SE431866B - Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggning - Google Patents

Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggning

Info

Publication number
SE431866B
SE431866B SE7802257A SE7802257A SE431866B SE 431866 B SE431866 B SE 431866B SE 7802257 A SE7802257 A SE 7802257A SE 7802257 A SE7802257 A SE 7802257A SE 431866 B SE431866 B SE 431866B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
silane
coating
glass
process according
ethylene
Prior art date
Application number
SE7802257A
Other languages
English (en)
Other versions
SE7802257L (sv
Inventor
M Landau
Original Assignee
Pilkington Brothers Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pilkington Brothers Ltd filed Critical Pilkington Brothers Ltd
Publication of SE7802257L publication Critical patent/SE7802257L/sv
Publication of SE431866B publication Critical patent/SE431866B/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/245Oxides by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/213SiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31609Particulate metal or metal compound-containing
    • Y10T428/31612As silicone, silane or siloxane

Description

78432257-1 10 15 20 25 30 35 2 bildar en kiselbeläggning på glasytan. Förfarandet kännetecknas av att den silanhaltiga gasen, för att kiselbeläggningen skall få en förutbestämd alkalibeständighet, innehåller en andel av en gasformig elektrongivande förening, som åstadkommer denna alkalibeständighet.
Kiselbeläggningens alkalibeständighet bestämmes på nedan beskrivet sätt genom att man fastställer hur lång tid kiselbeläggningen motstår angrepp av en stark alkalisk lös- ning utan synlig skada.
Förfarandet är lämpligt för behandling av många kom- mersiellt framställda glas i olika former, vilka kan förflyttas förbi en beläggningsstation, t.ex. fönsterglas, optiskt glas och glasfibrer. Sådana glas innehåller i allmänhet oxider av åtminstone två element och är vanligen blysilikatglas, alkali- metallsilikatglas och jordalkalimetallsilikatglas, särskilt soda-kalksilikatglas. I många fall, beroende på glasets alkali- beständighet och den använda andelen elektrongivande förening, kan alkalibeständigheten hos den belagda yta, som erhålles med förfarandet, vara större än hos glasunderlaget.
Elektrongivande föreningar, som användes för att ge kiselbeläggningen alkalibeständighet, innehåller i sin elektron- struktur, antingen i bindningar eller såsom ensamma elektronpar elektroner, som kan avges till elektronstrukturen hos lämpliga mottagarmolekyler eller -atomer. Den elektrongivande för- eningen kan vara en olefin.
Företrädesvis innefattar den silanhaltiga gasen kväve såsom bärgas och upp till 6 volymprocent av en gasformig elektnmr givande förening. Särskilt lämpliga elektrongivande föreningar är olefiner, speciellt eten. Den silanhaltiga gasen kan ut- göras av monosilan i kväve såsom bärgas och upp till 6 volym- procent av en gasformig olefin.
Förhållandet mellan elektrongivande förening och silan i gasen ligger vid 0,1 - 2,0, företrädesvis 0,2 - 0,5.
I vissa fall kan förhållanden utanför dessa områden vara lämp- liga. 7 Enligt uppfinningen kan vidare den silanhaltiga gasen innehålla 1 - 7 volymprocent monosilan, 0,5 - 5 volymprocent 10 15 20 25 30 35 7802257-1 3 eten och vid behov en viss andel väte, varvid resten utgöres av kväve.
Uppfinningen avser även ett förfarande, vari den silanhaltiga gasen innefattar 0,3 - 7 volymprocent monosilan, 0,2 - 6 volymprocent av en gasformig elektrongivande förening och vid behov en viss mängd väte, varvid resten utgöres av kvävgas. _ Då väte ingår i den silanhaltiga gasen, kan denna innehålla upp till 10 volymprocent väte. En högre vätehalt kan användas.
Den elektrongivande föreningen kan utgöras av ett acetylenkolväte, t.ex. acetylen. Vidare kan den vara ett aromatiskt kolväte, t.ex. bensen, toluen eller xylen.
Den elektrongivande föreningen kan utgöras av ammoniak.
Enligt uppfinningen kan man framställa glas med en re- flekterande kiselbeläggning, vilken har ett brytningsindex av 2,5 - 3,5 och sådan alkalibeständighet att ytan icke visar tecken på skada för ett obeväpnat öga efter nedsänkning i 1N natriumhydroxid vid 90% under trädesvis visar beläggningen inga tecken på skada under åtminstone åtminstone 60 sekunder. Före- 0 5 minuter. Företrädesvis är beläggningen sådan att 30 6 av det infallande ljuset från en C.I.E. Illuminant C-källa mot den belagda glasskidan reflekteras. Beläggningens brytningsindex kan ligga vid 2,8 - 3,4. Glaset kan utgöras av soda-kalk- silikatglas.
