DE2808780C2 - Verfahren zum Überziehen von Flachglas mit einem lichtreflektierenden Silizium enthaltenden Überzug - Google Patents
Verfahren zum Überziehen von Flachglas mit einem lichtreflektierenden Silizium enthaltenden ÜberzugInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 vorausgesetzten Art
and stellt eine Verbesserung des Verfahrens nach der DE-OS 25 26 209 dar.
In dieser DE-OS ist ein Verfahren beschrieben und beansprucht gemäß dem man das Glas an einer Überzugsstation vorbeibewegt, während die Temperatur des Glases wenigstens 400° C beträgt, Silan enthaltendes Gas der
Überzugsstation zuführt, das Gas nahe άετ heißen Glasoberfläche mit einem quer über die Glasoberflächc im
wesentlichen konstanten Druck in eine heiße Zone abgibt, in der das Gas erhitzt wird, welche Zone /ur
Glasoberfläche geöffnet ist und sich quer zu dieser erstreckt, so daß das Silan unter Abscheidung eines Silizium
enthaltenden Überzugs auf der Glasoberfläche pyrolysiert, und nichtoxydierende Bedingungen in dieser heißen
Zone aufrechterhält Das so erzeugte Glas hat einen im wesentlichen gleichmäßigen Siliziumüber/.ug und gute
Sonnensteuerungseigenschaften sowie ein gefälliges Aussehen.
Aus der US-PS 38 72 352 ist ein einstufiges Verfahren zum Aufbringen eines kratzfesten Überzugs auf
Glasflaschen bekannt, bei dem eine wässerige Mischung eines Polyolefins, insbesondere Polyäthylens, und eines
Organosilans bei einer Temperatur von 121 bis 232° C auf die Glasflasche gesprüht und zur Erstarrung gebracht
wird.
Weiter ist es aus »J ACS«, 76 (1954), Seiten 3897—3902, bekannt, daß während der Erzeugung von Alkylsilanen
durch die Reaktion eines Silans mit Äthylen oder Acetylen ohne Trägergas in einem erhitzten Quarzrohr für eine
Zeitdauer von drei Stunden eine dünne Siliziumschicht auf der Innenfläche des erhitzten Quarzrohres, durch das
die gasförmigen Reaktionspartner geleitet wurden, als Nebenprodukt abgeschieden wurde. Hinweise auf irgendwelche
Eigenschaften der Siliziumschicht fehlen.
so Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren Her eingangs vorausgesetzten Art zu entwickeln, das
zu Silizium enthaltenden Überzügen mit verbesserter Alkalibeständigkei' führt.
Diese Aufgabe wird erfindungsg-n'iB durch die kennzeichnenden Merkmale des Patentanspruchs 1 gelöst.
Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Der Zusatz einer Elektronendonatorverbindung der beanspruchten Gruppe und die geeignete Steuerung
deren Verhältnisses zum Silan im Gas führen überraschend zu einem gut alkalibeständigen, Silizium enthaltenden
Überzug.
Die Alkalibeständigkeit des Silizium enthaltenden Überzugs wird in einer im folgenden noch beschriebenen
Weise durch Feststellen der Zeit bestimmt, die der Überzug einen Angriff durch eine starke alkalische Lösung
ohne sichtbare Schädigung aushält.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist für die Behandlung vieler handelsüblich erzeugter Gläser in verschiedenen
Formen, die sich an einer Überzugsstation vorbeibewegen lassen, beispielsweise Fensterglas, optisches Glas
und Glasfasern, brauchbar. Solche Gläser enthalten allgemein Oxide von wenigstens zwei Elementen und sind
üblicherweise Bleisilikatgläser, Alkalimetallsilikatgläser und Erdalkalimetallsilikatgläser, insbesondere Soda-Kalk-Kieselsäure-Gläser.
In einigen Fällen kann in Abhängigkeit von der Alkalibeständigkeit des Glases und
t>i dem verwendeten Elektroncndonatorvcrbindungsantcil die Alkalibeständigkeit der nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren erzeugten uberzoger.cn Oberfläche größer als die des Glassubstrats sein.
