DE112018002308T5 - Magnetisches aufzeichnungsmedium - Google Patents

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Yoichi Kanemaki
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Abstract

Ein magnetisches Aufzeichnungsmedium umfasst eine Aufzeichnungsschicht, die ein Pulver aus Teilchen beinhaltet, die ε-Eisenoxid beinhalten, wobei das Verhältnis ((Hc(50)/Hc(25)) × 100) der Koerzitivkraft Hc(50), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 50 °C gemessen wird, zu der Koerzitivkraft Hc(25), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 25 °C gemessen wird, 95 % oder mehr beträgt, wobei die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr beträgt, und wobei das Rechteckigkeitsverhältnis, das in der Bewegungsrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt.

Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Technologie betrifft ein magnetisches Aufzeichnungsmedium.
  • STAND DER TECHNIK
  • Bei einem Magnetband für eine Aufzeichnung mit hoher Dichte, die Linear-Tape-Open 6 (LTO-6) unterstützt, wird magnetisches Pulver aus hexagonalem Bariumferrit anstelle von nadelartigem magnetischem Pulver verwendet. Abgesehen von magnetischem Bariumferritpulver wurden kubisches magnetisches CoMn-Spinell-Ferrit-Pulver (siehe zum Beispiel Patentliteratur 1), magnetisches ε-Fe2O3-Pulver (siehe zum Beispiel Patentliteratur 2) und dergleichen als magnetische Pulver zum Erzielen einer Aufzeichnung mit hoher Dichte berichtet.
  • ENTGEGENHALTUNGSLISTE
  • PATENTDOKUMENT
    • Patentdokument 1: Japanisches Patent mit der Nr. 4687136
    • Patentdokument 2: Japanisches Patent mit der Nr. 5013505
  • KURZDARSTELLUNG DER ERFINDUNG
  • DURCH DIE ERFINDUNG ZU LÖSENDE PROBLEME
  • Mittlerweile beginnen Bibliotheksvorrichtungen, die ein Magnetband zu Archivierungszwecken nutzen, in den letzten Jahren, vielversprechend zu werden. Weil ein Magnetband bei einer konstanten Temperatur von näherungsweise 50 °C gehalten wird, ist bei einer Bibliotheksvorrichtung eine Absenkung des Signal-Rausch-Verhältnisses (SNR) in einer Hochtemperaturumgebung aufgrund eines Magnetisierungsverlustes durch Wärme ein Problem. Es wird angenommen, dass das Absenken des SNR in einer Hochtemperaturumgebung bei einem Magnetband der nächsten Generation mit einer höheren Aufzeichnungsdichte signifikanter wird, weil die magnetischen Teilchen, die in der Aufzeichnungsschicht enthalten sind, weiter atomisiert sind.
  • Ein Ziel der vorliegenden Technologie besteht darin, ein magnetisches Aufzeichnungsmedium bereitzustellen, das zum Unterdrücken einer SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung in der Lage ist.
  • LÖSUNGEN DER PROBLEME
  • Die vorliegende Technologie zum Erreichen des obigen Ziels betrifft ein magnetisches Aufzeichnungsmedium, das Folgendes beinhaltet: eine Aufzeichnungsschicht, die ein Pulver aus Teilchen enthält, die ε-Eisenoxid enthalten, wobei ein Verhältnis ((Hc(50)/Hc(25)) × 100) einer Koerzitivkraft Hc(50), die in einer Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 50 °C gemessen wird, und einer Koerzitivkraft Hc(25), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 25 °C gemessen wird, 95 % oder mehr beträgt, die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr beträgt, und ein Rechteckigkeitsverhältnis, das in einer Transportrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt.
  • EFFEKTE DER ERFINDUNG
  • Gemäß der vorliegenden Technologie kann eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung unterdrückt werden. Jedoch sind die vorteilhaften Effekte nicht notwendigerweise auf den hier beschriebenen beschränkt und können auch beliebige der in dieser Offenbarung beschriebene vorteilhafte Effekte oder nicht ähnliche vorteilhafte Effekte sein.
  • Figurenliste
    • 1 ist ein Querschnittsdiagramm, das eine Konfiguration eines magnetischen Aufzeichnungsmediums gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Technologie veranschaulicht.
    • 2 ist ein Querschnittsdiagramm, das eine Konfiguration eines magnetischen Teilchens veranschaulicht.
    • 3 ist ein Querschnittsdiagramm, das eine Konfiguration eines magnetischen Teilchens veranschaulicht.
    • 4 ist ein Querschnittsdiagramm, das eine Konfiguration eines magnetischen Aufzeichnungsmediums veranschaulicht.
    • 5 ist ein Querschnittsdiagramm, das eine Konfiguration eines magnetischen Aufzeichnungsmediums veranschaulicht.
    • 6 ist ein Querschnittsdiagramm, das eine Konfiguration eines magnetischen Aufzeichnungsmediums veranschaulicht.
  • AUSFÜHRUNGSWEISE DER ERFINDUNG
  • Die Ausführungsform der vorliegenden Technologie wird in der folgenden Reihenfolge beschrieben.
  • Konfiguration des magnetischen Aufzeichnungsmediums
  • Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufzeichnungsmediums
  • Effekte
  • Modifikationen
  • [Konfiguration des magnetischen
  • Aufzeichnungsmediums]
  • Ein magnetisches Aufzeichnungsmedium gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Technologie ist, wie in 1 veranschaulicht, mit einem länglichen Substrat 11, einer Basisschicht (nichtmagnetischen Schicht) 12, die auf einer der Hauptebenen des Substrats 11 bereitgestellt ist, und einer Aufzeichnungsschicht (magnetischen Schicht) 13, die auf der Basisschicht 12 bereitgestellt ist, versehen. Nach Bedarf kann das magnetische Aufzeichnungsmedium zusätzlich mit einer (nicht veranschaulichten) Schutzschicht, einer (nicht veranschaulichten) Schmierstoffschicht und dergleichen versehen werden, die auf der Aufzeichnungsschicht 13 bereitgestellt werden. Außerdem kann nach Bedarf eine Rückbeschichtungsschicht 14 zusätzlich bereitgestellt werden, die auf der anderen Hauptebene des Substrats 11 bereitgestellt wird. Das magnetische Aufzeichnungsmedium weist eine längliche Form auf und wird während des Aufzeichnens und der Wiedergabe in der Längsrichtung transportiert.
  • Das magnetische Aufzeichnungsmedium gemäß einer Ausführungsform wird bevorzugt in einer Bibliotheksvorrichtung verwendet, die eine Großmagnetbanddatenarchivvorrichtung ist. Außerdem ist das magnetische Aufzeichnungsmedium gemäß einer Ausführungsform so konfiguriert, dass es zum Aufzeichnen eines Signals mit zum Beispiel einer kürzesten Aufzeichnungswellenlänge von 75 nm oder weniger in der Lage ist, und wird in einer Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung mit einer kürzesten Aufzeichnungswellenlänge von 75 nm oder weniger verwendet. Die obige Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung ist mit einem Ringkopf als der Kopf zum Aufzeichnen versehen und verwendet den Ringkopf zum Aufzeichnen eines Signals mit einer kürzesten Aufzeichnungswellenlänge von 75 nm oder weniger in das magnetische Aufzeichnungsmedium.
  • (Koerzitivkraft Hc)
  • Ein Verhältnis R (= (Hc(50)/Hc(25)) × 100) einer Koerzitivkraft Hc(50), die in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 50 °C gemessen wird, und einer Koerzitivkraft Hc(25), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 25 °C gemessen wird, beträgt 95 % oder mehr, bevorzugt 96 % oder mehr, bevorzugter 97 % oder mehr und noch bevorzugter 98 % oder mehr. Falls das obige Verhältnis R weniger als 95 % beträgt, wird die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, und es gibt eine Möglichkeit, dass eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung schwierig zu unterdrücken wird.
  • Die in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 25 °C gemessene Koerzitivkraft Hc(25) beträgt bevorzugt 200 kA/m oder mehr, bevorzugter 200 kA/m oder mehr und 340 kA/m oder weniger, noch bevorzugter 220 kA/m oder mehr und 320 kA/m oder weniger und besonders bevorzugt 230 kA/m oder mehr und 300 kA/m oder weniger. Falls die Koerzitivkraft Hc(25) weniger als 200 kA/m beträgt, gibt es eine Möglichkeit, dass das obige Verhältnis R geringer als 95 % ist. Folglich wird die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, und es gibt eine Möglichkeit, dass eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung schwierig zu unterdrücken wird. Falls andererseits die Koerzitivkraft Hc(25) 340 kA/m oder weniger beträgt, kann ein vorteilhaftes SNR bei 25 °C erhalten werden.
  • Die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 50 °C gemessene Koerzitivkraft Hc(50) beträgt bevorzugt 190 kA/m oder mehr, bevorzugter 190 kA/m oder mehr und 310 kA/m oder weniger, noch bevorzugter 200 kA/m oder mehr und 300 kA/m oder weniger und besonders bevorzugt 210 kA/m oder mehr und 280 kA/m oder weniger. Falls die Koerzitivkraft Hc(50) 190 kA/m oder mehr beträgt, gibt es eine Möglichkeit, dass das obige Verhältnis R geringer als 95 % ist. Folglich wird die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, und es gibt eine Möglichkeit, dass eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung schwierig zu unterdrücken wird. Falls andererseits die Koerzitivkraft Hc 310 kA/m oder weniger beträgt, kann ein vorteilhaftes SNR bei 25 °C erhalten werden.
  • Die obige Koerzitivkraft Hc(25) wird wie folgt erhalten. Zuerst wird eine Messprobe aus dem länglichen magnetischen Aufzeichnungsmedium ausgeschnitten und wird ein Magnetometer mit vibrierender Probe (VSM: Vibrating Sample Magnetometer) verwendet, um die M-H-Schleife der gesamten Messprobe in der Dickenrichtung der Messprobe (der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums) zu messen. Als Nächstes wird Aceton, Ethanol oder dergleichen verwendet, um den Beschichtungsfilm (wie etwa die Basisschicht 12 und die Aufzeichnungsschicht 13) wegzuwischen, wobei nur das Substrat 11 zur Verwendung zur Hintergrundkorrektur übriggelassen wird, und das VSM wird verwendet, um die M-H-Schleife des Substrats 11 in der Dickenrichtung des Substrats 11 (der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums) zu messen. Danach wird die M-H-Schleife des Substrats 11 von der M-H-Schleife der gesamten Messprobe subtrahiert, um eine hintergrundkorrigierte M-H-Schleife zu erhalten. Die Koerzitivkraft Hc wird aus der erhaltenen M-H-Schleife berechnet. Es wird angemerkt, dass angenommen wird, dass beide der Messungen der M-H-Schleife oben bei 25 °C durchgeführt werden. Es wird auch angenommen, dass eine „diamagnetische Feldkorrektur“ nicht durchgeführt wird, wenn die M-H-Schleife in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird.
