PL112933B1 - Method of coating the glass with silicon-containing coatings - Google Patents

Method of coating the glass with silicon-containing coatings Download PDF

Info

Publication number
PL112933B1
PL112933B1 PL1978204996A PL20499678A PL112933B1 PL 112933 B1 PL112933 B1 PL 112933B1 PL 1978204996 A PL1978204996 A PL 1978204996A PL 20499678 A PL20499678 A PL 20499678A PL 112933 B1 PL112933 B1 PL 112933B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
glass
coating
silicon
gas
silane
Prior art date
Application number
PL1978204996A
Other languages
English (en)
Other versions
PL204996A1 (pl
Inventor
Manfred Landau
Original Assignee
Pilkington Brothers Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pilkington Brothers Ltd filed Critical Pilkington Brothers Ltd
Publication of PL204996A1 publication Critical patent/PL204996A1/pl
Publication of PL112933B1 publication Critical patent/PL112933B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/245Oxides by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/213SiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31609Particulate metal or metal compound-containing
    • Y10T428/31612As silicone, silane or siloxane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób powlekania szkla powiekami zawierajacymi krzem.Znany jest z polskiego opisu patenftowego nr 108359 sposób powlekania szkla powlokami zawie¬ rajacymi krzem, obejmujacy przeprowadzanie szkla przez stacje powlekania, gdy temperatura szkla wynosi co najmniej 400°C, doprowadzanie do stacji powlekania gazu zawierajacego silan, uwalnianie gazu blisko goracej powierzchni szkla, "przy za¬ sadniczo stalym cisnieniu na szerokosci szkla w kierunku strefy goracej, w której jest ogrzewany gaz. Strefa ta otwiera sie ku i rozciaga sie na szerokosc powierzchni szkla, tak, ze silan ulega pirolizie osadzajac na powierzchni szkla powloke zawierajaca krzem, przy utrzymaniu w strefie gora¬ cej warunków nieutleniajacych. Tak wytworzone szklo ma zasadniczo jednolita powloke krzemowa i dobre wlasnosci kontroli przepuszczania promieni slonecznych oraz przyjemny wyglad.Obecnie stwierdzono, ze przez dodanie zwiazku oddajacego elektrony do gazu zawierajacego silan, który uwalnia sie blisko goracej powierzchni szkla poprawia sie odpornosc na alkalia powloki zawie¬ rajacej krzem na szikle.Z publikacji Diavid'a G. White i Eugene G.Rochów „Reactions of Sdlane wiith Unsaturated Hydrocarbons", Journal of the American Chemical Society, tom 76, str. 38i87-3i90i2 wiadomo, ze w czasie wytwarzania alkilosilanów przez reakcje silanu z etylenem lub acetylenem w ogrzewanej rurze, 10 15 20 25 30 przez okres ponad 3 godzin, na wewnetrznej po¬ wierzchni ogrzewanej rury, przez która cyrkuluja gazowe reagenty, odklada sie cienka warstwa krze¬ mu.Sposób wedlug wynalazku powlekania szkla po¬ wloka zawierajaca krzem obejmujacy przeprowa¬ dzanie szkla przez stacje powlekania w czasie, gdy temperatura szkla wynosi co najmniej 400°C i uwalnianie gazu zawierajacego silan blisko po¬ wierzchni szkla przy zasadniczo stalym cisnieniu na szerokosci powierzchni szkla i w warunkach nieutleniajacych, tak ze silan ulega pirolizie osa¬ dzajac powloke zawierajaca krzem na powierzchni szkla polega na tym, ze w celu nadania okreslonej z góry odpornosci na alkalia powloce zawierajacej krzem, stosuje sie gaz zawierajacy silan, który za¬ wiera pewna ilosc gazowego zwiazku oddajacego elektrony, nadajac powloce odpornosc na alkalia.Odpornosc na alkalia powloki krzemowej okresla sie w sposób, który zostanie opisany, przez stwier¬ dzenie czasu, przez który powloka krzemowa wy¬ trzymuje atak roztworu silnie alkalicznego bez wi¬ docznej szkody.Sposób wedlug wynalazku nadaje sie do stosowa¬ nia przy obróbce wielu przemyslowo wytwarzanych szkiel, w róznych formach, które moga byc prze¬ prowadzane przez stacje powlekania, na przyklad do szkla okiennego, szkla optycznego i wlókien szklanych. Szkla takie na ogól zawieraja tlenki co najmniej dwóch pierwiastków i sa to zazwyczaj 112 