Elektronendonatorverbindungen, die verwendet werden, um dem Siliziumüberzug Alkalibeständigkeit zu
verleihen, enthalten in ihrem Elektronenaufbau entweder in Bindungen oder als Einzelpaarelektronen Elektro-
nen, die in den Elektronenaufbau geeigneter Akzeptormoleküle oder -atome eingebaut werden können.
Wenn Wasserstoff vorhanden ist kann das Silan enthaltende Gas bis zu 10 VoI.-% Wasserstoff enthalten.
Auch ein größerer Wasserstoffanteil kann unter Umständen verwendet werden.
Der erhaltene Oberzug zeigt vorzugsweise kein Anzeichen von Schaden für wenigstens 5 min.
Zum besseren Verständnis der Erfindung werden nun einige Beispiele des Oberziehens von Glas, beispielsweise
Flachglas einer Soda-Kalk-Kieselsäure-Zusammensetzung, mit einem Silizium enthaltenden Oberzug beschrieben.
Das mit einem Silizium enthaltenden Überzug zu überziehende Glassubstrat ist ein normales handelsübliches
gefärbtes Sonnenstrahlungssteuerungs-Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas, das geringe Mengen von Selen und Kobaltoxid
als färbende Bestandteile enthält und zwar von der Art die in Bahnform auf einem Metallschmelzebad
erzeugt wird.
Das Glas wird überzogen, während es sich auf einer Temperatur von wenigstens 400" C befindet und an einer
Überzugsstation vorbei in der in der obenerwähnten DE-OS 25 26 209 beschriebenen Weise, worauf Bezug
genommen wird, vorwärtsbewegt wird.
Wenn das Glas direkt im Zuge seiner Erzeugung auf einem Metallschmelzbad überzogen wird, kann der
Überzug innerhalb und nahe des Auslaßendes des das Metallschmelzbad, längs dessen das Glas in Bahnform
vorrückt, enthaltenden Behälters aufgebracht werden. Im Bereich des Auslaßendes des Bades, wo der Überzugsvorgang stattfindet, liegt die Temperatur des Glases im Bereich von 600 bis 650° C.
Alternativ kann der Überzug auf eine Glasbahn aufgebracht werden, wenn sie durch einen Glühofen vorrückt
wobei der Gasvertc3er im Glühofen dort angeordnet wird, wo die Glastemperatur im Bereich von 400 bis 750° C
ist Das zu überziehende Glas kann auch nach einem Walzverfahren oder nach einem Vertikalziehverfahren
erzeugtes Glas sein. Die Erfindung ist insbesondere auf das Überziehen von Flachglas, einschließlich Drahtglas,
in Bahn- oder Bandform, geformten Glaskörpern und Glasfasern anwendbar.
Um eine annehmbare Silanzersetzungsgeschwindigkeit zu erzielen, soll das Glas auf einer Temperatur von
mindestens 4000C und im Bereich von 400 bis 8500C vorzugsweise im Bereich von 500 bis 8500C, sein. Um
unerwünschte Nebenreaktionen, z. B. 2ur Bildung von Siliziumkarbid führende Reaktionen, zu vermeideii. ist es
erwünscht Glastemperaturen über 8500C zu vermeiden. In einigen Fällen kann durch die Weichheit der
Glasoberfläche auch eine niedrigere Maximaltemperaturgrenze bedingt sein.
Um die Erfindung zu veranschaulichen, wurden Versuche durch Überziehen von flachem, gefärbtem Sonnensirahlungssicuerungs-Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas
unter Verwendung verschiedene*· Anteile an Äthylen (C2H4)
in einem Silan enthaltenden, aus 5 Vol.-% Monosilan (SiH4) in Stickstoff als Trägergas bestehenden Gas
durchgeführt Die erhaltenen Ergebntje sind in den Tabellen I und II aufgeführt.