I exemplifierande syfte beskrivs nedan några utförings- exempel på beläggning av glas, exempelvis planglas av soda- kalk-silikat med en kiselbeläggning.
Det glasunderlag, som skall förses med en kiselbelägg- ning, utgöres av ett kommersiellt färgat solskyddsglas av soda- kalk-silikat, som innehåller små mängder selen- och koboltoxid, såsom färgämnen, av det slag, vilket framställes i bandform på ett bad av smält metall.
Glaset belägges vid en temperatur av minst HOOOC och föres förbi en beläggningsstatíon, såsom anges i patentansökan _ 75/08758-B. 10 15 20 25 30 35 7802257- 1 H När glaset belägges under framställning på ett bad av smält metall, kan beläggningen anbringas vid och nära utloppsänden av den vanna, som innehåller det smälta metall- bad, över vilket glaset föres fram i bandform. Inom området för badets utloppsände, där beläggningen sker, ligger glasets temperatur vid 800 - 65000.
Alternativt kan beläggningen anbringas på ett glasband, 'medan detta framföres genom ett kylområde,varvid gasfördelaren är anordnad inom det område, där glastemperaturen ligger vid 400 - 75000. Det glas, som belägges, kan utgöras av valsat eller vertikaldraget glas. Uppfinningen är särskilt tillämplig vid beläggning av planglas, inklusive trådarmerat glas, i skiv- eller bandform, formade glasföremål och glasfibrer.
För att uppnå en godtagbar silansönderdelningshastig- het bör glaset ha en temperatur av minst 40000, främst 400 - 85000, och särskilt 500 - 85000. För att undvika olämpliga bireaktíoner, t.ex. bildning av kiselkarbid, är det lämpligt att undvika temperaturer över 85000. I vissa fall kan en maximal temperatur- gräns bestämmas av glasytans mjukhet.
Försök utfördes med beläggning av plant, färgat sol- skyddsglas av soda-kalk-silikat-typ under användning av olika andelar eten (CQHQ) i en silanhaltig gas, som bestod av 5 volym- l procent monosilan (SiH4) i kväve såsom bärgas. De erhållna resul- taten anges i tabellerna I och II.
I tabell I betyder Rmax den maximala ljusreflektionen uttryckt i procent av det infallande ljuset och Ä Rmax den våglängd, vid vilken ljusreflektionen från beläggningen är maximal.
Glasets brytningsindex är känt, varför beläggningens brytningsindex kan bestämmas under användning av en standard- ljuskälla. Beläggningstjockleken kan bestämmas genom optiska tjockleksmätningar på känt sätt.
Samtliga optiska mätningar i beskrivningen genom- fördes på känt sätt med glasets belagda yta vänd mot ljuskällan, vilken utgjordes av en C.I.E. Illuminant C.
Tabell I visar, att kiselbeläggningen på glasproven 2-12 med en andel eten i gasen hade en förbättrad alkalibe- 10 15 20 25 30 35 7802257-1 5 ständighet i jämförelse med det belagda glasprovet 1, kontroll- provet, som framställts utan tillsats av eten till den silan- haltiga gasen. Små variationer i den närvarande etenhalten förefaller medföra endast små förändringar i de optiska egenskaper, som bibringats glaset av kiselbeläggningen.
Resultaten visar,att man med ett lågt förhållande mellan eten och monosilan, såsom i exemplen 2, 3 och M, inte får någon väsentlig förändring av de optiska egenskaperna, men en överraskande förbättring av kiselhaltiga beläggningens beständighet mot alkaliingrepp i det att synliga. tecken på an- grepp uppträder först sedan glaset hade varit i kontakt med 1N natriumhydroxid under minst 1 timme.
De optiska egenskaperna hos kiselbeläggningar på proven 1, 2, 4, 5, 10 och 12 mättes. Vid mätningarna korrigerades för glasunderlagets färg genom jämförelse av belagda och obelagda prov av det färgade glasunderlaget. I praktiken ersattes det färgade underlaget med 6 mm tjockt klart planglas. De i tabell II återgivna resultaten hänför sig till de optiska egenskaperna hos prov av 6 mm klart soda-kalk-silikatglas, som framställts på ett smältmetallbad och försetts med beläggningar ekvivalenta med de som framställts på ett färgat glasunderlag, såsom anges i anslutning till tabell I.
När förhållandet mellan eten och silan i gasen är under 0,1, förändras det belagda glasets egenskaper icke nämn- värt i förhållande till prov 1, som framställts utan någon eten i den silanhaltiga gasen.
