CS212268B2 - Method of coating the glass by the coat containing the silicon - Google Patents
Method of coating the glass by the coat containing the silicon Download PDFInfo
- Publication number
- CS212268B2 CS212268B2 CS781295A CS129578A CS212268B2 CS 212268 B2 CS212268 B2 CS 212268B2 CS 781295 A CS781295 A CS 781295A CS 129578 A CS129578 A CS 129578A CS 212268 B2 CS212268 B2 CS 212268B2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- glass
- coating
- silane
- silicon
- electron donor
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 37
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 38
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 33
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 5
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- -1 hydrocarbylene hydrocarbon Chemical class 0.000 claims description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- WFLOTYSKFUPZQB-UHFFFAOYSA-N 1,2-difluoroethene Chemical group FC=CF WFLOTYSKFUPZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 241000221020 Hevea Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 235000015107 ale Nutrition 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003211 cis-1,4-polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N trisilane Chemical compound [SiH3][SiH2][SiH3] VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
- Y10T428/31612—As silicone, silane or siloxane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
Vynález se týká způsobu povlékání skla povlakem obsahujícím křemíky při kterém se sklo vede povlékací s^tanl-cí, přičemž sklo má teplotu a^spoň 400 °C, a v · bezprostřední blízkosti povrchu skla se uvozuje plyn obsahující silan při. konstantním tiLaku napříč povrchu skla a za neoxidačních podmínek tak, že silan podléhá pyrolýze, čímž se usadí povlak obsahující křemík na povrchu skla.
Vynález představuje zlepšení výrobku a způsobu uvedených v čs. patentu č. 209 479.
V uvedeném patentu je popsán a nárokován způsob, při němž se pohybuje sklo povlékací stanicí, přičemž teplota skla je alespoň 400 °C, do povlékací sanice se pMvéidí plyn obsahující sila^ těsně u povrhu žhavého skla se plyn uvozuje, při tans^ntním v postatě tlaku napříč povrchu skla, do žhavé zóny, ve které se plyn zahřívá, · přiČemž se tato zóna otevírá k povrchu skla a prochází napříč povrchu skla, takže dochází k pyrolýze silanu, přičemž se na povrchu slcla usazuje pov^k obsahující křemík a v uvedené žhavé zóně se udržují neoxidační podmínky.
Takto vyrobené sklo má v podstatě rovnoměrný obsah křemíku a má dobré vlastnosti co se týče propustnosti slunečního záření, a pěkný vzhled.
Nyní bylo zjištěno, že se přídavkem elektrondonorové sloučeniny k plynu, obsahujícímu silan, který je uvolnován těsně u povrchu žhavého skla, zvýší altaMvzfornost ^em^ového povlaku na skle.
Z článku reakce silanu s nenasycenými uhlovodíky od_ Davida G. Whiteho a.Eugena. G. Rochowa, Journal of Američan Chemical Society, Vol. 76, str. 3 887 až 3 902, je známo, že se při výrobě alkylsilanů reakcí silanu s ethylenem nebo acetylenem v zahřívané trubici po dobu tří hodin usazuje tenká vrstva křemíku na vnitřním povrchu zahřívané trubice, kterou cirkulují plynné reaktanty.
Hlavním cílem vynálezu je využití objevu, že přítomnost elektrondonorové sloučeniny uděluje alkalivzdornost křemíkovému povlaku na skle.
K dosažení tohoto cíle vytváří vynález způsob povlékání skla povlakem obsahujícím křentfk, při kterém se sklo vede povlékací stani-c^ přičemž sklo má teplotu alespoň·· . 400 °C, a v bezprostřední blízkosti povrchu · skla se uvolňuje plyn obsahující silan při konstantním tlaku napříč povrchu skla a za neoxidačních podmínek tak, že silan podléhá pyrolýze, čímž se usadí povlak obsahující křemík na povrchu skla, jehož podstata spočívá v tom, že plyn obsahující silan obsahuje podíl plynné elektrondonorové sloučeniny, která vyvolává alkalivzdornost.
Je výhodné, když plyn obsahující silan obsahuje dusík jako nosný plyn a plynnou elektrondonorovou sloučeninu v objemové koncentraci od 0,2 do 0,6 %.
Dále je výhodné, když plyn obsahující silan obsahuje monosilan v dusíku jako nosném plynu a jako elektrondonorovou sloučeninu plynný oléfir^.
Je výhodné, když tento olefin je ethylen.
Dále je výhodné, · když poměr objemových koncentrací ethylenu k silanu je v rozmezí 0,1 až 2,0.
«
Dále . je výhodné, když poměr objemových koncentrací ethylenu k silanu je v rozmezí 0,2 až 0,5.
Dále je výhodné, když plyn obsahující silan obsahuje monosilan v objemové koncentraci 1 až 7 %, ethylen v objemové koncentraci 0,5 až 6 · % a popřípadě podíl vodíku, přičemž zbytek je dusík.
212266
Dále je výhodné, když plyn obsahující silan obsahuje monosilaň v objemové koncentraci 0,3 až 7 %, plynnou elektrondonorovou sloučeninu v objemové koncentraci 0,2 až 6 % a popřípadě podíl vodíku, přičemž Zbytek je dusík.
Dále je výhodné, když plyn obsahující silan obsahuje vodík v objemové koncentraci 1,4 až 10 %.
Je výhodné, když je plynnou elektrondonorovou sloučeninou acetylenický uhlovodík, že- * jména acetylen.