933s szkla olcwiowokrzeimianowe, szkla metal alkalicz- ny-krzemianowe, metal ziem alkalicznych^krzemia- nowe, a zwlaszcza szkla sodowo^wapienno-krze- mionkowe.W niektórych przypadkach, w zaleznosci od od¬ pornosci szkla na 'alkalia i od ilosci stosowanego zwiazku oddajacego elekitrony, odpornosc na alka¬ lia powleczonej powierzchni, wytworzonej sposobem wedlug wynalazku, moze byc wieksza niz podloza szklanego.Zwiazki oddajace elektrony, które stosuje sie do nadawania powloce krzemowej odpornosci na alka¬ lia, zawieraja w swojej strukturze elektronowej, bftdz -w~Ti«afcam!U^feadz luzna pare elektronów, kjóre moga by£ oddane elektronowej strukturze odpowiedniego akcej|tora czasteczek lub atomów.Zwiazkiem takimi^ oddajacym elektrony moze byc olefina.Korzystnie gaz zawierajacy siflan zawiera azot jako nosnik i do 6*Vo objetosciowych gazowego zwiazku oddajacego elektrony.Szczególnie odpowdednimi zwiazkami oddajacymi elektrony sa olefiny, zwlaszcza etylen.Gaz zawierajacy silan moze zawierac monosilan w azocie jako nosniku i do 6% objetosciowych ga¬ zowej olefiny.Stosuiiek zwiazku oddajacego elektrony do silanu w gazie moze wynosic 0,(lM2^0. Korzystny stosunek lezy w zakresie 0,2—0^5. W niektórych przypadkach moga okazac sie korzystne proporcje lezace poza podanym zakresem, W sposobie wedlug wynalazku gaz zawierajacy silan moze zawierac 1—7<7o obje¬ tosciowych monositaiu, 0^5^W(H objetosciowych-ety¬ lenu i ewentualnie pewna ilosc wodoru. Reszte sta¬ nowi azot •W sposobie wedlug wynalazku mozna równiez stosowac gaz zawierajacy silan, który zawiera 0,3% objetosciitfwyeh rnonosilanu, 0,2^i6P/o objetosciowych gazowego zwiazku oddajacego elektrony i ewentu¬ alnie pewna ilosc wodoru, reszte stanowi azot.Jesli w gazie zawierajacym silan obecny jest wo¬ dór, to jest on zawarty w ilosci do 10P/o objetoscio¬ wych, chociaz wieksze ilosci wodoru równiez moga byc stosowane.Zwiazkiem oddajacym elektrony moze byc zwia¬ zek acetylenowy, na ] przyklad acetylen. Dalej, zwiazkiem' oddajacym edektrony moze byc weglo¬ wodór aromatyczny, na przyklad benzen, toluen, lab ksylen. Zwiazkiem oddajacym elektrony moze takze byc amoniak.Szkla powleczone odbijajaca powloka krzemowa, charakteryzuja sie tym, ze powloka ma wspólczyn¬ nik zalamania swiatla w zakresie 2,5—3,5 i taka odpornosc na alkalia, ze nie wykazuje sladu uszko¬ dzenia nieuzbrojonym okiem po zanurzeniu win wodorotlenku sodu w temperaturze 90°C na okres co najmniej 60 sekund.Korzystnie powloka nie wykazuje uszkodzenia po co najmniej 5 minultach. Korzystnie, powloka odbi¬ ja .-3ÓP/» swiatla padagacego na powleczona strone powierzchni ze zródla swiatla CI.E. Illumiinant C.Wspólczynnik zalamania swiatla powloki moze wy¬ nosic 2y*M3,4. Szklem moze byc szklo sodcwo-wa- pie^o^2#mionkowe. 2933 4 Aby wynalazek mógl byc lepiej zrozumiany opi¬ sano kilka przykladów powlekania szkla, na przy¬ klad szkla sodowo-watpienno^rzemiicnkowego, po¬ wlokami zawierajacymi krzem. 5 Jako podloze szklane do powlekania powloka za¬ wierajaca krzem stosowano standardowe zabarwio¬ ne, handlowe szklo sodowo-wapienno-krzemionkowe z kontrolowanym przepuszczaniem promieni slo¬ necznych, zawierajace male ilosci tlenku selenu i io kobaltu jako skladników barwiacych, typu wytwa¬ rzanego w postaci wistegi na lazni stopionego meta¬ lu.Szklo .powleka sie w czasie," gdy ma cno tempera¬ ture co najmniej 400°C i jest przesuwane do przo- 15 du przez stacje powlekania w sposób opisany w po¬ wyzej wymienionym zgloszeniu patentowym.Gdy szklo powleka sie w miare jak jest wytwa¬ rzane na lazni stopionego metalu, powloke mozna nakladac wewnatrz, foliisko wylotowego konca kon- 20 strukcji zbiornika zawierajacego kapiel stopionego metalu, wzdluz którego szklo przesuwa sie wpos¬ taci wstegi. W okolicy wylotowego konca lazni gdzie mamliejsce powlekanie, temperatura szkla wy¬ nosi 600—650°C. 25 Ewentualnie mozna, przeprowadzac powlekaniie tasmy szkla w miare jak przesuwa sie przez odpre- zarke tunelowa. Dystrybutor gazu umieszczony jest w odprezarce tunelowej,gdziei temperatura szkla jest w zakresie 400^750° 30 rzone w procesie walcowania lub w procesie ciagnie¬ nia pionowego.. Wynalazeknadaje sie szczególnie do szkla plaskiego, wlaczajac szklo zbrojone w taflach lub wstegach, wyroby ze szkla formowanego oraz wlókna szklane. 