Då etenmängden ökas, ökar alkalibeständigheten stadigt vid mätning såsom den tid, som erfordras för synliga angrepp, upp till minst 350 min, när förhållandet mellan eten och silan är 1,2:1. ökning av förhållandet mellan eten och silan ledde allmänt till minskning av kiselbeläggningens brytningsindex och åtföljande ändring av det belagda glasets optiska egen- skaper. Genom att reglera av etenflödet i förhållande till flödet av silan i kväve kunde man erhålla förutbestämda optiska egenskaper, särskilt en hög reflexionsförmåga, samtidigt som man erhöll fördelen av hög alkalibeständighet genom närvaro av eten i den silanhaltiga gasen. 7802257-1 10 15 20 25 30 35 6 Vid väderbeständighetsprovningar, varvid det belagda glaset utsattes för en fuktig atmosfär, överlevde kiselbe- läggningen på prov 1, kontrollprovet, under omkring 10 dagar. Ingen förändring av kiselbeläggningen vid prov 2 - 12 kunde iakttas efter 6 veckors försöksperiod. Försöket genom- fördes på paket med 5 belagda skivor om 300 X 300 mm, vilka skildes av finkornigt material och anbringades i ett väder- beständighetsskåp, vari temperaturen hölls vid 6000 och den relativa fuktigheten vid 95 - 100 Kiselbeläggningar, vilka framställts med förfarandet %. enligt uppfinningen under användning av eten, har undersökts och jämförts med kiselbeläggningar framställda i frånvaro av en elektrongivande förening. Det mest anmärkningsvärda känne- tecknet är en ökning av beläggningens syrehält,dvs. en sänkning av förhållandet mellan kisel och syre, vilken är ett resul- tat av användningen av en elektrongivande förening. Åtminstone en del av syret i den beläggning, som framtällts enligt före- liggande uppfinning, torde föreligga i annan form än syret i beläggning, som framtällts i frånvaro av elektrongivande förening. Detta syre synes vara ansvarigt för en förändring i topplägena och intensiteterna för kiselelektronerna vid studium genom ESCA (elektronspektroskopi för kemisk analys). Vid an- vändning av hög etenhalt kan exempelvis kiselhuvudtoppen (2p) klart iakttas vid 102,0 eV i jämförelse med toppar vid 103,3 eV och 99,5 eV, vilka hör till kiselmetall resp. oxiderad kisel (D.D. Wagner, Faraday Discussions of the Chemical Society 60, 1975, 295).
Beläggningens alkalibeständighet synes sammanhänga med den höga syrehalten i beläggningen, vilken liksom alkali- beständigheten synes öka vid ökning av förhållandet mellan elektrongivande förening och silan i gasen.
Analys visade, att joner av natrium, kalcium och mag- nesium kan finnas i beläggningen och att deras fördelningar i glasytan och beläggningen beror på förhållandet mellan eten och silan. Förändringar i fördelningarna reflekterar föränd- ringar av syrets fördelning och1llstånd i beläggningen. 10 15 20 25 30 35 7802257-1 7 Då etenhalten i den silanhaltiga gasen ökades, minskades beläggningens brytningsindex progressivt. Följaktligen minskade både ljusreflexionen och solvärmereflexionen progressivt.
Detta åtföljdes ej av någon nämnvärd ökning av kiselbelägg- ningarnas optiska absorption, varför varje reduktion av re- flexionen hörde ihop med en ökning av genomsläppningen för ljus och solvärme. Förändringen av brytningsindex ägde rum utan någon väsentlig ändring av beläggningens tjocklek, såsom framgår av tabell I.
I en annan försöksserie framställdes klart soda-kalk- silikatg1as_pàett bad av smält metall och belades med en kisel- beläggning med förfarandet enligt uppfinningen, vilken belägg- ning visade sig vara överraskande beständig mot alkaliangrepp.
Glaset belades nära den metallsmältbadet innehållande vannans utloppsände, där glastemperaturen låg vid 600 - 650OC.
De erhållna resultaten visas i tabellerna III och IV.
Några optiska egenskaper hos dessa prov anges i tabell IV.
Tomrum i tabellerna III och IV visar, att motsvar- ande värden icke mättes under försöken.
Det visade sig överraskande nog, att vid användning av eten för att förbättra alkalibeständigheten hos kisel- beläggningar på planglas, som bars på ett smältmetallbad, etengasen utjämnade de skenbara avbrott i beläggningen, som berodde på omsättning av små metallhaltiga partiklar på glas- ytan.
Liknande försök utfördes med valsat planglas av soda- kalk-silikat-typ vid 60000, och resultaten som anges i tabell V tyder på en liknande tålighet hos kiselbeläggningen vid alkali- beständighetsförsök med 1N NaOH vid 90°C. Flödena av eten och silan i dess bärgas inställdes för att ge förutbestämda optiska egenskaper genom\ariation av förhållandet mellan eten och silan, vilket bestämde beläggningens brytningsindex.
Andra silaner, som sönderdelas på hett glas, kan an- vändas vid tillämpning av uppfinningen, t.ex. högre silaner, såsom disilan eller trisilan, eller substituerade silaner, såsom klorsilaner, vilka i allmänhet används i närvaro av väte. 7 81-0225 7- 1 10 15 20 25 30 35 8 Dessa resultat visar, att det när eten används som elektrongivande förening,är lämpligt, att förhållandet mellan eten och silan i gasen ligger vid 0,1 - 2,0 särskilt vid 0,2 - 0,5.
Den lämpligaste gassammansättningen vid dessa försök visade sig vara en kiselhaltig gas med 1 - 7 volymprocent mono- silan (Siñu), 0,5 - 6 volymprocent eten (CZHR) och eventuellt väte (H2), varvid resten var kväve (N2).
