SE431866B - Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggning - Google Patents
Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggningInfo
- Publication number
- SE431866B SE431866B SE7802257A SE7802257A SE431866B SE 431866 B SE431866 B SE 431866B SE 7802257 A SE7802257 A SE 7802257A SE 7802257 A SE7802257 A SE 7802257A SE 431866 B SE431866 B SE 431866B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- silane
- coating
- glass
- process according
- ethylene
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
- Y10T428/31612—As silicone, silane or siloxane
Description
78432257-1 10 15 20 25 30 35 2 bildar en kiselbeläggning på glasytan. Förfarandet kännetecknas av att den silanhaltiga gasen, för att kiselbeläggningen skall få en förutbestämd alkalibeständighet, innehåller en andel av en gasformig elektrongivande förening, som åstadkommer denna alkalibeständighet.
Kiselbeläggningens alkalibeständighet bestämmes på nedan beskrivet sätt genom att man fastställer hur lång tid kiselbeläggningen motstår angrepp av en stark alkalisk lös- ning utan synlig skada.
Förfarandet är lämpligt för behandling av många kom- mersiellt framställda glas i olika former, vilka kan förflyttas förbi en beläggningsstation, t.ex. fönsterglas, optiskt glas och glasfibrer. Sådana glas innehåller i allmänhet oxider av åtminstone två element och är vanligen blysilikatglas, alkali- metallsilikatglas och jordalkalimetallsilikatglas, särskilt soda-kalksilikatglas. I många fall, beroende på glasets alkali- beständighet och den använda andelen elektrongivande förening, kan alkalibeständigheten hos den belagda yta, som erhålles med förfarandet, vara större än hos glasunderlaget.
Elektrongivande föreningar, som användes för att ge kiselbeläggningen alkalibeständighet, innehåller i sin elektron- struktur, antingen i bindningar eller såsom ensamma elektronpar elektroner, som kan avges till elektronstrukturen hos lämpliga mottagarmolekyler eller -atomer. Den elektrongivande för- eningen kan vara en olefin.
Företrädesvis innefattar den silanhaltiga gasen kväve såsom bärgas och upp till 6 volymprocent av en gasformig elektnmr givande förening. Särskilt lämpliga elektrongivande föreningar är olefiner, speciellt eten. Den silanhaltiga gasen kan ut- göras av monosilan i kväve såsom bärgas och upp till 6 volym- procent av en gasformig olefin.
Förhållandet mellan elektrongivande förening och silan i gasen ligger vid 0,1 - 2,0, företrädesvis 0,2 - 0,5.
I vissa fall kan förhållanden utanför dessa områden vara lämp- liga. 7 Enligt uppfinningen kan vidare den silanhaltiga gasen innehålla 1 - 7 volymprocent monosilan, 0,5 - 5 volymprocent 10 15 20 25 30 35 7802257-1 3 eten och vid behov en viss andel väte, varvid resten utgöres av kväve.
Uppfinningen avser även ett förfarande, vari den silanhaltiga gasen innefattar 0,3 - 7 volymprocent monosilan, 0,2 - 6 volymprocent av en gasformig elektrongivande förening och vid behov en viss mängd väte, varvid resten utgöres av kvävgas. _ Då väte ingår i den silanhaltiga gasen, kan denna innehålla upp till 10 volymprocent väte. En högre vätehalt kan användas.
Den elektrongivande föreningen kan utgöras av ett acetylenkolväte, t.ex. acetylen. Vidare kan den vara ett aromatiskt kolväte, t.ex. bensen, toluen eller xylen.
Den elektrongivande föreningen kan utgöras av ammoniak.
Enligt uppfinningen kan man framställa glas med en re- flekterande kiselbeläggning, vilken har ett brytningsindex av 2,5 - 3,5 och sådan alkalibeständighet att ytan icke visar tecken på skada för ett obeväpnat öga efter nedsänkning i 1N natriumhydroxid vid 90% under trädesvis visar beläggningen inga tecken på skada under åtminstone åtminstone 60 sekunder. Före- 0 5 minuter. Företrädesvis är beläggningen sådan att 30 6 av det infallande ljuset från en C.I.E. Illuminant C-källa mot den belagda glasskidan reflekteras. Beläggningens brytningsindex kan ligga vid 2,8 - 3,4. Glaset kan utgöras av soda-kalk- silikatglas.
I exemplifierande syfte beskrivs nedan några utförings- exempel på beläggning av glas, exempelvis planglas av soda- kalk-silikat med en kiselbeläggning.
