DE1053930B - Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege - Google Patents
Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem WegeInfo
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Description
Man kennt bereits lichtempfindliches Material für die Erzeugung von gegebenenfalls als Druckplatten zu verwendenden
Bildern, das durch eine lichtempfindliche Schicht gekennzeichnet ist, in der in Wasser schwerlösliche
oder unlösliche, jedoch in organischen Lösungsmitteln lösliche Chinon-(l,4)-diazide enthalten sind,
vorteilhaft solche Chinon-(l,4)-diazide der Benzol- oder Naphthalinreihe, die -wenigstens eine veresterte oder
amidierte Sulfosäure- oder Carboxylgruppe als Substituenten im Molekül enthalten. Es ist weiter bekannt,
daß in den vorstehend angegebenen lichtempfindlichen Schichten kristallisationsverhindernde Substanzen anwesend
sein können und als solche vorzugsweise alkalilösliche Harze, die die Ausbildung homogener Schichten
erleichtern und deren Anwesenheit sich auch günstig auswirkt, wenn das unter einer zu vervielfältigenden Vorlage
belichtete Material geätzt werden soll.
Es ist nun gefunden worden, daß lichtempfindliches, für die Erzeugung von Druckplatten auf photomechanischem
Wege zu verwendendes Material mit einer lichtempfindlichen Schicht, in der in Wasser schwerlösliche
oder unlösliche, in organischen Lösungsmitteln lösliche Chinon-(l,4)-diazide enthalten sind, und zwar vorteilhaft
solche Chinon-(l,4)-diazide der Benzolreihe oder Naphthalinreihe, die wenigstens eine veresterte oder amidierte
Sulfosäure- oder Carboxylgruppe als Substituenten im Molekül besitzen, besonders dann große Vorteile aufweist,
wenn die lichtempfindliche Schicht außer den in Wasser schwerlöslichen oder unlöslichen Chinon-(l,4)-diaziden
Mischpolymerisationsharze aus Maleinsäureanhydrid und Vinylverbindungen oder Umsetzungsprodukte von Phenolaldehydharzen
mit Chloressigsäure enthält.
Als Beispiele für die nach der Erfindung geforderten Mischpolymerisationsharze aus Maleinsäureanhydrid und
Vinylverbindungen seien die Mischpolymerisate von Styrol mit Maleinsäureanhydrid und die Mischpolymerisate
von Vinylchlorid—Vinylacetat mit Maleinsäureanhydrid genannt. Erzeugnisse dieser Art werden von
mehreren Herstellern auf den Markt gebracht.
Unter den Umsetzungsprodukten von Phenolaldehydharzen mit Chloressigsäure haben sich diejenigen als
vorteilhaft verwendbar erwiesen, die aus löslichen Phenolaldehydharzen, insbesondere solchen vom Novolaktyp,
mit Chloressigsäure bei alkalischer Reaktion erhältlich sind. In diesen Harzen liegen Carboxy-methyläther der
Phenolaldehydharze vor, bei deren Bildung die Chloressigsäure auf die Hydroxylgruppen der Phenolaldehydkondensationsprodukte
veräthernd eingewirkt hat. Durch Variation der Mengenverhältnisse von Ausgangsharzen
und Chloressigsäure und geeigneter Wahl der Reaktionsbedingungen läßt sich der Verätherungsgrad beliebig einstellen.
Dies ist insofern von erheblicher praktischer Bedeutung für die vorliegende Erfindung, als vom Verätherungsgrad
die Löslichkeit der Harze in alkalischen Lichtempfindliches Material
für die Herstellung von Druckplatten
auf photomechanischem Wege
für die Herstellung von Druckplatten
auf photomechanischem Wege
Anmelder:
Kalle & Co. Aktiengesellschaft,
Wiesbaden-Biebrich, Rheinstr. 25
Kalle & Co. Aktiengesellschaft,
Wiesbaden-Biebrich, Rheinstr. 25
Dr. Wilhelm Neugebauer, Dr. Oskar Süs
und Dr. Hans-Reiner Stumpf, Wiesbaden-Biebrichj
sind als Erfinder genannt worden
und Dr. Hans-Reiner Stumpf, Wiesbaden-Biebrichj
sind als Erfinder genannt worden
Lösungen abhängt. Da bei der Verätherung Carboxylgruppen in das Molekül eingetreten sind, sind die Umsetzungsprodukte
in um so schwächer alkalischen Lösungen löslich, je mehr Carboxylgruppen vorhanden sind.
Man kann also die Harzumsetzungsprodukte sowohl auf die jeweils benutzten Entwi ekler lösungen als auch auf
die lichtempfindlichen Chinon-(l,4)-diazide in der Schicht einstellen. Hierdurch wird eine Höchstleistung beim
Drucken gewährleistet. Der optimale Verätherungsgrad ist durch einfache Versuche leicht zu ermitteln.