Brytningsindex för de reflekterande alkalibeständiga beläggningarna var 2,5 - 3,5, särskilt 3,1 1 0,3.
Andra elektrongivande föreningar användes såsom be- ståndsdelar i den kiselhaltiga gasen. Andra olefiner, som kan an- vändas, är butadien (CÄHB) och penten (C5H10).
Den elektrongivande föreningen kan utgöras av ett acetyl- eniskt kolväte. Acetylen användes som beståndsdel i gasen.
Vidare kan ett aromatiskt kolväte användas som elektrongivande beståndsdelar i gasen, t.ex. bensen (C6H6), toluen (CGHSCH3) eller xylen (C6Hu(CH3)2).
Andra tillsatser till den silanhaltiga gasen, vilka visat sig lämpliga såsom elektrongivare och ger alkali- beständighet hos beläggningen,är olefinderivat, t.ex. di- fluoreten (C2H2F2), och ammoniak (NH3).
Några exempel på användningen av dessa andra elektron- givande föreningar anges i tabell VI. Samtliga framställda beläggningar hade en alkalibeständighet jämförbar med den som enligt ovan erhölls med eten som elektrongivare.
Det är lämpligast att använda en förening, som är gasformig vid rumstemperatur, varför det är fördelaktigt att använda en olefin- eller acetylenföreníng, som innehåller 2 - 5 kolatomer, ehuru föreningar med fler än 5 kolatomer kan användas, om de är gasformiga under silanens sönder- delningstemperatur.
Uppfinningen är även tillämplig på beläggning av alkali- metallsilikatglas eller jordalkalimetallsilikatglas.
I ännu ett försök värmdes ett borosilikatglasunderlag till 600°C och leddes en gasblandning med 1 volymprocent monosilan, 1,25 volymprocent eten, 10 volymprocent väte och 10 7802257-1 9 87,75 volymprocent kväve över glasytan. Man erhöll en reflek- terande kiselbeläggning, som vid nedsänkning i 1N natrium- hydroxid vid 9000 under mer än 3 timmar icke visade synliga tecken på angrepp.
Det har även visat sig, att användning av ett för- hållande mellan eten och silan över 2,5, t.ex. 5, leder till en alkalibeständig kiselbeläggning med mycket god nötningsbe- ständighet. Sådana beläggningar har icke lika god reflexions- förmåga fåfsynligt ljus som ovan beskrivna prov och kan t.o.m. förefalla genomträngliga för synligt ljus. 7802257-1 10 Tabell I Prov Gasflöde Gas (l/min) volymprocent Förhållande 0210,, s 5 siHu/Nz 0251,, sin, NZ C2H4*SiH4 1 0 45 5 95 0 2 0,5 4s 1,1 s 93,9 0,22=1 3 0,5 55 0,9 5 94,1 0,13=1 4 0,5 50 0,9 s 94,2 0,17=1 5 1 45 2,2 4,9 92,9 0,44=1 s 1 55 1,8 -4,9 93,3 0,33=1 7 1 60 1,6 4,9 93,5 0,33:1 8 1,75 45 3,7 4,8 91,5 Û,78:1 9 2 55 3,5 4,8 91,7 0,73:1 10 2 60 3,2 4,8 92 0,67:1 11 3,3 ss 5,7 4,7 39,7 1,20=1 12 3,3 60 5,2 4,7 90,1 1,10:1 forts.
Pm” RMK ^ RM* Éïåïïings" Éšåïššåilïgs' Éiïïšåäig- % nm nm het min 1 58,7 430 3,35 32,1 0,3 2 45,8 425 2,80 37,9 65 3 52,9 450 3,10 36,3 60 4 54,3 475 3,15 37,7 50 5 44,6 475 2,75 43,2 140 6 51,0 455 3,00 37,9 150 7 52,4 470 3,05 38,5 165 ß 37,2 405 2,50 40,5 130 9 40,1 420 2,50 40,4 130 10 42,3 415 2,65 39,2 210 11 35,3 405 2,45 41,3 350 12 35,7 405 2,45 41,3 370 7802257-1 11 Tabell II Beläggning Förhållande Ljusgenom- Lj usreflexion av prov CZHH : SiHu tränglighet % % 1 0 31 5 4 2 Ü , 2 2 1% 3 U 1 ll 0 ,17 32 5 2 s o , nu 1:1 us 10 o , 67 u? ss 12 1 , 10 5 7 2 9 Beläggning Direkt solvärme- Solvärme- Solvärme- Total sol- av prov genomsläppning reflexion absorption värmege- noms läpp- % få 2; “WE 1 4 3 38 19 H 9 2 5 1 2 8 2 1 5 8 14 1% 3 37 2 O H 9 5 49 30 2 1 56 10 5 3 2 5 2 2 6 0 12 59 20 21 66 7EQ2257-1 @.>~ m.=m mfl 1 1 wfl ~.>~ m,:m ßfl «.m~ w.Hm mfi o.~m w.flm mfl æggâfiääæåfl æäfiëcggg ää >H Hflwnma n om ~,>m m~.m Qw= m~.o O «.«m m.@ N Qwfi mfl m.m 1 1 1 Q~.o «.~ =.fim :.m «.« Qwfl mfl m @.mm m~.m om: wfi.@ :.fl w.fi@ o.w «.fi Qwfi ßfi m>.o @.mm . wH.m mm: flfl.o w.~ w.fi@ ~.m w.Q Qwfi wfi m.o o.Qw @m.m oo: 0 =.m Nm w.= Q oïfi mfi cfle. En En N: NZ mfim m =fie\fi pwßwflv xwfixuofip 1 1 ~ 1mmvwmn nmwcw: xwflcfi xmE mflm" m o 1332,» 1mwmawm xmmflflcvæfim m mvcmflamßfimm wcflcuvwmcmëëmmwmw mflmammmw Pfimáon. >0fim H H H AJmm/É. 7802257-1 mmwü ~"m.= m =o“°@¶ =w.o ~m.o Nfim cwwcwm ~h~m~u fi"m@.° m ~@.@w mw.Q wm.o wow aøvwnoøflwwa w mz «”fl.H m »w.m« mw.o >.Q oww xufi=ose< »az fl”m.= Q =.m@ m.o m.H omm «w«=ose< «"w>.= m ==.Q@ -.o =~.Q owm cwfivmwøm «"~.« m >~.°w mm.o 1.0 wow a«H>«@u< :www N N N o HHÉ. m z www wnmïww 0 wfim>ww uvcmfifiwnfißm w|EmHo>wmw . AEoH aconvxwfim .ID 1; . H> Hfiwßßa om ß.@m @.o= «.wm @>.~ m:.Q MN ON m.>= o.0m w.:m >°.m @m.o NN ß o.>= ~.flm ~.mm m°.m ~m.Q fiw m.Q «.w= m.fim m.~m m«.« Q ON :Ms « w En 1 H .: N .pwwn cowvvfiwammfi wficamwfiw xwfixuomw xoucw Fm. m o |wfimxfi< amswq aäocmmmsmu nmwcwcwwwamm nmwcwcwmßm wwcmfifiwcumm >0pm > .Swank