Probe Gassirom (i/min) | Gas VoL-% | N2 | ν_2Γΐ4 I Siri4- R/TW' | 2 ff | Bre | Ober | Aikaübc- |
C2H4 5% | C2H4 SiH4 | Verhältnis % | chungs | zugs | ständig- | ||
SiH4/N2 | index: | dicke | keit | ||||
(ntn) | |||||||
0.5
0.5
0.5
1.75
3,3
3,3
45
45
55
60
45
55
60
45
55
60
55
60
45
55
60
45
55
60
45
55
60
55
60
1,1
0.9
0,8
2,2
1,8
1.6
3.7
3.5
3.2
5,7
5,2
4.9
4.9
4.9
4,8
4,8
4,8
4,7
4,7
93,9
94,1
94,2
92,9
933
93,5
91,5
91,7
89,6
90,1
022
0.18
0.17
0,44
0,36
0,33
0,78
0,73
0,67
1,20
1,10
58,7 45,8 52,9 543 44.6 51,0 52.4 37.2
40,1 423 353 35,7
430 425 450 475 475 455 470 405 420 415 405 405
335
2,80
3.10
3.15
2,75
3,00
3.05
2,50
2.60
2,65
2,45
2,45
2,80
3.10
3.15
2,75
3,00
3.05
2,50
2.60
2,65
2,45
2,45
32,1 37,9 363 37.7 43,2 37,9 38.5 40.5 40,4 39,2 413 413
18s
1 h 5 min
1 h
1 h
2 h 20 min
1 h 30 min
2 h 45 min 3h
3h
3 h 30 min 5 h 50 min 7 h 20 min
In der obigen Tabelle bedeuten:
R„,.„ die als Prozentsatz des einfallenden Lichts ausgedrückte maximale Lichtrefiexion:
λ R„,,m die Wellenlänge, bei der die Lichtreflexion vom Überzug maximal ist.
λ R„,,m die Wellenlänge, bei der die Lichtreflexion vom Überzug maximal ist.
Der Brechungsindex des Glases ist bekannt, so daß der Brechungsindex des Überzuges unter Verwendung
einer .Standardlichtquelle bestimmt werden kann. Die Überzugsdicke läßt sich aus optischen Dickemessungen in
bekannter Weise ermitteln.
Alle in der Beschreibung erwähnten optischen Messungen wurden in bekannter Weise mit der überzogenen
Oberfläche des Glases zur Lichtquelle hin vorgenommen, die eine C.I.E. (Commission Internationale de l'Eclairagc)
llluminant C-Quelle war.
Die Tabelle I zeigt, daß der auf dem Glas der Proben 2 bis 12 mit einem Äthylenanteil im Gas erzeugte
.Siliziumüberzug eine verbesserte Alkalibeständigkeit im Vergleich mit dem überzogenen Glas der Probe 1, der
Kontrollprobe, hatte, die ohne einen Äthylenzusatz im Silan enthaltenden Gas erzeugt wurde. Geringe Änderungen
im Anteil des vorhandenen Äthylens scheinen nur geringe Änderungen der optischen Eigenschaften hervor-
Sl
® i
zurufen, die sich für das Glas durch den Silizium enthaltenden Überzug ergaben.
Die Ergebnisse zeigen, daß bei einem geringen Verhältnis von Äthylen zu Monosilan, wie bei den Proben 2,3
und 4, keine wesentliche Änderung der optischen Eigenschaften auftritt, sich jedoch ein überraschender Anstieg
der Beständigkeit des Silizium enthaltenden Überzugs gegenüber Alkaliangriff ergibt, indem kein sichtbares
Anzeichen eines Angriffs auftrat, bis das Glas für mindestens 1 h in Berührung mit dem 1 N Natriumhydroxid
gewesen war.
Die optischen Eigenschaften der Silizium enthaltenden Überzüge der Proben 1, 2, 4, 5, 10 und 12 wurden
gemessen. Bei Vornahme der Messungen gab es eine Kompensation für die Färbung des Glassubstrats durch
Vergleichen überzogener und nichtüberzogener Proben des gefärbten Glassubstrats. Und zwar wurde das
gefärbte Substrat durch 6 mm dickes klares Flachglas ersetzt Die Ergebnisse, die in der Tabelle 11 aufgeführt
sind, sind die optischen Eigenschaften von Proben aus 6 mm dickem klarem Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas, das auf
einem Metallschmelzebad erzeugt war und den auf einem gefärbten Glassubstrat gemäß der Beschreibung
bezüglich der Tabelle I erzeugten äquivalente Überzüge trug.
