DE1572068B2 - Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen - Google Patents

Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen

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Description

X_ C = CH — (CH = CH)n — R1
oder
CN
N _<f V-C = CH-(CH = CH)n-R2-(CH = CH)n-CH = C
CN
in denen R1 und R2 gleich einem aromatischen isocyclischen oder heterocyclischen Ringsystem, das auch substituiert sein kann, und η gleich 0 oder 1 ist, enthält.
Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen mit wasserunlöslichen lichtempfindlichen Arylaziden, die in wasserunlöslichen, in organischen Lösungsmitteln löslichen und in alkalischen Lösungen löslichen oder quellbaren Harzen homogen verteilt sind.
Es ist bekannt, daß zu den lichtempfindlichen Verbindungen, die für die Technik der Vervielfältigung graphischer Vorlagen praktisches Interesse haben, besonders auch für die Vervielfältigung mittels Druckformen, beispielsweise im Flach- oder Tiefoder Hochdruck, auch organische Azidoverbindungen, in erster Linie aromatische Azide gehören. In einer Anzahl von Veröffentlichungen, hauptsächlich zur Patentliteratur gehörigen, werden Verfahren beschrieben, bei denen Kopierschichten mit aromatischen Azidoverbindungen als den lichtempfindlichen Substanzen, vielfach in Kombination mit synthetischen Substanzen oder Naturstoffen, die unter gewissen Voraussetzungen eine Härtung erfahren, gebraucht werden.
Bei einigen dieser bekannten Verfahren (vgl. zum Beispiel deutsche Patentschriften 5 14 057 und 8 38 699) werden die betreffenden aromatischen Azide in wasserlöslicher Form angewendet, wozu es der Anwesenheit wasserlöslicher Gruppen im Molekül der betreffenden Azidoverbindung bedarf. Andere Verfahren (vgl. zum Beispiel deutsche Patentschrift 11 14 704) bringen die aromatischen Azide in organischen Lösungen zur Anwendung. Setzt man eine Schicht, die ein aromatisches Azid enthält, der Einwirkung von aktinischem Licht aus, so wird das Azid unter der Lichteinwirkung umgewandelt. Die Lichtumwandlungsprodukte machen sich durch Farbänderung gegenüber der unbelichteten Azidoverbindung bemerkbar sowie, falls härtbare Stoffe anwesend sind, durch Härtung oder Gerbung solcher härtbaren Stoffe, die zur Änderung von deren Löslichkeit führt. Kopierschichten mit aromatischen Azidoverbindungen arbeiten negativ. Beim bildmäßigen Belichten der Azidoverbindungen enthaltenden Schicht, beispielsweise unter einer lichtdurchlässigen Bildvorlage, ergeben sich in der Kopierschicht Bilder, die durch die
35
40 Lichtumwandlungsprodukte der Azidoverbindung hervorgerufen werden und im Verhältnis zur Vorlage umgekehrte Tonwerte zeigen. Viele der auf ihre Brauchbarkeit als lichtempfindliche Substanzen bei Vervielfältigungsverfahren geprüften und beschriebenen aromatischen Azidoverbindungen gehören zur Gruppe der Azidostyryle. Es ist auch aus der französischen Patentschrift 14 18 056 bekannt, lichtempfindliche Schichten herzustellen, die als lichtempfindliche Stoffe durch Kondensation von aromatischen Aldehyden mit Arylhydroxilaminen hergestellte Verbindungen in wasserlöslicher Form enthalten.