Dále je výhodné, když je plynnou elektrondonorovou sloučeninou aromatický uhlovodík, zejména benzen.
Dále je výhodné, když je plynnou elektrondonorovou sloučeninou amoniak.
Těmito opatřeními podle vynálezu se dosáhne toho, že sklo opatřené křemíkovým povlakem vytvářeným z plynu obsahujícího silan s podílem plynné elektrondonorové sloučeniny má kromě výhodných optických vlastností, to jest odrazivosti a propustnosti slunečního záření v určitém výhodném rozmezí, ještě velmi vysokou alkalivzdornost zmíněného křemíkového povlaku.
Alkalivzdornost křemíkového povlaku se určuje způsobem, který bude dále popsán, zjišlováním doby, po jakou křemíkový povlak vydrží působení silně alkalického roztoku bez viditelného poškození. Způsob podle vynálezu je výhodný pro úpravu mnoha průmyslově vyráběných druhů skel v různých formách, která mohou být vedena povlékací stanicí, například okenního skla, optického skla nebo skleněných vláken.
Tato skla obvykle obsahují kysličníky alespoň dvou prvků a jsou to obvykle skla olovnatokřemičitá, alkalickokřemičitá, křemičitá s kovem alkalické zeminy, zejména sodnovápenatokřemičitá. V některých případech se v závislosti na alkalivzdornosti skla a podílu elektrondonorové sloučeniny může dosáhnout vyšší alkalivzdornosti povlaku než povlékaného skla.
Vynález umožňuje vyrábět sklo povlečené odrážejícím křemíkovým povlakem, jehož povlak má index lomu v rozmezí 2,5 až 3,5 a alkalivzdornost takovou, že povlak nevykazuje Žádnou známku poškození, které je zjevné pouhému oku, po ponoření do 1N roztoku hydroxidu sodného . při teplotě 90 °C po dobu alespoň 60 s.
Výhodně povlak nevykazuje žádnou známku poškození po ponoření alespoň 5 minut.
Výhodně je povlak takový, že se 30 % světla z C.I.E. světelného zdroje C, dopadajícího na povlečenou stranu skla, odráží.
Index lomu povlaku může být v rozmezí 2,8 až 3,4; Sklem může být sodnovápenatokřemičité sklo.
Pro jasnější porozumění vynálezu budou nyní pospány některé příklady povlékání skla, například plochého skla sodnovápenatokřemičitého složení, povlakem obsahujícím křemík.
Všechna procenta a díly uváděné v následujících příkladech znamenají koncentraci objemovou.
Podkladové sklo, které má být povlečeno povlakem obsahujícím křemík, má standardní provozní zbarvení pro skla mající požadovanou odrazivost a propustnost pro sluneční záření, přičemž jde o sodnovápenatokřemičité sklo, které obsahuje malá množství selenu a oxidu kobaltu jako barvící složky a je to takové sklo, které se vyrábí ve formě pásu na lázni roztaveného kovu.
Sklo se povléká, když má teplotu alespoň 400 °C a posouvá se povlékací stanicí způsobem popsaným ve výše uvedeném patentu, na jehož popis se zde odkazuje·
Když se má povlékat sklo vyráběné na lázni roztaveného kovu, může se povlak nanášet uvnitř nádrže a blízko jejího výstupního konce, přičemž tato nádrž obsahuje lázeň roztaveného kovu, po které se sklo posouvá ve formě pásu,
V oblasti výstupního konce lázně, kde se uskutečňuje povlékání, je teplota skla v rozmezí 600 až 650 °C.
V jiném případě se povlak může nanášet na pás skla, když se vede chladicí pecí, přičemž rozdělovač plynu je uložen v chladicí peci tam, kde je teplota v rozmezí 400 až 750 °C« Sklem, které se má povlékat, může být sklo vyráběné válcováním nebo vertikálním tažením·
Vynález je zvlášť použitelný pro povlékání plochého skla včetně skla s drátěnou vložkou ve formě tabule nebo pásu, lisovaných skleněných předmětů a skleněných vláken.
Aby se dosáhlo přijatelné míry rozložení silanu, mělo by mít sklo teplotu alespoň v rozmezí 400 až 850 °C, výhodně v rozmezí 500 až 850 °G. Aby se předešlo nežádoucím postranním reakcím, například reakcím, které vedou к tvorbě karbidu křemíku, je žádoucí předejít teplotám skla nad 850 °C. V některých případech může být nižší mez maximální teploty vymezena měknutím povrchu skla.
К znázornění vynálezu byly provedeny zkoušky povlékání plochého, zbarveného sodnovápenatokřemičitéfro skla majícího požadovanou propustnost a odrazivost pro sluneční záření, za použití různých podílů ethylenu C2H4 v plynu obsahujícím silan, sestávajícího z 5 % monoeilenu SiH^ v dusíku jako nosném plynu.
Získané výsledky jsou uvedeny v tabulkách I а II..