35 Aby osiagnac akceptowalna szybkosc rozkladu si¬ lanu, szklo winno miec temperature co najmniej 4Q0°e„ w zakresie 400M8i50oC, korzystnie w zakresie 500—860°C. Dla unikniecia niepozadanych reakcji ubocznych, na przyklad reakcji w których tworzy 40 sie weglik krzemu, pozadane jest unikanie tempe¬ ratury szkla powyzej 850°C. W niektórych przy¬ padkach granica maksymalnej temperatury moze byc ustalona nizej ze wzgledu na miekkosc powie¬ rzchni szklanej. 45 Aby zilustrowac wynalazek przeprowadzono pró¬ by powlekania plaskiego, barwionego szkla sodowo- wapienno-krzemionkowego o regulowanej przepu¬ szczalnosci promieni slonecznych, z róznymi ilos¬ ciami etylenu w gazie zawierajacym silan, ,który skladal sie z 5% objetosciowych monosilanu CSiH4) w azocie jako nosniku gazowym.Otrzymane wyniki podano w tablicy 1 i 2.W tablicy 1 R max oznacza maksymalne odbicie swiatla wyrazone w % swiatla padajacego,, a y R. 55 max oznacza dlugosc fali, przy której odbicie swia¬ tla od powloki jest maksymalne. iWispólczynnik zalamania swiatla szkla jest znany tak, ze wspólczynnik zalamania swiatla na powloce moze byc oznaczony za pomoca standardowego 60 zródla swiatla. Grubosc powloki mozna oznaczyc z pomiarów grubosci optycznej w znany sposób.Wszystkie pomiary optyczne, które podano w opi¬ sie, przeprowadizano w znany sposób, z pcwleczona powierzchnia szkla skierowana ku zródlu swiatla. *s Jako zródlo swiatla stosowano CJ.E. IUuminant C.*A112 933 Tablica 1 Prób¬ ka 1 1 2 3 4 ¦ 5 6 7 8 9. 10 11 - 12 Przeplyw giazu liitry/minute C2H4 2 0 0,5 0,5 0,5 1 1 1 1,75 2 2 3,3 3,3 5% SiH4/N2 3 45 45 55 60 45 55 60 45 55 60 55 60 Gaz objetosciowy °/o C2H4 4 0 1,1 0,9 0,8 2,2 1,8 1,6 3,7 3,5 3,2 5,7 5,2 'SiH4 5 5 5 5 5 4,9 4,9 4,9 4,8 4,8 4,8 4,7 4,7 N2 6 95 93,9 94,1 94,2 92,9 93,3 93,5 91„5 . 91,7 92 89,7 90,1 Stosunek C2H4:SiH4 7 0 0,22:1 0,18:1 0,17:1 0,44:1 0,36:1 0,,33:1 0,78:1 0,73:1 0,67:1 1,20:1 1,10:1 R max 8 58,7 45,8 52,9 54,3 44,6 51,,0 52,4 37,2 40,1 42,3 35,3 35,7 ?R max (nm) 9 430 425 450 475 475 455 470 405 420 415 405 405 Wspól¬ czynnik zalama¬ nia swia¬ tla 10 3i,35 2,80 3,10 3,15 3,75 3,00 3,05 2,50 2,60 2,65 2,45 2,45 Grubosc powloki (nm) 11 32,1 37,9 36,3 37,7 43,2 37,9 38,5 40,5 40,4 39,2 41,3 41,3 Odpornosc ' na alkalia 12 ' 18 sekund 1 godzina 5 minut 1 godzina 1 godzina 2 godziny 20 minut 1 godzina 30 minut 2 godzin) 45 minut 3 godziny 3 godziny 3 godziny 30 mdnut 5 godzin 50 minut 7 godzin 20 minut W tablicy 1 pokazano, ze powloki krzemowe wy¬ tworzone na szkle w próbach 2—12 przy uzyciu gazu zawierajacego etylen, maja poprawiona odpor¬ nosc na alkalia w porównaniu ze szklem powleka¬ nym wedlug próby 1 — kpntrodnej, bez dodatku etylenu do gazu zawierajacego silan. Male zmiany proporcji etylenu obecnego w gazie wydaja sie po¬ wodowac tylko male zmiany we wlasnosciach op¬ tycznych nadawanych szklu przez powloke zawiera¬ jaca krzem.Wyniki wskazuja, ze przy malych stosunkach ety¬ lenu do mcnosilanu, jak w próbkach 2, 3 i 4, nie ma istotnej zmiany wlasnosci optycznych, ale w sposób nieoczekiwany zwieksza sie odpornosc po¬ wlok zawierajacych krzem na atak alkaliów. Do¬ strzegalne slady ataku pojawiaja sie dopiero po ok- 35 40 45 resie co najmniej 1 godziny pozostawajnia szkla w kontakcie z 1 n wodorotlenkiem sodu.Oznaczono wlasnosci optyczne powlok zawieraja¬ cych krzem wedlug próbek 1,, 2, 4, 5, 10 i 12. Przy pomiarach stosowano kompensacje na zabarwienie podloza szklanego przez porównywanie powleczo¬ nych i niepowleczonych próbek barwionego pod¬ loza szklanego. W rezultacie zabarwione podloze za¬ stapiono jasnym szklem o grubosci 6 mm* Wyniki, które podano w tablicy 2 dotycza wlas¬ nosci optycznych próbek 6 mm jasnego szkla sodo- woMwapienno-krzemionkowego wyprodukowanego na lazni stopionego metalu, o powloce równowaznej powlokom wytworzonym na barwionym szkle pod¬ loza, jak opisano w zwiazku z tablica 1.Powloka próbki nr. 1 2 4 5 10 12 Stosunek C2H4:Si(H4 0 0,22 0(,17 . 