Es ist auch bekannt, in lichtempfindlichen Schichten die lichtempfindliche Substanz im Gemisch mit Harz anzuwenden. Nach der deutschen Patentschrift 10 81 757 geschieht dies zur Herstellung von Bildern, die aus Gasblasen gebildet sind und für das Herstellen von Druckformen nicht geeignet sind. Das Harz ist darin ein in alkalischen Lösungen weder lösliches noch anquellbares Harz, und es enthält die lichtempfindliche Verbindung, die eine aromatische Azidoverbindung sein kann, nicht in homogener Verteilung sondern in dispergierter Form. Nach der deutschen Patentschrift 10 53 930 verwendet man lichtempfindliche Substanzen in homogener Verteilung mit einem in alkalischen Lösungen löslichen Harz bei der Herstellung von Druckplatten. Die dabei verwendete lichtempfindliche Substanz ist jedoch eine Diazoverbindung, und demgemäß läßt die damit hergestellte lichtempfindliche Schicht den Vorteil vermissen, den die Verwendung von lichtempfindlichen Azidoverbindungen mit sich bringt.
Der Gebrauch von aromatischen Azidoverbindungen als wirksame Substanzen in lichtempfindlichen Kopierschichten ist wegen der Bildung farbiger Umwandlungsprodukte an den Stellen der Kopierschicht, auf die das Licht einwirkt, von besonderem praktischen Interesse. Aufgabe der Erfindung ist es, die Güte der bekannten, aromatische Azidoverbindungen enthaltenden lichtempfindlichen Schichten zu übertreffen, insbesondere noch langer lagerfähige Schichten zu schaffen.
Der Gegenstand der Erfindung geht von einer licht-
empfindlichen Schicht zur Herstellung von Druckformen mit wasserunlöslichen lichtempfindlichen Azidostyrylverbindungen aus, die in wasserunlöslichen, in organischen Lösungsmitteln löslichen und in alkalischen Lösungen löslichen oder quellbaren Harzen homogen verteilt sind, und ist dadurch gekennzeichnet, daß sie Azidostyrylverbindungen der Formeln
C = CH-(CH = CH)n-R1 CN
N,-/ V-C = CH-(CH = CH)n-R2-(CH = CH)n-CH = C
CN
in denen R1 und R2 gleich einem aromatischen isocyclischen oder heterocyclischen Ringsystem, das auch substituiert sein kann, und η gleich 0 oder 1 ist, enthält.
Als Beispiele für die in den allgemeinen Formeln (I) und (II) durch R1 und R2 vertretenen aromatischen kondensierten und unkondensierten ein- oder mehrkernigen Ringsysteme sind der Benzolring, der Naphthalinring, der Anthracenring, der Pyridinring, der Chinolinring zu nennen. Als Beispiele für die Substituenten, die in den aromatischen Ringsystemen stehen können, werden genannt Hydroxil-, Alkyl-, Alkoxi-, Dialkylamino- und Azidogruppen.
Die den allgemeinen Formeln I oder II entsprechenden Azidostyryl-Verbindungen sind bisher in der Literatur nicht beschrieben. Sie lassen sich analog zu bekannten Verfahren darstellen. Man gewinnt sie z. B. in glatter Reaktion durch die als Knoevenagel-Kondensation (siehe H. Krauch und W. Kunz »Namensreaktionen der organischen Chemie«, 2. Aufl., 1962, S. 260) bekannte Umsetzung, beispielsweise von 4-Nitrobenzylcyanid mit Benzaldehyd oder Naphthaldehyd oder Terephthalaldehyd oder Zimtaldehyd oder mit einem anderen aromatischen Aldehyd in Äthanol unter Zusatz einer kleinen Menge Piperidin in der Wärme. Die dabei genügend rein anfallenden Nitrostyryl-Verbindungen werden katalytisch zu den entsprechenden Aminoverbindungen reduziert, diazotiert und die erhaltenen Diazolösungen mit Natriumazid in die entsprechenden lichtempfindlichen 4-Azidostyrylverbindungen übergeführt.
