DE1195166B - Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten - Google Patents

Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten

Info

Publication number
DE1195166B
DE1195166B DEK38624A DEK0038624A DE1195166B DE 1195166 B DE1195166 B DE 1195166B DE K38624 A DEK38624 A DE K38624A DE K0038624 A DEK0038624 A DE K0038624A DE 1195166 B DE1195166 B DE 1195166B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
radical
printing
aryl
layers
diazide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEK38624A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Wilhelm Neugebauer
Dr-Ing Habil Fritz Endermann
Dr Maximillian Karl Reichel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kalle GmbH and Co KG
Original Assignee
Kalle GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL255517D priority Critical patent/NL255517A/xx
Priority to NL130926D priority patent/NL130926C/xx
Application filed by Kalle GmbH and Co KG filed Critical Kalle GmbH and Co KG
Priority to DEK38624A priority patent/DE1195166B/de
Priority to CH974560A priority patent/CH382565A/de
Priority to GB29879/60A priority patent/GB941837A/en
Priority to US53357A priority patent/US3201239A/en
Priority to SE8401/60A priority patent/SE304175B/xx
Priority to FR837590A priority patent/FR1269894A/fr
Publication of DE1195166B publication Critical patent/DE1195166B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. α.:
G03f
Deutsche Kl.: 57 d-2/01
Nummer: 1195166
Aktenzeichen: K 38624IX a/57 d
Anmeldetag: 4. September 1959
Auslegetag: 16. Juni 1965
Aus der deutschen Patentschrift 938 233 sind lichtempfindliche Schichten bekannt, welche wegen ihrer hohen Lichtempfindlichkeit und guten Haftfestigkeit auf dem metallischen Schichtträger, ζ. Β. Aluminium oder Zink, sehr großes Interesse für die Herstellung von Druckformen für den Flach- und Offsetdruck besitzen. Die diese lichtempfindlichen Schichten kennzeichnenden lichtempfindlichen Substanzen sind Naphthochinone ,2)-diazid-(2)-sulf ensäureester, die einer der allgemeinen Formeln
D —SO—< V-C =
Il
--Il
O
D —S —O
li
OH
X>—OH
I / i \
x C=O
entsprechen, in denen D für einen Naphthochinon-(l,2)-diazidrest, χ für Wasserstoff oder Hydroxyl, R für Wasserstoff, OR1, NR2 R3 oder einen substituierten oder nicht substituierten Alkylrest, Arylrest oder heterocyclischen Rest, R1 für Alkyl oder Aryl und R2 und R3 mit gleicher oder voneinander verschiedener Bedeutung für Wasserstoff oder Alkyl oder Aryl stehen.
Als Substituenten, die in R = Aryl stehen können, werden beispielsweise genannt Alkyl, Halogene, Alkoxy-, Aroxy- und Naphthochinon-(l,2)-diazidsulfonyloxyreste.
Will man nach den bereits vorliegenden Angaben unter Verwendung der oben bezeichneten lichtempfindliehen aromatischen Diazoverbindungen jedoch brauchbares, das ist ätzfähiges Kopiermaterial für die Chemigraphie herstellen, um daraus beispielsweise Druckformen für den Buchdruck, Illustrationsdruck, für den Hochdruck oder Tiefdruck, Druckplatten in Strichätzung und Autotypieätzung sowie Bimetall- und Trimetall-Druckf ormen für den Flach- und Offsetdruck zu machen, so zeigt sich, daß die für den Flach- und Offsetdruck im allgemeinen brauchbaren Kopierschichten ungeeignet sind, weil deren Widerstandsfähigkeit gegenüber den in der Chemigraphie verwendeten, stark mineralsauren Ätzlösungen, z. B. ver-Auf Metallunterlagen haftende, ätzfähige
Kopierschichten
Anmelder:
Kalle Aktiengesellschaft,
Wiesbaden-Biebrich, Rheingaustr. 190-196
Als Erfinder benannt:
Dr. Wilhelm Neugebauer, Wiesbaden-Biebrich;
Dr.-Ing. habil. Fritz Endermann, Wiesbaden;
Dr. Maximillian Karl Reichel,
Wiesbaden-Biebrich
dünnte Salpetersäure, verdünnte Salzsäure, Eisenchloridlösungen u. a., zu gering ist.