I | 15 Tabelle II | 20 | 1 | C2H4: SiH4- | Uchtdurch- | Licht- | Direkte | Sonnen- | Sonnen- | Gesamtson- |
P | Oberzug | 2 | Verhältnis | lässigkeit | reflexion | Sonnen- | wärme- | wärme- | ncnwärme- | |
I | der | 25 4 | % | % | wärmedurch- | reflexion | absorption | durch- | ||
Probe Nr. | 5 | lässigkeit | % | Vo | lässigkcit OZ. |
|||||
ίύ If |
10 | 0 | 31 | 54 | 43 | 38 | 19 | 49 | ||
ti | 12 | 0,22 | 43 | 41 | 51 | 28 | 21 | 58 | ||
tv; | 0,17 | 32 | 52 | 43 | 37 | 20 | 49 | |||
ψ | 0,44 | 41 | 43 | 49 | 30 | 21 | 56 | |||
0,67 | 47 | 36 | 53 | 25 | 22 | 60 | ||||
1.10 | 57 | .29 | 59 | 20 | 21 | 66 | ||||
Wenn das Verhältnis von Äthylen zu Silan im Gas geringer als 0,1 ist, gibt es keine größere Änderung der
Eigenschaften des überzogenen Glases im Vergleich mit der Probe 1, die ohne Äthylen im Silan enthaltenden
Gas erzeugt war.
Wenn die Äihylenmenge steigt, gibt es einen stetigen Anstieg der Alkalibeständigkeit, die anhand der Zeit
bestimmt wird, bevor ein sichtbarer Angriff auftritt bis zu einer Zeit von wenigstens 5 h 50 min, wenn das
Äthylen : Silan-Verhältnis \2 :1 ist
Die Erhöhung des Verhältnisses von Athyien zu Siian führte allgemein zu einer Verringerung des Brechungsindex
des Überzugs und einer folglichen Änderung der optischen Eigenschaften des überzogenen Glases. Durch
Steuerung des Stroms von Äthylen relativ zum Strom von Silan in Stickstoff war es möglich, vorbeüimmte
optische Eigenschaften, insbesondere eine hohe Reflexionskraft, zu erzielen und gleichzeitig den Vorteil einer
hohen Alkalibeständigkeit aufgrund der Anwesenheit von Äthylen in dem Silan enthaltenden Gas zu erhalten.
Bei Bewitterungsversuchen, in denen das überzogene Glas einer feuchten Atmosphäre ausgesetzt wurde,
überlebte der Silizium enthaltende Überzug der Probe 1, d. h. die Kontrollprobe, für etwa 10 Tage. Es gab keine
sichtbare Änderung im Silizium enthaltenden Überzug der Proben 2 bis 12 nach einer sechswöchigen Prüfperiode.
Die Prüfung wurde mit Packungen von fünf überzogenen Scheiben von je 300 mm2 durchgeführt, die durch
teilchenförmiges Zwischenmaterial getrennt waren und in ein Bewitterungsgehäuse eingesetzt wurden, in dem
die Temperatur bei 60° C und die relative Feuchtigkeit auf 95 bis 100% gehalten wurden.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren unter Verwendung von Äthylen erzeugte Silizium enthaltende
Überzüge wurden überprüft und mit in Anwesenheit einer Elektronendonatorverbindung erzeugten Siliziumüberzügen
verglichen. Das erwähnenswerteste Merkmal ist ein offenbarer Anstieg des Sauerstoffgehalts des
Überzugs, d. h. ein Abfall des Silizium-Sauerstoff-Verhältnisses als Ergebnis der Verwendung einer Elektronendonatorverbindung.
Wenigstens etwas Sauerstoff in dem erfindungsgemäß erzeugten Überzug liegt vermutlich
in einer anderen Form als irgendein in in Abwesenheit einer Elektronendonatoi-verbindung hergestellten Überzügen
anwesender Sauerstoff vor. Dieser Sauerstoff ist or'ftnbar für eine Änderuftg der Spitzenlagen und
-Intensitäten der Siliziumelektronen verantwortlich, wie sie durch ESCA (Elektronenspektroskopie für chemische
Analyse) beobachtet werden. Beispielsweise wird, wenn man einen hohen Äthylenanteil ver wendet, die
erste Silizium-(2p-)Spitze klar bei 102,0 eV im Vergleich zu Spitzen bei 1033 eV und 99,4 eV beobachtet, die
Siliziummetall bzw. oxydiertem Silizium zugeschrieben werden (s. C. D. Wagner, »Faraday Discussions of the
Chemical Society«, 60,1975,296).