Tabulka I
| Vzorek | proud plynu 1. min“' | % plynu | ||
| c2h4 B2 s 5 « síh4 | c2H4 | SiH4 | »2 |
| 1 | 0 | 45 | 0 | 5 | 95 |
| 2 | 0,5 | 45 | 1,1 | 5 | 93,9 |
| 3 | 0,5 | 55 | 0.9 | 5 | 94,1 |
| 4 | 0,5 | 60 | 0,8 | 5 | 94,2 |
| 5 | 1 | 45 | 2,2 | 4,9 | 92,9 |
| 6 | 1 | 55 | 1.8 | 4,9 | 93,3 |
| 7 | 1 | 60 | 1.6 | 4,9 | 93,5 |
| 8 | Л75 | 45 | 3,7 | 4,8 | 91,5 |
| 9 | 2 | 55 | 3,5 | 4,8 | 91,7 |
| 10 | 2 | 60 | 3,2 | 4,8 | 92 |
| 11 | 3,'3 | 55 | 5,7 | 4,7 | 89,7 |
| 12 | 3,3 | 60 | 5,2 | 4,7 | 90,1 |
I (pokračování)
| Vzorek | poměr | R max | XR max |
| C2H4:SiH4 | /%/ | /пш/ |
| 1 | 0 | 58,7 | 43.0 |
| 2 | 0,22:1 | 45,8 | 425 |
| 3 | 0,18:1 | 52,9 | 450 |
| 4 | 0,17:1 | 54,3 | 475 |
| 5 | 0,44:1 | 44,6 | 475 |
| 6 | 0,36:1 | 51,0 | 455 |
| 7 | 0,33:1 | 52,4 | 470 |
| 8 | 0,78:1 | 37,2 | 405 |
| 9 | 0,73:1 | 40,1 | 420 |
| 10 | 0,67:1 | 42;3 | 415 |
| 1 1 | 1,20:1 | 35,3 | 405 |
| 12 | 1,10:1 | 35,7 | 405 |
Tabulka I (pokračování)
| Vzorek | Index lomu | Tloušika povlaku /nm/ | Alkalivzdornost |
| 1 | 3,35 | 32,1 | ’ 18 s |
| 2 | 2,80 | 37,9 | 1 h 5 min |
| 3 | 3,10 | 36,3 | 1 h |
| 4 | 3,15 | 37,7 | 1 h |
| 5 | 2,75 | 43,2 | 2 h 20 min |
| 6 | 3,00 | 37,9 | 1 h 30 min |
| 7 | 3,05 | 38,5 | 2 h 45 min |
| 8 | 2,50 | 40,5 | 3 h |
| 9 | 2,60 | 40,4 | 3 h |
| 10 | 2,65 | 39,2 | 3 h 30 min |
| 11 | 2,45 | 41,3 | 5 h 50 min |
| 12 | 2,45 | 41,3 | 7 h 20 min |
Ve výše uvedené tabulce I:
R max je maximum světelného odrazu vyjádřeného jako procenta dopadajícího světla;
XR max je vlnová délka při které je odraz světla od povlaku maximální.
Alkalivzdornoet je doba, po kterou nedojde к vizuálně patrnému poškození skla po ponoření do 1N hydroxidu sodného při teplotě 90 °C.
Index lomu skla je znám, takže může být určen index lomu povlaku za použití standardního světelného zdroje. TIoušiká povlaku může být určena z měření optické tloušiky známým způsobem.
Všechna optická měření, o nichž se zmiňuje tento popis, byla provedena známým způsobem s povlečeným povrchem skla usměrněným к světelnému zdroji, který byl C.I.E. světelný zdroj C.
Tabulka I ukazuje, že povlak křemíku vytvořený na skle vzorků 2 až 12 s podílem ethylenu v plynu měl zvýšenou alkalivzdornost v porovnání s povlečeným sklem příkladu 1, kontrolním vzorkem, vytvořeným bez přídavku ethylenu k plynu obsahujícímu sílán.
Malé změny v podílu přítomného ethylenu vedou k vytvoření jen malých změn v optických charakteristikách udělovaných sklu povlakem obsahujícím křemík.
Výsledky ukazují, že při malém. poměru ethylenu k mononilanu, jako ve vzorcích 2, ' 3 a 4, nedochází k žádným podstatným změnám v optických charakteristikách, ale k překvapujícímu zvýšení odolnosti povlaku obsahujícího křemík vůči působení alkálií, přičemž se nezjistil žádný vizuální následek působení, pokud sklo nebylo ve styku s 1N roztokem hydroxidu * sodného po dobu alespon 1 hodiny.
Byly měřeny optické vlastnosti povlaků obsahujících křemík u vzorků 1, 2, 4, 5, 10 a 12. Při provádění těchto měření byla prováděná kompenzace na zbarvení skleněného podkladu porovnáním povlečených a nepovlečených vzorků zbarveného skleněného podkladu.
Pro zjištění vlivu byl zbarvený podklad nahrazen 6 mm čirým plochým sklem.
Výsledky, které jsou uvedeny v tabulce II, jsou optickými vlastnostmi vzorků 6 mm čirého sodnovápenatokřemičitého skla vyrobeného na'lázni roztaveného kovu a nesoucího stejné povlaky, jako jsou povlaky vytvořené na zbarveném skleněném podkladu, jak je popsáno s odkazem na tab. I. 1
Tabulka II
| Povlak vzorku č. | poměr C2H4:SiH4 | Propustnost světla % | Odraz světla % |
| 1 | 0 | 31 | 54 |
| 2 | 0,22 | 43 | 41 |
| 4 | 0, 17 | 32 | 52 |
| 5 | 0,44 | 41 · | 43 |
| 10 | 0,67 | 47 | 36 |
| 12 | 1,10 | 57 | 29 |
Tabulka
II (pokračování)
| Vzorek č. povlak | Propustnost přímého slunečního tepla % | Odraz slunečního tepla % | Absorpce slunečního tepla % | Celková propustnost slunečního tepla % |
| 1 | 43 | 38 | 19 | 49 |
| 2 | 51 | 28 | 21 | 58 |
| 4 | 43 | 37 | 20 | 49 |
| 5 | 49 | 30 | 21 | 56 |
| 10 | 53 | 25 | 22 | 60 |
| 12 | 59 | 20 | 21 | 66 |
Když je poměr ethylenu k silanu v plynu menší než 0,1, nedochází k žádné větší změně ve vlastnostech povlečeného skla v porovnání se vzorkem 1, vytvořeným bez jakéhokoliv obsahu ethylenu v plynu obsahujícím silan.