  • Die Koerzitivkraft Hc(50) oben wird ähnlich dem Verfahren zum Messen der Koerzitivkraft Hc(25) oben berechnet, mit der Ausnahme, dass die M-H-Schleifen für die Messprobe und das Substrat 11 beide bei 50 °C gemessen werden.
  • (Rechteckigkeitsverhältnisse S1 und S2)
  • Das Rechteckigkeitsverhältnis S1, das in der Transportrichtung (Längsrichtung) des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, beträgt bevorzugt 30 % oder weniger, bevorzugter 25 % oder weniger und noch bevorzugter 20 % oder weniger. Falls das Rechteckigkeitsverhältnis S1 30 % überschreitet, wird die senkrechte Orientierung der Aufzeichnungsschicht 13 niedriger, und es gibt eine Möglichkeit, dass das obige Verhältnis R geringer als 95 % ist. Folglich wird die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, und es gibt eine Möglichkeit, dass eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung schwierig zu unterdrücken wird.
  • Das Rechteckigkeitsverhältnis S2, das in der Breitenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, beträgt bevorzugt 30 % oder weniger, bevorzugter 25 % oder weniger und noch bevorzugter 20 % oder weniger. Falls das Rechteckigkeitsverhältnis S2 30 % überschreitet, wird die senkrechte Orientierung der Aufzeichnungsschicht 13 niedriger, und es gibt eine Möglichkeit, dass das obige Verhältnis R geringer als 95 % ist. Folglich wird die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, und es gibt eine Möglichkeit, dass eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung schwierig zu unterdrücken wird.
  • Das Rechteckigkeitsverhältnis S, das in einer willkürlichen ebeneninternen Richtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, beträgt bevorzugt 30 % oder weniger, bevorzugter 25 % oder weniger und noch bevorzugter 20 % oder weniger. Falls das Rechteckigkeitsverhältnis S 30 % überschreitet, wird die senkrechte Orientierung der Aufzeichnungsschicht 13 niedriger, und es gibt eine Möglichkeit, dass das obige Verhältnis R geringer als 95 % ist. Folglich wird die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, und es gibt eine Möglichkeit, dass eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung schwierig zu unterdrücken wird.
  • Das obige Rechteckigkeitsverhältnis S1 wird wie folgt erhalten. Zuerst wird eine Messprobe aus dem länglichen magnetischen Aufzeichnungsmedium ausgeschnitten und wird ein VSM verwendet, um die M-H-Schleife der gesamten Messprobe, die der Transportrichtung (Längenrichtung) des magnetischen Aufzeichnungsmediums entspricht, zu messen. Als Nächstes wird Aceton, Ethanol oder dergleichen verwendet, um den Beschichtungsfilm (wie etwa die Basisschicht 12 und die Aufzeichnungsschicht 13) wegzuwischen, wobei nur das Substrat 11 zur Verwendung zur Hintergrundkorrektur übriggelassen wird, und das VSM wird verwendet, um die M-H-Schleife des Substrats 11, die der Transportrichtung des Substrats 11 (der Transportrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums) entspricht, zu messen. Danach wird die M-H-Schleife des Substrats 11 von der M-H-Schleife der gesamten Messprobe subtrahiert, um eine hintergrundkorrigierte M-H-Schleife zu erhalten. Die Sättigungsmagnetisierung Ms (emu) und die Restmagnetisierung Mr (emu) der erhaltenen M-H-Schleife werden in die folgende Formel eingesetzt, um das Rechteckigkeitsverhältnis S1 (%) zu berechnen. Es wird angemerkt, dass angenommen wird, dass beide der Messungen der M-H-Schleife oben bei 25 °C durchgeführt werden. Rechteckigkeitsverhältnis S 1   ( % ) = ( Mr/Ms ) × 100
    Figure DE112018002308T5_0001
  • Das Rechteckigkeitsverhältnis S2 oben wird ähnlich dem Verfahren zum Messen des Rechteckigkeitsverhältnisses S1 oben erhalten, mit der Ausnahme, dass die M-H-Schleifen der gesamten Messprobe und des Substrats 11, die der Breitenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums entsprechen, gemessen werden.
  • Das Rechteckigkeitsverhältnis S oben wird ähnlich dem Verfahren zum Messen des Rechteckigkeitsverhältnisses S1 oben erhalten, mit der Ausnahme, dass die M-H-Schleifen der gesamten Messprobe und des Substrats 11, die der willkürlichen ebeneninternen Richtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums entsprechen, gemessen werden.
  • (Aktivierungsvolumen Vact)
  • Das Aktivierungsvolumen Vact beträgt bevorzugt 5000 nm3 oder weniger, bevorzugter 4000 nm3 oder weniger und noch bevorzugter 3000 nm3 oder weniger. Falls das Aktivierungsvolumen Vact 5000 nm3 oder weniger beträgt, ist es möglich, ein steiles Bitinversionsgebiet zu erzeugen, und ein vorteilhaftes SNR kann erhalten werden.
  • Das obige Aktivierungsvolumen Vact wird gemäß der folgenden Formel berechnet, die von Street & Woolley abgeleitet wurde: V act   ( nm 3 ) = k B × T × X irr / ( μ 0 × Ms × S )
    Figure DE112018002308T5_0002
    (wobei kB die Boltzmann-Konstante (1,38×10-23 J/K) ist, T die Temperatur (K) ist, Xirr die irreversible Suszeptibilität ist, µ0 die magnetische Permeabilität in Vakuum ist, S ein magnetischer Viskositätskoeffizient ist und Ms die Sättigungsmagnetisierung (emu/cm3) ist).
  • Die irreversible Suszeptibilität Xirr, die Sättigungsmagnetisierung Ms und der magnetische Viskositätskoeffizient S, die in die obige Formel eingesetzt werden, werden wie folgt unter Verwendung des VSM berechnet. Es wird angemerkt, dass angenommen wird, dass die Richtung einer Messung durch das VSM die Dickenrichtung (senkrechte Richtung) des magnetischen Aufzeichnungsmediums ist. Außerdem wird angenommen, dass die Messung durch den VSM mit Bezug auf eine Messprobe, die aus dem länglichen magnetischen Aufzeichnungsmedium ausgeschnitten wird, bei 25 °C durchgeführt wird. Es wird auch angenommen, dass eine „diamagnetische Feldkorrektur“ nicht durchgeführt wird, wenn die M-H-Schleife in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird.
  • (Irreversible Suszeptibilität Xirr)
  • Die irreversible Suszeptibilität Xirr ist so definiert, dass sie die Steigung nahe der Restkoerzitivkraft Hr in der Steigung der Restmagnetisierungskurve (DCD-Kurve) ist. Zuerst wird ein Magnetfeld von -1193 kA/m (15 kOe) an das gesamte magnetische Aufzeichnungsmedium angelegt und das Magnetfeld wird auf null zurückgesetzt, um einen Restmagnetisierungszustand zu erzeugen. Danach wird ein Magnetfeld von näherungsweise 15,9 kA/m (200 Oe) in der Rückwärtsrichtung angelegt und wieder auf null zurückgesetzt und die Menge einer Restmagnetisierung wird gemessen. Gleichermaßen wird danach eine Messung wiederholt durchgeführt, bei der ein Magnetfeld, das nochmals um 15,9 kA/m größer als das zuvor angelegte Magnetfeld ist, angelegt und auf null zurückgesetzt wird, und die Mengen der Restmagnetisierung mit Bezug auf die angelegten Magnetfelder werden aufgetragen, um die DCD-Kurve zu messen. Aus der erhaltenen DCD-Kurve wird der Punkt, bei dem die Magnetisierungsmenge null wird, als die Restkoerzitivkraft Hr behandelt und des Weiteren wird die Ableitung der DCD-Kurve genommen, um die Steigung der DCD-Kurve für jedes Magnetfeld zu berechnen. In dieser Steigung der DCD-Kurve wird die Steigung nahe der Restkoerzitivkraft Hr Xirr.
  • (Sättigungsmagnetisierung Ms)
  • Zuerst wird die M-H-Schleife des gesamten magnetischen Aufzeichnungsmediums (Messprobe) in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen. Als Nächstes werden Aceton, Ethanol und dergleichen verwendet, um den Beschichtungsfilm (wie etwa die Basisschicht 12 und die Aufzeichnungsschicht 13) wegzuwischen, wobei nur das Substrat 11 zur Verwendung zur Hintergrundkorrektur übriggelassen wird, und die M-H-Schleife des Substrats 11 wird gleichermaßen in der Dickenrichtung gemessen. Danach wird die M-H-Schleife des Substrats 11 von der M-H-Schleife des gesamten magnetischen Aufzeichnungsmediums subtrahiert, um eine hintergrundkorrigierte M-H-Schleife zu erhalten. Aus dem Wert der Sättigungsmagnetisierung Ms (emu) der erhaltenen M-H-Schleife und dem Volumen (cm3) der Aufzeichnungsschicht 13 innerhalb der Messprobe wird Ms (emu/cm3) berechnet. Es wird angemerkt, dass das Volumen der Aufzeichnungsschicht 13 durch Multiplizieren der durchschnittlichen Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 mit der Fläche der Messprobe berechnet wird. Das Verfahren zum Berechnen der durchschnittlichen Dicke der Aufzeichnungsschicht 13, die zum Berechnen des Volumens der Aufzeichnungsschicht 13 benötigt wird, wird später beschrieben.