Claims (14)

7802257-1 l0 15 20 25 30 35 14 PATENTKRAV
1. l. Förfarande för beläggning av glas med en alkalibestän- dig kiselbeläggning, innefattande förflyttning av glaset förbi en beläggningsstation, medan glasets temperatur är lägst 400oC, och avgivande av silanhaltig gas nära glasytan vid ett väsent- ligen konstant tryck över glasytan och under icke oxiderande betingelser, så att silanen pyrolyseras för att på glasytan avsätta en kiselbeläggning, k ä n n e t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen, för att den kiselhaltiga beläggningen skall få förutbestämd alkalibeständighet,innehåller en andel av en gasformig elektrongivande förening, vilken åstadkommer den angivna alkalibeständigheten.
2. Förfarande enligt patentkravet l, t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller kväve k ä n n e - som bärgas och upp till 6 volymprocent av en gasformig elektron- givande förening.
3. _ Förfarande enligt patentkravet l, k ä n n e - t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller mono- silan i kväve som bärgas och upp till 6 volymprocent av en gas- formig olefin.
4. Förfarande enligt patentkravet 3, k ä n n e - t e c k n a t av att olefinen är eten.
5. Förfarande enligt patentkravet 4, k ä n n e - t e c k n a t av att olefinen är eten och att förhållandet mellan eten och silan i gasen ligger vid 0,1 ~ 2,0.
6. Förfarande enligt patentkravet 5, k ä n n e - t e c k n a t av att förhållandet mellan eten och silan i gasen ligger vid 0,2 - 0,5. '
7. Förfarande enligt patentkravet 4, k ä n n e - t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller 1 - 7 volymprocent monosilan, 0,5 - 6 volymprocent eten och eventuellt en andel väte, varvid resten utgöres av kväve.
8. Förfarande enligt patentkravet 2, k ä n n e - t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller 0,3 - 7 volymprocent monosilan, 0,2 - 6 volymprocent gasformig elektrongivande förening och eventuellt en andel väte samt i övrigt kväve. 10 15 raozzsv-1 15
9. Förfarande enligt patentkravet 7 eller 8, t e c k n a t av att den silanhaltiga gasen innehåller upp till 10 % väte.
10. Förfarande enligt patentkravet 8, t e c k n a t av att den elektrongivande föreningen är ett k ä n n e - acetyleniskt kolväte.
11. Förfarande enligt patentkravet 10, k ä n n e - t e c k n a t av att det acetyleniska kolvätet är acetylen.
12. Förfarande enligt patentkravet 8, av att den elektrongivande föreningen är ett k ä n n e - t e c k n a t aromatiskt kolväte.
13. Förfarande enligt patentkravet 12, k ä n n e - t e c k n a t av att kclvätet är bensen.
14. Förfarande enligt patentkravet 8, av att den elektrongivande föreningen är k ä n n e - t e c k n a t ammoniak. k ä n n e -
SE7802257A 1977-03-01 1978-02-28 Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggning SE431866B (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8641/77A GB1573154A (en) 1977-03-01 1977-03-01 Coating glass

