg), Toluol (C6H5-CH5) oder Xylol (CgH^.(CE, )2), verwendet werden.
Andere Zusätze zum Silan enthaltenden Gas, die als wirksam als Elektronendonator, der dem Überzug Alkalibeständigkeit verleiht, befunden wurden, sind olefinische Abkömmlinge, z. B. Difluoräthylen (CgHgFg), und Ammoniak (NH,).
Einige Beispiele der Verwendung dieser anderen Elektronendonatorverbindungen sind in der Tabelle VI aufgeführt. Alle erzeugten Überzüge hatten eine mit den / nach der obigen
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Beschreibung unter Verwendung von Äthylen als dem Elektronendonator vergleichbare Alkalibeständigkeit.
Tabelle VI
Ele.ktronen-
donator		 Temp „
°C 		Donator Gas
Vol.		 % N2 H2 Donator:
Verhält
nis
Acetylene 605 0,4 SiH4 90,27 9 1,2:1
Butadien
C4H6		 530 0,24 0,33 90,44 9 0,75:1
Ammoniak
NH3 		680 1.3 0,32 S 9 4,5:1
Ammoniak
NH3 		620 0,7 0,3 89,67 9 1,1:1
Difluorr -
Ethylen		 605 0,55 0,63 89,82 9 0,85:1
Benzol,
C6H6		 612 0,32 0,63 90,04 9 0,5:1 ■
0,64
.609837/0687
Es ist am zweckmäßigsten, eine Verbindung zu verwenden, die bei Raumtemperatur gasförmig ist, so daß man vorzugsweise eine 2 bis 5 Kohlenstoffatome enthaltende olefinische oder acetylenische Verbindung verwendet, obwohl auch mehr als 5 Kohlenstoffatome enthaltende Verbindungen unter der Voraussetzung verwendbar sind, daß sie unter der Zersetzungstemperatur des Silans gasförmig sind.
Die Erfindung ist auch auf das Überziehen irgendeines Alkalimetallsilikatglases oder Erdalkalimetallsilikatglases anwendbar.
In einem weiteren Versuch wurde ein Borsilikatglassubstrat auf 600 0C erhitzt, und man ließ eine gasförmige Mischung, die 1 Vol. % Monosilan, 1,25 Vol. % Äthylen, 10 Vol. % Wasserstoff und 87,75 Vol. % Stickstoff enthielt, über die Glasoberfläche strömen. Es wurde ein reflektierender Siliziumüberzug erhalten, der nach Eintauchen in 1 N Natriumhydroxid bei 90 0C für i
erkennen ließ.
bei 90 0C für über 3 h kein sichtbares Anzeichen von Angriff
Es wurde auch gefunden, daß die Anwendung eines Verhältnisses von Äthylen zu Silan über 2,5, z. B. eines Verhältnisses von 5 zur Bildung eines alkalibeständigen Siliziumüberzugs auf Glas mit sehr guter Abriebbeständigkeit führt. Solche Überzüge haben nicht die hohe Reflexionskraft für sichtbares Licht, wie sie die oben beschriebenen Proben aufweisen, und können sogar für sichtbares Licht transparent erscheinen.
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Claims (18)