ao Es ist zwar bekannt, solche Flachdruckplatten durch Einfärben mit fetter Druckfarbe an den Farbe annehmenden Flächenteilen ätzfest zu machen und dann die Druckplatte zu ätzen. Man muß dann aber eine hinsichtlich der Farbannahme und Farbabstoßung völlig einwandfreie Flachdruckplatte aus dem Druckplattenmaterial machen, ehe man es durch Ätzen in eine Tief- oder Hochdruckform umwandeln kann.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung sind auf Metallunterlagen haftende ätzfähige Kopierschichten, besonders für die Chemigraphie, die unter Verwendung von Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäureestern der durch die oben angeführten allgemeinen Formehl gekennzeichneten chemischen Konstitution als lichtempfindliche Substanzen hergestellt sind. Die erfindungsgemäßen ätzfähigen Kopierschichten sind dadurch gekennzeichnet, daß sie neben den genannten lichtempfindlichen Naphthochinone ,2)-diazid-(2)-sulfonsäureestern säurefeste, alkalilösliche Harze des Typs der nicht härtbaren Phenol-Formaldehydharz-Novolake als chemisch unverbundene Beimischung in solcher Menge enthalten, daß in der Kopierschicht der Gewichtsanteil an alkalilöslichem Harz mindestens ebenso groß ist wie der Anteil an lichtempfindlicher Substanz.
Der in den erfindungsgemäß ätzfähigen lichtempfindlichen Schichten anwesende Harzanteil muß im Verhältnis zur Menge der angewendeten Diazoverbindung sehr hoch sein. Die sehr hohe Harzkonzentration bedingt die Einhaltung bestimmter Mengenverhältnisse von Harz zu Diazoverbindung, weil sowohl die zügige Entfernbarkeit der vom Licht getroffenen Teile der Schicht als auch das Widerstandsvermögen des alkali-
509 580/231
empfindlichen Harzanteils, beispielsweise an phenolgruppenhaltigem Harz, der nicht belichteten Teile der Schicht erhalten bleiben müssen.
Die Anforderungen an die lichtempfindlichen und zugleich ätzfesten Schichten konnten bisher mit den bekannten aromatischen Diazoverbindungen in einem Ausmaß, welches für eine praktische Auswertung in der Chemigraphie ausreicht, nicht erreicht werden. Es ist deshalb überraschend und war keineswegs vorauszusehen, daß die aromatischen Diazoverbindungen, die den oben angegebenen allgemeinen Formeln entsprechen, in bestimmter Kombination mit säurefesten, alkalilöslichen Harzen für die Herstellung ätzfester, lichtempfindlicher Schichten und damit für die Herstellung von Druckformen für den Hochdruck oder Tiefdruck brauchbar sind.
Es war zwar bekannt, aus Naphthochinon-diazidsulfonsäuren und Novolaken gebildete Ester, gegebenenfalls auch zusammen mit Harzen, in lichtempfindlichen Schichten auf den Druckplatten zu verwenden. Diese Schichten sind aber ebenfalls nicht ätzfähig, es sei denn, man schützte die beim Entwickeln nicht ausgewaschenen Stellen der Platte durch Einfärben mit fetter Farbe, was aber, wie oben ausgeführt, ein wenig vorteilhaftes und daher für die Praxis allgemein nicht in Betracht zu ziehendes Verfahren ergibt. Auf Metallunterlagen haftende Kopierschichten, in denen Ester von Chinondiazid-(l,2)-sulfonsäuren und Novolaken als die lichtempfindliche Substanz enthalten sind, zählen demgemäß nicht zu dem Gegenstand dieser Erfindung.
Es war weiter lichtempfindliches Material bekannt, in dessen lichtempfindlicher Schicht neben Chinondiaziden, wie Chinon-(l,4)-diazidsulfonsäureamiden, Umsetzungsprodukte von Novolaken mit Chloressigsäure enthalten sind. Es handelt sich dabei um ein Flachdruckmaterial, so daß die Frage seiner Ätzbarkeit nicht geklärt und auch nicht angerührt worden ist; dieses Material ist im übrigen im Gegensatz zu den Kopierschichten dieser Erfindung ein negativ arbeitendes Kopiermaterial.
Die bei den erfindungsgemäßen Kopierschichten einzuhaltenden Gewichtsverhältnisse von aromatischer Diazoverbindung zu Harz liegen zwischen 1: 1 und 1: 6, vorzugsweise zwischen 1: 2 und 1: 4.
Als Schichtträger lassen sich mit besonderem Vorteil Metallplatten und Metallfolien verwenden, z. B. solche aus Aluminium, Blei, Bronze, Chrom, Kupfer, Magnesium, Messing, Silber, Stahl oder Zink, sowie Bimetall- und Trimetallfolien, z. B. aus Kupfer—Stahl, Aluminium—Kupfer, Aluminium—Kupfer—Chrom. Ferner kann man als Schichtträger elektrisch nichtleitende Folien verwenden, die mit metallischen Schichten kaschiert oder mit Metallen bedampft worden sind, vorzugsweise aus transparenten Kunststoffen, z. B. biaxial gereckten und wärmefixierten Folien aus PoIyterephthalsäureglykolester.