  • (Magnetischer Viskositätskoeffizient S)
  • Zuerst wird ein Magnetfeld von -1193 kA/m (15 kOe) an das gesamte magnetische Aufzeichnungsmedium (Messprobe) angelegt und das Magnetfeld wird auf null zurückgesetzt, um einen Restmagnetisierungszustand zu erzeugen. Danach wird ein Magnetfeld mit im Wesentlichen dem gleichen Wert der Restkoerzitivkraft Hr, der aus der DCD-Kurve erhalten wurde, in der Rückwärtsrichtung angelegt. Die Magnetisierungsmenge wird kontinuierlich in dem Zustand mit dem angelegten Magnetfeld bei festen Zeitintervallen für 1000 Sekunden gemessen. Die Beziehung zwischen der Zeit t und der Magnetisierungsmenge M(t), die auf diese Weise erhalten wird, wird entgegen der folgenden Formel zum Berechnen des magnetischen Viskositätskoeffizienten S geprüft: M ( t ) = M 0 + S × ln ( t )
    Figure DE112018002308T5_0003
    (wobei M(t) die Magnetisierungsmenge zu der Zeit t ist, M0 eine anfängliche Magnetisierungsmenge ist, S der magnetische Viskositätskoeffizient ist und ln(t) der natürliche Logarithmus der Zeit ist).
  • (Substrat)
  • Das Substrat 11, das als ein Stützmedium fungiert, ist ein flexibles längliches nichtmagnetisches Substrat. Das nichtmagnetische Substrat ist ein Film und die Dicke des Films beträgt zum Beispiel 3 µm oder mehr und 8 µm oder weniger. Für das Material des Substrats 11 kann zum Beispiel ein Polyester, wie etwa Polyethylenterephthalat, ein Polyolefin, wie etwa Polyethylen, Polypropylen, ein Cellulosederivat, wie etwa Cellulosetriacetat, Cellulosediacetat oder Cellulosebutyrat, ein Vinylharz, wie etwa Polyvinylchlorid oder Polyvinylidenchlorid, einen Kunststoff, wie etwa Polycarbonat, Polyimid oder Polyamidimid, ein Leichtmetall, wie etwa eine Aluminiumlegierung oder eine Titanlegierung, eine Keramik, wie etwa Aluminiumoxidglas, oder dergleichen verwendet werden.
  • (Aufzeichnungsschicht)
  • Die Aufzeichnungsschicht 13 wird auch als eine „senkrechte Aufzeichnungsschicht“ bezeichnet und enthält zum Beispiel ein magnetisches Pulver, ein Bindemittel und leitende Teilchen. Die Aufzeichnungsschicht 13 kann zusätzlich Additive, wie etwa nach Bedarf ein Schmiermittel, einen Abrasivstoff und ein Korrosionsschutzmittel enthalten.
  • (Magnetisches Pulver)
  • Das magnetische Pulver beinhaltet ein Pulver aus Nanoteilchen, die ε-Eisenoxid enthalten (nachfolgend als „ε-Eisenoxidteilchen“ bezeichnet). Die ε-Eisenoxidteilchen können selbst mit feinen Teilchen eine hohe Haltekraft erhalten. Die ε-Eisenoxidteilchen sind sphärisch oder im Wesentlichen sphärisch oder alternativ dazu kubisch oder im Wesentlichen kubisch. Weil die ε-Eisenoxidteilchen eine Form wie oben aufweisen, wird, falls die ε-Eisenoxidteilchen als magnetische Teilchen verwendet werden, die Kontaktfläche zwischen Teilchen in der Dickenrichtung des Mediums im Vergleich zu dem Fall des Verwendens von hexagonalen plattenartigen Bariumferritteilchen als die magnetischen Teilchen reduziert und kann die Aggregation von Teilchen miteinander begrenzt werden. Folglich kann die Verbreitung des magnetischen Pulvers erhöht werden und kann ein vorteilhafteres SNR erhalten werden.
  • Jedes ε-Eisenoxidteilchen weist eine Kern-Hülle (Core-Shell)-Struktur auf. Insbesondere ist, wie in 2 veranschaulicht, jedes ε-Eisenoxidteilchen mit einem Kernteil 21 und einem doppelschichtigen Hüllenteil 22, der auf dem Umfang des Kernteils 21 bereitgestellt ist, versehen. Der doppelschichtige Hüllenteil 22 ist mit einem ersten Hüllenteil 22a, der auf dem Kernteil 21 bereitgestellt ist, und einem zweiten Hüllenteil 22b, der auf dem ersten Hüllenteil 22a bereitgestellt ist, versehen.
  • Der Kernteil 21 enthält ε-Eisenoxid. Das in dem Kernteil 21 enthaltene ε-Eisenoxid nimmt bevorzugt ε-Fe2O3 als seine primäre Phase an und beinhaltet bevorzugter einphasiges ε-Fe2O3.
  • Der erste Hüllenteil 22a, der eine weichmagnetische Schicht ist, bedeckt wenigstens einen Teil des Umfangs des Kernteils 21. Insbesondere kann der erste Hüllenteil 22a den Umfang des Kernteils 21 teilweise bedecken oder kann den gesamten Umfang des Kernteils 21 bedecken. Die Austauschkopplung zwischen dem Kernteil 21 und dem ersten Hüllenteil 22a wird als ausreichend angenommen und aus der Perspektive des Verbesserns der magnetischen Eigenschaften deckt die Austauschkopplung bevorzugt die gesamte Oberfläche des Kernteils 21 ab.
  • Der erste Hüllenteil 22a wird auch als eine „weichmagnetische Schicht“ bezeichnet und enthält ein weichmagnetisches Material, wie etwa zum Beispiel α-Fe, eine Ni-Fe-Legierung oder eine Fe-Si-Al-Legierung. Das α-Fe kann auch erhalten werden, indem das in dem Kernteil 21 enthaltene ε-Eisenoxid reduziert wird.
  • Der zweite Hüllenteil 22b ist ein Oxidfilm, der als eine Antioxidationsschicht fungiert. Der zweite Hüllenteil 22b enthält α-Eisenoxid, Aluminiumoxid oder Siliciumoxid. Das α-Oxid enthält wenigstens einen Typ von Eisenoxid aus zum Beispiel Fe3O4, Fe2O3 und FeO. In dem Fall, in dem der erste Hüllenteil 22a α-Fe enthält (ein weichmagnetisches Material), kann das α-Eisenoxid auch erhalten werden, indem das in dem ersten Hüllenteil 22a enthaltene α-Fe oxidiert wird.
  • Indem jedes ε-Eisenoxidteilchen den ersten Hüllenteil 22a wie oben beschrieben beinhaltet, kann die Koerzitivkraft Hc des Kernteils 21 alleine einen großen Wert beibehalten, um eine Thermostabilität sicherzustellen, während die Koerzitivkraft Hc für das ε-Eisenoxidteilchen (Kern-Hülle-Teilchen) als Ganzes zu einer Koerzitivkraft Hc angepasst werden kann, die zum Aufzeichnen geeignet ist. Indem jedes ε-Eisenoxidteilchen den zweiten Hüllenteil 22b wie oben beschrieben beinhaltet, wird außerdem das ε-Eisenoxidteilchen in und vor dem Prozess zum Herstellen des magnetischen Aufzeichnungsmediums der Luft ausgesetzt, um Rost und dergleichen auf der Teilchenoberfläche zu produzieren, und dadurch kann eine Verringerung der Eigenschaften des ε-Eisenoxidteilchens begrenzt werden. Folglich kann eine Verschlechterung der Eigenschaften des magnetischen Aufzeichnungsmediums begrenzt werden.
  • Die durchschnittliche Teilchengröße (durchschnittliche maximale Teilchengröße) D des magnetischen Pulvers beträgt bevorzugt 22 nm oder weniger, bevorzugter 8 nm oder mehr und 22 nm oder weniger und noch bevorzugter 12 nm oder mehr und 22 nm oder weniger.
  • Die durchschnittliche Teilchengröße D des magnetischen Pulvers oben wird wie folgt erhalten. Zuerst wird das zu messende magnetische Aufzeichnungsmedium durch das FIB-Verfahren (FIB: Focused Ion Beam - fokussierter Ionenstrahl) oder dergleichen verarbeitet, um einen dünnen Abschnitt zu erzeugen, und eine Querschnittsbeobachtung des dünnen Abschnitts wird mit einem Transmissionselektronenmikroskop (TEM) durchgeführt. Als Nächstes werden 500 ε-Eisenoxidteilchen zufällig aus der aufgenommenen TEM-Fotografie ausgewählt, wird eine maximale Teilchengröße dmax von jedem der Teilchen gemessen und wird eine Teilchenverteilung der maximalen Teilchengröße dmax des magnetischen Pulvers erhalten. Hier bedeutet die „maximale Teilchengröße dmax“ den sogenannten maximalen Feret-Durchmesser und verweist insbesondere auf das Maximum aus den Abständen zwischen zwei parallelen Linien, die von jeder Winkeltangente der Umrisse der ε-Eisenoxidteilchen gezeichnet werden. Danach wird der Mediandurchmesser (50%-Durchmesser, D50) der maximalen Teilchengröße dmax aus der Teilchenverteilung der berechneten maximalen Teilchengröße dmax berechnet und dies wird als die durchschnittliche Teilchengröße (durchschnittliche maximale Teilchengröße) D genommen.
  • Die durchschnittliche Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 beträgt bevorzugt 30 nm oder mehr und 120 nm oder weniger, bevorzugter 40 nm oder mehr und 100 nm oder weniger, noch bevorzugter 40 nm oder mehr und 80 nm oder weniger und am bevorzugtesten 40 nm oder mehr und 70 nm oder weniger.
  • Die durchschnittliche Dicke [nm] der Aufzeichnungsschicht 13 wird wie folgt berechnet. Zuerst wird das zu messende magnetische Aufzeichnungsmedium durch das FIB-Verfahren oder dergleichen verarbeitet, um einen dünnen Abschnitt mit einer Hauptebene parallel zu der Breitenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums zu erzeugen, und eine Querschnittsbeobachtung des dünnen Abschnitts wird mit einem TEM durchgeführt. Eine Beobachtung wird bevorzugt mit einer Beobachtungsvergrößerung von wenigstens 100.000x oder mehr durchgeführt, um es zu ermöglichen, die Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 klar zu beobachten. Eine Querschnitt-TEM-Beobachtung wird bei einer Position alle 100 m in der Längsrichtung (Transportrichtung) des magnetischen, für insgesamt fünf Stellen, durchgeführt. Die Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 wird gleichmäßig bei 50 Punkten pro Sichtfeld beobachtet und die Dicken aller fünf Sichtfelder werden einfach gemittelt (arithmetisches Mittel), um die durchschnittliche Dicke [nm] der Aufzeichnungsschicht 13 zu berechnen.