Det glasunderlag, som skall förses med en kiselbelägg- ning, utgöres av ett kommersiellt färgat solskyddsglas av soda- kalk-silikat, som innehåller små mängder selen- och koboltoxid, såsom färgämnen, av det slag, vilket framställes i bandform på ett bad av smält metall.
Glaset belägges vid en temperatur av minst HOOOC och föres förbi en beläggningsstatíon, såsom anges i patentansökan _ 75/08758-B. 10 15 20 25 30 35 7802257- 1 H När glaset belägges under framställning på ett bad av smält metall, kan beläggningen anbringas vid och nära utloppsänden av den vanna, som innehåller det smälta metall- bad, över vilket glaset föres fram i bandform. Inom området för badets utloppsände, där beläggningen sker, ligger glasets temperatur vid 800 - 65000.
Alternativt kan beläggningen anbringas på ett glasband, 'medan detta framföres genom ett kylområde,varvid gasfördelaren är anordnad inom det område, där glastemperaturen ligger vid 400 - 75000. Det glas, som belägges, kan utgöras av valsat eller vertikaldraget glas. Uppfinningen är särskilt tillämplig vid beläggning av planglas, inklusive trådarmerat glas, i skiv- eller bandform, formade glasföremål och glasfibrer.
För att uppnå en godtagbar silansönderdelningshastig- het bör glaset ha en temperatur av minst 40000, främst 400 - 85000, och särskilt 500 - 85000. För att undvika olämpliga bireaktíoner, t.ex. bildning av kiselkarbid, är det lämpligt att undvika temperaturer över 85000. I vissa fall kan en maximal temperatur- gräns bestämmas av glasytans mjukhet.
Försök utfördes med beläggning av plant, färgat sol- skyddsglas av soda-kalk-silikat-typ under användning av olika andelar eten (CQHQ) i en silanhaltig gas, som bestod av 5 volym- l procent monosilan (SiH4) i kväve såsom bärgas. De erhållna resul- taten anges i tabellerna I och II.
I tabell I betyder Rmax den maximala ljusreflektionen uttryckt i procent av det infallande ljuset och Ä Rmax den våglängd, vid vilken ljusreflektionen från beläggningen är maximal.
Glasets brytningsindex är känt, varför beläggningens brytningsindex kan bestämmas under användning av en standard- ljuskälla. Beläggningstjockleken kan bestämmas genom optiska tjockleksmätningar på känt sätt.
Samtliga optiska mätningar i beskrivningen genom- fördes på känt sätt med glasets belagda yta vänd mot ljuskällan, vilken utgjordes av en C.I.E. Illuminant C.
Tabell I visar, att kiselbeläggningen på glasproven 2-12 med en andel eten i gasen hade en förbättrad alkalibe- 10 15 20 25 30 35 7802257-1 5 ständighet i jämförelse med det belagda glasprovet 1, kontroll- provet, som framställts utan tillsats av eten till den silan- haltiga gasen. Små variationer i den närvarande etenhalten förefaller medföra endast små förändringar i de optiska egenskaper, som bibringats glaset av kiselbeläggningen.
Resultaten visar,att man med ett lågt förhållande mellan eten och monosilan, såsom i exemplen 2, 3 och M, inte får någon väsentlig förändring av de optiska egenskaperna, men en överraskande förbättring av kiselhaltiga beläggningens beständighet mot alkaliingrepp i det att synliga. tecken på an- grepp uppträder först sedan glaset hade varit i kontakt med 1N natriumhydroxid under minst 1 timme.
De optiska egenskaperna hos kiselbeläggningar på proven 1, 2, 4, 5, 10 och 12 mättes. Vid mätningarna korrigerades för glasunderlagets färg genom jämförelse av belagda och obelagda prov av det färgade glasunderlaget. I praktiken ersattes det färgade underlaget med 6 mm tjockt klart planglas. De i tabell II återgivna resultaten hänför sig till de optiska egenskaperna hos prov av 6 mm klart soda-kalk-silikatglas, som framställts på ett smältmetallbad och försetts med beläggningar ekvivalenta med de som framställts på ett färgat glasunderlag, såsom anges i anslutning till tabell I.
När förhållandet mellan eten och silan i gasen är under 0,1, förändras det belagda glasets egenskaper icke nämn- värt i förhållande till prov 1, som framställts utan någon eten i den silanhaltiga gasen.