Jak množství ethylenu roste, dochází k stálému vzrůstu alkalivzdornosti, měřené dobou před vznikem napadení až do doby a^Lespoň 5 hodin 50 . . ml-nut, když je poměr ethylenu k silanu 1,2:1.
Vzrůst podílu ethylenu k silanu obecně vede ke snížení indexu lomu povlaku křemíku a následné změně v optických vlastnostech povlečeného skla. fiízením proudění ethylenu ve vztahu k proudění silanu v dusíku je možné dosáhnout předem stanovených optických vlastností, zejména vysoké odrazivosti, přičemž se získá výhoda vysoké alkalivzdornosti vytvořené přítomností ethylenu v plynu obsahujícím silan.
Při povětrnostních zkouškách, při nichž bylo povlečené sklo vystaveno vlhké atmosféře, vydržel vzorek 1, obsahující povlak křemíku, což je kontrolní vzorek, asi 10 dní. Nedocházelo k žádné viditelné změně v povlaku křemíku u vzorků 2 až 12 po šestitýdenním zkušebním období. Zkouška byla prováděna na svazcích 5 povlečených tabulí, z nichž každá měla plochu o
300 mm a byla oddělena zrnitým prokládacím materiálem a uložena v povětrnostní komoře, ve které byla udržována teplota na 60 °C a relativní vlhkost na 95 až 100 %.
Povlaky obsahující ' křemík vytvořené postupem podle tohoto vynálezu za použití ethylenu byly zkoušeny a srovnávány s povlaky obsahujícími'křemík vytvořenými v nepřítomnosti elektrondonorové sloučeniny. Nejznatelnějším rysem je zjevný růst v obsahu kyslíku v povlaku, což je zjištěno v úbytku poměru křemík : kyslík, následkem použití elektrondonorové sloučeniny.
Alespoň určitá část kyslíku v povlaku vytvořeném podle vynálezu je přítomna, jak se předpokládá ve formě rozdílné od jakéhokoli kyslíku přítomného v povlacích vyrobených v nepřítomnosti elektrondonorové sloučeniny.
Tento kyslík je zjevně zodpovědný'za změnu v polohách špiček a intenzitách elektronů křemíku, jak je zjištěno elektronovou spektroskopií pro chemickou analýzu. Například, když se použije vysoký podíl ethylenu, základní křemíková špička (2p) je jasně zjištěna při 102,0 elektronvoltech v porovnání se špičkami při 103,3 eV a 99,4 eV, jak je přisuzováno kovovému křemíku, resp. oxidovanému křemíku (viz C. D. Wagner, řaraday . Discussions of the Chemical Society 60, 1975, 296).
Alkalivzdornost povlaku je závislá na vysokém podílu kyslíku v povlaku, který se zvyšuje, stejně jako alkalivzdor^r^os^t^, se vzrůstem poměru elektrondonorové sloučeniny k silanu v plynu.
Analýza ukázala, že ionty, jako je sodík, vápník, a hořčík, mohou být přítomné v povlaku a jejich rozdělení v povrchu skla a v povlaku závisí na poměru ethylenu k silanu a změny v rozděleních odrážejí změny v rozděleních , astavu kyslíku v povlaku.
Když obsah ethylenu v plynu obsahujícím silan vzrůstal, index lomu povlaku se postupně snižoval.. Následkem toho docházelo k postupnému snižování jak odrazu světla, tak odrazu slunečního tepla. Toto nebylo spojeno s žádným významným vzrůstem optické absorpce v povlacích křemíku, takže jakákoli redukce v odrazu byla vyrovnána vzrůstem v propustnosti světla a slunečního ^p^a. Změna indexu lomu se uskutečňovala bez jakékoli podstatné změny v tloušlce povlaku, jak je znázorněno v tabulce I.
Při další sérii zkoušek bylo vyrobeno čiré sodnovápenatokřemičité sklo na lázni roztaveného kovu a bylo povlečeno povlakem obsahujícím křemík způsobem podle tohoto vynálezu, kterýžto povlak se ukázal být překvapivě odolný vůči působení alkálií. Sklo bylo povlékáno u výstupního konce nádrže obsahující lázeň roz^ven^o kovu, kde byla teplota slda v rozmezí 600 až 650 °C.
212266
Získané výsledky jsou uvedeny v tabulkách III а IV.