  1. Patentansprüche
    IT. Verfahren zum Überziehen von Glas mit einem Silizium enthaltenden Überzug, gemäß dem man das Glas mit einer Temperatur von wenigstens 4-00 0C an einer Überzugsstation vorbeibewegt und Silan enthaltendes Gas nahe, der Glas oberfläche mit einem quer über diese hin im wesentlichen konstanten Druck und
    unter, nicht-oxydierenden Bedingungen so zuführt, daß das Silan unter Abscheidung eines Silizium enthaltenden Überzugs auf der Glasoberfläche pyrolysiert, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzielung einer bestimmten Alkalibeständigkeit des Siliziun]|enthaltenden Überzugs das Silan enthaltende Gas einen Anteil einer gasförmigen Elektronendonator verbindung enthält, die die Alkalibeständigkeit ergibt.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das Silan enthaltende Gas mit Stickstoff als Trägergas und bis zu 6 Vol. % der Elektronendonatorverbindung verwendet.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man Monosilan in Stickstoff als Trägergas mit bis zu 6 Vol. % eines gasförmigen Olefins verwendet.
  4. k. Verfahren nach Anspruch 3> dadurch gekennzeichnet, daß man Äthylen als Olefin verwendet.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch h, dadurch gekennzeichnet, daß man mit einem Verhältnis von Äthylen zu Silan im Gas von 0,1 bis 2,0 arbeitet»
    O78-(48569)-TF 809837/0687 oraCfflW. INSPECTED
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß man mit einem Verhältnis von Äthylen zu Silan im Gas von 0,2 bis 0,5 arbeitet.
  7. 7. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man als silanhaltiges Gas eine Misehung von 1 bis 7 Vol. %
    Monosilan, 0,5 bis 6 Vol. % Äthylen, ggf. einem Wasserstoffanteil, Rest Stickstoff verwendet.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man als silanhaltiges Gas eine Mischung von 0,5 bis 7 Vol. % Monosilan, 0,2 bis 6 Vol. fo der gasförmigen Elektronendonatorverbindung, ggf. einem Wasserstoffanteil, Rest Stickstoff verwendet.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Gasmischung mit bis zu 10 Vol. % Wasserstoff verwendet.
  10. 10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man einen acetylenischen Kohlenwasserstoff als Elektronendona tor verbindung verwendet.
  11. 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man Acetylen als acetylenischen Kohlenwasserstoff verwendet.
  12. 12. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
    man einen aromatischen Kohlenwasserstoff als Elektronendonatorverbindung verwendet.
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  13. 13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß man Benzol als aromatischen Kohlenwasserstoff verwendet.
  14. 14. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man Ammoniak als Elektronendonatorverbindung verwendet.
  15. 15. Nach einem der Ansprüche 1 bis 14 mit einem Silizium enthaltenden Überzug überzogenes Glas, dadurch gekennzeichnet, daß der Überzug einen Brechungsindex im Bereich von 2,5 bis 3,5 und eine derartige Alkalibeständigkeit aufweist, daß er nach Eintauchen in 1 N Natriumhydroxid bei 90 0C für mindes tens 6O s für das bloße Auge kein Zeichen von Schädigung zeigt.
  16. 16. Glas nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Überzug derart beschaffen ist, daß 30 % des von einer C.I.E. ( Commission Internationale de l'Eclairage)-Illuminant C-Quelle auf die überzogene Seite des Glases einfallenden Lichts reflektiert werden.
  17. 17. Glas nach Anspruch I5 oder l6, dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex des Überzugs im Bereich von 2,8 bis 3,4 liegt.
  18. 18. Glas nach einem der Ansprüche I5 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß das Glas Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas ist.
    0^SMAL INSPECTED 809837/0687
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Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4298650A (en) * 1980-03-31 1981-11-03 Eastman Kodak Company Phosphorescent screens
JPS5826052A (ja) * 1981-08-06 1983-02-16 Asahi Glass Co Ltd アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体
CA1245109A (en) * 1983-10-31 1988-11-22 Hsien-Kun Chu Method of forming amorphous polymeric halosilane films and products produced therefrom
US5165972A (en) * 1984-08-13 1992-11-24 Pilkington Plc Coated glass
GB8420534D0 (en) * 1984-08-13 1984-09-19 Pilkington Brothers Plc Coated products
JPS6195356A (ja) * 1984-10-16 1986-05-14 Mitsubishi Electric Corp フオトマスクブランク
JPS61116358A (ja) * 1984-11-09 1986-06-03 Mitsubishi Electric Corp フオトマスク材料
JPS61161763U (de) * 1985-03-29 1986-10-07
US4661381A (en) * 1985-10-07 1987-04-28 Libbey-Owens-Ford Co. Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article
JPH0521020Y2 (de) * 1985-12-05 1993-05-31
US4749430A (en) * 1986-10-16 1988-06-07 Shell Oil Company Method of making an encapsulated assemblage