In der Zeichnung sind einige Beispiele der die erfindungsgemäße Kopiermasse sowie das erfindungsgemäße Kopiermaterial kennzeichnenden Azidostyrylverbindungen formelmäßig unter fortlaufenden Nummern aufgeführt. Soweit ihre Schmelz- bzw. Zersetzungspunkte und ihre Absorptionsmaxima nicht aus den folgenden Beispielen zu entnehmen sind, sind sie hier in der folgenden Tabelle angegeben:
Nummer
der Formel
Schmelzpunkt
0C
λ max.
nm
2 170 bis 173 353
3 150 bis 151 352
4 184 bis 185 392
6 165 330 bis 360
12 77 bis 79 337
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Kopiermassen werden hergestellt aus einer oder mehreren Azidostyryl-Verbindungen entsprechend den allgemeinen Formeln I oder II, denen gegebenenfalls Azidostyryl-Verbindungen anderer Konstitution oder andere negativ arbeitende lichtempfindliche Substangen zugegeben werden, und Harzen, die in organischen Lösungsmitteln löslich und in einem alkalisehen wäßrigen Medium löslich oder quellbar sind. Solche Harze sind z. B. Copolymerisate von Styrol mit Maleinsäureanhydrid oder von Vinylacetat mit Crotonsäure, aus Formaldehyd und Phenolen hergestellte Polykondensate vom Novolak-Typ sowie durch Chloressigsäurebehandlung modifizierte Phenol-Formaldehyd-Harze.
Um das Filmbildungsvermögen der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Kopiermasse zu erhöhen und auch ihre Resistenz gegen die Ätzlösungen zu verbessern, die bei den in der Chemiegraphie üblichen Ätzprozessen verwendet werden, kann es vorteilhaft sein, noch höhermolekulare Substanzen von der Art der Harze mitzuverwenden, gegebenenfalls in kleinen Mengen, die unter der Bezeichnung Lack-Kunstharze zusammengefaßt werden. Besonders bewährt haben sich Polyvinylacetate, deren Copolymerisate und Kautschuk-Harze. In manchen Fällen kann auch Zusatz von Weichmacher vorteilhaft sein.
Die Mengenverhältnisse zwischen Azidostyrylverbindung entsprechend Formel I oder II und den Harzen können je nach den gewünschten Eigenschaften der Druckform und dem passenden Entwickler in weiten Grenzen schwanken. Man erzielt gute Ergebnisse bei den Gewichtsverhältnissen 2:1 bis 1:10, vorzugsweise beim Verhältnis von 1:1 bis 1:5. Innerhalb vorgenannter Grenzen wird das Verhältnis im einzelnen mitbestimmt durch die Verwendung des lichtempfindlichen Kopiermaterial und den für dessen Umwandlung in eine Druckform vorgesehenen Entwickler.
Zur Herstellung des erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Kopiermaterial, das aus einem üblichen, für die Reprographie geeigneten Schichtträger und einer darauf haftenden Schicht aus erfindungsgemäßer, lichtempfindlicher Kopiermasse besteht, wird die Kopiermasse in einem organischen Lösungsmittel gelöst, auf den Schichtträger gebracht und die aufgebrachte Lösung dann getrocknet. Als Lösungsmittel zur Herstellung der Beschichtungslösungen eignen sich beispielsweise Ester wie Butylacetat, Ketone wie Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Äther wie Diisopropyläther und Dioxan, Alkohole wie n-Butanol, Dioläther wie Glykolmonoäthyläther, Säure-
5 6
amide wie Dimethylformamid und Gemische solcher ätzmaschinen mit Salpetersäure unter Zusatz von
Lösungsmittel. Flankenschutzmitteln.