Tabulka III
| Vzorek | Čélkový proud Plynu., l.min 1 | % plynu | |||
| C2H4 | SiH4 | “2 | «2 | ||
| 15 | 140 | 0 | 4.6 | 92 | 3,4 |
| 16 | 180 | 0,6 | 5,2 | 91,6 | 2,6 |
| 17 | 180 | 6,0 , | 91,5 | 1,4 | |
| 18 | 180 | i,’ | 5,4 | 91,4 | 2,1 |
| 19 | 180 | 2 | 6,9 | 91,1 | 0 |
Tabulka
III (pokračování)
| Vzorek | poměr C2H4:SiH4 | λ R max (nm) | Index lomu | Tloušťka povlaku (nm) | Alkalivzdornost |
| 15 | 0 | 400 | 3,36 | 30,0 | 18 s |
| 16 | 0,11 | 455 | 3,18 | 35,β | 45 s |
| 17 | 0,18 | 460 | 3,29 | 35,0 | 5 min |
| 18 | 0,20 | - | - | - | 5 min |
| 19 | 0,29 | 480 | 3,23 | 37,2 | 30 min |
Některé optické vlastnosti těchto vzorků jsou uvedeny v tabulce IV.
Tabulka IV
| Vzorek | Odraz světla % | Propustnost světla % |
| 15 | 51,5 | 32,0 |
| 16 | 51,8 | 29,1 |
| 17 | 54,3 | 27,2 |
| 18 | - | - |
| 19 | 54,9' | 27,0 |
Nevyplněné prostory v tabulkách III а IV ukazují, že hodnoty nebyly během zkoušek měřeny.
Překvapivě bylo zjištěno, že když se pro zvýšení alkalivzdornoeti povlaků křemíku vytvořených na plochém skle neseném na lázni roztaveného kovu použije ethylenu, ethylenový plyn má účinek na zmírnění zjevných diskontinuit v povlaku následkem uložení malých částic obsahující kov na povrchu skla.
212266
Podobné zkoušky byly provedeny s válcovaným sklem sodnovápenatokřemičitého složení při teplotě 600 °C a výsledky, jak je uvedeno v totalce V, ukazují podobnou trvanMvost povlaku křemíku, když'se podrobí zkouškám alkalivzdornost! stykem s1N roztokem hydroxidu sodného NaOH při telotě 90 °C. proudové poměry et,hylenu a sUsnu v tomto nosném plynu byly nastaveny k vytvoření předem stanovených optických vlastností měněním poměru ethylenu k silanu, čímž byl určován index lomu povlaku.
Tabulka V
| Vzorek | poměr C2H4:SiH4 | Index lomu | tlouštka (nm) | propustnost světla % | odraz světla % | alkalivzdornost |
| 20 | 0 | 3,15 | 32,5 | 31,9 | 48,1 | 18 s |
| 21 . | 0,33 · | 3,09 | 33,2 | 3<,2<# | 47,0 | 7 min |
| 22 | 0,36 | 3,07 | 34,6 | 30,0 | 47,9 | 20 min |
| 23 | 0,45 | 2,78 | 36,4 | 40,8 | 38,7 | 50 min |
K provádění tohoto vynálezu se také mohou použít jiné silany, které se rozkládají na žhavém skle, např. vyšší silany, jako je disilan nebo trisilan, nebo substituované silany, jako jsou chlorsilany, které jsou obvykle používány v přítomnosti vodíku.
Tyto výsledky ukazují, že je výhodné, aby v případě, když se použije ethylen jako elektrondonorová sloučenina, byl poměr ethylenu k silanu v plynu v rozmezí 0,1 až 2,0. . Výhodnější je poměr ethylenu k silanu v plynu v rozmezí 0,2 až 0,5.
Výhodné složení plynu použité v těchto zkouškách pro plyn obsahující silan bylo 1 až 7 % monosilanu SiH4, 0,5 až 6 % ethylenu CgH^ a popř. vodík Hg, přičemž zbytek byl dusík Ng· Index lomu odrážejících alkalivzdorných povlaků, které byly vytvořeny, byl v rozmezí 2,5 až 3,5, zejména 3,1 - 0,3.
Jako složky plynu obsahujícího silan mohou b^t použity také jiné elektrondonorové sloučeniny. ·
Mohou být použity jiné olefiny, jako butadien C^Hg a penten C^H^.
Elektrondonorovou sloučeninou může být acetylenický uhlovodík. Byl použit acetylen jako složka plynu. Dále může být.použit jako elektrondonorová složka plynu aromatický uhlovodík, například benzen CgHg, toluen CgH^.CH^ nebo xylen CgH^.CCH^.
Jiné přísady, které jsou účinné jako elektrondonory, vytvářející alkalivzdornost povlaku, jsou olefinické deriváty, např. difluorethylen CgHgFg a amoniak NHy
Některé příklady použití těchto dalších elektrondonorových sloučenin jsou uvedeny v tabulce VI. Všechny vytvořené povlaky měly alkalivzdornost srovnatelnou s povlaky vytvořenými, jak bylo popsáno výše u ethylenu jako elektrondonoru.
Tabulka VI
| Donor elektronu | Teplota ec | Donor | % plynu | H2 | poměr Donor: SiH4 | |
| S1H4 | »2 | |||||
| acetylen C2H2 | 605 | 0,4 | 0,33 | 90,27 | 9 | 1,2:1 |
| butadien !4H6 | 580 | 0,24 | 0,32 | 90,44 | 9 | 0,75:1 |
| amoniak NH3 | 680 | 1,3 | 0,3 | 89,4 | 9 | 4,5:1 |
| amoniak NH3 | 620 | 0,7 | 0,63 | 89,67 | 9 | 1,1:1 |
| difluorethylen c2h2f2 | 605 | 0,55 | 0,63 | 89,82 | 9 | 0,85:1 |
| benzen C6H6 | 612 | 0,32 | 0,64 | 90,04 | 9 | 0,5:1 |
| Nejvhodnější je použít | sloučeninu, | která je | plynná při teplotě místnosti, | takže je |
výhodné použít olefinickou nebo acetylenickou sloučeninu obsahující 2 až 5 Uhlíkových atomů, ačkoliv mohou být použity sloučeniny obsahující více než 5 uhlíkových atomů, za předpokladu , že jsou plynné pod teplotou rozkladu silanu.