Då etenmängden ökas, ökar alkalibeständigheten stadigt vid mätning såsom den tid, som erfordras för synliga angrepp, upp till minst 350 min, när förhållandet mellan eten och silan är 1,2:1. ökning av förhållandet mellan eten och silan ledde allmänt till minskning av kiselbeläggningens brytningsindex och åtföljande ändring av det belagda glasets optiska egen- skaper. Genom att reglera av etenflödet i förhållande till flödet av silan i kväve kunde man erhålla förutbestämda optiska egenskaper, särskilt en hög reflexionsförmåga, samtidigt som man erhöll fördelen av hög alkalibeständighet genom närvaro av eten i den silanhaltiga gasen. 7802257-1 10 15 20 25 30 35 6 Vid väderbeständighetsprovningar, varvid det belagda glaset utsattes för en fuktig atmosfär, överlevde kiselbe- läggningen på prov 1, kontrollprovet, under omkring 10 dagar. Ingen förändring av kiselbeläggningen vid prov 2 - 12 kunde iakttas efter 6 veckors försöksperiod. Försöket genom- fördes på paket med 5 belagda skivor om 300 X 300 mm, vilka skildes av finkornigt material och anbringades i ett väder- beständighetsskåp, vari temperaturen hölls vid 6000 och den relativa fuktigheten vid 95 - 100 Kiselbeläggningar, vilka framställts med förfarandet %. enligt uppfinningen under användning av eten, har undersökts och jämförts med kiselbeläggningar framställda i frånvaro av en elektrongivande förening. Det mest anmärkningsvärda känne- tecknet är en ökning av beläggningens syrehält,dvs. en sänkning av förhållandet mellan kisel och syre, vilken är ett resul- tat av användningen av en elektrongivande förening. Åtminstone en del av syret i den beläggning, som framtällts enligt före- liggande uppfinning, torde föreligga i annan form än syret i beläggning, som framtällts i frånvaro av elektrongivande förening. Detta syre synes vara ansvarigt för en förändring i topplägena och intensiteterna för kiselelektronerna vid studium genom ESCA (elektronspektroskopi för kemisk analys). Vid an- vändning av hög etenhalt kan exempelvis kiselhuvudtoppen (2p) klart iakttas vid 102,0 eV i jämförelse med toppar vid 103,3 eV och 99,5 eV, vilka hör till kiselmetall resp. oxiderad kisel (D.D. Wagner, Faraday Discussions of the Chemical Society 60, 1975, 295).
Beläggningens alkalibeständighet synes sammanhänga med den höga syrehalten i beläggningen, vilken liksom alkali- beständigheten synes öka vid ökning av förhållandet mellan elektrongivande förening och silan i gasen.
Analys visade, att joner av natrium, kalcium och mag- nesium kan finnas i beläggningen och att deras fördelningar i glasytan och beläggningen beror på förhållandet mellan eten och silan. Förändringar i fördelningarna reflekterar föränd- ringar av syrets fördelning och1llstånd i beläggningen. 10 15 20 25 30 35 7802257-1 7 Då etenhalten i den silanhaltiga gasen ökades, minskades beläggningens brytningsindex progressivt. Följaktligen minskade både ljusreflexionen och solvärmereflexionen progressivt.
Detta åtföljdes ej av någon nämnvärd ökning av kiselbelägg- ningarnas optiska absorption, varför varje reduktion av re- flexionen hörde ihop med en ökning av genomsläppningen för ljus och solvärme. Förändringen av brytningsindex ägde rum utan någon väsentlig ändring av beläggningens tjocklek, såsom framgår av tabell I.
I en annan försöksserie framställdes klart soda-kalk- silikatg1as_pàett bad av smält metall och belades med en kisel- beläggning med förfarandet enligt uppfinningen, vilken belägg- ning visade sig vara överraskande beständig mot alkaliangrepp.
Glaset belades nära den metallsmältbadet innehållande vannans utloppsände, där glastemperaturen låg vid 600 - 650OC.
De erhållna resultaten visas i tabellerna III och IV.
Några optiska egenskaper hos dessa prov anges i tabell IV.
Tomrum i tabellerna III och IV visar, att motsvar- ande värden icke mättes under försöken.
Det visade sig överraskande nog, att vid användning av eten för att förbättra alkalibeständigheten hos kisel- beläggningar på planglas, som bars på ett smältmetallbad, etengasen utjämnade de skenbara avbrott i beläggningen, som berodde på omsättning av små metallhaltiga partiklar på glas- ytan.
Liknande försök utfördes med valsat planglas av soda- kalk-silikat-typ vid 60000, och resultaten som anges i tabell V tyder på en liknande tålighet hos kiselbeläggningen vid alkali- beständighetsförsök med 1N NaOH vid 90°C. Flödena av eten och silan i dess bärgas inställdes för att ge förutbestämda optiska egenskaper genom\ariation av förhållandet mellan eten och silan, vilket bestämde beläggningens brytningsindex.