Der Schichtträger besteht aus einer Kunststoff- Sowohl die erfindungsgemäße lichtempfindliche
Folie oder Papier oder aus gegebenenfalls vorbehan- Kopiermasse als auch das erfindungsgemäße licht-
delten Platten oder Folien der für Druckformen übli- 5 empfindliche Kopiermaterial zeichnen sich durch ihre
chen Metalle, wie Zink, Magnesium, Aluminium, gute Lichtempfindlichkeit bei gleichzeitig hoher Sta-
Chrom, Messing, Stahl, desgleichen Bimetall- und bilität aus. Das erfindungsgemäße Kopiermaterial ist
Trimetall-Folien, und wird nach einer der in der hervorragend lagerfähig und besitzt den weiteren
Beschichtungstechnik üblichen Methoden mit der Vorteil, daß es schon nach der Belichtung deutlich
Lösung der erfindungsgemäßen Kopiermasse be- ίο das Bild erkennen läßt. Es vereinigt damit die stets
schichtet. Dies kann z. B. geschehen durch Auf- geforderten aber keineswegs immer vorhandenen
schleudern, Sprühen, Tauchen, Antrag mittels Wal- Eigenschaften eines idealen lichtempfindlichen Ko-
zen oder mit Hilfe eines Flüssigkeitsfilms. piermaterials, nämlich der guten Haftung zwischen
Man kann die Kopiermasse färben oder die Ko- Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht, guter
pierschicht nach dem Aufbringen auf den Schicht- 15 Lichtempfindlichkeit, guter Lagerfähigkeit, unmittel-
träger und Trocknen färben. Das Einfärben der barer Sichtbarkeit des Druckbildes nach der Belich-
Schicht empfiehlt sich in den meisten Fällen, vor tung, hohen Fettfarbenbindevermögens und großer
allem, um die Ausentwicklung und die Tonwerte bei Festigkeit gegen mechanische Beanspruchung des
Autotypien besser beurteilen zu können. Müssen die Druckbildes, auch dessen chemische Resistenz gegen
aus dem Kopiermaterial hergestellten Druckplatten 20 die Einflüsse des Ätzvorganges,
geätzt werden, wählt man vorzugsweise solche Färb- In den folgenden Beispielen verhalten sich Ge-
stoffe, bei denen die Gefahr der reduktiven Entfär- wichtsteile zu Volumteilen wie g zu ecm.
bung im Ätzbad gering ist, z. B. Farbstoffe vom
Phthalocyanin-Typ und Metall-Komplex-Farbstoffe. Beispiel 1
Die Verarbeitung des erfindungsgemäßen Kopier- 25
materials zu einer Druckform, vorzugsweise einer 1 Gewichtsteil der Verbindung mit der Formel 1 Druckplatte, geschieht in üblicher Weise. Es wird wird zusammen mit 3 Gewichtsteilen eines Metaunter einer negativen Vorlage mit Lichtquellen be- kresol-Formaldehyd-Novolaks in 100 Volumteilen lichtet, die im UV-Bereich des Spektrums liegende Glykolmonoäthyläther gelöst. Eine mechanisch aufstrahlen, das sind aktinische Strahlen, aussenden. 30 gerauhte Aluminiumfolie wird auf einer Schleuder Während die Harzanteile der Kopierschicht an den mit dieser Lösung beschichtet, zunächst mit Warm-Steilen, auf die das Licht einwirkt, vernetzt und da- luft und dann noch 2 Minuten bei 100° C getrocknet, durch gehärtet werden, werden die unbelichtet und Die nun lichtempfindliche, beschichtete Folie wird löslich bleibenden Teile der Schicht durch Tauchen durch Belichten unter einer negativen Vorlage mit und/oder Tamponieren mit einem organischen Lö- 35 UV-reichem Licht, beispielsweise Licht von einer sungsmittel oder besser mit wäßrig-alkalischem Ent- Kohlenbogenlampe oder einem Belichtungs-Röhrenwickler entfernt. Der Entwickler kann auch Salze, gerät, und Entwicklung durch Überwischen mit einer wie beispielsweise Alkali- bzw. Erdalkali-Halogenide, wäßrigen, etwa 15prozentigen Trinatriumphosphat- -Phosphate, -Silikate oder -Sulfate, quartare Ammo- lösung zu einer positiven Flachdruckplatte verarbeinium-Basen, z. B. Umsetzungsprodukte von Aminen 40 tet. Mit einer fetten Farbe eingefärbt, wird die Alumimit Äthylenoxyd sowie organische Lösungsmittel niumdruckplatte zum Drucken verwendet,
und deren Gemische enthalten. Die Verbindung der Formel 1 wird hergestellt aus
In manchen Fällen, vor allem, wenn Abdeck- und 4-Nitrobenzaldehyd und 4-Nitrobenzylcyanid durch Korrekturarbeiten vorgenommen werden sollen, kann Kondensation nach Knoevenagel, d. h. Umsetes von Vorteil sein, die Schicht vor der Entwicklung 45 zung in Äthanol als Lösungsmittel in Gegenwart oder vor einem Ätzvorgang durch Einbrennen (Tem- einer kleinen Menge von Piperidin oder einem andepern) widerstandsfähiger zu machen. Die erfindungs- ren sekundären Amin in der Wärme, katalytische gemäßen lichtempfindlichen Kopierschichten zeich- Reduktion des Kondensationsprodukts, Tetrazotienen sich dadurch aus, daß dieser in der graphischen rung und Umsetzung mit Natriumazid. Ihr Schmelz-Technik bekannte und weitin übliche Einbrennvor- 5° punkt liegt bei 108 bis 109° C, ihr Absorptionsmaxigang nicht erst nach der auf die Belichtung folgenden mum Xmax ist 355 nm.