Die Phenolaldehydharze, besonders solche vom Novolaktyp, die als Ausgangsmaterial für die erfindungsgemäß
brauchbaren Umsetzungsprodukte mit Chloressigsäure verwendet werden, benötigen zu ihrer Lösung im wäßrigen
alkalischen Medium eine ziemlich kräftige alkalische Reaktion. Beispielsweise sind sie in wäßrigen Lösungen
von Trinatriumphosphat nicht löslich. Man muß daher zur Entwicklung von Schichten, die neben den Chinon-(l,4)-diaziden
auch nicht mit Chloressigsäure umgesetzte Phenolharze enthalten, ziemlich allcalische Entwicklerlösungen
verwenden. Dadurch werden aber auch, die Lichtumwandlungsprodukte der p-Chinondiazide
schon mehr oder weniger angelöst, so daß man schlechtere Bilder oder niedrigere Auflagen bekommt. Bei den lichtempfindlichen
Schichten mit Umsetzungsprodukten aus Phenolaldehydharzen und Chloressigsäure gemäß der Erfindung,
die sich schon bei schwacher alkalischer Reaktion in wäßrige Lösungen bringen lassen, wird eine Schädigung
der Lichtumwandlungsprodukte der p-Chinondiazide vermieden.
Das lichtempfindliche Material nach der vorliegenden Erfindung zeichnet sich durch die intensive Haftung der
lichtempfindlichen Schicht auf ihrem Träger aus. Diese hervorragende Haftung wirkt sich drucktechnisch eben-
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falls sehr günstig in dem Sinne aus, daß mit den aus dem erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Material hergestellten
Druckplatten sehr hohe Auflagen erzielt werden können.
Man bringt die zur Durchführung der vorliegenden. Erfindung erforderlichen hoehpolymeren Stoffe gemeinsam
mit den Chinon-(l,4)-diaziden aus Lösungen in organischen Lösungsmitteln auf den Schichtträger auf und
entwickelt die nach der Belichtung unter einem Original erhältlichen Bilder durch Behandeln mit verdünnten
alkalischen Lösungen, vorzugsweise mit wäßrigen Lösungen sekundärer oder tertiärer Alkaliphosphate. Als
vorteilhaft hat sich gezeigt, die Mischpolymerisationsharze oder die Umsetzungsprodukte von Phenolaldehydharzen
mit Chloressigsäure in Mengen von 10 bis 50 %, bezogen auf die Diazoverbindung, anzuwenden.
Es kann vorteilhaft sein, die Chinon-(l,4)-diazide in Mischung mit Iminochinondiaziden, besonders solchen
der Benzolreihe oder Naphthalinreihe, zu verwenden, die der allgemeinen Formel
R' —N = R = N = N
entsprechen. In dieser allgemeinen Formel bedeutet R einen aus einem aromatischen Ring entstandenen chinoiden
Ring und R' eine Aryl- oder Acylgruppe, ferner kann R' mit R einen kondensierten Ring bilden.
Durch die Mitverwendung solcher Iminochinondiazide wird die Lichtempfindlichkeit der Chinon-(l,4)-diazide
erhöht.
1. Eine Seite einer auf beiden Flächen gebürsteten Aluminiumfolie wird auf einer Schleuder mit einer
Lösung beschichtet, die 1,5 Gewichtsteile Benzochinon-(l,4)-diazid-(4)-2-sulfosäure-^-naphthylamidentsprechend
der Formel 1 und 0,75 Gewichtsteile eines Mischpolymerisates von Styrol mit Maleinsäureanhydrid (beispielsweise
das unter der warenzeichenrechtlich geschützten Bezeichnung »Lustrex X 820«- im Handel erhältliche
Erzeugnis) in 100 Volumteilen Glykolmonomethyläther enthält. Man trocknet die beschichtete Folie kurze Zeit
mit einem warmen Luftstrom und anschließend noch 2 Minuten bei 100° C Danach wird die lichtempfindliche
Schicht hinter einer negativen Filmvorlage belichtet, beispielsweise etwa 1 bis 2 Minuten an einer Bogenlampe
von 18 Ampere, und die belichtete Schicht wird dann mit einer 0,25- bis l°/0igen Trinatriumphosphatlösung
entwickelt. Die Schicht wird dann mit einer l%igen Phosphorsäure überwischt und mit fetter Farbe eingefärbt.
Man erhält von der negativen Filmvorlage eine positive Druckform, die in den bekannten Apparaten
zum Vervielfältigen verwendet werden kann. Die Zahl der damit erhältlichen Drucke ist etwa die doppelte im
Vergleich zu der Anzahl Abdrucke von einer Schicht, die ohne den Harzzusatz hergestellt war.