Die Herstellung des Kopiermaterials mit den darauf haftenden erfindungsgemäßen Kopierschichten geht in an sich bekannter Weise vor sich. Man löst den oder die Naphthochinone ,2)-diazid-(2)-sulf ensäureester der oben angegebenen Konstitution und das säurefeste alkalilösliche Harz in organischen Lösungsmitteln und trägt die Lösung, welche die beiden die Kopierschicht kennzeichnenden Bestandteile enthält, nach einer der in der Beschichtungstechnik üblichen Methoden auf den Schichtträger auf, z. B. durch Aufschleudern, Aufbürsten, Antragen mittels Walzen, und trocknet sie dann. Als Lösungsmittel zur Herstellung der Beschichtungslösungen eignen sich beispielsweise Glykolmonomethyläther oder Glykolmonoäthyläther, aliphatische Ester, wie Essigester oder Butylacetat, aliphatische Ketone, wie Methyl-isobutyl-keton oder Aceton, oder Gemische dieser Lösungsmittel. Die Menge der Diazoverbindung in den Beschichtungslösungen ist ausreichend mit 2 bis 5 Grammprozent angegeben; vorzugsweise liegt die Menge zwischen 2,5 und
ίο 3 Grammprozent. Danach ist die Menge des Harzanteils, der in der Kopierschicht erforderlich ist, leicht zu bestimmen.
Weiter können in geeigneten Mengen von 0,1 bis 0,5 Grammprozent Weichmacher, z. B. Maisöl, Mineralöl, Ricinusöl oder Sesamöl, den Beschichtungslösungen zugesetzt werden. Zur genauen Prüfung des auf photomechanischem Wege erhaltenen Bildes empfiehlt es sich, das Bild mit geeigneten Farbstoffen, welche sich durch eine niedrige UV-Lichtabsorption
so auszeichnen, in an sich bekannter Weise anzufärben. Der Farbstoff wird vorteilhaft bereits den lichtempfindlichen Beschichtungslösungen zugesetzt. Geeignete Farbstoffe sind z.B. Methylviolett BB (Schultz, Farbstofftabellen, 7. Auflage, Bd. I [1931], S. 327, Nr. 738), Rosanilin-Hydrochlorid (a. a. O., S. 324, Nr. 780), Methylenblau (a. a. O., S. 449, Nr. 1038), Patentblau V (a. a. O., S. 349, Nr. 826).
Die erfindungsgemäßen ätzfesten Kopierschichten eignen sich sowohl für das übliche Mehrstufenätzverfahren als auch das Einstufenätzverf ahren. Ein weiterer, nicht zu unterschätzender Vorteil ist es, daß gegenüber den bisher in der Chemigraphie verwendeten Bichromat-Kolloid-Schichten vor dem Ätzen, nicht mehr eingebrannt zu werden braucht, um Ätzsicherheit der Schicht zu erreichen. Dadurch bleibt die ursprüngliche kristalline Struktur, z. B. des Zinkmetalls, erhalten, und die gefürchteten, mikroskopisch kleinen Bläschen an der Metalloberfläche, welche die Druckform zerstören, treten nicht auf. Neuartig für die Chemigraphie ist es, daß die erfindungsgemäß mit den aromatischen Diazoverbindungen und Harzen hergestellten ätzfesten Kopierschichten im Gegensatz zu den bisher in der Chemigraphie verwendeten Bichromat-Kolloid-Gerbschichten positiv arbeiten, ein Umstand, welcher zu einer Reihe von Vorteilen bei der phototechnischen Herstellung der Strich- und Rastervorlagen führt und eine wesentliche Vereinfachung in der Herstellung und qualitätsmäßige Verbesserung von Druckformen für den Hoch- und Tiefdruck zur Folge hat.
Beispiel 1
Man löst 3 g 2,3,4-Trioxy-benzophenon-naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-5-sulfensäureester (Formel 1) und 10 g m-Kresol-Formaldehydharz-Novolak in einem Gemisch aus 80 ecm Glykolmonomethyläther und 20 ecm Butylacetat, setzt 0,3 g Maisöl und 0,3 g Methylviolett BB hinzu, filtriert die Lösung und beschichtet damit einen sich drehenden Kupferzylinder mittels einer Spritzdüse. Man trocknet die auf den Zylinder aufgetragene Schicht, belichtet sie unter einer negativen photographischen Vorlage und entfernt die vom Licht getroffenen Anteile der Schicht mit einer etwa 10- bis 15%igen Trinatriumphosphatlösung mit Hilfe eines damit getränkten Wattebausches.