Andra silaner, som sönderdelas på hett glas, kan an- vändas vid tillämpning av uppfinningen, t.ex. högre silaner, såsom disilan eller trisilan, eller substituerade silaner, såsom klorsilaner, vilka i allmänhet används i närvaro av väte. 7 81-0225 7- 1 10 15 20 25 30 35 8 Dessa resultat visar, att det när eten används som elektrongivande förening,är lämpligt, att förhållandet mellan eten och silan i gasen ligger vid 0,1 - 2,0 särskilt vid 0,2 - 0,5.
Den lämpligaste gassammansättningen vid dessa försök visade sig vara en kiselhaltig gas med 1 - 7 volymprocent mono- silan (Siñu), 0,5 - 6 volymprocent eten (CZHR) och eventuellt väte (H2), varvid resten var kväve (N2).
Brytningsindex för de reflekterande alkalibeständiga beläggningarna var 2,5 - 3,5, särskilt 3,1 1 0,3.
Andra elektrongivande föreningar användes såsom be- ståndsdelar i den kiselhaltiga gasen. Andra olefiner, som kan an- vändas, är butadien (CÄHB) och penten (C5H10).
Den elektrongivande föreningen kan utgöras av ett acetyl- eniskt kolväte. Acetylen användes som beståndsdel i gasen.
Vidare kan ett aromatiskt kolväte användas som elektrongivande beståndsdelar i gasen, t.ex. bensen (C6H6), toluen (CGHSCH3) eller xylen (C6Hu(CH3)2).
Andra tillsatser till den silanhaltiga gasen, vilka visat sig lämpliga såsom elektrongivare och ger alkali- beständighet hos beläggningen,är olefinderivat, t.ex. di- fluoreten (C2H2F2), och ammoniak (NH3).
Några exempel på användningen av dessa andra elektron- givande föreningar anges i tabell VI. Samtliga framställda beläggningar hade en alkalibeständighet jämförbar med den som enligt ovan erhölls med eten som elektrongivare.
Det är lämpligast att använda en förening, som är gasformig vid rumstemperatur, varför det är fördelaktigt att använda en olefin- eller acetylenföreníng, som innehåller 2 - 5 kolatomer, ehuru föreningar med fler än 5 kolatomer kan användas, om de är gasformiga under silanens sönder- delningstemperatur.
Uppfinningen är även tillämplig på beläggning av alkali- metallsilikatglas eller jordalkalimetallsilikatglas.
I ännu ett försök värmdes ett borosilikatglasunderlag till 600°C och leddes en gasblandning med 1 volymprocent monosilan, 1,25 volymprocent eten, 10 volymprocent väte och 10 7802257-1 9 87,75 volymprocent kväve över glasytan. Man erhöll en reflek- terande kiselbeläggning, som vid nedsänkning i 1N natrium- hydroxid vid 9000 under mer än 3 timmar icke visade synliga tecken på angrepp.
Det har även visat sig, att användning av ett för- hållande mellan eten och silan över 2,5, t.ex. 5, leder till en alkalibeständig kiselbeläggning med mycket god nötningsbe- ständighet. Sådana beläggningar har icke lika god reflexions- förmåga fåfsynligt ljus som ovan beskrivna prov och kan t.o.m. förefalla genomträngliga för synligt ljus. 7802257-1 10 Tabell I Prov Gasflöde Gas (l/min) volymprocent Förhållande 0210,, s 5 siHu/Nz 0251,, sin, NZ C2H4*SiH4 1 0 45 5 95 0 2 0,5 4s 1,1 s 93,9 0,22=1 3 0,5 55 0,9 5 94,1 0,13=1 4 0,5 50 0,9 s 94,2 0,17=1 5 1 45 2,2 4,9 92,9 0,44=1 s 1 55 1,8 -4,9 93,3 0,33=1 7 1 60 1,6 4,9 93,5 0,33:1 8 1,75 45 3,7 4,8 91,5 Û,78:1 9 2 55 3,5 4,8 91,7 0,73:1 10 2 60 3,2 4,8 92 0,67:1 11 3,3 ss 5,7 4,7 39,7 1,20=1 12 3,3 60 5,2 4,7 90,1 1,10:1 forts.
