FI89585C - Kontinuerligt ångavlagringsförfarande för framställning av en belagd g lasprodukt - Google Patents

Claims (17)

1. Förfarande för framställning av ett ytbelagt glasföremäl, vilket förfarande innehäller steg för kontinuerlig förmatning av föremälet i varmt tillständ förbi en första och en andra successiv behandlingsstation (27, 2Θ) av vilka ätminstone den första befinner sig i en sluten zon (18), upprätthällande en icke oxiderande atmosfär i den slutna zonen, 1 vilken den första behandlingsstationen är belägen, upprätthällande en oxiderande atmosfär kring den andra behandlingsstationen och det närbelägna glaset, varjämte ett icke oxiderande medium som innehäller en siian, riktas frän den första behandlingsstationen mot en yta pä föremälet för att pä denna bilda en kisel-beläggning och varjämte ett oxiderande medium, som innehäller en metallförening riktas frän den andra behandlingsstationen mot glasföremälets belagda yta, kännetecknat av manövrerande glasföremälets temperatur, den uppehällstid i den oxiderande atmosfären kring den andra behandlingsstationen styres liksom sammansättningen av det icke oxiderande mediumet frän den första behandlingsstationen och sammansättningen av det oxiderande mediumet frän den andra stationen, sä att det silaninnehällande mediumet bildar en reflekterande kisel-beläggning pä glasytan, det oxiderande mediet, som innehäller en metall, bildar en beläggning av en metalloxid, och genom oxidation, innan föremälet när den andra behandlingsstationen, bildas ett kiseloxidskikt pä kiseln, som har en tillräcklig tjocklek för att metalloxidskiktet i huvudsak skall vara fritt frän "kratrar", varjämte kiseloxidskiktet har en tjocklek, som uppgär tili ätminstone ca 2 nm.

2. Förfarande enligt kravet 1, kännetecknat där a v, att ytbeläggningsmedierna är i ängfas, när de riktas tili kontakt med föremälet.

3. Förfarande enligt kravet 2, kännetecknat där a v, att det icke oxiderande ängmediet, som innehäller en 20 89585 siian, dessutom innehäller ett omattat kolväte i sädan mängd, att det bibringar silikonbeläggningen alkalibeständighet.

4. Förfarande enligt kravet 3, kännetecknat d ä r a v, att det icke oxiderande ängmediet innehäller ca 4-5 volym-procent omättat kolväte, frän 9 tili 13 volymprocent siian, och balansen utgöres av kväve.

5. Förfarande enligt kravet 4, kännetecknat d ä r a v, att det omättade kolvätet utgöres av etylen.

6. Förfarande enligt nägot av kraven 2-5, kännetecknat därav, att det oxiderande ängmediet som innehäller en metallförening, bestär av ca 99 volymprocent luft och 1 volymprocent tetrametyltenn.

7. Förfarande enligt nägot av kraven 2-6, kännetecknat därav, att nämda glasyta befinner sig vid en tempe-ratur pä ätminstone 593°C när den behandlas med nämnda icke oxiderande ängmedium, innehäller en siian och befinner sig ätminstone vid 398°C, när behandlingen med de icke oxiderande ängmediet, som innehäller en metallförening, genomföres.

8. Förfarande enligt kravet 6, kännetecknat d ä r av, att uppehällstiden i den oxiderande atmosfären kring den andra behandlingsstationen är tillräckligt för att en kiseloxidbeläggning skall bildas med en tjocklek, som uppgär tili mellan 2 och 5 nm pä kiselbeläggningen, och nämnda oxiderande gasbehandling genomföres vid en temperatur 521 ± 110C

9. Förfarande enligt kravet 6, kännetecknat därav, att uppehällstiden i den oxiderande atmosfären kring den andra behandlingsstationen är tillräcklig, för att en kiseloxidbeläggning skall bildas med en tjocklek pä mellan 6 - 9 nm, och nämda oxiderande gasbehandling genomföres vid en temperatur pä ca 632°C. 21 89585

10. Förfarande enligt nägot av kraven 2-9,känneteck-nat därav, att ytbeläggningen pä glasföremälet, efter det att den har kylts tili en tillräckligt läg temperatur, tvättas med utspädd fluorvätesyra och att styrning av glasets temperatur när det tvättas, tiden för tvättsteget och koncentrationen av fluorvätesyran, styres sä, att varken glasföremälet eller ytbeläggningen därpä nämnvärt förstöres, medan bildandet av en film ρά de ytbelagda föremälet vid efterföljande härdning förhindras.

11. Förfarande enligt kravet 10, kännetecknat därav, att man omrör fluorvätesyran under tvättningssteget och att varaktigheten av tvättningssteget uppgär tili mellan ca 4 sekunder och ca 12 sekunder, medan koncentrationen av fluorvätesyran uppgär tili mellan ca 2 viktprocent och ca 10 vikt-procent.

12. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat därav, att nämnda glas innehäller en värmeabsorberande, bronsfärgad förening och det ytbelagda glasföremälet har en skuggfaktor pä mellan 0,45 och 0,55.

13. Ytbelagt föremäl kännetecknat därav, att det innehäller ett glassubstrat och en reflekterande kiselbelägg-ning, som vidhäftar substratets yta, ett kiseloxidskikt intill kiselytan mittför det som vidhäftar substratet och en metall-oxidbeläggning, som vidhäftar kiseloxidskiktet, vilket är tillräckligt tjockt för att metalloxidskiktet skall bli i huvudsak fritt frän "kratrar", dvs kiseloxidskiktet har en tjocklek, som uppgär tili ätminstone ca 2 nm.

14. Föremäl enligt kravet 13, kännetecknat därav, att föremälets ytbeläggning har utsatts för en syratvätt för att möjliggöra en härdning av föremälet utan bildandet av en film därpä. 22 89585

15. Föremäl enligt kravet 13 eller 14, kännetecknat d ä r a v, att nämnda kiseloxidskikt har en tjocklek, som uppgär tili mellan ca 2 och 5 nm.

16. Föremäl enligt kravet 13 eller 14,kännetecknat d M r a v, att nämnda kiseloxidskikt har en tjocklek, som uppgär tili mellan ca 6 och 9 nm.

17. Föremäl enligt nägot av kraven 13-16, känneteck-nat därav, att nämnda metalloxidskikt utgöres av tennoxid.