Der so behandelte Kupferzylinder wird mit Wasser und schließlich mit etwa 2- bis 3%iger Salzsäure Übergossen, um die alkalisch reagierenden Reste der Ent-
Wicklerlösung zu beseitigen, und nach erneutem Abspülen mit Wasser mit Warmluft getrocknet. Die freigelegte Kupferfläche wird mit Eisenchloridlösung von 40° Be5 die eine Temperatur von 2O0C besitzt, bis zur gewünschten Tiefe geätzt. Man erhält eine Druckform für den Tiefdruck, welche sich nach dem üblichen Verchromen für das Bedrucken von Klarsichtfolien hervorragend eignet.
Beispiel2
Man löst 3 g Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäureester des 2,4-Dioxy-benzoesäuremethylesters (Formel 2) mit 10 g m-Kresol-Formaldehydharz-Novolak in 100 ecm Glykolmonomethyläther und setzt 0,3 g Ricinusöl und 0,5 g Methylviolett BB hinzu. Man filtriert die Lösung und beschichtet mit ihr, beispielsweise auf einer Schleuder, eine saubere, polierte Zinkplatte. Die aufgetragene Schicht wird mit heißer Luft getrocknet. Zur Herstellung des Klischees belichtet man die Schichtseite der Zinkplatte unter einem Diapositiv und behandelt die belichtete Schicht mit einem Wattebausch, welcher mit einer etwa 2,5%igen Trinatriumphosphatlösung, die noch 10 bis 15 Volumprozent Glykolmonomethyläther enthält, getränkt ist. Die vom Licht getroffenen Schichtteile werden dabei von der Zinkoberfläche entfernt, während die Teile, die während der Belichtung unter der Vorlage geschützt waren, als Restbild auf dem metallischen Träger zurückbleiben. Nach dem Spülen der entwickelten Platte mit Wasser wird in einem Steinzeugtrog, welcher Schaufelräder besitzt, mit verdünnter 7- bis 8%iger Salpetersäure entweder nach dem üblichen Mehrstufenätzverfahren oder nach der modernen Arbeitsweise des Einstufenätzverfahrens tief geätzt. Man erhält, ohne die Zinkplatte vor dem Ätzen erhitzen zu müssen, ein für den Buchdruck ausgezeichnet geeignetes Klischee. An Stelle der Zinkplatte kann mit gleich gutem Ergebnis eine Platte aus Magnesium verwendet werden. 4c
Beispiel3
In 100 ecm Glykolmonomethyläther löst man 3 g Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-5-sulfensäureester des 2,4-Dioxy-acetophenons (Formel3) und lOgm-Kresol-Formaldehydharz-Novolak, setzt 0,3 g Sesamöl und 0,5 g Methylviolett BB hinzu, filtriert die Lösung und beschichtet mit ihr auf einer Schleuder eine glatt polierte Zinkplatte. Zur Herstellung von Zinkauto- 5" typien wird die lichtempfindliche Zinkplatte unter Farbauszug-Rasterdiapositiv-Vorlagen belichtet, die vom Licht getroffenen Anteile der Schicht werden mit einer 2,5%igen Trinatriumphosphatlösung, welche noch 10 bis 15 Volumprozent Glykolmonomethyläther enthält, unter Verwendung eines Wattebausches entfernt, und die so freigelegte Zinkfläche wird mit verdünnter Salpetersäure geätzt. Man erhält für den Mehrfarben-Illustrationsdruck und den Buchdruck hervorragend geeignete, tonwertrichtige Zinkautotypie-Klischees.
An Stelle der Zinkplatte kann mit gleich gutem Ergebnis eine Platte aus Magnesium Verwendet werden. und 5 g m-Kresol-Formaldehydharz-Novolak in einem Gemisch, bestehend aus 80 ecm Glykolmonomethyläther und 20 ecm Glykolmonoäthyläther, setzt 0,3 g Sesamöl und 0,5 g Rosanilin-Hydrocholrid hinzu, filtriert die Lösung und beschichtet damit auf der Schleuder eine Aluminium-Kupfer-Bimetallfolie. Nach der Belichtung der beschichteten Metallfolie unter einem Diapositiv werden die belichteten Teile der Schicht durch Behandlung mit einem Wattebausch, der mit einer etwa 2,5%igen Trinatriumphosphatlösung getränkt ist, entfernt, und die freigelegte Kupferfläche wird mit einer Eisennitratlösung, welche 160 g Fe(NOg)3-9 H2O in 100 ecm Wasser enthält, weggeätzt. Man erhält eine Druckform für den Flach- und Offsetdruck, mit welcher sehr hohe Auflagen erhalten werden. An Stelle von Aluminium—Kupfer kann mit gleich gutem Ergebnis eine Bimetallfolie aus Kupfer—Stahl verwendet werden.