Entwicklung erfolgen kann, sondern sie können mit R .
Vorteil auch schon nach der Belichtung eingebrannt Beispiel 2
werden. Mit einem stärker alkalischen oder konzen- 2 Gewichtsteile der Verbindung mit der Formel 7 trierten Entwickler der oben angegebenen Zusam- 55 werden zusammen mit 1 Gewichtsteil Metakresolmensetzung wird die Schicht an den Stellen, die nicht Formaldehyd-Novolak in 100 Volumteilen GIykolvom Licht getroffen wurden, entfernt, während die äthylätheracetat gelöst. Mit dieser Lösung wird nach vom Licht getroffenen Stellen der Schicht durch das der im Beispiel 1 beschriebenen Methode eine Alu-Einbrennen resistent gegen den Entwickler geworden minium-Flachdruckplatte für den Offsetdruck ersind. 60 zeugt. Als Entwickler wird eine wäßrige Lösung einer
Aus dem erfindungsgemäßen lichtempfindlichen durch Umsetzung eines aliphatischen Amins mit
Kopiermaterial hergestellte Flachdruckformen wer- Äthylenoxyd entstandenen quartären Ammoniumbase
den nach der Entwicklung wie üblich mit fetter Farbe verwendet.
eingefärbt. Bei Bimetall- und Trimetallplatten sowie Die Verbindung der Formel 7 wird hergestellt aus bei Hochdruck- und Tiefdruck-Platten bzw. -Zylin- 65 4-Dimethylaminobenzaldehyd und 4-Nitrobenzyl-
dern werden die Druckformen an den schichtfreien cyanid durch Kondensation nach Knoevenagel,
Stellen mit den speziellen Ätzlösungen tiefergelegt, katalytische Reduktion der erhaltenen Nitroverbin-
bei Zink- und Magnesium-Ätzplatten in Einstufen- dung, Diazotierung und Umsetzung mit Natriumazid.
Ihr Schmelzpunkt beträgt 183° C, ihr Absorptionsmaximum Xmax ist 412 nm.
Beispiel 3
1 Gewichtsteil der Verbindung mit der Formel 5 wird mit 1 Gewichtsteil Metakresol-Formaldehyd-Novolak und 1 Gewichtsteil eines Polyvinylacetat-Crotonsäure-Copolymerisat-Harzes sowie 0,2 Gewichtsteile des Phthalocyanin-Farbstoffs Zaponechtblau HFL (Colour Index 74 350) in 100 Volumteilen Glykolmeihylätheracetat gelöst. Eine gesäuberte Zinkplatte wird mit dieser Lösung beschichtet, getrocknet und unter einer negativen Vorlage belichtet. Nach dem Entfernen der unbelichteten Schichtteile mit einer Lösung, die zu 90 % aus 1 OOprozentiger Trinatriumphosphatlösung und zu lO°/o aus Glykolmonoäthyläther besteht, bleibt auf der Zinkplatte ein positives Bild. Durch Ätzen mit Salpetersäure oder besser durch Ätzen unter Zusatz von Flankenschutzmitteln wird die Zinkplatte in einer Einstufenätzmaschine zu einer Hochdruckplatte verarbeitet. Zur Verbesserung der Haftung der Bildschicht während der Einstufen ätzung und beim manuellen Nachätzen zur Tonwertkorrektur kann die Platte nach der Entwicklung und vor der Ätzung bei 100 bis 200° C getempert werden.