US4869966A (en) * 1986-10-16 1989-09-26 Shell Oil Company Encapsulated assemblage and method of making
JPS6430458U (de) * 1987-08-13 1989-02-23
GB8814922D0 (en) * 1988-06-23 1988-07-27 Pilkington Plc Coatings on glass
WO1990009883A1 (en) * 1989-02-21 1990-09-07 Libbey-Owens-Ford Co. Coated glass articles
US5328768A (en) * 1990-04-03 1994-07-12 Ppg Industries, Inc. Durable water repellant glass surface
US5171414A (en) * 1990-12-10 1992-12-15 Ford Motor Company Method of making transparent anti-reflective coating
US5106671A (en) * 1990-12-10 1992-04-21 Ford Motor Company Transparent anti-reflective coating
JP3139031B2 (ja) * 1991-02-21 2001-02-26 日本板硝子株式会社 熱線遮蔽ガラス
US5234748A (en) * 1991-06-19 1993-08-10 Ford Motor Company Anti-reflective transparent coating with gradient zone
CA2084247A1 (en) * 1992-03-18 1993-09-19 Francis Paul Fehlner Lcd panel production
US5580364A (en) * 1992-07-11 1996-12-03 Libbey-Owens-Ford Co. Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color
EP0583871B2 (de) * 1992-07-11 2004-01-07 Pilkington United Kingdom Limited Verfahren zur Herstellung von reflektierenden Schichten auf Glas
FR2695118B1 (fr) * 1992-09-02 1994-10-07 Air Liquide Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre.
GB9400319D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
GB9400320D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coating on glass
GB9400323D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
US5665424A (en) * 1994-03-11 1997-09-09 Sherman; Dan Method for making glass articles having a permanent protective coating
US5723172A (en) * 1994-03-11 1998-03-03 Dan Sherman Method for forming a protective coating on glass
CA2159296C (en) * 1994-10-14 2007-01-30 Michel J. Soubeyrand Glass coating method and glass coated thereby
CN1051534C (zh) * 1994-11-22 2000-04-19 秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司 浮法在线生产镀膜玻璃的方法
GB9500330D0 (en) * 1995-01-09 1995-03-01 Pilkington Plc Coatings on glass
US6055828A (en) * 1997-12-30 2000-05-02 Closure Medical Corporation Treatment methods for glass medical adhesive applicators
US6350397B1 (en) 1999-03-10 2002-02-26 Aspen Research Corporation Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties
WO2002080244A2 (en) * 2001-02-12 2002-10-10 Asm America, Inc. Improved process for deposition of semiconductor films
EP1486468A1 (de) * 2002-01-31 2004-12-15 Nippon Sheet Glass Company, Limited Verfahren zur herstellung einer glasplatte mit dünnem film und glasplatte
US6919133B2 (en) * 2002-03-01 2005-07-19 Cardinal Cg Company Thin film coating having transparent base layer
EP1480920B1 (de) * 2002-03-01 2006-11-02 Cardinal CG Company Dünnfilmbeschichtung mit einer transparenten grundierungsschicht
JP5005170B2 (ja) * 2002-07-19 2012-08-22 エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド 超高品質シリコン含有化合物層の形成方法
US20050271893A1 (en) * 2004-06-04 2005-12-08 Applied Microstructures, Inc. Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer
US7638167B2 (en) * 2004-06-04 2009-12-29 Applied Microstructures, Inc. Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer
US20050044894A1 (en) * 2003-08-29 2005-03-03 Douglas Nelson Deposition of silica coatings on a substrate
DE102004012977A1 (de) * 2004-03-17 2005-10-06 Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH Kratzfestes optisches Mehrschichtsystem auf einem kristallinen Substrat
US20050221003A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-06 Remington Michael P Jr Enhancement of SiO2 deposition using phosphorus (V) compounds
US7879396B2 (en) * 2004-06-04 2011-02-01 Applied Microstructures, Inc. High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics
US7966969B2 (en) * 2004-09-22 2011-06-28 Asm International N.V. Deposition of TiN films in a batch reactor
US7629267B2 (en) * 2005-03-07 2009-12-08 Asm International N.V. High stress nitride film and method for formation thereof
WO2007075369A1 (en) * 2005-12-16 2007-07-05 Asm International N.V. Low temperature doped silicon layer formation
US7691757B2 (en) 2006-06-22 2010-04-06 Asm International N.V. Deposition of complex nitride films
US7629256B2 (en) * 2007-05-14 2009-12-08 Asm International N.V. In situ silicon and titanium nitride deposition
US7833906B2 (en) 2008-12-11 2010-11-16 Asm International N.V. Titanium silicon nitride deposition
CN101618952B (zh) * 2009-07-30 2011-08-17 杭州蓝星新材料技术有限公司 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法
CN102584023A (zh) * 2012-02-22 2012-07-18 株洲旗滨集团股份有限公司 一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法及其玻璃
JPWO2014081030A1 (ja) * 2012-11-26 2017-01-05 旭硝子株式会社 薄膜形成方法
CN106007395A (zh) * 2016-05-11 2016-10-12 刘畅 一种用于厨卫电器的易清洁玻璃的制作方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3873352A (en) * 1971-12-17 1975-03-25 Owens Illinois Inc Abrasion resistant one step glass coating with excellent labelability