  • (Bindemittel)
  • Für das Bindemittel ist ein Harz mit einer Struktur bevorzugt, die durch Vermitteln von Vernetzungsreaktionen mit einem Polyurethanharz, einem Vinylchloridharz oder dergleichen erhalten wird. Jedoch ist das Bindemittel nicht auf diese beschränkt und kann angemessen gemäß den physikalischen Eigenschaften, die von dem magnetischen Aufzeichnungsmedium erfordert werden, und dergleichen mit einem anderen Harz kombiniert werden. Üblicherweise ist das Harz zum Kombinieren nicht speziell beschränkt, insofern das Harz typischerweise in einem magnetischen Aufzeichnungsmedium des Beschichtungstyp verwendet wird.
  • Beispiele beinhalten Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat, Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymere, Vinylchlorid-Vinylidenchlorid-Copolymere, Vinylchlorid-Acrylnitril-Copolymere, Acrylsäureester-Acrylnitril-Copolymere, Acrylsäureester-Vinylchlorid-Vinylidenchlorid-Copolymere, Vinylchlorid-Acrylnitril-Copolymere, Acrylsäureester-Acrylnitril-Copolymere, Acrylsäureester-Vinylidenchlorid-Copolymere, Methacrylsäureester-Vinylidenchlorid-Copolymere, Methacrylsäureester-Vinylchlorid-Copolymere, Methacrylsäureester-Ethylen-Copolymere, Polyvinylfluorid, Vinylidenchlorid-Acrylnitril-Copolymere, AcrylnitrilButadien-Copolymere, Polyamidharz, Polyvinylbutyral, Cellulosederivate (Celluloseacetatbutyrat, Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Nitrocellulose), Styrol-Butadien-Copolymere, Polyesterharz, Aminoharz und synthetisches Gummi.
  • Außerdem beinhalten Beispiel für duroplastische Harze oder reaktive Harze Phenolharz, Epoxidharz, Harnstoffharz, Melaminharz, Alkydharz, Siliconharz, Polyaminharz, Harnstoffformaldehydharz und dergleichen.
  • Außerdem kann zum Zweck des Verbesserns der Verbreitung des magnetischen Pulvers auch eine polare funktionale Gruppe, wie etwa -SO3M, -OSO3M, -COOM oder P=O(OM)2, in jedes oben beschriebene Bindemittel eingeführt werden. Hier ist „M“ in den Formel ein Wasserstoffatom oder ein Alkalimetall, wie etwa Lithium, Kalium oder Natrium.
  • Ferner kann die polare funktionale Gruppe eine mit einer Seitenkette mit einer Endgruppe aus -NR1R2 oder - NR1R2R3+X- oder eine mit einer Hauptkette aus >NR1R2+X- sein. Hier ist „R1“, „R2“ und „R3“ in den Formeln ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe und X- ist ein Ion eines Halogenelements, wie etwa Fluor, Chlor, Brom oder Iod, oder ist ein anorganisches oder organisches Ion. Außerdem kann die polare funktionale Gruppe auch -OH, -SH, -CN, eine Epoxidgruppe oder dergleichen sein.
  • (Additive)
  • Die Aufzeichnungsschicht 13 kann zusätzlich Aluminiumoxid (α-, β- oder γ-Aluminiumoxid), Chromoxid, Siliciumoxid, Diamant, Granat, Schmirgel, Bornitrid, Titancarbid, Siliciumcarbid, Titancarbid, Titanoxid (Rutil- oder Anatas-Titanoxid) oder dergleichen als nichtmagnetische Verstärkungsteilchen enthalten.
  • (Basisschicht)
  • Die Basisschicht 12 ist eine nichtmagnetische Schicht, die ein nichtmagnetisches Pulver und ein Bindemittel als seine Hauptkomponenten enthält. Nach Bedarf kann die Basisschicht 12 zusätzlich wenigstens einen Typ eines Additivs aus leitenden Teilchen, einem Schmiermittel, einem Härtemittel, einem Korrosionsschutzmittel und dergleichen enthalten.
  • (Durchschnittliche Dicke der Basisschicht)
  • Die durchschnittliche Dicke der Basisschicht 12 beträgt bevorzugt 0,6 µm oder mehr und 2,0 µm oder weniger und bevorzugter 0,8 µm oder mehr und 1,4 µm oder weniger. Es wird angemerkt, dass das Verfahren zum Berechnen der durchschnittlichen Dicke der Basisschicht 12 dem Verfahren zum Berechnen der durchschnittlichen Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 ähnlich ist.
  • (Nichtmagnetisches Pulver)
  • Das nichtmagnetische Pulver kann eine anorganische Substanz oder eine organische Substanz sein. Außerdem kann das nichtmagnetische Pulver Industrieruß oder dergleichen sein. Beispiele für anorganische Substanzen beinhalten Metall, Metalloxid, Metallcarbonat, Metallsulfat, Metallnitrid, Metallcarbid, Metallsulfid und dergleichen. Die Form des nichtmagnetischen Pulvers kann eine beliebige verschiedener Formen, wie etwa zum Beispiel nadelartig, sphärisch, kubisch und plattenartig sein, ist aber nicht darauf beschränkt.
  • (Bindemittel)
  • Das Bindemittel ist der oben beschriebenen Aufzeichnungsschicht 13 ähnlich.
  • [Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufzeichnungsmediums]
  • Als Nächstes wird ein Beispiel für ein Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufzeichnungsmediums mit der oben beschriebenen Konfiguration beschrieben. Zuerst wird eine basisschichtbildende Beschichtung vorbereitet, indem das nichtmagnetische Pulver, das Bindemittel und dergleichen in ein Lösungsmittel eingeknetet und darin dispergiert werden. Als Nächstes wird eine aufzeichnungsschichtbildende Beschichtung vorbereitet, indem das magnetische Pulver, das Bindemittel und dergleichen in ein Lösungsmittel eingeknetet und darin dispergiert werden. Bei der Vorbereitung der aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtung und der basisschichtbildenden Beschichtung können zum Beispiel die folgenden Lösungsmittel, Dispergierungsvorrichtungen und Knetvorrichtungen verwendet werden.
  • Beispiele für Lösungsmittel, die bei der oben beschriebenen Beschichtungsvorbereitung verwendet werden, beinhalten Ketonlösungsmittel, wie etwa Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohollösungsmittel, wie etwa Methanol, Ethanol und Propanol, Esterlösungsmittel, wie etwa Methylacetat, Ethylacetat, Butylacetat, Propylacetat, Ethyllactat und Ethylenglycolacetat, Etherlösungsmittel, wie etwa Diethylenglycoldimethylether, 2-Ethoxyethanol, Tetrahydrofuran und Dioxan, aromatische Kohlenwasserstofflösungsmittel, wie etwa Benzol, Toluol und Xylol, halogenierte Kohlenwasserstofflösungsmittel, wie etwa Methylenchlorid, Ethylenchlorid, Kohlenstofftetrachlorid, Chloroform und Chlorobenzol, und dergleichen. Diese können alleine verwendet werden oder können angemessen vermischt werden.
  • Als die Knetvorrichtung, die bei der oben beschriebenen Beschichtungsvorbereitung verwendet wird, kann zum Beispiel eine Knetvorrichtung, wie etwa eine kontinuierliche Zweiachsen-Knetmaschine, eine kontinuierliche Zweiachsen-Knetmaschine, die zur mehrstufigen Verdünnung fähig ist, ein Kneter, ein Druckkneter oder ein Walzenkneter, verwendet werden, aber die Knetvorrichtung ist nicht speziell auf diese Vorrichtungen beschränkt. Außerdem kann als die Dispergierungsvorrichtung, die in der oben beschriebenen Beschichtungsvorbereitung verwendet wird, eine Dispergierungsvorrichtung, wie etwa eine Walzenmühle, eine Kugelmühle, eine horizontale Sandmühle, eine vertikale Sandmühle, eine Spitzenmühle, eine Stiftmühle, eine Turmmühle, eine Perlenmühle (wie etwa „DCP-Mill“, hergestellt von der Eirich-Gruppe), ein Homogenisierer oder eine Ultraschalldispergierungsmaschine, verwendet werden, aber die Dispergierungsvorrichtung ist nicht speziell auf diese Vorrichtungen beschränkt.
  • Als Nächstes wird die Basisschicht 12 durch Aufbringen der basisschichtbildenden Beschichtung auf eine der Hauptebenen des Substrats 11 und Trocknen gebildet. Als Nächstes wird die Aufzeichnungsschicht 13 durch Aufbringen der aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtung auf die Basisschicht 12 und Trocknen auf der Basisschicht 12 gebildet. Es wird angemerkt, dass während des Trocknens das Magnetfeld des magnetischen Pulvers zum Beispiel mit einer Solenoidspule in der Dickenrichtung des Substrats 11 orientiert wird. Nach dem Bilden der Aufzeichnungsschicht 13, können die Schutzschicht und die Schmiermittelschicht auf der Aufzeichnungsschicht 13 gebildet werden und die Rückbeschichtungsschicht 14 kann auch auf der anderen Hauptebene des Substrats 11 nach Bedarf gebildet werden.
  • Danach wird das Substrat 11 mit der Basisschicht 12 und der Aufzeichnungsschicht 13, die darauf gebildet sind, um einen Kern mit großem Durchmesser umgespult und wird eine Aushärtungsbehandlung durchgeführt. Als Letztes wird das Substrat 11 mit der Basisschicht 12 und der Aufzeichnungsschicht 13, die darauf gebildet sind, einem Kalanderprozess unterzogen und in eine vorbestimmte Breite geschnitten. Durch das Vorhergehende wird das beabsichtigte magnetische Aufzeichnungsmedium erhalten.
  • [Effekte]
  • Das magnetische Aufzeichnungsmedium gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Technologie ist mit der Aufzeichnungsschicht 13 versehen, die ein Pulver aus Teilchen enthält, die ε-Eisenoxid enthalten. Außerdem beträgt das Verhältnis (((Hc(50)/Hc(25)) × 100) der Koerzitivkraft Hc(50), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 50 °C gemessen wird, und der Koerzitivkraft Hc(25), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 25 °C gemessen wird, 95 % oder mehr, beträgt die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr und beträgt das Rechteckigkeitsverhältnis S1, das in der Transportrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger. Mit dieser Anordnung kann die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc reduziert werden, und kann eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung unterdrückt werden.