Die Platte kann auch nach dem Belichten schon getempert werden, z. B. 10 Minuten bei 180° C. Bei dieser Arbeitsweise wird mit einem Entwickler entwickelt, der zu 90 %> aus l,5prozentiger Natronlauge und zu 10 1Vo aus Isopropanol besteht.
Die Verbindung der Formel 5 wird durch Knoevenagel-Kondensation aus 4-Nitrozimtaldehyd und 4-Nitrobenzylcyanid, katalytische Reduktion des Kondensationsprodukts, Tetrazotierung und Umsetzung mit Natriumazid dargestellt. Ihr Schmelzpunkt beträgt 127 bis 1280C, ihr Absorptionsmaximum Xmax ist 386 nm.
40
Beispiel 4
1 Gewichtsteil der Verbindung mit der Formel 11 wird mit 1 Teil Metakresol-Formaldehyd-Novolak, 1 Gewichtsteil eines Copolymerisats von Styrol mit Maleinsäureanhydrid sowie 0,2 Gewichtsteile Zaponechtblau HFL (Colour Index 74 350) und 100 Volumteilen Isopropanol gelöst. Mit dieser Lösung wird eine Trimetallplatte aus Aluminium-Kupfer-Chrom beschichtet, die nach dem Trocknen der aufgetragenen Lösung und Belichten der Schicht unter einer positiven Vorlage mit einer 1 Oprozentigen wäßrigen Lösung von Trinatriumphosphat entwickelt wird. Durch Chromätzung der entwickelten Platte, anschließende Entfernung der bei der Belichtung vom Licht getroffenen Teile der aufgetragenen Schicht (Entschichtung) und Einfärben der geätzten Platte wird die Platte wie üblich als positive Tiefdruckplatte druckfertig gemacht.
Die Verbindung der Formel 11 wird durch Kondensation nach Knoevcnagel hergestellt aus 3,4-Dihydroxibcnzaldehyd und 4-Nitrobenzylcyanid. An die Kondensation schließen sich an katalytische Reduktion des Kondensationsprodukts, Diazotierung der Aminoverbindung und Umsetzung der Diazoniumvcrbindung mit Natriumazid. Die Verbindung mit der Formel 11 hat den Schmelzpunkt 164 bis 165° C und das Absorptionsmaximum ).milx 365 nm.
Beispiel 5
Wird 1 Gewichtsteil der Verbindung mit der Formel 9 mit. 1 Gewichtsteil Metakresol-Formaldehyd-Novolak und 1 Gewichtsteil eines Polyvinylacetat-Crotonsäure-Copolymerisat-Harzes sowie 0,2 Gewichtsteile des Phthalocyanin-Farbstoffs Zaponechtblau HFL (Colour Index 74 350) in 100 Volumteilen Isopropanol gelöst und mit dieser Lösung eine saubere Edelstahlplatte beschichtet, so kann man diese beschichtete Stahlplatte zur Herstellung von dauerhaften Beschriftungen auf photomechanischem Wege benutzen. Dazu wird die beschichtete Platte unter einer positiven Textvorlage belichtet und entweder mit einem Gemisch, bestehend zu 95% aus lOprozentigem Trinatriumphosphat und zu 5 °/o aus Isopropanol, entwickelt oder zunächst 10 Minuten bei 180° C getempert und dann mit dem Gemisch von 90 °/o l,5prozentiger Natronlauge und 10 °/o Methylglykol entwickelt. In einem Bad mit einer sauren Lösung von Salzen oder mit verdünnten Säuren als Elektrolyt wird das Bild der Schrift mit Hilfe von Gleichstrom (anodisch) oder mit Wechselstrom elektrochemisch tiefgeätzt. Man kann so an Stelle von Gravieren oder Prägen Informationen beständig fixieren.