Beispiel 4
Man löst 3 g Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäureester des 2,4,6-Trioxybenzaldehyds (Formel 4)
Beispiel 5
In 100 ecm Glykolmonomethyläther löst man 3 g Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sulfensäureester des 2,3,4-Trioxybenzophenons (Formel 5) und 5 g m-Kresol-Formaldehydharz-Novolak, setzt 0,2 g Ricinusöl und 0,5 g Rosanilin-Hydrochlorid hinzu, filtriert die Lösung und beschichtet damit eine Tri-Metallfolie, welche aus Aluminium-, Kupfer- und Chromschichten besteht. Die beschichtete Trimetallfolie wird unter einem photographischen Negativ belichtet und die belichtete Folie dann mit einer etwa 2,5%igen Trinatriumphosphatlösung, welche noch etwa 10 bis 15 Volumprozent Glykolmonomethyläther enthält, behandelt, um die vom Licht getroffenen Teile der Schicht zu entfernen. Anschließend wird die entwickelte Folie mit Wasser gespült und mit Warmluft getrocknet. Die Ätzung der freigelegten Chromfläche erfolgt mittels eines Gemisches aus Calciumchlorid, Salzsäure und Glycerin, wobei die unter der Chromschicht befindliche Kupferfläche nicht angegriffen wird. Man erhält eine Druckform für den Flach- und Offsetdruck, auf welcher die Druckelemente aus Kupfer bestehen, während die nicht druckende Fläche aus Chrom besteht.
Beispiel 6
Man arbeitet, wie im Beispiel 5 beschrieben, verwendet aber als Schichtträger eine Kupferfolie von etwa 30 bis 70 μ Dicke, welche auf eine den elektrischen Strom nicht leitende Kunststoffplatte kaschiert ist, beispielsweise auf eine Platte aus gehärtetem Phenolformaldehydharz oder aus weichmacherfreiem oder nur wenig Weichmacher enthaltendem Polyvinylchlorid. Nach der Belichtung des lichtempfindlichen Materials unter einem Diapositiv und der Entfernung der vom Licht getroffenen Teile der Schicht durch Behandeln mit einer etwa 2,5°/0igen Trinatriumphosphatlösung, welche etwa 10 bis 15 Volumprozent Glykolmonomethyläther enthält, wird die Kupfer-Kunststoff-Platte mit Wasser gespült und mit Heißluft getrocknet. Dann ätzt man bei Raumtemperatur mit Eisenchloridlösung von 40° Be die Kupferfläche an den freigelegten Stellen und erhält eine »kopierte Schaltung« für die elektrische Stromführung.
An Stelle der Kupfer-Kunststoff-Platte kann mit besonderem Vorteil eine transparente, elektrisch
nichtleitende Folie aus Polyterephthalsäureglykolester, auf welche eine Metallschicht, z. B. aus Aluminium oder Kupfer, entweder durch Kaschierung oder durch Vakuumbedampfung aufgebracht wurde, verwendet werden. Die Ätzlösungen, die für die mit Kupfer kaschierte bzw. metallbedampfte Polyterephthalsäureglykolesterfolie verwendet werden, enthalten im Liter die nachstehend angegebenen Chemikalien:
10
Für die mit Kupfer kaschierte FoUe:
271 g Calciumchlorid,
262 g Eisenchlorid (techn.), FeCl3, 7,2 ecm 80%ige Salpetersäure,
14,5 ecm konzentrierte Salzsäure, 5,9 g Cuprichlorid;
für die metallbedampfte Folie:
452 g Calciumchlorid,
54 g Eisenchlorid (techn.), FeCl3,
12 ecm 80%ige Salpetersäure,
24 ecm konzentrierte Salzsäure, 2_
7,5 g Cuprichlorid (CuCI2 · 2 H2O).
Man erhält sogenannte »kopierte Schaltungen« für die elektrische Stromführung, welche sich besonders als Bauelemente im elektrischen Apparatebau eignen.