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE7802257L SE7802257L (sv) 1978-09-02
SE431866B true SE431866B (sv) 1984-03-05

Family

ID=9856396

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE7802257A SE431866B (sv) 1977-03-01 1978-02-28 Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggning

Country Status (26)

Country Link
US (1) US4188444A (sv)
JP (1) JPS53130717A (sv)
AR (1) AR217280A1 (sv)
AU (1) AU516481B2 (sv)
BE (1) BE864413A (sv)
BR (1) BR7801209A (sv)
CA (1) CA1110119A (sv)
CS (1) CS212268B2 (sv)
DD (1) DD136045A6 (sv)
DE (1) DE2808780C2 (sv)
DK (1) DK149924C (sv)
ES (1) ES467480A1 (sv)
FI (1) FI62522C (sv)
FR (1) FR2382511A1 (sv)
GB (1) GB1573154A (sv)
IT (1) IT1111431B (sv)
LU (1) LU79149A1 (sv)
MX (1) MX147940A (sv)
NL (1) NL179042C (sv)
NO (1) NO143100C (sv)
PL (1) PL112933B1 (sv)
RO (1) RO75434A7 (sv)
SE (1) SE431866B (sv)
SU (1) SU878191A3 (sv)
TR (1) TR20091A (sv)
ZA (1) ZA781053B (sv)