Vynález je také použitelný pro povlékání jakéhokoli alkalickokřemičitého nebo křemičitého skla s kovem alkalické zeminy.
V dalším pokusu byl podklad z boritokřemičitého skla zahřát na 600 °C a plynná směs obsahující 1 % monosilanu, 1,25 % ethylenu, 10 % vodíku a 87,75 % dusíku byla vedena к povrchu skla. Byl získán odrážející povlak křemíku, který po ponoření na dobu přes 3 hodiny v 1N roztoku hydroxidu sodného při 90 °C nevykazoval žádnou viditelnou známku působení.
Bylo také zjištěno, Že při použití poměru ethylenu к silanu, který je větší než 2,5, například poměru 5, dochází na skle к vytvoření alkalivzdorného křemíkového povlaku 8 velmi dobrou odolností vůči otěru. Takovéto povlaky nemají velkou odrazivost pro viditelné světlo, jako ji mají výše popsané vzorky, ale mohou být dokonce průhledné pro viditelné světlo.
pHedmětvynálezv
Claims (14)
1. Způsob povlékání skla povlakem obsahujícím křemík, při kterém se sklo vede povlékací stanicí, přičemž sklo má teplotu alespoň 400 °C a v bezprostřední blízkosti povrchu skla se uvolňuje plyn obsahující silan při konstantním tlaku napříč povrchu skla a aa neoxidačních podmínek tak, že silan podléhá pyrolýze, čímž se usadí povlak obsahující křemík na povrchu skla, vyznačený tím, že plyn obsahující silan obsahuje podíl plynné elektrondonorové sloučeniny, která vyvolává alkalivzdornoet.
2. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že plyn obsahující silan obsahuje dusík jako nosný plyn a plynnou elektrondonorovou sloučeninu v objemové koncentraci od 0,2 do 6 %.
3. Způsob podle bodu 2, vyznačený tím, že plyn obsahující silan obsahuje monosilan v dusíku jako nosném plynu a jako elektrondonorovou sloučeninu plynný olefin.
4. Způsob podle bodu 3, ' vyznačený tím, že olefinem je ethylen.
5. Způsob podle bodu 4, vyznačený tím, že nu je v rozmezí 0,1 až 2,0.
6. Způsob podle bodu 5, vyznačený ' tím, že k silanu je v rozmezí 0,2 až 0,5.
7. Způsob podle bodu 4, vyznačený tím, že v objemové koncentraci 1 až 7 %, ethylen v objemové poměr objemových koncentrací ethylenu k sila» poměr objemových koncentrací ethylenu plyn obsahující silan obsahuje monosilan koncentraci 0,5 až 6 í a popřípadě podíl vodíku, přičemž zbytek je dusík.
8. Zppssb podle bodu 2, vyznaččrn tím, žž plyy obsahhjjcí silln obsahuje monooilírn v objemové koncentraci 0,3 až 7 %, plynnou elektrondonorovou sloučeninu v objemové koncentraci 0,2 až 6 % a popřípadě podíl vodíku, přičemž zbytek je dusík.
9. Způsob podle bodu 7 nebo 8, vyznačený tím, že plyn obsahující silan obsahuje vodík v objemové koncentraci 1,4 až 10 %.