Pm” RMK ^ RM* Éïåïïings" Éšåïššåilïgs' Éiïïšåäig- % nm nm het min 1 58,7 430 3,35 32,1 0,3 2 45,8 425 2,80 37,9 65 3 52,9 450 3,10 36,3 60 4 54,3 475 3,15 37,7 50 5 44,6 475 2,75 43,2 140 6 51,0 455 3,00 37,9 150 7 52,4 470 3,05 38,5 165 ß 37,2 405 2,50 40,5 130 9 40,1 420 2,50 40,4 130 10 42,3 415 2,65 39,2 210 11 35,3 405 2,45 41,3 350 12 35,7 405 2,45 41,3 370 7802257-1 11 Tabell II Beläggning Förhållande Ljusgenom- Lj usreflexion av prov CZHH : SiHu tränglighet % % 1 0 31 5 4 2 Ü , 2 2 1% 3 U 1 ll 0 ,17 32 5 2 s o , nu 1:1 us 10 o , 67 u? ss 12 1 , 10 5 7 2 9 Beläggning Direkt solvärme- Solvärme- Solvärme- Total sol- av prov genomsläppning reflexion absorption värmege- noms läpp- % få 2; “WE 1 4 3 38 19 H 9 2 5 1 2 8 2 1 5 8 14 1% 3 37 2 O H 9 5 49 30 2 1 56 10 5 3 2 5 2 2 6 0 12 59 20 21 66 7EQ2257-1 @.>~ m.=m mfl 1 1 wfl ~.>~ m,:m ßfl «.m~ w.Hm mfi o.~m w.flm mfl æggâfiääæåfl æäfiëcggg ää >H Hflwnma n om ~,>m m~.m Qw= m~.o O «.«m m.@ N Qwfi mfl m.m 1 1 1 Q~.o «.~ =.fim :.m «.« Qwfl mfl m @.mm m~.m om: wfi.@ :.fl w.fi@ o.w «.fi Qwfi ßfi m>.o @.mm . wH.m mm: flfl.o w.~ w.fi@ ~.m w.Q Qwfi wfi m.o o.Qw @m.m oo: 0 =.m Nm w.= Q oïfi mfi cfle. En En N: NZ mfim m =fie\fi pwßwflv xwfixuofip 1 1 ~ 1mmvwmn nmwcw: xwflcfi xmE mflm" m o 1332,» 1mwmawm xmmflflcvæfim m mvcmflamßfimm wcflcuvwmcmëëmmwmw mflmammmw Pfimáon. >0fim H H H AJmm/É. 7802257-1 mmwü ~"m.= m =o“°@¶ =w.o ~m.o Nfim cwwcwm ~h~m~u fi"m@.° m ~@.@w mw.Q wm.o wow aøvwnoøflwwa w mz «”fl.H m »w.m« mw.o >.Q oww xufi=ose< »az fl”m.= Q =.m@ m.o m.H omm «w«=ose< «"w>.= m ==.Q@ -.o =~.Q owm cwfivmwøm «"~.« m >~.°w mm.o 1.0 wow a«H>«@u< :www N N N o HHÉ. m z www wnmïww 0 wfim>ww uvcmfifiwnfißm w|EmHo>wmw . AEoH aconvxwfim .ID 1; . H> Hfiwßßa om ß.@m @.o= «.wm @>.~ m:.Q MN ON m.>= o.0m w.:m >°.m @m.o NN ß o.>= ~.flm ~.mm m°.m ~m.Q fiw m.Q «.w= m.fim m.~m m«.« Q ON :Ms « w En 1 H .: N .pwwn cowvvfiwammfi wficamwfiw xwfixuomw xoucw Fm. m o |wfimxfi< amswq aäocmmmsmu nmwcwcwwwamm nmwcwcwmßm wwcmfifiwcumm >0pm > .Swank
Claims (14)
1. l. Förfarande för beläggning av glas med en alkalibestän- dig kiselbeläggning, innefattande förflyttning av glaset förbi en beläggningsstation, medan glasets temperatur är lägst 400oC, och avgivande av silanhaltig gas nära glasytan vid ett väsent- ligen konstant tryck över glasytan och under icke oxiderande betingelser, så att silanen pyrolyseras för att på glasytan avsätta en kiselbeläggning, k ä n n e t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen, för att den kiselhaltiga beläggningen skall få förutbestämd alkalibeständighet,innehåller en andel av en gasformig elektrongivande förening, vilken åstadkommer den angivna alkalibeständigheten.
2. Förfarande enligt patentkravet l, t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller kväve k ä n n e - som bärgas och upp till 6 volymprocent av en gasformig elektron- givande förening.
3. _ Förfarande enligt patentkravet l, k ä n n e - t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller mono- silan i kväve som bärgas och upp till 6 volymprocent av en gas- formig olefin.