  • Außerdem kann, falls das Verhältnis ((Hc(50)/Hc(25)) × 100) der Koerzitivkraft Hc(50), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 50 °C gemessen wird, und der Koerzitivkraft Hc(25), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 25 °C gemessen wird, 95 % oder mehr beträgt, das Rechteckigkeitsverhältnis S1, das in der Transportrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt, die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr und 340 kA/m oder weniger beträgt, und das Aktivierungsvolumen 5000 nm3 oder weniger beträgt, eine SNR-Verschlechterung in einer Hochtemperaturumgebung unterdrückt werden, während zusätzlich ein vorteilhaftes SNR erhalten werden kann.
  • [Modifikationen]
  • (Modifikation 1)
  • Die vorhergehende Ausführungsform beschreibt einen Fall, bei dem jedes ε-Eisenoxidteilchen den doppelschichtigen Hüllenteil 22 aufweist, aber, wie in 3 veranschaulicht, kann jedes ε-Eisenoxidteilchen einen einschichtigen Hüllenteil 23 aufweisen. In diesem Fall weist der Hüllenteil 23 eine Konfiguration ähnlich jener des ersten Hüllenteils 22a auf. Jedoch ist es aus der Perspektive des Begrenzens einer Verschlechterung der Eigenschaften der ε-Eisenoxidteilchen zu bevorzugen, dass jedes ε-Eisenoxidteilchen den doppelschichtigen Hüllenteil 22, wie bei der vorhergehenden Ausführungsform aufweist.
  • (Modifikation 2)
  • Wie in 4 veranschaulicht, kann das magnetische Aufzeichnungsmedium zusätzlich mit einer Verstärkungsschicht 15 versehen sein, die auf der anderen Hauptebene auf der Seite der Rückbeschichtungsschicht 14 (nachfolgend als die „Rückseitenoberfläche“ bezeichnet) unter den zwei Hauptebenen des Substrats 11 bereitgestellt ist. In diesem Fall ist die Rückbeschichtungsschicht 14 auf der Verstärkungsschicht 15 bereitgestellt.
  • Es wird angemerkt, dass die Verstärkungsschicht 15 auf einer der zwei Hauptebenen des Substrats 11 bereitgestellt sein kann und die Verstärkungsschicht 15 auch auf der Hauptebene auf der Seite der Aufzeichnungsschicht 13 (nachfolgend als die „Vorderfläche“ bezeichnet) unter den zwei Hauptebenen des Substrats 11 bereitgestellt sein kann. In diesem Fall ist die Basisschicht 12 auf der Verstärkungsschicht 15 bereitgestellt.
  • Die Verstärkungsschicht 15 dient dem Erhöhen der mechanischen Festigkeit des magnetischen Aufzeichnungsmediums und dem Erhalten einer exzellenten Dimensionsstabilität. Die Verstärkungsschicht 15 enthält zum Beispiel Metalle und/oder Metallverbindungen. Hier sind Metalle so definiert, dass sie Halbmetalle einschließen. Das Metall ist Aluminium und/oder Kupfer und ist zum Beispiel bevorzugt Kupfer. Dies liegt darin begründet, dass Kupfer kostengünstig bei einem relativ niedrigen Dampfdruck ist, wodurch es ermöglicht wird, die Verstärkungsschicht 15 kostengünstig zu bilden. Die Metallverbindung ist zum Beispiel ein Metalloxid. Das metallische Oxid ist Aluminiumoxid und/oder Kupferoxid und/oder Siliciumoxid und ist zum Beispiel bevorzugt Kupferoxid. Dies liegt darin begründet, dass kostengünstiges Bilden der Verstärkungsschicht 15 durch Aufdampfen oder dergleichen möglich ist. Zum Beispiel kann die Verstärkungsschicht 15 ein aufgedampfter Film, der durch Vakuumaufdampfen mit schrägem Winkel gebildet ist, oder ein aufgesputterter Film, der durch Sputtern gebildet ist, sein.
  • Es ist wünschenswert, dass die Verstärkungsschicht 15 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist. Wenn die Dicke der Verstärkungsschicht 15 erhöht wird, kann eine Ausdehnung und Kontraktion des Substrats 11 als Reaktion auf externe Kräfte weiter unterdrückt werden. Falls die Verstärkungsschicht 15 unter Verwendung einer Vakuumdünnfilmherstellungstechnik, wie etwa Aufdampfen oder Sputtern, gebildet wird, gibt es jedoch, wenn die Dicke der Verstärkungsschicht 15 wie oben erhöht wird, eine Möglichkeit, dass Lücken in der Verstärkungsschicht 15 einfacher auftreten. Durch das Bewirken, dass die Verstärkungsschicht 15, wie oben, eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist, kann das Auftreten von Lücken in der Verstärkungsschicht 15, wenn die Verstärkungsschicht 15 unter Verwendung einer Vakuumdünnfilmherstellungstechnik gebildet wird, unterdrückt werden und kann die Kompaktheit der Verstärkungsschicht 15 verbessert werden. Weil die Feuchtigkeitsdampftransmissionsrate der Verstärkungsschicht 15 reduziert werden kann, kann folglich das Anschwellen des Substrats 11 weiter begrenzt werden und kann die Dimensionsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums weiter verbessert werden. Falls die Verstärkungsschicht 15 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist, kann das Material jeder Schicht gleich oder unterschiedlich sein.
  • Die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 15 beträgt bevorzugt 150 nm oder mehr und 500 nm oder weniger. Falls die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 15 150 nm oder mehr beträgt, wird eine vorteilhafte Funktionalität als die Verstärkungsschicht 15 (das heißt eine vorteilhafte Dimensionsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums) erhalten. Andererseits kann eine ausreichende Funktionalität als die Verstärkungsschicht 15 erhalten werden, ohne die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 15 jenseits von 500 nm erhöhen zu müssen. Es wird angemerkt, dass die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 15 ähnlich dem zuvor beschriebenen Verfahren zum Berechnen der durchschnittlichen Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 berechnet wird.
  • Falls das magnetische Aufzeichnungsmedium die Verstärkungsschicht 15 aufweist, beträgt der Elastizitätsmodul in der Längenrichtung des länglichen magnetischen Aufzeichnungsmediums bevorzugt 7 GPa oder mehr und 14 GPa oder weniger. Falls der Elastizitätsmodul 7 GPa oder mehr beträgt, kann ein vorteilhafter Magnetkopfstoß erhalten werden, und zusätzlich kann ein Randschaden begrenzt werden. Falls andererseits der Elastizitätsmodul 14 GPa oder weniger beträgt, kann ein vorteilhafter Magnetkopfstoß erhalten werden.
  • Außerdem beträgt der Koeffizient einer Feuchtigkeitsdehnung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bevorzugt 0,5 ppm/%RH oder mehr und 4 ppm/%RH oder weniger. Falls der Koeffizient der Feuchtigkeitsdehnung in dem obigen Bereich liegt, kann die Dimensionsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums weiter verbessert werden.
  • (Modifikation 3)
  • Wie in 5 veranschaulicht, kann das magnetische Aufzeichnungsmedium zusätzlich mit einer Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 versehen sein, die auf der Verstärkungsschicht 15 bereitgestellt ist. Es wird angemerkt, dass die Rückbeschichtungsschicht 14, falls die Basisschicht 12 und die Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 auf der Rückflächenseite des Substrats 11 bereitgestellt sind, auf der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 bereitgestellt ist. Andererseits wird die Basisschicht 12, falls die Basisschicht 12 und die Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 auf der Vorderflächenseite des Substrats 11 bereitgestellt sind, auf der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 bereitgestellt.
  • Die Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 dient dem Unterdrücken einer Hohlkrümmung, die aufgrund der Bildung der Verstärkungsschicht 15 auf dem Substrat 11 auftritt. Hier bedeutet Hohlkrümmung eine Krümmung, die in der Breitenrichtung des länglichen Substrats 11 auftritt. Bei der Verstärkungsschicht 15 wirkt eine Zugspannung als eine interne Spannung oder mit anderen Worten arbeitet eine Spannung so, dass die Hauptebenenseite, auf der die Verstärkungsschicht 15 bereitgestellt ist, unter den zwei Hauptebenen des Substrats 11 in der Breitenrichtung und in einer konkaven Form gekrümmt wird. Im Gegensatz dazu wirkt bei der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 eine Druckspannung als eine interne Spannung oder mit anderen Worten arbeitet eine Spannung so, dass die Hauptebenenseite, auf der die Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 bereitgestellt ist, unter den zwei Hauptebenen des Substrats 11 in der Breitenrichtung und in einer konvexen Form gekrümmt wird. Aus diesem Grund heben die internen Spannungen der Verstärkungsschicht 15 und der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 einander auf und kann das Auftreten einer Hohlkrümmung in dem magnetischen Aufzeichnungsmedium unterdrückt werden. Folglich ist es möglich, ein magnetisches Aufzeichnungsmedium bereitzustellen, das den Kontaktzustand zwischen dem Magnetkopf und dem magnetischen Aufzeichnungsmedium in einem vorteilhaften Zustand beibehalten kann, während außerdem Außerspur(Off-Track)-Charakteristiken mit hoher Dimensionsstabilität in der Spurbreitenrichtung exzellent sind.
  • Die Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 ist zum Beispiel ein Kohlenstoffdünnfilm. Der Kohlenstoffdünnfilm ist bevorzugt ein harter Kohlenstoffdünnfilm, der diamantartigen Kohlenstoff (nachfolgend als „DLC“ bezeichnet) enthält. Zum Beispiel kann die Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 ein CVD-Film (CVD: Chemical Vapor Deposition - chemische Gasphasenabscheidung), der durch CVD gebildet wird, oder ein gesputterter Film, der durch Sputtern gebildet wird, sein.
  • Es ist wünschenswert, dass die Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist. Dies liegt darin begründet, dass die Dimensionsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums weiter verbessert werden kann. Es wird angemerkt, dass das Prinzip des Obigen ähnlich dem Fall des Bewirkens, dass die Verstärkungsschicht 15 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist, ist. Falls die Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist, kann das Material jeder Schicht gleich oder unterschiedlich sein.
  • Die durchschnittliche Dicke der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 beträgt bevorzugt 10 nm oder mehr und 200 nm oder weniger. Falls die durchschnittliche Dicke der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 weniger als 10 nm beträgt, gibt es eine Möglichkeit, dass die Druckspannung der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 zu klein wird. Falls andererseits die durchschnittliche Dicke der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 200 nm überschreitet, gibt es eine Möglichkeit, dass die Druckspannung der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 zu groß wird. Es wird angemerkt, dass die durchschnittliche Dicke der Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht 16 ähnlich dem zuvor beschriebenen Verfahren zum Berechnen der durchschnittlichen Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 berechnet wird.