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Auf Metallunterlagen haftende ätzfähige Kopierschichten, in denen als lichtempfindliche Substanzen Naphthochinon - (1,2) - diazid - (2) - sulf on-
    säureester anwesend sind, die einer der allgemeinen Formeln
    oder
    O
    Γ
    }
    O— <
    \ ! /
    R
    I
    11
    D —S —
    X
    O OH O °-< ι; D —S — X V-OH O VC =0
    entsprechen, dadurch gekennzeichnet, daß die Kopierschichten neben den lichtempfindlichen Substanzen säurefeste alkalilösliche Harze des Typs der nicht härtbaren Phenol-Formaldehydharz-Novolake als chemisch unverbundene Beimischung in solchen Mengen enthalten, daß der Gewichtsanteil an alkalilöslichem Harz mindestens ebenso groß ist wie der Anteil an lichtempfindlicher Substanz. In der allgemeinen Formel stehen D für Naphthochinon-(l,2)-diazidrest, χ für Wasserstoff oder Hydroxyl, R für Wasserstoff, OR1, NR2, R3 oder einen substituierten oder nichtsubstituierten Alkylrest, Arylrest oder heterocyclischen Rest, R1 für Alkyl oder Aryl und R2 und R3 mit gleicher oder voneinander verschiedener Bedeutung für Wasserstoff oder Alkyl oder Aryl.
    In Betracht gezogene Druckschriften:
    Deutsche Patentschrift Nr. 865 860;
    deutsche Auslegeschrift Nr. 1 053 930.
    Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
    509 580/231 6.65 © Bundesdruckerei Berlin
DEK38624A 1959-09-04 1959-09-04 Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten Pending DE1195166B (de)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL255517D NL255517A (de) 1959-09-04
NL130926D NL130926C (de) 1959-09-04
DEK38624A DE1195166B (de) 1959-09-04 1959-09-04 Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten
CH974560A CH382565A (de) 1959-09-04 1960-08-29 Auf Metallunterlagen haftende, ätzfeste Kopierschicht
GB29879/60A GB941837A (en) 1959-09-04 1960-08-30 Photographic copying material
US53357A US3201239A (en) 1959-09-04 1960-09-01 Etchable reproduction coatings on metal supports
SE8401/60A SE304175B (de) 1959-09-04 1960-09-02
FR837590A FR1269894A (fr) 1959-09-04 1960-09-02 Couches de reproduction supportant la gravure et adhérant à des supports métalliques

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEK38624A DE1195166B (de) 1959-09-04 1959-09-04 Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1195166B true DE1195166B (de) 1965-06-16

Family

ID=7221449

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEK38624A Pending DE1195166B (de) 1959-09-04 1959-09-04 Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3201239A (de)
CH (1) CH382565A (de)
DE (1) DE1195166B (de)
GB (1) GB941837A (de)
NL (2) NL255517A (de)
SE (1) SE304175B (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522478B1 (de) * 1965-12-17 1971-07-29 Polychrome Corp Vorsensibilisierte, positiv arbeitende Flachdruckplatte
DE2944237A1 (de) * 1978-11-02 1980-05-14 Konishiroku Photo Ind Lichtempfindliche masse und sie enthaltendes lichtempfindliches material

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL294370A (de) * 1963-06-20
DE1224147B (de) * 1963-08-23 1966-09-01 Kalle Ag Verfahren zur Umkehrentwicklung von Diazo-verbindungen enthaltenden Kopierschichten
GB1052699A (de) * 1963-12-03
CA774047A (en) * 1963-12-09 1967-12-19 Shipley Company Light-sensitive material and process for the development thereof
DE1471701A1 (de) * 1964-03-06 1969-02-20 Basf Ag Verfahren zum Herstellen von Druckformen
GB1053866A (de) * 1964-08-05
GB1143611A (de) * 1965-03-22
NL136645C (de) * 1966-12-12
US3647443A (en) * 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
US3666473A (en) * 1970-10-06 1972-05-30 Ibm Positive photoresists for projection exposure
US3865595A (en) * 1972-11-09 1975-02-11 Howson Algraphy Ltd Lithographic printing plates
US4052217A (en) * 1971-11-09 1977-10-04 Howson-Algraphy Limited Bimetallic lithographic printing plates
US4379827A (en) * 1971-12-08 1983-04-12 Energy Conversion Devices, Inc. Imaging structure with tellurium metal film and energy sensitive material thereon
US3779778A (en) * 1972-02-09 1973-12-18 Minnesota Mining & Mfg Photosolubilizable compositions and elements
JPS5024641B2 (de) * 1972-10-17 1975-08-18
US4018937A (en) * 1972-12-14 1977-04-19 Rca Corporation Electron beam recording comprising polymer of 1-methylvinyl methyl ketone
US4012536A (en) * 1972-12-14 1977-03-15 Rca Corporation Electron beam recording medium comprising 1-methylvinyl methyl ketone
US3772016A (en) * 1973-01-30 1973-11-13 Ibm Method of producing multicolor planographic printing surface
US3950173A (en) * 1973-02-12 1976-04-13 Rca Corporation Electron beam recording article with o-quinone diazide compound
US4036644A (en) * 1973-03-16 1977-07-19 International Business Machines Corporation Photoresist process and photosensitive O-quinone diazide article with aliphatic carboxylic acid as adhesion promotor