0,44 0,67 1,10 Przepusz¬ czanie swiatla °/o 311 43 32 41 47 57 Tablica 2 Odbicie swiatla % 54 41 52 43 36 29 Bezposrednie przepuszczanie ciepla slonecz¬ nego % 43 51 43 49 53 59 i Odbicie ciepla slo¬ necznego % 33 28 . 37 30 25 20 Absorpcja ciepla slo¬ necznego °/o 19 21 20 2,1 22 21 Calkowite prze¬ puszczanie cie¬ pla slonecznego % 49 58 49 56 60 66 u u i ii i ii -^-^^^«»112 933 '» • Gdy stosunek etylenu do silanu jesit miniejszy od 0,1 nie wystepuja wiekisze zmiany wlasnosci powle¬ czonego sziKDa w porównaniu z próbka 1(, wytworzo¬ na bez dodatku etylenu do gazu zawierajacego si¬ lan.W miara jak wzrasta ilosc etylenu nastepuje staly wzrost odpornosci na alkalia mierzonej jako czas przed pojawieniem sie wizualnego ataku, az do cza¬ su co najmniej 50 godzin 50 minut,, gdy stosunek etylenu do silanu wynosi lj2jl.Zwiekszona proporcja etylenu do silanu na ogól prowadzi do obnizenia wspólczynnika zalamania swiatla powloki krzemowej a w konsekwencji do zmiany wlasnosci optycznych powleczonego szkla.Przez regulacje przeplywu etylenu w stosunku do przeplywu silanu w azocie, mozliwe jest osiagniecie okreslonych z góry wlasnosci optycznych, zwlaszcza wysokiego stopnia odbijania swiatla, i uzyskanie korzystnej wysokiej odpornosci na alkalia zapew¬ nianej przez obecnosc etylenu w gazie zawieraja¬ cym silan.W próbach starzenia w warunkach atmosferycz¬ nych, powleczone szklo wystawiono na dzialanie wilgotnej atmosfery. Zawierajaca krzem powloka próbki 1-kontrolnej przetrzymala okolo 10 dni Nie stwierdzono natomiast widocznej zmiany w powlo¬ kach krzelmowych próbek 2^12 po 6 tygodniowym okresie próby, która prowadzono w paczkach 5 po¬ wleczonych szyb, kazda o powierzchni 300 ram?, oddzielonych rozdrobnionym materialem przeklad¬ kowym i umieszczonych w komorze prób starzenia w warunkach atmosferycznych, w której utrzymano temperature 60°C i wilgoltnosc wzgledna 95—ilOO°/o.Powloki zawierajace krzem, wytworzone sposobem wedlug wynalazku, badano i iporównywano z powlo¬ kami ka^empwymi wytworzonymi pod nieobecnosc zwiazku oddajacego elektrony. Najbardziej zauwa¬ zalna cecha byl widoczny wzrost zawartosci tlenu w powloce, to jest spadek stosunku krzem: tlen, wynikajacy z zastosowania zwiazku oddajacego ele¬ ktrony. Przypuszcza sie, ze co najmniej czesc obec¬ nego tlenu w powloce wytworzonej sposobem we¬ dlug wynalazku jest w innej postaci niz jakikol¬ wiek tlen obecny w powlokach wykonanych pod nieobecnosc zwiazku oddajacego elektrony. Tlen ten Tablica 3 Prób¬ ka 15 16 17 1 1S 19 i *# Calkowity przeplyw gazu (litry/minu¬ te) 140 130 180 ISO 180 Gaz objetosciowy % C2H4 0 0,6 1,1 1,1 2 SiH4 4,6 5,2 6,0 5,4 6,9 N2 92 91,6 91,5 91,4 91,1 H2 3,4 2,6 1,4 2,1 0 Stosunek C2H4:SiH4 0 0,11 0,18 0,20 0,29 yR max (nm) 400 455 460 430 Wspólczyn¬ nik zala¬ mania swiatla 3,36 3,13 3,29 3,2S Grubosc powloki (nm) 30,0 35,8 35,0 37,2 Odpornosc na alkalia 18 sekund 45 sekund 5 minut 5 minut 30. sekund 30 minut 1 W jest w sposób widoczny odpowiedzialny za zmiane pozycji pików i intensywnosci elektronów krzemu co obserwuje sie w USCA (Elektron Spectroskopy for Chemical Analysiis). Na przyklad, gdy stosujs 5 sie wysokie proporcje etylenu, glówny pik krzemu (2p) obserwuje sie wyraznie przy 102,0 eV w po¬ równaniu z pikami przy 103,3 eV i 99,4 eV przypi¬ sywanymi metalicznemu krzemowi i utlenionemu krzemowi, odpowiednio (patrz C. D, Wagner, Fara- 10 day Dilscussions of the Ghemical ,Society 60, 1975, 296).Odpornosc na alkalia powloki wydaje sie zwiazana z wysoka zawartoscia tlenu w powloce, która tak jak odpornosc na alkalia, wydaje sie wz- 15 rastac ze wzrostem stosunku zwiazku oddajacego elektrony do silanu w gazie.Analiza wykazala, ze moga byc obecne w powlo¬ ce jony takie jak sodu, wapnia i magnezu a ich rozmieszczenie na powierzchni szkla i w powloce 