  • (Modifikation 4)
  • Wie in 6 veranschaulicht, kann das magnetische Aufzeichnungsmedium zusätzlich mit einer ersten Verstärkungsschicht 17, die auf der Vorderfläche des Substrats 11 bereitgestellt ist, einer zweiten Verstärkungsschicht 18, die auf der Rückfläche des Substrats 11 bereitgestellt ist, und einer Haftunterdrückungsschicht 19, die auf der zweiten Verstärkungsschicht 18 bereitgestellt ist, versehen sein. In diesem Fall ist die Rückbeschichtungsschicht 14 auf der Haftunterdrückungsschicht 19 bereitgestellt. Das Substrat 11, die erste Verstärkungsschicht 17, die zweite Verstärkungsschicht 18 und die Haftunterdrückungsschicht 19 bilden ein Laminat 10.
  • Es wird angemerkt, dass es ausreicht, dass die Haftunterdrückungsschicht 19 auf der ersten oder zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 bereitgestellt ist und die Haftunterdrückungsschicht 19 auch auf der ersten Verstärkungsschicht 17 bereitgestellt werden kann. In diesem Fall ist die Basisschicht 12 auf der Haftunterdrückungsschicht 19 bereitgestellt. Falls die Haftunterdrückungsschicht 19 ein Kohlenstoffdünnfilm ist, ist es in diesem Fall wünschenswert, die Benetzbarkeit der Oberfläche der Haftunterdrückungsschicht 19 durch eine Oberflächenumformungsbehandlung zu verbessern. Dies liegt darin begründet, dass die Beschichtungseigenschaften der basisschichtbildenden Beschichtung mit Bezug auf den Kohlenstoffdünnfilm verbessert werden können.
  • Die erste und zweite Verstärkungsschicht 17 und 18 dienen dem Erhöhen der mechanischen Festigkeit des magnetischen Aufzeichnungsmediums und dem Erhalten einer exzellenten Dimensionsstabilität. Bezüglich der Materialien für die erste und zweite Verstärkungsschicht 17 und 18 können Materialien, die jenen in der Verstärkungsschicht 15 der Modifikation 2 ähnlich sind, als Beispiele gegeben werden. Es wird angemerkt, dass die erste und zweite Verstärkungsschicht 17 und 18 das gleiche Material oder unterschiedliche Materialien sein können. Es ist wünschenswert, dass sowohl die erste als auch zweite Verstärkungsschicht 17 und 18 jeweils eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweisen. Dies liegt darin begründet, dass die Dimensionsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums weiter verbessert werden kann. Es wird angemerkt, dass das Prinzip des Obigen ähnlich dem Fall des Bewirkens, dass die Verstärkungsschicht 15 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten in Modifikation 2 aufweist, ist.
  • Die durchschnittliche Dicke der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 beträgt bevorzugt 75 nm oder mehr und 300 nm oder weniger. Falls die durchschnittliche Dicke der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 75 nm oder mehr beträgt, wird eine vorteilhafte Funktionalität als die erste und zweite Verstärkungsschicht 17 und 18 (das heißt eine vorteilhafte Dimensionsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums) erhalten. Falls andererseits die durchschnittliche Dicke der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 jenseits 300 nm erhöht wird, gibt es eine Möglichkeit, dass das magnetische Aufzeichnungsmedium dick wird. Außerdem kann eine ausreichende Funktionalität als die erste und zweite Verstärkungsschicht 17 und 18 erhalten werden, ohne die durchschnittliche Dicke der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 jenseits 300 nm erhöhen zu müssen. Es wird angemerkt, dass die durchschnittliche Dicke der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 ähnlich dem zuvor beschriebenen Verfahren zum Berechnen der durchschnittlichen Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 berechnet wird.
  • Bei der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 wirkt eine Zugspannung als eine interne Spannung. Insbesondere wirkt bei der ersten Verstärkungsschicht 17 eine Spannung so, dass die Vorderflächenseite des Substrats 11 in der Breitenrichtung und in einer konkaven Form gekrümmt wird, während bei der zweiten Verstärkungsschicht 18 eine Spannung so wirkt, dass die Rückflächenseite des Substrats 11 in der Breitenrichtung und in einer konkaven Form gekrümmt wird. Folglich heben die internen Spannungen der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 einander auf und kann das Auftreten einer Hohlkrümmung in dem magnetischen Aufzeichnungsmedium unterdrückt werden. Hier bedeutet Hohlkrümmung eine Krümmung, die in der Breitenrichtung des länglichen Substrats 11 auftritt.
  • Die durchschnittliche Dicke der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 können gleich oder unterschiedlich sein, aber bevorzugt sind sie gleich oder im Wesentlichen gleich. Dies liegt darin begründet, dass die internen Spannungen (Zugspannungen) in der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18, die auf beiden Seiten des Substrats 11 bereitgestellt sind, gleich oder im Wesentlichen gleich werden, und das Auftreten einer Hohlkrümmung kann weiter unterdrückt werden. Dass die durchschnittliche Dicke der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 im Wesentlichen gleich sind, bedeutet hier, dass die Differenz der durchschnittlichen Dicke zwischen der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 innerhalb von 5 nm liegt.
  • Die Haftungsunterdrückungsschicht 19 dient dem Unterdrücken einer metallischen Haftung und des Klebens durch die erste und zweite Verstärkungsschicht 17 und 18, falls das Laminat 10 zu einer Rolle gewickelt ist. Die Haftungsunterdrückungsschicht 19 kann elektrisch leitfähig oder isolierend sein. Die Haftungsunterdrückungsschicht 19 kann eine Schicht, bei der eine Druckspannung als eine interne Spannung wirkt (mit anderen Worten arbeitet eine Spannung so, dass die Ebenenseite, auf der die Haftungsunterdrückungsschicht 19 bereitgestellt ist, unter den zwei Hauptebenen des Substrats 11 in der Breitenrichtung und in einer konvexen Form gekrümmt wird), oder eine Schicht, bei der eine Zugspannung als eine interne Spannung wirkt (mit anderen Worten arbeitet eine Spannung so, dass die Ebenenseite, auf der die Haftungsunterdrückungsschicht 19 bereitgestellt ist, unter dem Substrat 11 in der Breitenrichtung und in einer konkaven Form gekrümmt wird), sein.
  • Falls die Zugspannungen (internen Spannungen) der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 unterschiedlich sind, kann die Haftungsunterdrückungsschicht 19 mit einer Druckspannung, die als eine interne Spannung wirkt, auf der Verstärkungsschicht mit der größeren Zugspannung unter der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 bereitgestellt werden. Dies liegt darin begründet, dass die Zugspannung, die aufgrund der Differenz der Zugspannungen der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 nicht aufgehoben wird, durch die Druckspannung der Haftunterdrückungsschicht 19 aufgehoben werden kann. Außerdem kann die Haftunterdrückungsschicht 19 mit einer Zugspannung, die als eine interne Spannung wirkt, auf der Verstärkungsschicht mit der kleineren Zugspannung unter der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 bereitgestellt werden. Dies liegt darin begründet, dass die Druckspannung, die durch die Differenz der Zugspannungen der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 produziert wird, durch die Zugspannung der Haftunterdrückungsschicht 19 aufgehoben werden kann.
  • Die durchschnittliche Dicke der Haftunterdrückungsschicht 19 beträgt bevorzugt 1 nm oder mehr und 100 nm oder weniger, bevorzugter 2 nm oder mehr und 25 nm oder weniger und noch bevorzugter 2 nm oder mehr und 20 nm oder weniger. Falls die durchschnittliche Dicke der Haftunterdrückungsschicht 19 1 nm oder mehr beträgt, ist es möglich, zu vermeiden, dass die durchschnittliche Dicke der Haftunterdrückungsschicht 19 zu dünn wird, und eine Reduzierung der Funktionalität als die Haftunterdrückungsschicht 19 kann unterdrückt werden. Falls andererseits die durchschnittliche Dicke der Haftunterdrückungsschicht 19 100 nm oder weniger beträgt, ist es möglich zu vermeiden, dass die durchschnittliche Dicke der Haftunterdrückungsschicht 19 zu dick wird, oder mit anderen Worten zu vermeiden, dass die interne Spannung der Haftunterdrückungsschicht 19 zu groß wird. Die durchschnittliche Dicke der Haftunterdrückungsschicht 19 wird ähnlich dem zuvor beschriebenen Verfahren zum Berechnen der durchschnittlichen Dicke der Aufzeichnungsschicht 13 berechnet.
  • Falls eine durchschnittliche Dicke D2 der zweiten Verstärkungsschicht 18 75 nm oder mehr und 300 nm oder weniger beträgt, beträgt ein Verhältnis (D4/D2) einer durchschnittlichen Dicke D4 der Haftunterdrückungsschicht 19 mit Bezug auf die durchschnittliche Dicke D2 der zweiten Verstärkungsschicht 18 bevorzugt 0,005 oder mehr und 0,35 oder weniger. Falls das Verhältnis (D4/D2) 0,005 nm oder weniger beträgt, ist es möglich, zu vermeiden, dass die durchschnittliche Dicke D4 der Haftunterdrückungsschicht 19 mit Bezug auf die durchschnittliche Dicke D2 der zweiten Verstärkungsschicht 18 zu dünn wird, und eine Reduzierung der Funktionalität als die Haftunterdrückungsschicht 19 kann unterdrückt werden. Falls andererseits das Verhältnis (D4/D2) 0,35 nm oder weniger beträgt, ist es möglich, zu vermeiden, dass die durchschnittliche Dicke D4 der Haftunterdrückungsschicht 19 mit Bezug auf die durchschnittliche Dicke D2 der zweiten Verstärkungsschicht 18 zu dick wird, oder mit anderen Worten zu vermeiden, dass die Druckspannung der Haftunterdrückungsschicht 19 mit Bezug auf die Zugspannung der zweiten Verstärkungsschicht 18 zu groß wird. Folglich kann das Auftreten der Hohlkrümmung weiter unterdrückt werden.