2. Nach der im Beispiel 1 beschriebenen Arbeitsweise wird eine Aluminiumfolie mit einer Lösung beschichtet,
die 1,5 Gewichtsteile der im Beispiel 1 genannten Benzochinone ,4)-diazid-Verbindung entsprechend der Formell
und 0,15 Gewichtsteile eines Mischpolymerisates aus Vinylchlorid—-Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid (beispielsweise
das unter der warenzeichenrechtlich geschützten Bezeichnung »Hostalit CAM& gehandelte Erzeugnis)
in 100 Volumteilen Glykolmonomethyläther enthält, darauf getrocknet und unter einer negativen transparenten
Vorlage belichtet. Die Entwicklung erfolgt mit einer Lösung aus 4 Gewichtsteilen Dinatriumphosphat und
2 Gewichtsteilen Trinatriumphosphat in 100 Volumteilen Wasser. Wenn die fertig entwickelte Folie nach
kurzem Überwischen mit 0,5%iger Phosphorsäure mit
fetter Farbe eingefärbt wird, erhält man von der negativen Vorlage eine positive Druckform.
3. Man schleudert auf eine gebürstete Aluminiumfolie eine Lösung auf, die 1,5 Gewichtsteile Benzochinon-
5. (l,4)-diazid-(4)-6-brom-2-sulfosäureanilid entsprechend der Formel 2 und 0,75 Gewichtsteile eines Mischpolymerisates
von Styrol mit Maleinsäureanhydrid (beispielsweise das im Beispiel 1 angeführte) in 100 Volumteilen Glykolmonomethyläther
enthält. Nach dem Trocknen wird
ίο die lichtempfindliche Seite der FoHe hinter einer negativen Filmvorlage belichtet und mit einer 0,5°/0igen
Trinatriumphosphatlösung entwickelt. Man überwischt die entwickelte Folie kurz mit einer 0,5%igen Phosphorsäure
und färbt sie dann mit fetter Farbe ein. Es liegt nun eine positive Druckform vor, mit der sehr hohe
Auflagen erzielt werden können.
4. Unter Einhaltung der in Beispiel 1 beschriebenen Arbeitsweise wird eine Aluminiumfolie mit einer Lösung
beschichtet, die 1,5 Gewichtsteile Benzochinon-(l,4)-diazid-(4)-2-sulfosäure-a-naphthylamid
entsprechend der Formel 3 und 0,15 Gewichtsteüe eines Mischpolymerisates aus Vinylchlorid-Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid
(beispielsweise das in Beispiel 2 genannte) in 100 Volumteilen Glykolmonomethyläther enthält, getrocknet und
unter einer Vorlage belichtet. Die Entwicklung erfolgt mit einer 0,5- bis l°/0igen Trinatriumphosphatlösung.
Man überwischt die entwickelte Folie mit einer 0,5%igen Phosphorsäure und färbt sie dann mit fetter Farbe ein.
Es ist eine positive Druckform entstanden, wenn die Vorlage negativ war.
5. Eine gebürstete Aluminiumfolie wird mit einer Lösung beschichtet, die in 100 Volumteilen Glykolmonomethyläther
1,5 Gewichtsteüe Benzochinon-(l,4)-diazid-(4)-2-sulfosäure-/S-naphthylamid entsprechend der Formel
1 und 0,5 Gewichtsteile eines der nachfolgend beschriebenen Phenolaldehydharz-Chloressigsäure-Reaktionsprodukte
A, B, C oder D enthält. Die Folie wird getrocknet und eine negative Vorlage aufkopiert. Nach
der Belichtung wird sie mit einer Lösung von 18,5 g Trinatriumphosphat (kristallisiert), 40,0 g Dinatriumphosphat
(kristallisiert), 0,5 g allcylnaphthalinsulfosaures Natrium in 11 Wasser entwickelt, mit Wasser gespült
und mit 0,5%iger Phosphorsäure überwischt. Sie wird mit fetter Farbe eingefärbt und als Druckplatte gebraucht.
Man erhält wesentlich höhere Auflagen als mit einer Schicht, die ohne Zusatz des Phenolharz-Chloressigsäure-Produktes
hergestellt worden ist.
Verwendet man an Stelle der Reaktionsprodukte A, B, C oder D einen Novolak, der nicht mit chloressigsaurem
Natrium umgesetzt wurde, so lassen sich die Druckplatten nach der Belichtung unter einer Vorlage
mit den oben angegebenen Lösungen nicht entwickeln. Man muß stärkere Alkalität anwenden, wobei aber das
Druckbild durch Alkaheinwirkung geschädigt wird, was die Qualität der Drucke und die Höhe der erzielten Auflage
ungünstig beeinflußt.