Die Verbindung der Formel 9 wird durch Kondensation nach Knoevenagel dargestellt aus 4-Nitrobenzylcyanid und Anisaldehyd. Das Kpndensationsprodukt wird durch katalytische Reduktion, darauffolgende Diazotierung und Umsetzung der Diazoverbindung mit Natriumazid dargestellt. Ihr Schmelzpunkt liegt bei 102 bis 103° C, ihr Absorptionsmaximum Xmux ist 353 nm.
Beispiel 6
1 Gewichtsteil der Verbindung mit der Formel 5 — Herstellung siehe Beispiel 3 — wird mit 1 Gewichtsteil eines Kondensationsprodukts aus Metakresol-Formaldehyd-Novolak mit Monochloressigsäure und 1 Gewichtsteil eines Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisats sowie 0,2 Gewichtsteile Methylviolett in 100 Volumteilen Dimethylformamid gelöst. Mit dieser Lösung wird eine gut gereinigte Kupferplatte beschichtet. Nach dem Trocknen der Schicht wird diese unter einer positiven Rastervorlage belichtet und mit einer etwa 1 Oprozentigen Lösung von Trinatriumphosphat entwickelt. Die freigelegten Stellen der Kupferplatte, die dem positiven Bild der Vorlage direkt entsprechen, werden wie üblich mit Ferrichlorid-Lösung tiefgeätzt. Man erhält so eine positive Druckplatte für autotypischen Tiefdruck.
Beispiel 7
Eine Platte aus unglasiertem Ton bzw. Porzellan oder aufgerauhtem Glas wird mit einer Lösung aus 1 Gewichtsteil der Verbindung mit der Formel 8, 1 Gewichtsteil eines Metakresol-Formaldehyd-Novolaks und 1 Gewichtsteil eines Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisats in 100 Volumteilen Dioxan beschichtet. Man trocknet und belichtet die aufgetragene Schicht unter einem Negativ und entwickelt die belichtete Schicht mit etwa 0,2prozentiger Natronlauge. Man erhält so ein intensiv braungelbes positives Bild der Vorlage auf dem keramischen Material. Das Bild kann verstärkt werden, beispielsweise
509 520/265
9 10
durch Einfärben mit Pigmentfarben, oder eingebrannt Natriumazid. Ihr Schmelzpunkt liegt bei 206 bis
oder auf andere Weise bearbeitet werden. 208° C.
Die Verbindung der Formel 8 wird hergestellt . .
durch Kondensation von 4-Nitrobenzylcyanid mit Beispiel 9
4-Diäthylaminobenzaldehyd, katalytische Reduktion 5 1 Gewichtsteil der Verbindung mit der Formel 7
des Kondensationsprodukts, Diazotierung der erhal- — ihre Herstellung vgl. Beispiel 2 —, 1 Gewichtsteil
tenen Aminoverbindung und Umsetzung der Diazo- der Verbindung mit der Formel 1, 1 Gewichtsteil
lösung mit Natriumazid. Metakresol-Formaldehyd-Novolak, 1 Gewichtsteil
Ihr Schmelzpunkt beträgt 182 bis 183° C, ihr Ab- Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat, 1 Ge-
sorptionsmaximum λπιαχ ist 419 nm. io wichtsteil eines Polyvinylacetat-Crotonsäure-Copoly-
merisat-Harzes sowie 0,2 Gewichtsteile Zaponecht-
Beispiel 8 violett BR (Colour Index 12 196) werden in einem
Gemisch aus 50 Volumteilen Glykolmonoäthyläther
1 Gewichtsteil der Verbindung mit der Formel 10 und 50 Volumteilen Dimethylformamid gelöst. Eine wird mit 1 Gewichtsteil eines Metakresol-Formalde- 15 gesäuberte und entfettete Zinkplatte wird mit dieser hyd-Novolaks in 100 Volumteilen Glykolmono- Lösung beschichtet, getrocknet und unter einer negamethyläther gelöst. Mit dieser Kopierlösung wird tiven Vorlage belichtet. Die unbelichteten Schichteine Papierfolie oder eine mattierte Kunststoff-Folie teile werden mit einem Entwickler entfernt, der aus (Zeichenfolie) beschichtet, getrocknet und unter einer 85% 15prozentiger Trinatriumphosphatlösung und negativen Vorlage belichtet. Das Belichtungsbild wird 20 15% Glykolmonomethyläther besteht. Das ätzfeste fixiert durch Entwickeln der belichteten Schicht mit positive Bild der Vorlage auf der Zinkplatte wird einer etwa 5prozentigen Trinatriumphosphat-Lösung. durch Ätzen in einer Einstufenätzmaschine zu einem Gibt man der Kopierlösung Farbstoffe zu, erhält man Druck-Klischee verarbeitet.