  • Die Haftunterdrückungsschicht 19 enthält zum Beispiel Kohlenstoff und/oder metallische Oxide. Es ist wünschenswert, dass die Haftunterdrückungsschicht 19 ein Kohlenstoffdünnfilm mit Kohlenstoff als seine Hauptkomponente oder ein Metallisches-Oxid-Film mit einem metallischen Oxid als seine Hauptkomponente ist. Der Kohlenstoff ist bevorzugt diamantartiger Kohlenstoff (nachfolgend als „DLC“ bezeichnet). Das metallische Oxid enthält bevorzugt Aluminiumoxid und/oder Kupferoxid und/oder Kobaltoxid. Zum Beispiel kann die Haftunterdrückungsschicht 19 ein Chemische-Gasphasenabscheidung(CVD)-Film, der durch CVD gebildet wird, oder ein gesputterter Film, der durch Sputtern gebildet wird, sein.
  • Es ist wünschenswert, dass die Haftunterdrückungsschicht 19 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist. Dies liegt darin begründet, dass die Dimensionsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums weiter verbessert werden kann. Es wird angemerkt, dass das Prinzip des Obigen ähnlich dem Fall des Bewirkens, dass die Verstärkungsschicht 15 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten in Modifikation 3 aufweist, ist. Falls die Haftunterdrückungsschicht 19 eine Laminatstruktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist, kann das Material jeder Schicht gleich oder unterschiedlich sein.
  • Bei dem magnetischen Aufzeichnungsmedium mit der oben beschriebenen Konfiguration heben die internen Spannungen (Zugspannungen) der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 einander auf und kann das Auftreten einer Hohlkrümmung in dem magnetischen Aufzeichnungsmedium unterdrückt werden. Folglich ist es möglich, ein magnetisches Aufzeichnungsmedium bereitzustellen, das den Kontaktzustand zwischen dem Magnetkopf und dem magnetischen Aufzeichnungsmedium in einem vorteilhaften Zustand beibehalten kann, während außerdem Außerspur(Off-Track)-Charakteristiken mit hoher Dimensionsstabilität in der Spurbreitenrichtung exzellent sind. Außerdem kann bei dem Herstellungsprozess des magnetischen Aufzeichnungsmediums, wenn das Laminat 10 zu einer Rolle gewickelt wird, eine metallische Haftung der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 unterdrückt werden, weil die Haftunterdrückungsschicht 19 zwischen der ersten und zweiten Verstärkungsschicht 17 und 18 liegt.
  • (Modifikation 5)
  • Das magnetische Aufzeichnungsmedium kann auch so konfiguriert sein, dass es unter Verwendung einer Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung, die mit einem Aufzeichnungskopf außer einem Ringkopf (wie etwa zum Beispiel einem Single-Pole-Type(SPT: Einzelpoltyp)-Aufzeichnungskopf) versehen ist, zum Aufzeichnen eines Signals mit einer kürzesten Aufzeichnungswellenlänge von 75 nm oder weniger in der Lage ist.
  • [Beispiele]
  • Nachfolgend wird die vorliegende Technologie speziell unter Verwendung von Beispielen beschrieben, allerdings ist die vorliegende Technologie nicht auf lediglich diese Beispiele beschränkt.
  • Bei den folgenden Beispielen 1 bis 12 und Vergleichsbeispielen 1 bis 8 wurden die durchschnittliche Teilchengröße, die Koerzitivkraft Hc(25), Hc(50), die Rechteckigkeitsverhältnisse S1 und S2, das Aktivierungsvolumen Vact, die durchschnittliche Dicke der Aufzeichnungsschicht und die durchschnittliche Dicke der Basisschicht gemäß den in der vorhergehenden Ausführungsform beschriebenen Verfahren erhalten.
  • Die folgenden Teilchen A1 bis A5 und Teilchen B bis F wurden als das magnetische Pulver für die Aufzeichnungsschicht vorbereitet.
  • [Pulver aus den Teilchen A1 bis A5]
  • Pulver aus den Teilchen A1 bis A5 wurden wie folgt hergestellt. Zuerst wurde ein Pulver aus im Wesentlichen sphärischen ε-Eisenoxidnanoteilchen (ε-Fe2O3-Kristallteilchen) vorbereitet. Als Nächstes wurde ein Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einem doppelschichtigen Hüllenteil erhalten, indem das Pulver aus ε-Eisenoxidnanoteilchen einer Reduktionsbehandlung und einer graduellen Oxidationsbehandlung wie folgt unterzogen wurde.
  • (Reduktionsbehandlung)
  • Zuerst wurde das Pulver aus ε-Eisenoxidnanoteilchen auf einem Quarzschiffchen platziert und in einen Rohrofen geladen. Nach dem Laden wurde der Rohrofen einmal mit einer N2-Atmosphäre gespült und wurde dann auf eine vorbestimmte Temperatur angehoben. Nach dem Anheben der Temperatur wurde eine Wärmebehandlung bei 350 °C durchgeführt, während bewirkt wurde, dass 100 % H2 mit einer Durchflussrate von 100 ml/min fließt. Mit dieser Anordnung wurde die Oberfläche der ε-Eisenoxidnanoteilchen zu reduziertem α-Fe transformiert und eine α-Fe-Schicht wurde auf der Oberfläche der ε-Eisenoxidnanoteilchen gebildet. Bei diesem Punkt wurde die Dicke der α-Fe-Schicht innerhalb eines Bereichs von 0,3 nm bis 3,5 nm variiert, indem die Zeit der Wärmebehandlung (Reduktionsbehandlung) bei 350 °C in einem Bereich von 0,04 h bis 0,45 h, wie in Tabelle 1 veranschaulicht, angepasst wurde. Danach wurde der Rohrofen wieder mit einer N2-Atmosphäre gespült und wurde auf Raumtemperatur abgekühlt. Mit dieser Anordnung wurde ein Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit dem α-Fe auf der Oberfläche erhalten.
  • (Graduelle Oxidationsbehandlung)
  • Als Nächstes wurde der Rohrofen auf eine vorbestimmte Temperatur erwärmt und wurde eine Wärmebehandlung bei 300 °C für 5 Minuten durchgeführt, während bewirkt wurde, dass ein N2-Gas, das Sauerstoffspuren enthält, mit einer Durchflussrate von 100 ml/min fließt. Mit dieser Anordnung wurde die Oberfläche der α-Fe-Schicht oxidiert und wurde eine α-Fe2O3-Schicht auf der Oberfläche der α-Fe-Schicht gebildet. Danach wurde der Rohrofen wieder mit einer N2-Atmosphäre gespült und wurde auf Raumtemperatur abgekühlt. Durch das Vorhergehende wurden Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einer α-Fe2O3-Schicht (Oxidfilm) und einer α-Fe-Schicht (weichmagnetische Schicht) auf der Oberfläche mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 20 nm (Pulver aus den Teilchen A1 bis A5) erhalten.
  • [Pulver aus den Teilchen B]
  • Pulver aus den Teilchen B wurden wie folgt hergestellt. Zuerst wurde ein Pulver aus im Wesentlichen sphärischen ε-Eisenoxidnanoteilchen (ε-Fe2O3-Kristallteilchen) vorbereitet. Als Nächstes wurde ein Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einem doppelschichtigen Hüllenteil erhalten, indem das Pulver aus ε-Eisenoxidnanoteilchen einer Reduktionsbehandlung und einem Sputterprozess wie folgt unterzogen wurde.
  • (Reduktionsbehandlung)
  • Zuerst wurde ein Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einer 2 nm dicken α-Fe-Schicht auf der Oberfläche erhalten, indem eine Reduktionsbehandlung ähnlich dem Pulver aus den Teilchen A2 durchgeführt wurde.
  • (Sputterprozess)
  • Als Nächstes wurden die Teilchen nach der Reduktionsbehandlung auf eine solche Weise in eine Kammer zum Durchführen des Sputterprozesses befördert, dass die Teilchen nicht Luft ausgesetzt werden. Indem der Sputterprozess unter Verwendung eines Al2O3-Targets durchgeführt wurde, während bewirkt wurde, dass die Teilchen vibrieren, wurde anschließend ein Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einer Al2O3-Schicht (Oxidfilm) und einer α-Fe-Schicht (weichmagnetische Schicht) auf der Oberfläche mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 20 nm (Pulver aus den Teilchen B) erhalten.
  • [Pulver aus den Teilchen C]
  • Pulver aus den Teilchen C wurden wie folgt hergestellt. Zuerst wurde ein Pulver aus im Wesentlichen sphärischen ε-Eisenoxidnanoteilchen (ε-Fe2O3-Kristallteilchen) vorbereitet. Als Nächstes wurde ein Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einem doppelschichtigen Hüllenteil erhalten, indem das Pulver aus ε-Eisenoxidnanoteilchen dem Sputterprozess wie folgt unterzogen wurde.
  • (Sputterprozess (Abscheidung des weichmagnetischen Ni-Fe-Films))
  • Zuerst wurden die ε-Eisenoxidnanoteilchen in eine Kammer zum Durchführen des Sputterprozesses befördert. Durch Durchführen des Sputterprozesses unter Verwendung eines Ni-Fe-Targets, während bewirkt wurde, dass die Teilchen vibrieren, wurde anschließend ein Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einer Ni-Fe-Legierung-Schicht auf der Oberfläche erhalten.
  • (Sputterprozess (Al2O3-Schicht))
  • Indem der Sputterprozess ähnlich dem Pulver aus den Teilchen B durchgeführt wurde, wurde als Nächstes ein Pulver aus Kern-Hülle-ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einer Al2O3-Schicht (Oxidfilm) und einer Ni-Fe-Legierung-Schicht (weichmagnetische Schicht) auf der Oberfläche mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 20 nm (Pulver aus den Teilchen C) erhalten.
  • [Pulver aus den Teilchen D]
  • Ein Pulver aus im Wesentlichen sphärischen ε-Eisenoxidnanoteilchen (ε-Fe2O3-Kristallteilchen) mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 20 nm wurde vorbereitet und als das Pulver aus den Teilchen D in einem unveränderten Zustand genommen, ohne die Reduktionsbehandlung oder die graduelle Oxidationsbehandlung durchzuführen.
  • [Pulver aus den Teilchen E]
  • Für das Pulver aus den Teilchen E wurde ein Pulver aus mit Al dotierten im Wesentlichen sphärischen ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 17 nm vorbereitet.
  • [Pulver aus den Teilchen F]
  • Für das Pulver aus den Teilchen F wurde ein Pulver aus mit Ga dotierten im Wesentlichen sphärischen ε-Eisenoxidnanoteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 17 nm vorbereitet.