20 zalezy od stosunku etylenu do silanu, zas zmiany w rozmieszczeniu odzwierciedlaja zmiany w roz¬ mieszczeniu i stanie tlenu w powloce.W miare wzrostu zawartosci etylenu w gazie za¬ wierajacym silan, wspólczynnik zalamania swiatla 26 powloki progresywnie zmniejsza sie. Konsekwent¬ nie, nastepuje progresywny spadek zarówno odbija¬ nia swiatla jak i odbijania ciepla slonecznego. Nie towarzyszy temu jakis znaczacy wzrost absorpcji optycznej przez powloke krzemowa, tak, ze zumiej- 30 szenie odbijania dorównywalo wzrostowi przepusz¬ czania swiatla i ciepla slonecznego. Zmiana wspól¬ czynnika odbijania swiatla miala miejsce bez ja¬ kiejs istotniejszej zmiany grubosci powloki, co ilu¬ struje tablica 1. 35 W innej serii doswiadczen, w której jasne szklo soidowo^waptienno-krzeoiiiionkowe wytwarzano na lazni roztopionego metiaki i pokrywano powloka za¬ wierajaca krzem sposobem wedlug wynalazku, wy¬ kazano, ze jfwwloka ma nieoczekiwana odpornosc 40 nia atak alkaliów,. iSzklo powlekano blisko konca wylotowego' kon¬ strukcji zbiornika zawierajacego laznie roztopionego metalu, gdzie temperatura gazu wynosila 600-- 650o,C, Otrzymane wyniki zestawiono w tablicach 3 45 i 4.112 933 9 Niektóre wlasnosci próbek podano w tablicy 4.Tablica 4 10 Próbka 15 16 17 18 19 Odbijanie swiatla % 51,5 51,8 54,3 54,9 Przepuszczanie swiatla °/o 32,0 29,1 27,2 27,0 Pozycje niewypelnione w tablicach 3 i 4 oznacza¬ ja, ze wartosci te nie byly mierzone w trakcie prób.Nieoczekiwanie stwierdzono, ze w przypadku sto¬ sowania etylenu w celu poprawienia odpornosci na 10 15 silan, trójsilan, lub silany podstawione takie jak chlorosilany, które na ogól stosuje sie w obecnosci wodoru.Wyniki wykazuja, ze gdy jako zwiazek oddajacy elektrony stosuje sie etylen, korzystny stosunek etylenu do silanu w gazie zawiera sie w zakresie 0,1 —2,0. Bardziej szczególowo stosunek etylenu do si¬ lanu w gazie wynosi 0,2^0,5.Korzystna kompozycja gazowa, jak wykazano w próbach, jest gaz zawierajacy krzem, skladajacy sie z 1—7°/oj objetosciowych monosilanu (SiH4), 0,5P/o objetosciowych etylenu (C2H4) i ewentualnie z do¬ datkiem wodoru (H2), reszte stanowil azot.Wspólczynnik zalamania swiatla odbijajacej, od¬ pornej na alkalia powloki wynosi, jak oznaczono 2,5—3,5, a -zwlaszcza 3,li±0y3.Próbka 20 21 " 22 23 Stosunek C2H4:SiH4 0 0,33 0,36 0,45 Wspólczynnik zalamania swiatla 3,15 3,09 3,07 2,78 Tablica Grubosc powloki (nm) 32„5 33,2 34,6 36,4 5 Przepuszczanie swiatla °/o 31,9 3il,2 30,0 40,8 Odbicie swiatla % 48,1 47,0 47,9 38,7 Odpornosc na alkalia 18 sekund 7 minut 20 minut 50 minut alkalia powlok krzemowych wytworzonych na pla¬ skim szkle podtrzymywanym na kapieli stopionego metalu, gazowy etylen wplywa na zlagodzenie wi¬ docznej nieciaglosci w powloce, wynikajacej z osa¬ dzania sie no powierzchni szkla malych czastek zawierajacych metal.Podobne próby przeprowadzono z walcowana tafla szkla sodowo-wapienno-krzemionkowego w tempe¬ raturze 600°C a wyniki podane wi tablicy 5 wskazu¬ ja na podobna trwalosc powloki krzemowej podda¬ nej próbie odpornosci na alkalia przez kontaktowa¬ nie z 1 n NaOH w temperaturze 90°C. Szybkosci przeplywu etylenu i silanu w nosniku gazowym dostosowano do wytwarzania okreslonych z góry wlasnosci optycznych poprzez zmiane stosunku ety¬ len: silan, determinuje wspólczynnik zalamania swiatla powloki.Przy realizacji sposobu wedlug wynalazku mozna stosowac inne silany, które rozkladaja sie na gora¬ cym szkle, na przyklad wyzsze silany takie jak dwu- 35 40 45 50 Jako skladnik gazu zawierajacego krzem stoso¬ wano równiez inne zwiazki oddajace elektrony. In¬ nymi oilefinami, które moga byc stosowane sa buta¬ dien !