10. Způsob podle bodu 8, vyznačený tím, že plynnou elektrondonorovou sloučeninou je hceíylenický uhlovodík.
11. Způsob podle bodu 10, vyznačený tím, že acetyleoickýo uhlovodíkem je acetylen.
12. Způsob podle bodu 8, vyznačený tím, že plynnou elektrdnddndrdvdu sloučeninou je aromatický uhlovodík.
13. Způsob podle bodu 12, vyznačený tím, že aromatickým uhlovodíkem je benzen.
14. Způsob podle bodu 8, vyznačený tím, že plynnou elekírdnddodrdvdu sloučeninou je amoniak.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8641/77A GB1573154A (en) | 1977-03-01 | 1977-03-01 | Coating glass |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS212268B2 true CS212268B2 (en) | 1982-03-26 |
Family
ID=9856396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS781295A CS212268B2 (en) | 1977-03-01 | 1978-03-01 | Method of coating the glass by the coat containing the silicon |
Country Status (26)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4188444A (cs) |
| JP (1) | JPS53130717A (cs) |
| AR (1) | AR217280A1 (cs) |
| AU (1) | AU516481B2 (cs) |
| BE (1) | BE864413A (cs) |
| BR (1) | BR7801209A (cs) |
| CA (1) | CA1110119A (cs) |
| CS (1) | CS212268B2 (cs) |
| DD (1) | DD136045A6 (cs) |
| DE (1) | DE2808780C2 (cs) |
| DK (1) | DK149924C (cs) |
| ES (1) | ES467480A1 (cs) |
| FI (1) | FI62522C (cs) |
| FR (1) | FR2382511A1 (cs) |
| GB (1) | GB1573154A (cs) |
| IT (1) | IT1111431B (cs) |
| LU (1) | LU79149A1 (cs) |
| MX (1) | MX147940A (cs) |
| NL (1) | NL179042C (cs) |
| NO (1) | NO143100C (cs) |
| PL (1) | PL112933B1 (cs) |
| RO (1) | RO75434A7 (cs) |
| SE (1) | SE431866B (cs) |
| SU (1) | SU878191A3 (cs) |
| TR (1) | TR20091A (cs) |
| ZA (1) | ZA781053B (cs) |
Families Citing this family (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4298650A (en) * | 1980-03-31 | 1981-11-03 | Eastman Kodak Company | Phosphorescent screens |
| JPS5826052A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体 |
| CA1245109A (en) * | 1983-10-31 | 1988-11-22 | Hsien-Kun Chu | Method of forming amorphous polymeric halosilane films and products produced therefrom |
| US5165972A (en) * | 1984-08-13 | 1992-11-24 | Pilkington Plc | Coated glass |
| GB8420534D0 (en) * | 1984-08-13 | 1984-09-19 | Pilkington Brothers Plc | Coated products |
| JPS6195356A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-14 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスクブランク |
| JPS61116358A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-03 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスク材料 |
| JPS61161763U (cs) * | 1985-03-29 | 1986-10-07 | ||
| US4661381A (en) * | 1985-10-07 | 1987-04-28 | Libbey-Owens-Ford Co. | Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article |
| US4749430A (en) * | 1986-10-16 | 1988-06-07 | Shell Oil Company | Method of making an encapsulated assemblage |
| US4869966A (en) * | 1986-10-16 | 1989-09-26 | Shell Oil Company | Encapsulated assemblage and method of making |
| JPS6430458U (cs) * | 1987-08-13 | 1989-02-23 | ||
| GB8814922D0 (en) * | 1988-06-23 | 1988-07-27 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| JP3059758B2 (ja) * | 1989-02-21 | 2000-07-04 | リビー‐オーウェンズ‐フォード・カンパニー | 被覆ガラス製品 |
| US5328768A (en) * | 1990-04-03 | 1994-07-12 | Ppg Industries, Inc. | Durable water repellant glass surface |
| US5171414A (en) * | 1990-12-10 | 1992-12-15 | Ford Motor Company | Method of making transparent anti-reflective coating |
| US5106671A (en) * | 1990-12-10 | 1992-04-21 | Ford Motor Company | Transparent anti-reflective coating |
| JP3139031B2 (ja) * | 1991-02-21 | 2001-02-26 | 日本板硝子株式会社 | 熱線遮蔽ガラス |
| US5234748A (en) * | 1991-06-19 | 1993-08-10 | Ford Motor Company | Anti-reflective transparent coating with gradient zone |
| CA2084247A1 (en) * | 1992-03-18 | 1993-09-19 | Francis Paul Fehlner | Lcd panel production |
| AU655119B2 (en) * | 1992-07-11 | 1994-12-01 | Pilkington Glass Limited | Coatings on glass |
| US5580364A (en) * | 1992-07-11 | 1996-12-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color |
| FR2695118B1 (fr) * | 1992-09-02 | 1994-10-07 | Air Liquide | Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre. |
| GB9400323D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
| GB9400320D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coating on glass |
| GB9400319D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
| US5723172A (en) * | 1994-03-11 | 1998-03-03 | Dan Sherman | Method for forming a protective coating on glass |
| US5665424A (en) * | 1994-03-11 | 1997-09-09 | Sherman; Dan | Method for making glass articles having a permanent protective coating |
| CA2159296C (en) * | 1994-10-14 | 2007-01-30 | Michel J. Soubeyrand | Glass coating method and glass coated thereby |
| CN1051534C (zh) * | 1994-11-22 | 2000-04-19 | 秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司 | 浮法在线生产镀膜玻璃的方法 |
| GB9500330D0 (en) * | 1995-01-09 | 1995-03-01 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| US6055828A (en) * | 1997-12-30 | 2000-05-02 | Closure Medical Corporation | Treatment methods for glass medical adhesive applicators |
| US6350397B1 (en) | 1999-03-10 | 2002-02-26 | Aspen Research Corporation | Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties |
| EP1421607A2 (en) * | 2001-02-12 | 2004-05-26 | ASM America, Inc. | Improved process for deposition of semiconductor films |
| US20050144981A1 (en) * | 2002-01-31 | 2005-07-07 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method of manufacturing glass sheet with thin film and the glass sheet |