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2439689A (en) * 1948-04-13 Method of rendering glass
DE395978C (de) * 1921-05-28 1924-05-24 Siemens & Halske Akt Ges Verfahren zur Herstellung eines spiegelnden Siliziumbelages
US3984608A (en) * 1974-04-17 1976-10-05 Kerr Glass Manufacturing Corporation Glassware having improved resistance to abrasion
GB1507465A (en) * 1974-06-14 1978-04-12 Pilkington Brothers Ltd Coating glass

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3873352A (en) * 1971-12-17 1975-03-25 Owens Illinois Inc Abrasion resistant one step glass coating with excellent labelability

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JACS 76, 1954, 3897-3902 *

Also Published As

Publication number Publication date
DK149924C (da) 1987-06-29
FI62522B (fi) 1982-09-30
AR217280A1 (es) 1980-03-14
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DD136045A6 (de) 1979-06-13
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ES467480A1 (es) 1979-08-01
NO143100B (no) 1980-09-08
PL112933B1 (en) 1980-11-29
CS212268B2 (en) 1982-03-26
JPS5728379B2 (de) 1982-06-16
SE431866B (sv) 1984-03-05
IT7867404A0 (it) 1978-02-28
BE864413A (fr) 1978-08-28
FR2382511B1 (de) 1981-01-02
AU516481B2 (en) 1981-06-04
PL204996A1 (pl) 1978-12-18
CA1110119A (en) 1981-10-06
RO75434A7 (ro) 1981-04-30
DE2808780C2 (de) 1985-10-24
GB1573154A (en) 1980-08-13
TR20091A (tr) 1980-07-08
NL179042C (nl) 1986-07-01
NO780671L (no) 1978-09-04
FI780699A (fi) 1978-09-02
NO143100C (no) 1980-12-17
ZA781053B (en) 1979-10-31
LU79149A1 (fr) 1978-09-28
US4188444A (en) 1980-02-12
FI62522C (fi) 1983-01-10
NL7802090A (nl) 1978-09-05
AU3348778A (en) 1979-08-30
DK93678A (da) 1978-09-02
DK149924B (da) 1986-10-27
SU878191A3 (ru) 1981-10-30
FR2382511A1 (fr) 1978-09-29
JPS53130717A (en) 1978-11-15
BR7801209A (pt) 1978-12-12

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