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4298650A (en) * 1980-03-31 1981-11-03 Eastman Kodak Company Phosphorescent screens
JPS5826052A (ja) * 1981-08-06 1983-02-16 Asahi Glass Co Ltd アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体
CA1245109A (en) * 1983-10-31 1988-11-22 Hsien-Kun Chu Method of forming amorphous polymeric halosilane films and products produced therefrom
US5165972A (en) * 1984-08-13 1992-11-24 Pilkington Plc Coated glass
GB8420534D0 (en) * 1984-08-13 1984-09-19 Pilkington Brothers Plc Coated products
JPS6195356A (ja) * 1984-10-16 1986-05-14 Mitsubishi Electric Corp フオトマスクブランク
JPS61116358A (ja) * 1984-11-09 1986-06-03 Mitsubishi Electric Corp フオトマスク材料
JPS61161763U (sv) * 1985-03-29 1986-10-07
US4661381A (en) * 1985-10-07 1987-04-28 Libbey-Owens-Ford Co. Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article
JPH0521020Y2 (sv) * 1985-12-05 1993-05-31
US4749430A (en) * 1986-10-16 1988-06-07 Shell Oil Company Method of making an encapsulated assemblage
US4869966A (en) * 1986-10-16 1989-09-26 Shell Oil Company Encapsulated assemblage and method of making
JPS6430458U (sv) * 1987-08-13 1989-02-23
GB8814922D0 (en) * 1988-06-23 1988-07-27 Pilkington Plc Coatings on glass
WO1990009883A1 (en) * 1989-02-21 1990-09-07 Libbey-Owens-Ford Co. Coated glass articles
US5328768A (en) * 1990-04-03 1994-07-12 Ppg Industries, Inc. Durable water repellant glass surface
US5171414A (en) * 1990-12-10 1992-12-15 Ford Motor Company Method of making transparent anti-reflective coating
US5106671A (en) * 1990-12-10 1992-04-21 Ford Motor Company Transparent anti-reflective coating
JP3139031B2 (ja) * 1991-02-21 2001-02-26 日本板硝子株式会社 熱線遮蔽ガラス
US5234748A (en) * 1991-06-19 1993-08-10 Ford Motor Company Anti-reflective transparent coating with gradient zone
CA2084247A1 (en) * 1992-03-18 1993-09-19 Francis Paul Fehlner Lcd panel production
US5580364A (en) * 1992-07-11 1996-12-03 Libbey-Owens-Ford Co. Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color
EP0583871B2 (en) * 1992-07-11 2004-01-07 Pilkington United Kingdom Limited Method for preparing reflecting coatings on glass
FR2695118B1 (fr) * 1992-09-02 1994-10-07 Air Liquide Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre.
GB9400319D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
GB9400320D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coating on glass
GB9400323D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
US5665424A (en) * 1994-03-11 1997-09-09 Sherman; Dan Method for making glass articles having a permanent protective coating
US5723172A (en) * 1994-03-11 1998-03-03 Dan Sherman Method for forming a protective coating on glass
CA2159296C (en) * 1994-10-14 2007-01-30 Michel J. Soubeyrand Glass coating method and glass coated thereby
CN1051534C (zh) * 1994-11-22 2000-04-19 秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司 浮法在线生产镀膜玻璃的方法
GB9500330D0 (en) * 1995-01-09 1995-03-01 Pilkington Plc Coatings on glass
US6055828A (en) * 1997-12-30 2000-05-02 Closure Medical Corporation Treatment methods for glass medical adhesive applicators
US6350397B1 (en) 1999-03-10 2002-02-26 Aspen Research Corporation Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties
WO2002080244A2 (en) * 2001-02-12 2002-10-10 Asm America, Inc. Improved process for deposition of semiconductor films
EP1486468A1 (en) * 2002-01-31 2004-12-15 Nippon Sheet Glass Company, Limited Method for producing glass plate with thin film and glass plate
US6919133B2 (en) * 2002-03-01 2005-07-19 Cardinal Cg Company Thin film coating having transparent base layer
EP1480920B1 (en) * 2002-03-01 2006-11-02 Cardinal CG Company Thin film coating having transparent base layer
JP5005170B2 (ja) * 2002-07-19 2012-08-22 エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド 超高品質シリコン含有化合物層の形成方法
US20050271893A1 (en) * 2004-06-04 2005-12-08 Applied Microstructures, Inc. Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer
US7638167B2 (en) * 2004-06-04 2009-12-29 Applied Microstructures, Inc. Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer
US20050044894A1 (en) * 2003-08-29 2005-03-03 Douglas Nelson Deposition of silica coatings on a substrate
DE102004012977A1 (de) * 2004-03-17 2005-10-06 Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH Kratzfestes optisches Mehrschichtsystem auf einem kristallinen Substrat
US20050221003A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-06 Remington Michael P Jr Enhancement of SiO2 deposition using phosphorus (V) compounds
US7879396B2 (en) * 2004-06-04 2011-02-01 Applied Microstructures, Inc. High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics
US7966969B2 (en) * 2004-09-22 2011-06-28 Asm International N.V. Deposition of TiN films in a batch reactor
US7629267B2 (en) * 2005-03-07 2009-12-08 Asm International N.V. High stress nitride film and method for formation thereof
WO2007075369A1 (en) * 2005-12-16 2007-07-05 Asm International N.V. Low temperature doped silicon layer formation
US7691757B2 (en) 2006-06-22 2010-04-06 Asm International N.V. Deposition of complex nitride films
US7629256B2 (en) * 2007-05-14 2009-12-08 Asm International N.V. In situ silicon and titanium nitride deposition
US7833906B2 (en) 2008-12-11 2010-11-16 Asm International N.V. Titanium silicon nitride deposition
CN101618952B (zh) * 2009-07-30 2011-08-17 杭州蓝星新材料技术有限公司 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法
CN102584023A (zh) * 2012-02-22 2012-07-18 株洲旗滨集团股份有限公司 一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法及其玻璃
JPWO2014081030A1 (ja) * 2012-11-26 2017-01-05 旭硝子株式会社 薄膜形成方法
CN106007395A (zh) * 2016-05-11 2016-10-12 刘畅 一种用于厨卫电器的易清洁玻璃的制作方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2439689A (en) * 1948-04-13 Method of rendering glass
DE395978C (de) * 1921-05-28 1924-05-24 Siemens & Halske Akt Ges Verfahren zur Herstellung eines spiegelnden Siliziumbelages
US3873352A (en) * 1971-12-17 1975-03-25 Owens Illinois Inc Abrasion resistant one step glass coating with excellent labelability
US3984608A (en) * 1974-04-17 1976-10-05 Kerr Glass Manufacturing Corporation Glassware having improved resistance to abrasion
GB1507465A (en) * 1974-06-14 1978-04-12 Pilkington Brothers Ltd Coating glass