| US6919133B2 (en) | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| CA2477845C (en) * | 2002-03-01 | 2010-10-12 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| WO2004009861A2 (en) * | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Asm America, Inc. | Method to form ultra high quality silicon-containing compound layers |
| US7638167B2 (en) * | 2004-06-04 | 2009-12-29 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer |
| US20050271893A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer |
| US20050044894A1 (en) * | 2003-08-29 | 2005-03-03 | Douglas Nelson | Deposition of silica coatings on a substrate |
| DE102004012977A1 (de) * | 2004-03-17 | 2005-10-06 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Kratzfestes optisches Mehrschichtsystem auf einem kristallinen Substrat |
| US20050221003A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-06 | Remington Michael P Jr | Enhancement of SiO2 deposition using phosphorus (V) compounds |
| US7879396B2 (en) * | 2004-06-04 | 2011-02-01 | Applied Microstructures, Inc. | High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics |
| US7966969B2 (en) * | 2004-09-22 | 2011-06-28 | Asm International N.V. | Deposition of TiN films in a batch reactor |
| US7629267B2 (en) * | 2005-03-07 | 2009-12-08 | Asm International N.V. | High stress nitride film and method for formation thereof |
| US7718518B2 (en) * | 2005-12-16 | 2010-05-18 | Asm International N.V. | Low temperature doped silicon layer formation |
| US7691757B2 (en) | 2006-06-22 | 2010-04-06 | Asm International N.V. | Deposition of complex nitride films |
| US7629256B2 (en) * | 2007-05-14 | 2009-12-08 | Asm International N.V. | In situ silicon and titanium nitride deposition |
| US7833906B2 (en) | 2008-12-11 | 2010-11-16 | Asm International N.V. | Titanium silicon nitride deposition |
| CN101618952B (zh) * | 2009-07-30 | 2011-08-17 | 杭州蓝星新材料技术有限公司 | 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法 |
| CN102584023A (zh) * | 2012-02-22 | 2012-07-18 | 株洲旗滨集团股份有限公司 | 一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法及其玻璃 |
| JPWO2014081030A1 (ja) * | 2012-11-26 | 2017-01-05 | 旭硝子株式会社 | 薄膜形成方法 |
| CN106007395A (zh) * | 2016-05-11 | 2016-10-12 | 刘畅 | 一种用于厨卫电器的易清洁玻璃的制作方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2439689A (en) * | 1948-04-13 | Method of rendering glass | ||
| DE395978C (de) * | 1921-05-28 | 1924-05-24 | Siemens & Halske Akt Ges | Verfahren zur Herstellung eines spiegelnden Siliziumbelages |
| US3873352A (en) * | 1971-12-17 | 1975-03-25 | Owens Illinois Inc | Abrasion resistant one step glass coating with excellent labelability |
| US3984608A (en) * | 1974-04-17 | 1976-10-05 | Kerr Glass Manufacturing Corporation | Glassware having improved resistance to abrasion |
| GB1507465A (en) * | 1974-06-14 | 1978-04-12 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
-
1977
- 1977-03-01 GB GB8641/77A patent/GB1573154A/en not_active Expired
-
1978
- 1978-02-21 CA CA297,384A patent/CA1110119A/en not_active Expired
- 1978-02-21 AU AU33487/78A patent/AU516481B2/en not_active Expired
- 1978-02-22 ZA ZA00781053A patent/ZA781053B/xx unknown
- 1978-02-23 US US05/880,430 patent/US4188444A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-02-24 NL NLAANVRAGE7802090,A patent/NL179042C/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-27 NO NO780671A patent/NO143100C/no unknown
- 1978-02-28 FR FR7805644A patent/FR2382511A1/fr active Granted
- 1978-02-28 AR AR27127278A patent/AR217280A1/es active
- 1978-02-28 DD DD20388278A patent/DD136045A6/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-28 IT IT6740478A patent/IT1111431B/it active
- 1978-02-28 BE BE185557A patent/BE864413A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-28 BR BR7801209A patent/BR7801209A/pt unknown
- 1978-02-28 SE SE7802257A patent/SE431866B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-03-01 DK DK93678A patent/DK149924C/da not_active IP Right Cessation
- 1978-03-01 CS CS781295A patent/CS212268B2/cs unknown
- 1978-03-01 PL PL1978204996A patent/PL112933B1/pl unknown
- 1978-03-01 DE DE2808780A patent/DE2808780C2/de not_active Expired
- 1978-03-01 SU SU782586050A patent/SU878191A3/ru active
- 1978-03-01 TR TR2009178A patent/TR20091A/xx unknown
- 1978-03-01 FI FI780699A patent/FI62522C/fi not_active IP Right Cessation
- 1978-03-01 RO RO9335978A patent/RO75434A7/ro unknown
- 1978-03-01 JP JP2217078A patent/JPS53130717A/ja active Granted
- 1978-03-01 MX MX172611A patent/MX147940A/es unknown
- 1978-03-01 LU LU79149A patent/LU79149A1/xx unknown
- 1978-03-01 ES ES467480A patent/ES467480A1/es not_active Expired
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CS212268B2 (en) | Method of coating the glass by the coat containing the silicon | |
| EP0174727B1 (en) | Coated products | |
| JP2510008B2 (ja) | ガラス表面に下層を形成する方法 | |
| JP2940903B2 (ja) | 低放射率を与えるコーティングされた無色物品及びその製法 | |
| EP0275662B1 (en) | Coatings on glass | |
| US5165972A (en) | Coated glass | |
| JP3485918B2 (ja) | ガラス基体の被覆法 | |
| AU593852B2 (en) | Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article | |
| JPH06263482A (ja) | 被覆装置、ガラスの被覆方法、ガラス被覆用の化合物及び組成物、並びに被覆されたガラス基体 | |
| CA2208770A1 (en) | Coatings on glass | |
| JP3059758B2 (ja) | 被覆ガラス製品 | |
| EP0879802A2 (en) | Coating method | |
| Otani et al. | High rate deposition of silicon nitride films by APCVD | |
| KR810000743B1 (ko) | 유리의 코팅 방법 | |
| KR920010068B1 (ko) | 규소 및 산소 함유 투명 장벽 피막을 갖는 유리 |