4. Förfarande enligt patentkravet 3, k ä n n e - t e c k n a t av att olefinen är eten.
5. Förfarande enligt patentkravet 4, k ä n n e - t e c k n a t av att olefinen är eten och att förhållandet mellan eten och silan i gasen ligger vid 0,1 ~ 2,0.
6. Förfarande enligt patentkravet 5, k ä n n e - t e c k n a t av att förhållandet mellan eten och silan i gasen ligger vid 0,2 - 0,5. '
7. Förfarande enligt patentkravet 4, k ä n n e - t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller 1 - 7 volymprocent monosilan, 0,5 - 6 volymprocent eten och eventuellt en andel väte, varvid resten utgöres av kväve.
8. Förfarande enligt patentkravet 2, k ä n n e - t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller 0,3 - 7 volymprocent monosilan, 0,2 - 6 volymprocent gasformig elektrongivande förening och eventuellt en andel väte samt i övrigt kväve. 10 15 raozzsv-1 15
9. Förfarande enligt patentkravet 7 eller 8, t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller upp till 10 % väte.
10. Förfarande enligt patentkravet 8, t e c k n a t av att den elektrongivande föreningen är ett k ä n n e - acetyleniskt kolväte.
11. Förfarande enligt patentkravet 10, k ä n n e - t e c k n a t av att det acetyleniska kolvätet är acetylen.
12. Förfarande enligt patentkravet 8, av att den elektrongivande föreningen är ett k ä n n e - t e c k n a t aromatiskt kolväte.
13. Förfarande enligt patentkravet 12, k ä n n e - t e c k n a t av att kclvätet är bensen.
14. Förfarande enligt patentkravet 8, av att den elektrongivande föreningen är k ä n n e - t e c k n a t ammoniak. k ä n n e -
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8641/77A GB1573154A (en) | 1977-03-01 | 1977-03-01 | Coating glass |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE7802257L SE7802257L (sv) | 1978-09-02 |
SE431866B true SE431866B (sv) | 1984-03-05 |
Family
ID=9856396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7802257A SE431866B (sv) | 1977-03-01 | 1978-02-28 | Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggning |
Country Status (26)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4188444A (sv) |
JP (1) | JPS53130717A (sv) |
AR (1) | AR217280A1 (sv) |
AU (1) | AU516481B2 (sv) |
BE (1) | BE864413A (sv) |
BR (1) | BR7801209A (sv) |
CA (1) | CA1110119A (sv) |
CS (1) | CS212268B2 (sv) |
DD (1) | DD136045A6 (sv) |
DE (1) | DE2808780C2 (sv) |
DK (1) | DK149924C (sv) |
ES (1) | ES467480A1 (sv) |
FI (1) | FI62522C (sv) |
FR (1) | FR2382511A1 (sv) |
GB (1) | GB1573154A (sv) |
IT (1) | IT1111431B (sv) |
LU (1) | LU79149A1 (sv) |
MX (1) | MX147940A (sv) |
NL (1) | NL179042C (sv) |
NO (1) | NO143100C (sv) |
PL (1) | PL112933B1 (sv) |
RO (1) | RO75434A7 (sv) |
SE (1) | SE431866B (sv) |
SU (1) | SU878191A3 (sv) |
TR (1) | TR20091A (sv) |
ZA (1) | ZA781053B (sv) |
Families Citing this family (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4298650A (en) * | 1980-03-31 | 1981-11-03 | Eastman Kodak Company | Phosphorescent screens |
JPS5826052A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体 |
CA1245109A (en) * | 1983-10-31 | 1988-11-22 | Hsien-Kun Chu | Method of forming amorphous polymeric halosilane films and products produced therefrom |
US5165972A (en) * | 1984-08-13 | 1992-11-24 | Pilkington Plc | Coated glass |
GB8420534D0 (en) * | 1984-08-13 | 1984-09-19 | Pilkington Brothers Plc | Coated products |
JPS6195356A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-14 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスクブランク |
JPS61116358A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-03 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスク材料 |
JPS61161763U (sv) * | 1985-03-29 | 1986-10-07 | ||
US4661381A (en) * | 1985-10-07 | 1987-04-28 | Libbey-Owens-Ford Co. | Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article |
JPH0521020Y2 (sv) * | 1985-12-05 | 1993-05-31 | ||
US4749430A (en) * | 1986-10-16 | 1988-06-07 | Shell Oil Company | Method of making an encapsulated assemblage |
US4869966A (en) * | 1986-10-16 | 1989-09-26 | Shell Oil Company | Encapsulated assemblage and method of making |
JPS6430458U (sv) * | 1987-08-13 | 1989-02-23 | ||
GB8814922D0 (en) * | 1988-06-23 | 1988-07-27 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
WO1990009883A1 (en) * | 1989-02-21 | 1990-09-07 | Libbey-Owens-Ford Co. | Coated glass articles |