(C4H6) i penten Zwiazkiem oddajacym elektrony moze byc weglo¬ wodór acetylenowy. Jako skladnik gazu stosowano acetylen. Dalej, jako skladnik oddajacy elektrony moze byc uzyty weglowodór aromatyczny, xvii przy- klad benzen (C6H6),, toluen (C6H5.CH3), lub ksylen (C6H4,(CH3)2).Innymi dodatkami do gaizu zawierajacego krzem,. które jak stwierdzono sa skuteczne jako donory ele¬ ktronów i nadaja powloce odpornosc na alkalia *a pochodne olefin, na przyklad dwufluoiroetylen (C2H2F2) oraz amoniak i(NH3).Kilka przykladów zastosowania tych zwiazków jako donorów elektronów podano w tablicy 6. Wszy¬ stkie wytworzone powloki mialy odpornosc na alka¬ lia porównywalna z wytworzona tak jak ojpisano powyzej, z etylenem jako donorem elektronów.Donor elektronów acetylen C2H2 butadien C4H6 amoniak NH3 amoniak NH3 dwufluoroetylen C2H2F2 benzen C6H6 Tempera¬ tura °C 605 580 680 620 605 612 Tal d 1 i c a 6 Gaz °/oi objetosciowy Donor 0,4 0,24 1,3 0,7 0,55 0,32 SiH4 0,33 0,32 0,3 0,63 0,63 0,64 N2 90,27 90,44 89,4 89,67 89,82 90,04 H2 9 9 9 9 9 9 Stosunek donor:SliH4 h2:l 0,75:1 4,5:1 1,1:1 0,85:1 0,5:1 |112 933 11 12 Najwygodniej stosuje sie zwiazek, fetory jest w stanie gazowym w temperaturze pokojowej, a za¬ tem korzystnie jest uzyc zwiazek olefinowy lub acetylenowy zawierajacy 2—i5 atomów wegla, z tym, ze mozna sitoiscwac zwiazki zawierajace wiecej niz 5 aitomów wegla ipod warunkiem, ze sa w stanie gazowym iponlzej temperatury rozkladu silanu.Wynalazek stosuje sie równiez dO' powlekania szkla dowolnego [metalu alkalicznego z krzemianem, lub metalu ziem alkalicznych z krzemianem.W dalszych próbach ogrzewano podloze ze szkla borowo-krzemianowego do temperatury 600°C a doprowadzana do powierzchni szkla mieszanina gazowa zawierala l|°/oi objetosciowy monosilanu, l,25°/o objetosciowych etylenu )lG°/oj objetosciowych wodoru i 87,75',% objejtosciowych azotu. Otrzymano odbijajaca powloke krzemowa, która po zanurzeniu na okres 3 godzin win wodorotlenku sodu nie wykazala zadnego sladu ataku.(Stwierdzono, równiez,, ze przy stosunku' etylenu Jo silanu wiekszym od 2,5 na przyklad 5 tworzy sie na szkle odporna na alkalia powloka krzemowa o bardzo dobrej odpornosci na scieranie. Powloki takie maja wysoka odbija,!nosc widzialnego swiatla, jaka maja próbki opisane powyzej a nawet moga byc przezroczyste dla swiatla widzialnego'.Z ais tirzezenia patentowe 1, iSp03Ób powlekania szkla powloka zawierajaca krzem, dla nadania powierzchni odpornosci na al¬ kalia, obejmujacy przeprowadzanie szkla przez stacje powlekania, gdy temperatura szkla wynosi co naj- minej 400°C, uwalnianie gazu zawierajacego silan blisko powierzchni szkla przy zasadniczo stalym cisnieniu na szerokosci powierzchni szkla i w wa- .ruirdsach nieutleniajacych tak, aby silan ulegajacy pirolizie osadzal na powierzchni szkla powloke za¬ wierajaca krzem, znamienny tym, ze stosuje sie gaz zawierajacy silan z dodatkiem zwiazku oddajacego ele(k$r©ny. 2. ISposób wedlug zastrz. !, znamienny tym, ze .stosuje sie gaz zawierajacy silan oraz azot jako 10 15 *j 25 30 35 40 nosnik i do 6?/o objetosciowych gazowego zwiazku oddajacego elektrony. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako gaz zawierajacy silan stosuje sie gaz, który zawiera monoisdlan w azocie jako nosniku i do 6°/o objetosciowych gazowej olefiny. 4. 'Sposób wedlug zastrz.. 3i, znamienny tym, ze stosuje sie gaz, który jako olefine zawiera etylen. 5. Sposób wedlug zastrz. 4„ znamienny tym, ze stosuje sie gaz, kitóry jako olefine zawiera etylen, przy stosunku etylenu do; silanu w zakresie 0,1^2,0. 6. Sposób wedlug zastrz. 5i, znamienny tym, ze stosuje sie gaz, w którym stosunek etylenu do si¬ lanu wynosi 0,21—0,5. 7. iSposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze jako gaz zawierajacy silan stosuje sie gaz, który zawiera 1—7°/o| objetosciowych monosilanu, 0,5—6% objetosciowych etylenu i ewentualnie pewna ilosc wodoru, reszte stanowi azot. 8. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako gaz zawierajacy silan stosuje sie gaz, który zawiera 0,3—7'%; objetosciowych monosilanu, 0„2— 6% objejtosciowych gazowego zwiazku oddajacego elektrony i ewentualnie pewna ilosc wodoru, reszte stanowi azot. 9.. 'Sposób wedlug zastrz. 7 albo 8, znamienny tym, ze stosuje sie gaz zawierajacy silan, który za¬ wiera do 10% wodoru. 10. Sposób wedlug zastrz. 8, znamienny tym, ze jako zwiazek oddajacy elektrony stosuje sie weglo¬ wodór acetylenowy. lii. 'Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze jako weglowodór acetylenowy stosuje sie acetylen. 112,. iSposób wedlug zastrz. 8, znamienny tym, ze jako zwiazek oddajacy elektrony stosuje sie weglo¬ wodór aromatyczny, !.li3. Sposób wedlug zastrz. 1(2, znamienny tym, ze jako weglowodór aromayczny stosuje sie benzen. 1(4. 'Sposób wedlug zastrz. 8, znamienny tym, ze jako zwiazek oddajacy elektrony stosuje sie amo¬ niak.LZGraf. Z-d Nr B — H39/H2 i00+i20 szt. A-4.Cena 45 zl PL PL