JPS5645127B2 (de) * 1974-02-25 1981-10-24
US3982943A (en) * 1974-03-05 1976-09-28 Ibm Corporation Lift-off method of fabricating thin films and a structure utilizable as a lift-off mask
JPS50125805A (de) * 1974-03-19 1975-10-03
US4168979A (en) * 1974-03-19 1979-09-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive printing plate with matt overlayer
US4259430A (en) * 1974-05-01 1981-03-31 International Business Machines Corporation Photoresist O-quinone diazide containing composition and resist mask formation process
US4007047A (en) * 1974-06-06 1977-02-08 International Business Machines Corporation Modified processing of positive photoresists
US3958994A (en) * 1974-08-26 1976-05-25 American Hoechst Corporation Photosensitive diazo steel lithoplate structure
US3979212A (en) * 1974-10-04 1976-09-07 Printing Developments, Inc. Laminated lithographic printing plate
US4191573A (en) * 1974-10-09 1980-03-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive positive image forming process with two photo-sensitive layers
US4189320A (en) * 1975-04-29 1980-02-19 American Hoechst Corporation Light-sensitive o-quinone diazide compositions and photographic reproduction processes and structures
US4174222A (en) * 1975-05-24 1979-11-13 Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha Positive-type O-quinone diazide containing photoresist compositions
US4125661A (en) * 1976-03-19 1978-11-14 Mona Industries, Inc. Laminated plates for chemical milling
US4040891A (en) * 1976-06-30 1977-08-09 Ibm Corporation Etching process utilizing the same positive photoresist layer for two etching steps
US4211834A (en) * 1977-12-30 1980-07-08 International Business Machines Corporation Method of using a o-quinone diazide sensitized phenol-formaldehyde resist as a deep ultraviolet light exposure mask
FR2417795A1 (fr) * 1978-02-15 1979-09-14 Rhone Poulenc Graphic Nouveau support de plaques lithographiques et procede de mise en oeuvre
US4284706A (en) * 1979-12-03 1981-08-18 International Business Machines Corporation Lithographic resist composition for a lift-off process
US4332881A (en) * 1980-07-28 1982-06-01 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Resist adhesion in integrated circuit processing
US4431724A (en) * 1981-01-07 1984-02-14 Ovchinnikov Jury M Offset printing plate and process for making same
JPS5858546A (ja) * 1981-10-02 1983-04-07 Kimoto & Co Ltd 製版用感光性マスク材料
US4499171A (en) * 1982-04-20 1985-02-12 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Positive type photosensitive resin composition with at least two o-quinone diazides
DE3220816A1 (de) * 1982-06-03 1983-12-08 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Lichtempfindliche komponenten fuer positiv arbeitende fotoresistmaterialien
DE3323343A1 (de) * 1983-06-29 1985-01-10 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial
JPS6057339A (ja) * 1983-09-08 1985-04-03 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フォトレジスト組成物
US4567132A (en) * 1984-03-16 1986-01-28 International Business Machines Corporation Multi-level resist image reversal lithography process
US4588670A (en) * 1985-02-28 1986-05-13 American Hoechst Corporation Light-sensitive trisester of O-quinone diazide containing composition for the preparation of a positive-acting photoresist
US4737437A (en) * 1986-03-27 1988-04-12 East Shore Chemical Co. Light sensitive diazo compound, composition and method of making the composition
US5128230A (en) * 1986-12-23 1992-07-07 Shipley Company Inc. Quinone diazide containing photoresist composition utilizing mixed solvent of ethyl lactate, anisole and amyl acetate
US5182183A (en) * 1987-03-12 1993-01-26 Mitsubishi Kasei Corporation Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone
US4810619A (en) * 1987-08-12 1989-03-07 General Electric Co. Photolithography over reflective substrates comprising a titanium nitride layer
JPH07119374B2 (ja) * 1987-11-06 1995-12-20 関西ペイント株式会社 ポジ型感光性カチオン電着塗料組成物
US4996122A (en) * 1988-03-31 1991-02-26 Morton International, Inc. Method of forming resist pattern and thermally stable and highly resolved resist pattern
EP0338102B1 (de) * 1988-04-19 1993-03-10 International Business Machines Corporation Verfahren zur Herstellung von integrierten Halbleiterstrukturen welche Feldeffekttransistoren mit Kanallängen im Submikrometerbereich enthalten
US4943511A (en) * 1988-08-05 1990-07-24 Morton Thiokol, Inc. High sensitivity mid and deep UV resist
US4959293A (en) * 1988-10-28 1990-09-25 J. T. Baker, Inc. Deep UV photoresist with alkyl 2-diazo-1-ones as solubility modification agents
DE3888184D1 (de) * 1988-11-17 1994-04-07 Ibm Verfahren zur Herstellung von Masken mit Strukturen im Submikrometerbereich.