US5328768A (en) * | 1990-04-03 | 1994-07-12 | Ppg Industries, Inc. | Durable water repellant glass surface |
US5171414A (en) * | 1990-12-10 | 1992-12-15 | Ford Motor Company | Method of making transparent anti-reflective coating |
US5106671A (en) * | 1990-12-10 | 1992-04-21 | Ford Motor Company | Transparent anti-reflective coating |
JP3139031B2 (ja) * | 1991-02-21 | 2001-02-26 | 日本板硝子株式会社 | 熱線遮蔽ガラス |
US5234748A (en) * | 1991-06-19 | 1993-08-10 | Ford Motor Company | Anti-reflective transparent coating with gradient zone |
CA2084247A1 (en) * | 1992-03-18 | 1993-09-19 | Francis Paul Fehlner | Lcd panel production |
US5580364A (en) * | 1992-07-11 | 1996-12-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color |
EP0583871B2 (en) * | 1992-07-11 | 2004-01-07 | Pilkington United Kingdom Limited | Method for preparing reflecting coatings on glass |
FR2695118B1 (fr) * | 1992-09-02 | 1994-10-07 | Air Liquide | Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre. |
GB9400319D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
GB9400320D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coating on glass |
GB9400323D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
US5665424A (en) * | 1994-03-11 | 1997-09-09 | Sherman; Dan | Method for making glass articles having a permanent protective coating |
US5723172A (en) * | 1994-03-11 | 1998-03-03 | Dan Sherman | Method for forming a protective coating on glass |
CA2159296C (en) * | 1994-10-14 | 2007-01-30 | Michel J. Soubeyrand | Glass coating method and glass coated thereby |
CN1051534C (zh) * | 1994-11-22 | 2000-04-19 | 秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司 | 浮法在线生产镀膜玻璃的方法 |
GB9500330D0 (en) * | 1995-01-09 | 1995-03-01 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
US6055828A (en) * | 1997-12-30 | 2000-05-02 | Closure Medical Corporation | Treatment methods for glass medical adhesive applicators |
US6350397B1 (en) | 1999-03-10 | 2002-02-26 | Aspen Research Corporation | Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties |
WO2002080244A2 (en) * | 2001-02-12 | 2002-10-10 | Asm America, Inc. | Improved process for deposition of semiconductor films |
EP1486468A1 (en) * | 2002-01-31 | 2004-12-15 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for producing glass plate with thin film and glass plate |
US6919133B2 (en) * | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
EP1480920B1 (en) * | 2002-03-01 | 2006-11-02 | Cardinal CG Company | Thin film coating having transparent base layer |
JP5005170B2 (ja) * | 2002-07-19 | 2012-08-22 | エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド | 超高品質シリコン含有化合物層の形成方法 |
US20050271893A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer |
US7638167B2 (en) * | 2004-06-04 | 2009-12-29 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer |
US20050044894A1 (en) * | 2003-08-29 | 2005-03-03 | Douglas Nelson | Deposition of silica coatings on a substrate |
DE102004012977A1 (de) * | 2004-03-17 | 2005-10-06 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Kratzfestes optisches Mehrschichtsystem auf einem kristallinen Substrat |
US20050221003A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-06 | Remington Michael P Jr | Enhancement of SiO2 deposition using phosphorus (V) compounds |
US7879396B2 (en) * | 2004-06-04 | 2011-02-01 | Applied Microstructures, Inc. | High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics |
US7966969B2 (en) * | 2004-09-22 | 2011-06-28 | Asm International N.V. | Deposition of TiN films in a batch reactor |
US7629267B2 (en) * | 2005-03-07 | 2009-12-08 | Asm International N.V. | High stress nitride film and method for formation thereof |
WO2007075369A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-07-05 | Asm International N.V. | Low temperature doped silicon layer formation |
US7691757B2 (en) | 2006-06-22 | 2010-04-06 | Asm International N.V. | Deposition of complex nitride films |
US7629256B2 (en) * | 2007-05-14 | 2009-12-08 | Asm International N.V. | In situ silicon and titanium nitride deposition |
US7833906B2 (en) | 2008-12-11 | 2010-11-16 | Asm International N.V. | Titanium silicon nitride deposition |
CN101618952B (zh) * | 2009-07-30 | 2011-08-17 | 杭州蓝星新材料技术有限公司 | 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法 |