Die Alkalibeständigkeit des Überzugs scheint mit dem hohen Sauerstoffanteil im Überzug verknüpft zu sein,
der wie die Alkalibeständigkeit mii dem Steigen des Verhältnisses der Elektronendonatorverbindung zum Siian
im Gas zu wachsen scheint.
Eine Analyse zeigte, daß Ionen, wie z. B. Natrium, Kalzium und Magnesium, im Überzug vorliegen können und
ihre Verteilungen innerhalb der Glasoberfläche und des Überzugs vom Ätyhlen : Silan-Verhältnis abhängen,
und Änderungen dieser Verteilungen spiegeln Änderungen in der Verteilung und im Zustand des Sauerstoffs im
Überzug wieder.
Wenn der Äthy'engehalt des Silan enthaltenden Gases wuchs, verringerte sich fortlaufend der Brechungsindex
des Überzugs.
Infolgedessen ergab sich ein stetiger Abfall sowohl der Lichtreflexion als auch der Sonnenwürmcreflexio».
Dies wurde nicht von irgendeinem merklichem Anstieg der optischen Absorption durch die Silizium enthaltenden
Überzüge begleitet, so daß irgendeine Verringerung der Reflexion durch einen Anstieg der Licht- und
Sonnenwärmedurchlässigkeit ausgeglichen wurde. Die Änderung des Brechungsindex fand ohne irgendeine
wesentliche Änderung der Dicke des Überzugs statt, wie die Tabelle I zeigt.
In einer anderen Versuchsreihe wurde klares Soda-Kalk-Kieselsäure-Glas auf einem Metallschmelzbad erzeug)
und mit einem Silizium enthaltenden Überzug nach dem erfindungsgemäßen Verfahren überzogen, und
der Überzug erwies sich als überraschend beständig gegenüber Alkaliangriff.
Das Glas wurde nahe dem Auslaßende des das Metallschmelzebad enthaltenden Behälters überzogen, wo die
Glijstemperatur im Bereich von 600 bis 6500C lag. Die erhaltenen Ergebnisse sind in den Tabellen III und IV
aufgeführt.
Tabelle | III | Gas Vol.% | SiH4 | 92 | H. | C:H4 : SiH4- | " ·» IflJ.I | Bre | Überzug- | Alkali- |
Probe | Gcsamt- | C2H4 | 91.6 | Verhältnis | (nm) | chungs | dicke | bcstän- | ||
gas- | 91,5 | index | (nm) | digkcit | ||||||
si rom | 4,6 | 91,4 | 3.4 | |||||||
l/min | 0 | 5,2 | 91,1 | 2,6 | 0 | 400 | 3.36 | 30,0 | 18s | |
15 | 140 | 0.6 | 6,0 | 1,4 | 0.11 | 455 | 3,18 | 35.8 | 45 s | |
16 | 180 | 1.1 | 5,4 | 2.1 | 0,18 | 460 | 3.29 | 35.0 | 5 min | |
17 | 180 | 1.1 | 6.9 | 0 | 0.20 | — | — | — | 5 min 30 s | |
18 | 180 | 2 | 0,20 | 480 | 3.23 | 37,2 | 30 min | |||
19 | 180 | |||||||||
Einige optische Eigenschaften dieser Proben sind in der Tabelle IV aufgeführt.
Tabelle IV
Probe | Lichtreflexion | Lichtdurchlässigkeit |
15 | 515 | 32,0 |
16 | 51,8 | 29,1 |
17 | 543 | 27,2 |
!8 | — | _ |
19 | 54.9 | 27 0 |
Probe | C2H4 : SiH4- | Brechungs | Überzugs | Lichtdurch | Licht- | Alkalibe |
Verhältnis | index | dicke | lässigkeit | reflexion | ständigkeit | |
(nm) | % | % | ||||
20 | 0 | 3,15 | 325 | 31,9 | 48,1 | 18s |
21 | 033 | 3,09 | 33.2 | 3U | 47,0 | 7 min |
22 | 036 | 3.07 | 34,6 | 30.0 | 47,9 | 20 min |
23 | 0.45 | 2.78 | 36.4 | 40.8 | 38.7 | 50 min |
Leere Felder in den Tabellen III und IV deuten an, daß die Werte während der Versuche nicht gemessen
wurden.