Also Published As

Publication number Publication date
DK149924C (da) 1987-06-29
FI62522B (fi) 1982-09-30
AR217280A1 (es) 1980-03-14
IT1111431B (it) 1986-01-13
DD136045A6 (de) 1979-06-13
SE7802257L (sv) 1978-09-02
MX147940A (es) 1983-02-08
DE2808780A1 (de) 1978-09-14
ES467480A1 (es) 1979-08-01
NO143100B (no) 1980-09-08
PL112933B1 (en) 1980-11-29
CS212268B2 (en) 1982-03-26
JPS5728379B2 (sv) 1982-06-16
IT7867404A0 (it) 1978-02-28
BE864413A (fr) 1978-08-28
FR2382511B1 (sv) 1981-01-02
AU516481B2 (en) 1981-06-04
PL204996A1 (pl) 1978-12-18
CA1110119A (en) 1981-10-06
RO75434A7 (ro) 1981-04-30
DE2808780C2 (de) 1985-10-24
GB1573154A (en) 1980-08-13
TR20091A (tr) 1980-07-08
NL179042C (nl) 1986-07-01
NO780671L (no) 1978-09-04
FI780699A (fi) 1978-09-02
NO143100C (no) 1980-12-17
ZA781053B (en) 1979-10-31
LU79149A1 (fr) 1978-09-28
US4188444A (en) 1980-02-12
FI62522C (fi) 1983-01-10
NL7802090A (nl) 1978-09-05
AU3348778A (en) 1979-08-30
DK93678A (da) 1978-09-02
DK149924B (da) 1986-10-27
SU878191A3 (ru) 1981-10-30
FR2382511A1 (fr) 1978-09-29
JPS53130717A (en) 1978-11-15
BR7801209A (pt) 1978-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE431866B (sv) Forfarande for beleggning av glas med en alkalibestendig kiselbeleggning
FI85460C (sv) Förfarande för bildande av ett grundskikt på en glasyta
CA1255976A (en) Ion-blocking coating on glass
EP0348185B1 (en) Coatings on glass
JP3476724B2 (ja) 被覆されたガラス基体
CA1222912A (en) Chemical vapor deposition of titanium nitride and like films
US5395698A (en) Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making
US5165972A (en) Coated glass
CA1200444A (en) Coating process using alkoxy substituted silicon- bearing reactant
US20070065580A1 (en) Method for forming transparent thin film, transparent thin film formed by the method and transparent substrate with transparent thin film
AU746265B2 (en) Coated substrate with high reflectance
EP0353461B1 (en) Chemical vapor deposition of bismuth oxide
DE602005002733T2 (de) Verfahren zur abscheidung von aluminiumoxidbeschichtungen
KR920010068B1 (ko) 규소 및 산소 함유 투명 장벽 피막을 갖는 유리
FI89585C (sv) Kontinuerligt ångavlagringsförfarande för framställning av en belagd g lasprodukt
TW200413264A (en) Method for forming transparent thin film, transparent thin film formed by the method and transparent substrate with transparent thin film
JPS62260735A (ja) 光フアイバ−用のケイ素含有被覆製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
NAL Patent in force

Ref document number: 7802257-1

Format of ref document f/p: F

NUG Patent has lapsed

Ref document number: 7802257-1

Format of ref document f/p: F