CN102584023A (zh) * | 2012-02-22 | 2012-07-18 | 株洲旗滨集团股份有限公司 | 一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法及其玻璃 |
JPWO2014081030A1 (ja) * | 2012-11-26 | 2017-01-05 | 旭硝子株式会社 | 薄膜形成方法 |
CN106007395A (zh) * | 2016-05-11 | 2016-10-12 | 刘畅 | 一种用于厨卫电器的易清洁玻璃的制作方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2439689A (en) * | 1948-04-13 | Method of rendering glass | ||
DE395978C (de) * | 1921-05-28 | 1924-05-24 | Siemens & Halske Akt Ges | Verfahren zur Herstellung eines spiegelnden Siliziumbelages |
US3873352A (en) * | 1971-12-17 | 1975-03-25 | Owens Illinois Inc | Abrasion resistant one step glass coating with excellent labelability |
US3984608A (en) * | 1974-04-17 | 1976-10-05 | Kerr Glass Manufacturing Corporation | Glassware having improved resistance to abrasion |
GB1507465A (en) * | 1974-06-14 | 1978-04-12 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
-
1977
- 1977-03-01 GB GB8641/77A patent/GB1573154A/en not_active Expired
-
1978
- 1978-02-21 CA CA297,384A patent/CA1110119A/en not_active Expired
- 1978-02-21 AU AU33487/78A patent/AU516481B2/en not_active Expired
- 1978-02-22 ZA ZA00781053A patent/ZA781053B/xx unknown
- 1978-02-23 US US05/880,430 patent/US4188444A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-02-24 NL NLAANVRAGE7802090,A patent/NL179042C/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-27 NO NO780671A patent/NO143100C/no unknown
- 1978-02-28 SE SE7802257A patent/SE431866B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-02-28 BR BR7801209A patent/BR7801209A/pt unknown
- 1978-02-28 BE BE185557A patent/BE864413A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-28 DD DD20388278A patent/DD136045A6/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-28 FR FR7805644A patent/FR2382511A1/fr active Granted
- 1978-02-28 IT IT6740478A patent/IT1111431B/it active
- 1978-02-28 AR AR27127278A patent/AR217280A1/es active
- 1978-03-01 ES ES467480A patent/ES467480A1/es not_active Expired
- 1978-03-01 MX MX172611A patent/MX147940A/es unknown
- 1978-03-01 RO RO9335978A patent/RO75434A7/ro unknown
- 1978-03-01 FI FI780699A patent/FI62522C/fi not_active IP Right Cessation
- 1978-03-01 JP JP2217078A patent/JPS53130717A/ja active Granted
- 1978-03-01 DE DE2808780A patent/DE2808780C2/de not_active Expired
- 1978-03-01 PL PL1978204996A patent/PL112933B1/pl unknown
- 1978-03-01 CS CS781295A patent/CS212268B2/cs unknown
- 1978-03-01 TR TR2009178A patent/TR20091A/xx unknown
- 1978-03-01 LU LU79149A patent/LU79149A1/xx unknown
- 1978-03-01 DK DK93678A patent/DK149924C/da not_active IP Right Cessation
- 1978-03-01 SU SU782586050A patent/SU878191A3/ru active
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE431866B (sv) | Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggning | |
FI85460C (sv) | Förfarande för bildande av ett grundskikt på en glasyta | |
CA1255976A (en) | Ion-blocking coating on glass | |
EP0348185B1 (en) | Coatings on glass | |
JP3476724B2 (ja) | 被覆されたガラス基体 | |
CA1222912A (en) | Chemical vapor deposition of titanium nitride and like films | |
US5395698A (en) | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making | |
US5165972A (en) | Coated glass | |
CA1200444A (en) | Coating process using alkoxy substituted silicon- bearing reactant | |
US20070065580A1 (en) | Method for forming transparent thin film, transparent thin film formed by the method and transparent substrate with transparent thin film | |
AU746265B2 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
EP0353461B1 (en) | Chemical vapor deposition of bismuth oxide | |
DE602005002733T2 (de) | Verfahren zur abscheidung von aluminiumoxidbeschichtungen | |
KR920010068B1 (ko) | 규소 및 산소 함유 투명 장벽 피막을 갖는 유리 | |
FI89585C (sv) | Kontinuerligt ångavlagringsförfarande för framställning av en belagd g lasprodukt | |
TW200413264A (en) | Method for forming transparent thin film, transparent thin film formed by the method and transparent substrate with transparent thin film | |
JPS62260735A (ja) | 光フアイバ−用のケイ素含有被覆製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NAL | Patent in force |
Ref document number: 7802257-1 Format of ref document f/p: F |
|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 7802257-1 Format of ref document f/p: F |