Man fand überraschend, daß bei Verwendung von Äthylen zur Verbesserung der Alkalibeständigkeit von auf
von einem Metallschmelzebad getragenen Flachglas erzeugten Silizium enthaltenden Überzügen das Äthylengas
die Wirkung einer Abschwächung der anscheinenden Diskontinuitäten im Überzug infolge einer Abscheidung
von kleinen metallhaltigen Teilchen auf der Glasoberfläche hatte.
Ähnliche Versuche wurden mit gewalztem Plattenglas einer Soda-Kalk-Kieselsäure-Zusammensetzung bei
einer Temperatur von 600°C durchgeführt, und die in der Tabelle V zusammengefaßten Ergebnisse zeigen eine
gleichwertige Dauerhaftigkeit des Silizium enthaltenden Überzugs, wenn er dem Alkalibeständigkeitstest durch
Kontakt mit 1 N NaOH bei 9O0C unterworfen wurde. Die Strömungsgeschwindigkeiten von Äthylen und Silan
in ihrem Trägergas wurden justiert, um bestimmte optische Eigenschaften durch Variieren des Äthylen : Silan-Vcrhältnisses
zu erzeugen und dadurch den Brechungsindex des Überzugs zu bestimmen.
Andere Silane, die sich auf heißem Glas zersetzen, z. B. höhere Silane, wie z. B. Disilan oder Trisilan, oder
substituierte Silane, wie z. B. Chlorsilane, die allgemein in der Gegenwart von Wasserstoff verwendet werden,
können auch zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens eingesetzt werden.
Diese Ergebnisse zeigen, daß man bei Verwendung von Äthylen als der Elektronendonatorverbindung vor-/ugsweise
mit einem Verhältnis von Äthylen zu Silan im Gas im Bereich von 0.1 bis 2,0 arbeitet Insbesondere
liegt das Äthylen : Silan-Verhältnis im Gas im Bereich von 02 bis OA
Die in diesen Versuchen verwendete bevorzugte Gaszusammensetzung war, wie gezeigt wurde, ein Silan
enthaltendes Gas mit 1 bis 7 Vol.-% Monosilan (SiH4), 0.5 bis 6 Vol.-% Äthylen (C2H4), nach Wunsch Wasserstoff
(H2) und Rest Stickstoff (N2).
Der Brechungsindex der reflektierenden, alkalibeständigen erzeugten Überzüge wurde als im Bereich von 2,5
bis 3,5. insbesondere 3,1 ±0,3 liegend befunden.
Es wurden auch andere Elektronendonatorverbindungen als Bestandteil des Silan enthaltenden Gases verwendet.
Andere Olefine, die verwendbar sind, sind Butadien (C4H6) und Penten (C5Hi0).
Die Elektronendonatorverbindung kann auch ein acetylenischer (eine CsC-Bindung aufweisender) Kohlenwasserstoff
sein. Acetylen wurde als Bestandteil des Gases verwendet. Weiter kann auch ein aromatischer
Kohlenwasserstoff als Elektronendonator Bestandteil des Gases, z. B. Benzol (C6H6), Toluol (C6H5 · CHj) oder
XyIoI(C6H4 - (CH3J2). verwendet we/den.
Andere Zusätze zum Silan enthaltenden Gas, die als wirksam als Elektronendonator, der dem Überzug
Alkalibeständigkeit verleiht, befunden wurden, sind olefinische Abkömmlinge, z. B. Difluoräthylen (C2H2F2), und
Ammoniak (NH3).
Einige Beispiele der Verwendung dieser anderen Elektronendonatorverbindungen sind in der Tabelle Vl
aufgeführt. Alle erzeugten Überzüge hatten eine mit den Überzügen nach der obigen Beschreibung unter
Verwendung von Äthylen als dem Elektronendonator vergleichbare Alkalibeständigkeit.