PL1978204996A 1977-03-01 1978-03-01 Method of coating the glass with silicon-containing coatings PL112933B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8641/77A GB1573154A (en) 1977-03-01 1977-03-01 Coating glass

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL204996A1 PL204996A1 (pl) 1978-12-18
PL112933B1 true PL112933B1 (en) 1980-11-29

Family

ID=9856396

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1978204996A PL112933B1 (en) 1977-03-01 1978-03-01 Method of coating the glass with silicon-containing coatings

Country Status (26)

Country Link
US (1) US4188444A (pl)
JP (1) JPS53130717A (pl)
AR (1) AR217280A1 (pl)
AU (1) AU516481B2 (pl)
BE (1) BE864413A (pl)
BR (1) BR7801209A (pl)
CA (1) CA1110119A (pl)
CS (1) CS212268B2 (pl)
DD (1) DD136045A6 (pl)
DE (1) DE2808780C2 (pl)
DK (1) DK149924C (pl)
ES (1) ES467480A1 (pl)
FI (1) FI62522C (pl)
FR (1) FR2382511A1 (pl)
GB (1) GB1573154A (pl)
IT (1) IT1111431B (pl)
LU (1) LU79149A1 (pl)
MX (1) MX147940A (pl)
NL (1) NL179042C (pl)
NO (1) NO143100C (pl)
PL (1) PL112933B1 (pl)
RO (1) RO75434A7 (pl)
SE (1) SE431866B (pl)
SU (1) SU878191A3 (pl)
TR (1) TR20091A (pl)
ZA (1) ZA781053B (pl)

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4298650A (en) * 1980-03-31 1981-11-03 Eastman Kodak Company Phosphorescent screens
JPS5826052A (ja) * 1981-08-06 1983-02-16 Asahi Glass Co Ltd アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体
CA1245109A (en) * 1983-10-31 1988-11-22 Hsien-Kun Chu Method of forming amorphous polymeric halosilane films and products produced therefrom
GB8420534D0 (en) * 1984-08-13 1984-09-19 Pilkington Brothers Plc Coated products
US5165972A (en) * 1984-08-13 1992-11-24 Pilkington Plc Coated glass
JPS6195356A (ja) * 1984-10-16 1986-05-14 Mitsubishi Electric Corp フオトマスクブランク
JPS61116358A (ja) * 1984-11-09 1986-06-03 Mitsubishi Electric Corp フオトマスク材料
JPS61161763U (pl) * 1985-03-29 1986-10-07
US4661381A (en) * 1985-10-07 1987-04-28 Libbey-Owens-Ford Co. Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article
JPH0521020Y2 (pl) * 1985-12-05 1993-05-31
US4749430A (en) * 1986-10-16 1988-06-07 Shell Oil Company Method of making an encapsulated assemblage
US4869966A (en) * 1986-10-16 1989-09-26 Shell Oil Company Encapsulated assemblage and method of making
JPS6430458U (pl) * 1987-08-13 1989-02-23
GB8814922D0 (en) * 1988-06-23 1988-07-27 Pilkington Plc Coatings on glass
ATE136253T1 (de) * 1989-02-21 1996-04-15 Libbey Owens Ford Co Gegenstände aus beschichtetem glas
US5328768A (en) * 1990-04-03 1994-07-12 Ppg Industries, Inc. Durable water repellant glass surface
US5171414A (en) * 1990-12-10 1992-12-15 Ford Motor Company Method of making transparent anti-reflective coating
US5106671A (en) * 1990-12-10 1992-04-21 Ford Motor Company Transparent anti-reflective coating
JP3139031B2 (ja) * 1991-02-21 2001-02-26 日本板硝子株式会社 熱線遮蔽ガラス
US5234748A (en) * 1991-06-19 1993-08-10 Ford Motor Company Anti-reflective transparent coating with gradient zone
CA2084247A1 (en) * 1992-03-18 1993-09-19 Francis Paul Fehlner Lcd panel production
ES2096864T3 (es) * 1992-07-11 1997-03-16 Pilkington Uk Ltd Procedimiento para la preparacion de revestimientos reflectantes sobre vidrio y espejos preparados a partir del mismo.
US5580364A (en) * 1992-07-11 1996-12-03 Libbey-Owens-Ford Co. Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color
FR2695118B1 (fr) * 1992-09-02 1994-10-07 Air Liquide Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre.