Man stellt die Phenolaldehydharz-Chloressigsäure-Umsetzungsprodukte A, B, C und D folgendermaßen her:
Harz A. In eine Lösung von 36 g technischem Ätznatron in 500 ecm Wasser werden bei 50° C langsam
100 g feinpulverisierter Novolak eingestreut (beispielsweise das unter der warenzeichenrechtlich geschützten
Bezeichnung » Alnovol 429 k« im Handel erhältliche Erzeugnis). Nachdem sich der Novolak gelöst hat, wird
die Lösung zum Kochen erhitzt und im Verlauf von etwa 20 Minuten mit 125 g gepulvertem chloressigsaurem
Natrium versetzt, worauf noch etwa I 1Z2 Stunde weitergekocht
wird. Eine möglicherweise auftretende Trübung wird durch Zusatz von möglichst wenig Ätznatron wieder
in Lösung gebracht. Man verdünnt das Reaktionsgemisch
Claims (2)
1. LichtempfindHches Material für die Erzeugung von Druckplatten auf photomechanischem Wege,
dessen Hchtempfindliche Schicht in Wasser schwerlösliche oder unlösliche, in organischen Lösungsmitteln
lösHche Chinon-(l,4)-diazide enthält, vorteilhaft solche Chinon-(l,4)-diazide der Benzol- oder NaphthaHnreihe,
die wenigstens eine veresterte oder amidierte Sulfosäure- oder Carboxylgruppe als Substituenten im Mole-
kül besitzen, dadurch gekennzeichnet, daß in der lichtempfindlichen Schicht Mischpolymerisationsharze aus
Maleinsäureanhydrid und Vinylverbindungen oder Umsetzungsprodukte von Phenolaldehydharzen mit Chloressigsäure
enthalten sind.
2. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche
Schicht an lichtempfindlichen Substanzen außer
Chinon-(l,4)-diaziden noch Iminochinondiazide der allgemeinen Formel
R'—N = R = N = N
enthält. In der allgemeinen Formel bedeutet R einen aus einem aromatischen Ring entstandenen chinoiden
Ring und R' Aryl- oder Acylgruppen, ferner kann R' mit R einen kondensierten Ring bilden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1134887B (de) * | 1959-07-29 | 1962-08-16 | Kalle Ag | Kopierschichten zur Herstellung von Druckformen auf photomechanischem Wege |
DE1195166B (de) * | 1959-09-04 | 1965-06-16 | Kalle Ag | Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten |
DE1254466B (de) * | 1961-01-25 | 1967-11-16 | Kalle Ag | Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3149972A (en) * | 1960-08-16 | 1964-09-22 | Gen Aniline & Film Corp | Diazo and resinous coupler printing plates for photomechanical reproduction |
NL280959A (de) * | 1961-07-28 | |||
DE3107109A1 (de) * | 1981-02-26 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial |
US4564575A (en) * | 1984-01-30 | 1986-01-14 | International Business Machines Corporation | Tailoring of novolak and diazoquinone positive resists by acylation of novolak |
EP0388484B1 (de) * | 1989-03-20 | 1994-09-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Hochauflösender Photoresist |
DE58908699D1 (de) * | 1989-03-20 | 1995-01-12 | Siemens Ag | Verfahren zum Erzeugen einer Photoresiststruktur. |
US5212042A (en) * | 1989-08-22 | 1993-05-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive type light-sensitive composition |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1981102A (en) * | 1932-08-10 | 1934-11-20 | Agfa Ansco Corp | Photographic material and process of making the same |
CH307356A (de) * | 1951-08-08 | 1955-05-31 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliches Material für die photomechanische Reproduktion. |
US2754209A (en) * | 1952-06-10 | 1956-07-10 | Azoplate Corp | Light-sensitive para quinone diazides for making printing plates |
DE1003576B (de) * | 1955-02-25 | 1957-02-28 | Kalle & Co Ag | Aus Schichttraeger und lichtempfindlicher, wasserloeslicher oder wasserquellbarer Kolloidschicht bestehendes Material fuer die Herstellung von Gerbbildern |
NL94867C (de) * | 1955-02-25 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1134887B (de) * | 1959-07-29 | 1962-08-16 | Kalle Ag | Kopierschichten zur Herstellung von Druckformen auf photomechanischem Wege |
DE1195166B (de) * | 1959-09-04 | 1965-06-16 | Kalle Ag | Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten |
DE1254466B (de) * | 1961-01-25 | 1967-11-16 | Kalle Ag | Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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US3050387A (en) | 1962-08-21 |
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