US5296330A (en) * 1991-08-30 1994-03-22 Ciba-Geigy Corp. Positive photoresists containing quinone diazide photosensitizer, alkali-soluble resin and tetra(hydroxyphenyl) alkane additive
US7285422B1 (en) 1997-01-23 2007-10-23 Sequenom, Inc. Systems and methods for preparing and analyzing low volume analyte array elements
KR100649342B1 (ko) 2000-10-30 2006-11-27 시쿼넘, 인코포레이티드 기판 상으로 서브마이크로리터 볼륨들을 전달하기 위한 방법 및 장치
WO2009039122A2 (en) 2007-09-17 2009-03-26 Sequenom, Inc. Integrated robotic sample transfer device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE865860C (de) * 1950-10-31 1953-02-05 Kalle & Co Ag Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Reproduktion
DE1053930B (de) * 1957-08-01 1959-03-26 Kalle & Co Ag Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA581020A (en) * 1959-08-11 Azoplate Corporation Presensitized lithographic printing plate
DE907739C (de) * 1949-07-23 1954-02-18 Kalle & Co Ag Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material
GB744987A (en) * 1951-12-06 1956-02-15 Kalle & Co Ag Process for the manufacture of photomechanical printing plates and light-sensitive diazotype material suitable for use therein
US2754209A (en) * 1952-06-10 1956-07-10 Azoplate Corp Light-sensitive para quinone diazides for making printing plates
NL88160C (de) * 1953-03-11
NL204620A (de) * 1955-02-25
NL247299A (de) * 1959-01-14
NL247405A (de) * 1959-01-15
NL247406A (de) * 1959-01-17

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE865860C (de) * 1950-10-31 1953-02-05 Kalle & Co Ag Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Reproduktion
DE1053930B (de) * 1957-08-01 1959-03-26 Kalle & Co Ag Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522478B1 (de) * 1965-12-17 1971-07-29 Polychrome Corp Vorsensibilisierte, positiv arbeitende Flachdruckplatte
DE2944237A1 (de) * 1978-11-02 1980-05-14 Konishiroku Photo Ind Lichtempfindliche masse und sie enthaltendes lichtempfindliches material

Also Published As

Publication number Publication date
SE304175B (de) 1968-09-16
CH382565A (de) 1964-09-30
NL255517A (de)
US3201239A (en) 1965-08-17
GB941837A (en) 1963-11-13
NL130926C (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1195166B (de) Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten
DE1422474C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2147947C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE865109C (de) Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen
DE903529C (de) Lichtempfindliche Schichten
DE1118606B (de) Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
DE2027467A1 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE1124817B (de) Kopierschichten fuer Druckformen aus Naphthochinon-(1, 2)-diazidsulfonsaeureestern
DE1447592A1 (de) Lichtvernetzbare Schichten
DE2620961A1 (de) Metallbild-erzeugendes material
DE1597614A1 (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
DE1543721A1 (de) Naphthochinondiazidsulfosaeureester und Verfahren zu seiner Herstellung und Verfahren zur Herstellung eines den Ester enthaltenden lagerfaehigen lichtempfindlichen Materials
DE1224147B (de) Verfahren zur Umkehrentwicklung von Diazo-verbindungen enthaltenden Kopierschichten
DE1797308A1 (de) Lichtempfindliches Schicht-und Aufzeichnungsmaterial
DE1572068C3 (de) Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen
DE1572302A1 (de) Verfahren zur Entwicklung von positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schichten
DE1447017B2 (de) Verfahren zur herstellung von druckformen gedruckten schal tungen oder metallaetzungen
AT219066B (de) Auf Metallunterlagen haftende, ätzfähige Kopierschichten
DE1572067C3 (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial
DE1522478C2 (de) Vorsensibilisierte, positiv arbeitende Flachdruckplatte
DE1597786C3 (de) Ätzfeste lichtempfindliche Kopierschicht
DE2064380C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE1572066C3 (de) Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen
AT220640B (de)
DE1772003B2 (de) Lichtempfindliche schicht