GB9400320D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coating on glass
GB9400319D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
GB9400323D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
US5723172A (en) * 1994-03-11 1998-03-03 Dan Sherman Method for forming a protective coating on glass
US5665424A (en) * 1994-03-11 1997-09-09 Sherman; Dan Method for making glass articles having a permanent protective coating
CA2159296C (en) * 1994-10-14 2007-01-30 Michel J. Soubeyrand Glass coating method and glass coated thereby
CN1051534C (zh) * 1994-11-22 2000-04-19 秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司 浮法在线生产镀膜玻璃的方法
GB9500330D0 (en) * 1995-01-09 1995-03-01 Pilkington Plc Coatings on glass
US6055828A (en) * 1997-12-30 2000-05-02 Closure Medical Corporation Treatment methods for glass medical adhesive applicators
US6350397B1 (en) 1999-03-10 2002-02-26 Aspen Research Corporation Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties
AU2002306436A1 (en) * 2001-02-12 2002-10-15 Asm America, Inc. Improved process for deposition of semiconductor films
WO2003064345A1 (fr) * 2002-01-31 2003-08-07 Nippon Sheet Glass Company, Limited Procede de production de plaque de verre a film mince et plaque de verre
US6919133B2 (en) * 2002-03-01 2005-07-19 Cardinal Cg Company Thin film coating having transparent base layer
ATE344217T1 (de) * 2002-03-01 2006-11-15 Cardinal Cg Co Dünnfilmbeschichtung mit einer transparenten grundierungsschicht
WO2004009861A2 (en) * 2002-07-19 2004-01-29 Asm America, Inc. Method to form ultra high quality silicon-containing compound layers
US20050271893A1 (en) * 2004-06-04 2005-12-08 Applied Microstructures, Inc. Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer
US7638167B2 (en) * 2004-06-04 2009-12-29 Applied Microstructures, Inc. Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer
US20050044894A1 (en) * 2003-08-29 2005-03-03 Douglas Nelson Deposition of silica coatings on a substrate
DE102004012977A1 (de) * 2004-03-17 2005-10-06 Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH Kratzfestes optisches Mehrschichtsystem auf einem kristallinen Substrat
US20050221003A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-06 Remington Michael P Jr Enhancement of SiO2 deposition using phosphorus (V) compounds
US7879396B2 (en) * 2004-06-04 2011-02-01 Applied Microstructures, Inc. High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics
US7966969B2 (en) * 2004-09-22 2011-06-28 Asm International N.V. Deposition of TiN films in a batch reactor
US7629267B2 (en) * 2005-03-07 2009-12-08 Asm International N.V. High stress nitride film and method for formation thereof
WO2007075369A1 (en) * 2005-12-16 2007-07-05 Asm International N.V. Low temperature doped silicon layer formation
US7691757B2 (en) 2006-06-22 2010-04-06 Asm International N.V. Deposition of complex nitride films
US7629256B2 (en) * 2007-05-14 2009-12-08 Asm International N.V. In situ silicon and titanium nitride deposition
US7833906B2 (en) 2008-12-11 2010-11-16 Asm International N.V. Titanium silicon nitride deposition
CN101618952B (zh) * 2009-07-30 2011-08-17 杭州蓝星新材料技术有限公司 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法
CN102584023A (zh) * 2012-02-22 2012-07-18 株洲旗滨集团股份有限公司 一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法及其玻璃
CN104812717A (zh) * 2012-11-26 2015-07-29 旭硝子株式会社 薄膜形成方法
CN106007395A (zh) * 2016-05-11 2016-10-12 刘畅 一种用于厨卫电器的易清洁玻璃的制作方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2439689A (en) * 1948-04-13 Method of rendering glass
DE395978C (de) * 1921-05-28 1924-05-24 Siemens & Halske Akt Ges Verfahren zur Herstellung eines spiegelnden Siliziumbelages
US3873352A (en) * 1971-12-17 1975-03-25 Owens Illinois Inc Abrasion resistant one step glass coating with excellent labelability
US3984608A (en) * 1974-04-17 1976-10-05 Kerr Glass Manufacturing Corporation Glassware having improved resistance to abrasion
GB1507465A (en) * 1974-06-14 1978-04-12 Pilkington Brothers Ltd Coating glass

Also Published As

Publication number Publication date
FR2382511B1 (pl) 1981-01-02
AU3348778A (en) 1979-08-30
NO143100C (no) 1980-12-17
JPS5728379B2 (pl) 1982-06-16
JPS53130717A (en) 1978-11-15
BR7801209A (pt) 1978-12-12
DD136045A6 (de) 1979-06-13
TR20091A (tr) 1980-07-08
NL179042C (nl) 1986-07-01
IT7867404A0 (it) 1978-02-28
CS212268B2 (en) 1982-03-26
PL204996A1 (pl) 1978-12-18
DE2808780C2 (de) 1985-10-24
ZA781053B (en) 1979-10-31
FI62522B (fi) 1982-09-30
FR2382511A1 (fr) 1978-09-29
DE2808780A1 (de) 1978-09-14
AR217280A1 (es) 1980-03-14
FI62522C (fi) 1983-01-10
NL7802090A (nl) 1978-09-05
DK93678A (da) 1978-09-02
LU79149A1 (fr) 1978-09-28
SE7802257L (sv) 1978-09-02
US4188444A (en) 1980-02-12
RO75434A7 (ro) 1981-04-30
ES467480A1 (es) 1979-08-01
NO780671L (no) 1978-09-04
AU516481B2 (en) 1981-06-04
BE864413A (fr) 1978-08-28
GB1573154A (en) 1980-08-13
NO143100B (no) 1980-09-08
MX147940A (es) 1983-02-08
IT1111431B (it) 1986-01-13
DK149924B (da) 1986-10-27
FI780699A (fi) 1978-09-02
SE431866B (sv) 1984-03-05
DK149924C (da) 1987-06-29
CA1110119A (en) 1981-10-06
SU878191A3 (ru) 1981-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL112933B1 (en) Method of coating the glass with silicon-containing coatings
EP0174727B1 (en) Coated products
US5165972A (en) Coated glass
EP0348185B1 (en) Coatings on glass
US4100330A (en) Method for coating glass with silicon and a metal oxide and resulting product
EP0275662B1 (en) Coatings on glass
EP0627391B1 (en) Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making
CA2114971C (en) Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glass and coated glass substrates
AU746265B2 (en) Coated substrate with high reflectance
AU622532B2 (en) Coated glass articles
CN107721162B (zh) 一种水晶灰镀膜玻璃及其制备方法
KR810000743B1 (ko) 유리의 코팅 방법
KR920010068B1 (ko) 규소 및 산소 함유 투명 장벽 피막을 갖는 유리
GB2171118A (en) Metal oxide protective coating for silicon-coated glass
MXPA97005147A (en) Vid coatings