stark abdeckende Bilder in verschiedenen Farben, die Wird nach dem Belichten die Platte getempert,
auf transparentem Träger auch als Vorlagen für die 25 z.B. 10 Minuten bei 1800C im Einbrennofen, so
Diazotypie geeignet sind. muß mit einer Lösung, bestehend zu 90 % aus 2pro-
Die Verbindung mit der Formel 10 wird erhalten zentiger Natronlauge und zu 10% aus Glykolmonodurch Kondensation von 4-Nitrobenzylcyanid mit methyläther, entwickelt werden.
4-Hydroxibenzaldehyd, katalytische Reduktion des Die Verbindung mit der Formel 7 hat den Schmelz-Kondensationsprodukts, Diazotierung der gebildeten 30 punkt 183° C, ihr Absorptionsmaximum Xmax ist Aminoverbindung und anschließende Umsetzung mit 412 nm.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen mit wasserunlöslichen lichtempfindlichen Azidostyrylverbindungen, die in wasserunlöslichen, in organischen Lösungsmitteln löslichen und in alkalischen Lösungen löslichen oder quellbaren Harzen homogen verteilt sind, dadurch gekennzeichnet, daß sie Azidostyrylverbindungen der Formeln
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3887379A (en) * 1972-03-30 1975-06-03 Ibm Photoresist azide sensitizer composition
JPS5140452B2 (de) * 1973-07-23 1976-11-04
GB2092164B (en) * 1980-12-17 1984-12-05 Hitachi Ltd Loght or radiation-sensitive polymer composition
JPS57168942A (en) * 1981-04-13 1982-10-18 Hitachi Ltd Photosensitive polymer composition
US4554237A (en) * 1981-12-25 1985-11-19 Hitach, Ltd. Photosensitive resin composition and method for forming fine patterns with said composition
JPS59222833A (ja) * 1983-06-01 1984-12-14 Hitachi Chem Co Ltd 感光性組成物
US5310732A (en) * 1986-02-03 1994-05-10 The Scripps Research Institute 2-halo-2'-deoxyadenosines in the treatment of rheumatoid arthritis
EP0363817A3 (de) * 1988-10-14 1990-09-26 Hoechst Aktiengesellschaft Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend ein Polymeres mit 1,2,3-Thiadiazolgruppen, sowie dieses enthaltendes Aufzeichnungsmaterial
CN103160144A (zh) * 2012-10-26 2013-06-19 杭州百合科莱恩颜料有限公司 一种单偶氮有机颜料及其合成方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2852379A (en) * 1955-05-04 1958-09-16 Eastman Kodak Co Azide resin photolithographic composition
DE1447017B2 (de) * 1963-10-26 1971-08-12 Kalle AG, 6202 Wiesbaden Biebrich Verfahren zur herstellung von druckformen gedruckten schal tungen oder metallaetzungen

Also Published As

Publication number Publication date
DE1572069C3 (de) 1976-01-08
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CH504023A (de) 1971-02-28
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SE350342B (de) 1972-10-23
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US3539559A (en) 1970-11-10
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DE1572069B2 (de) 1975-05-15

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