20 Elektronendonalor
Temp. °C
Gas
Vol.-%
Donator
Donator:
SiH4-
Acetylene C2H2 Butadien C4H6
Ammoniak NH3 Ammoniak NH3 Difluorätylen C2H2F2
Benzol C6H6
605 580 680 620 605 612
0,4
0,24
1,3
0,7
0,55
0,32
90,27 90,44 89,4 89,67 89,82 90.04
1.2:1 0,75 : 1 4,5:1 1,1 :1 0,85 : 1 0,5:1
Es ist am zweckmäßigsten, eine Verbindung zu verwenden, die bei Raumtemperatur gasförmig ist, so daß man
vorzugsweise eine 2 bis 5 Kohlenstoffatome enthaltende olefinische oder acetylenische Verbindung verwendet,
obwohl auch mehr als 5 Kohlenstoffatome enthaltende Verbindungen unter der Voraussetzung verwendbar
sind, daß sie unter der Zersetzungstemperatur des Silans gasförmig sind.
Die Erfindung ist auch auf das Überziehen irgendeines Alkalimetallsilikatglases oder Erdalkalimctallsilikuiglases
anwendbar.
In einem weiteren Versuch wurde ein Borsilikatglassubstrat auf 600°C erhitzt, und man ließ eine gasförmige
Mischung, die 1 Vol.-°/o Monosilan, 1,25 Vol.-% Äthylen, 10 Vol.-% Wasserstoff und 87,75 Vol.-% Stickstoff
enthielt, über die Glasoberfläche strömen. Es wurde ein reflektierender Siliziumüberzug erhalten, der nach
Eintauchen in 1 N Natriumhydroxid bei 90°C für über 3 h kein sichtbares Anzeichen von Angriff erkennen ließ.
Es wurde auch gefunden, daß die Anwendung eines Verhältnisses von Äthylen zu Silan über 2,5, z. B. eines
Verhältnisses von 5, zur Bildung eines alkalibeständigen Siliziumüberzugs auf Glas mit sehr guter Abriebbeständigkeit
führt. Solche Überzüge haben nicht die hohe Reflexionskraft für sichtbares Licht, wie sie die oben
beschriebenen Proben aufweisen, und können sogar für sichtbares Licht transparent erscheinen.
Claims (8)
1. Verfahren zum Oberziehen von Flachglas einer Oxide von wenigstens zwei Elementen enthaltenden
Zusammensetzung mit einem lichtreflektierenden Silizium enthaltenden Oberzug durch thermische Zersetzung
eines Silan und ein inertes Trägergas enthaltenden Gases bei einer Temperatur von wenigstens 400° C,
das über die Oberfläche des Glases bei einem im wesentlichen konstanten Druck unter nichtoxydierenden
Bedingungen geleitet wird, dadurch gekennzeichnet, daß man dem Gas eiren Anteil einer gasförmigen
Elektronendonatorverbindung der Gruppe Olefine, vorzugsweise Ethylen, acn/lenische Kohlenwasserstoffe,
aromatische Kohlenwasserstoffe und Ammoniak zusetzt und das Verhältnis der Elektronendonatorverbindung
zum Silan im Gas zur Regulierung der Verteilung und des Zustandes des Sauerstoffs im
Oberzug zum Erhalten eines alkalibeständigen Oberzugs steuert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Silan enthaltende Gas bis zu 6 VoL-% der
Elektronendonatorverbindung enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Ethylen zum Silan
im Gas im Bereich von 0,1 bis 2,0 liegt
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des Ethylens zum Siji.a im Gas
im Bereich von 0,2 bis 0,5 liegt.
5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Silan enthaltende Gas 1 bis 7 Vol.-%
Monosilan, 05 bis 6 Vol.-% Ethylen und ggf. bis zu 10 Vol.-% Wasserstoff enthält.
6. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Siian enthaltende Gas 03 bis 7 VoL-%
Monosilan, 0,2 bis 6 VoL-% der gasförmigen Elektronendonatorverbindung und ggf. bis zu 10 Vol.-%
Wasserstoff enthält.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als acetyienischcr Kohlenwasserstoff
Acetylen verwendet wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der aromatische Kohlenwasserstoff
Benzol, Toluol oder Xylol ist
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