  • Die obigen Pulver aus den Teilchen A1 bis A5 und der Teilchen B bis F, das Pulver aus Bariumferrit(BaFe)-Teilchen und das Pulver aus Metallteilchen wurden verwendet, um das Magnetband der Beispiele 1 bis 12 und der Vergleichsbeispiele 1 bis 8 wie folgt zu fertigen.
  • [Beispiele 1 bis 5, 8 bis 10 und Vergleichsbeispiele 1 und 2]
  • (Vorbereitungsschritt für die aufzeichnungsschichtbildende Beschichtung)
  • Die aufzeichnungsschichtbildende Beschichtung wurde wie folgt vorbereitet. Zuerst wurde eine erste Zusammensetzung mit der Formulierung unten in einem Extruder geknetet. Als nächstes wurden die geknetete erste Zusammensetzung und eine zweite Zusammensetzung mit der Formulierung unten in einen Mischtank hinzugefügt, der mit einem Dispergierer versehen ist, und vorgemischt. Als Nächstes wurde eine Sandmühlenvermischung zusätzlich durchgeführt und wurde eine Filterbehandlung durchgeführt und die aufzeichnungsschichtbildende Beschichtung wurde vorbereitet.
  • (Erste Zusammensetzung)
    • Pulver aus den Teilchen A1 bis A5 (siehe Tabellen 1 und 2): 100 Massenteile
    • Vinylchloridharz (Cyclohexanonlösung 30 Massen-%): 10 Massenteile
    • (Polymerisationsgrad 300, Mn = 10000, enthält OSO3K = 0,07 mmol/g, zweite Ordnung OH = 0,3 mmol/g als eine polare Gruppe)
    • Aluminiumoxidpulver: 5 Massenteile
    • (α-Al2O3, durchschnittlicher Teilchendurchmesser 0,2 µm)
    • Industrieruß: 2 Massenteile
    • (hergestellt von Tokai Carbon Co., Ltd., Produktname: „SEAST TA“)
  • (Zweite Zusammensetzung)
    • Vinylchloridharz: 1,1 Massenteile
    • (Harzlösung: Harzanteil 30 Massen-%, Cyclohexanon 70 Massen-%)
    • n-Butylstearat: 2 Massenteile
    • Methylethylketon: 121,3 Massenteile
    • Toluol: 121,3 Massenteile
    • Cyclohexanon: 60,7 Massenteile
  • Schließlich wurden als ein Härtemittel 4 Massenteile Polyisocyanat (Produktname: „Coronate L“, hergestellt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) und 2 Massenteile Myristinsäure zu der wie oben beschrieben vorbereiteten aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtung hinzugefügt.
  • (Vorbereitungsschritt für die basisschichtbildende Beschichtung)
  • Die basisschichtbildende Beschichtung wurde wie folgt vorbereitet. Zuerst wurde eine dritte Zusammensetzung mit der Formulierung unten in einem Extruder geknetet. Als nächstes wurden die geknetete dritte Zusammensetzung und die vierte Zusammensetzung mit der Formulierung unten in den Mischtank hinzugefügt, der mit einem Dispergierer versehen ist, und vorgemischt. Als Nächstes wurde eine Sandmühlenvermischung zusätzlich durchgeführt und wurde eine Filterbehandlung durchgeführt und die basisschichtbildende Beschichtung wurde vorbereitet.
  • (Dritte Zusammensetzung)
    • Nadelartiges Eisenoxidpulver 100 Massenteile
    • (α-Fe2O3, durchschnittliche Längsachsenlänge 0,15 µm)
    • Vinylchloridharz: 55,6 Massenteile
    • (Harzlösung: Harzanteil 30 Massen-%, Cyclohexanon 70 Massen-%)
    • Industrieruß: 10 Massenteile
    • (Durchschnittlicher Teilchendurchmesser 20 nm)
  • (Vierte Zusammensetzung)
    • Polyurethanharz UR8200 (hergestellt von Toyobo Co., Ltd.): 18,5 Massenteile
    • n-Butylstearat: 2 Massenteile
    • Methylethylketon: 108,2 Massenteile
    • Toluol: 108,2 Massenteile
    • Cyclohexanon: 18,5 Massenteile
  • Schließlich wurden als ein Härtemittel 4 Massenteile Polyisocyanat (Produktname: „Coronate L“, hergestellt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) und 2 Massenteile Myristinsäure zu der wie oben beschrieben vorbereiteten basisschichtbildenden Beschichtung hinzugefügt.
  • (Vorbereitungsschritt für die rückbeschichtungsschichtbildende Beschichtung)
  • Die rückbeschichtungsschichtbildende Beschichtung wurde wie folgt vorbereitet. Die rückbeschichtungsschichtbildende Beschichtung wurde durch Mischen der Rohmaterialien unten in dem Mischtank, der mit einem Dispergierer versehen ist, und Durchführen einer Filterbehandlung vorbreitet.
    • Industrieruß (hergestellt von Asahi Carbon Co., Ltd., Produktname: „#80“): 100 Massenteile
    • Polyesterpolyurethan: 100 Massenteile
    • (hergestellt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Produktname: „N-2304“)
    • Methylethylketon: 500 Massenteile
    • Toluol: 400 Massenteile
    • Cyclohexanon: 100 Massenteile
  • (Filmbildungsschritt)
  • Die gefertigten Beschichtungen, wie oben beschrieben, wurden verwendet, um auf einem 6,2 µm dicken Polyethylennaphthalatfilm (PEN-Film), der ein nichtmagnetisches Stützmedium ist, eine Basisschicht mit einer durchschnittlichen Dicke von 1,2 µm und eine Aufzeichnungsschicht mit einer durchschnittlichen Dicke von 75 nm wie folgt zu bilden. Zuerst wurde die Basisschicht auf dem PEN-Film gebildet, indem die basisschichtbildende Beschichtung auf den PEN-Film aufgebracht und getrocknet wurde. Als Nächstes wurde die Aufzeichnungsschicht auf der Basisschicht gebildet, indem die aufzeichnungsschichtbildende Beschichtung auf die Basisschicht aufgebracht und getrocknet wurde. Es wird angemerkt, dass das Magnetfeld des magnetischen Pulvers während des Trocknens der aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtung mit einer Solenoidspule in der Dickenrichtung des PEN-Films orientiert wurde. Als Nächstes wurde ein Kalanderprozess an dem PEN-Film mit der Basisschicht und der Aufzeichnungsschicht drauf gebildet durchgeführt und wurde die Aufzeichnungsschichtoberfläche geglättet. Danach wurde eine Rückbeschichtungsschicht gebildet, in dem die rückbeschichtungsschichtbildende Beschichtung in einem 0,6 µm dicken Film auf die Fläche auf der gegenüberliegenden Seite von der Aufzeichnungsschicht aufgebracht und getrocknet wurde.
  • (Schneideschritt)
  • Der PEN-Film mit der Basisschicht, der Aufzeichnungsschicht und der Rückbeschichtungsschicht darauf gebildet, wie oben beschrieben, wurde zu einer Breite von 1/2 Zoll (12,65 mm) geschnitten. Mit dieser Anordnung wurden Magnetbänder mit den Koerzitivkräften Hc (25), HC (50), den Rechteckigkeitsverhältnissen S1 und S2 und dem Aktivierungsvolumen Vact, die in Tabelle 2 veranschaulicht sind, erhalten.
  • Es wird angemerkt, dass die Koerzitivkräfte Hc (25) und HC (50) auf die in Tabelle 2 veranschaulichten Werte eingestellt wurden, indem die Dicke der α-Fe-Schicht in dem Schritt der Reduktionsbehandlung der Teilchen A1 bis A5 oben angepasst wurde und auch indem das Luftvolumen der Trocknungsluft angepasst wurde, während der Magnetfilm während der Filmbildung der Aufzeichnungsschicht in dem Aufzeichnungsschichtfilmbildungsschritt oben orientiert wird. Außerdem wurden die Rechteckigkeitsverhältnisse S1 und S2 auf die in Tabelle 2 veranschaulichten Werte eingestellt, indem das Luftvolumen der Trocknungsluft angepasst wurde, während das Magnetfeld während der Filmbildung der Aufzeichnungsschicht in dem Aufzeichnungsschichtfilmbildungsschritt oben orientiert wird. Des Weiteren wurde das Aktivierungsvolumen Vact auf die in Tabelle 2 veranschaulichten Werte eingestellt, indem der Dispersionszustand des magnetischen Pulvers (Teilchen A1 bis A5) in dem Vorbereitungsschritt der aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtung oben angepasst wird.
  • [Beispiel 6]
  • Das Magnetfeld des magnetischen Pulvers wurde bei dem Aufzeichnungsschichtfilmbildungsschritt oben nach dem Orientieren des Magnetfeldes des magnetischen Pulvers in der Längsrichtung des PEN-Films (der Transportrichtung des Magnetbandes) in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des PEN-Films orientiert. Zusätzlich wurden die Rechteckigkeitsverhältnisse S1 und S2 auf die in Tabelle 2 veranschaulichten Werte eingestellt, indem die Stärke des Magnetfeldes während der Magnetfeldorientierung und das Luftvolumen der Trocknungsluft in dem Aufzeichnungsschichtfilmbildungsschritt angepasst wurden. Abgesehen von Obigem wurden die Magnetbänder ähnlich Beispiel 2 erhalten.
  • [Beispiel 7 und Vergleichsbeispiel 3]
  • Das Magnetfeld des magnetischen Pulvers wurde bei dem Aufzeichnungsschichtfilmbildungsschritt oben nach dem Orientieren des Magnetfeldes des magnetischen Pulvers in der Breitenrichtung des PEN-Films in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des PEN-Films orientiert. Zusätzlich wurden die Rechteckigkeitsverhältnisse S1 und S2 auf die in Tabelle 2 veranschaulichten Werte eingestellt, indem die Stärke des Magnetfeldes während der Magnetfeldorientierung und das Luftvolumen der Trocknungsluft in dem Aufzeichnungsschichtfilmbildungsschritt angepasst wurden. Abgesehen von Obigem wurden die Magnetbänder ähnlich Beispiel 2 erhalten.
  • [Beispiele 11 und 12 und Vergleichsbeispiele 4, 7 und 8]
  • Wie in Tabelle 2 veranschaulicht wurden, außer dem Verwenden der Pulver aus den Teilchen B, C, D, E und F anstelle des Pulvers aus den Teilchen A1, Magnetbänder ähnlich dem Beispiel 1 erhalten.
  • [Vergleichsbeispiel 5]
  • Wie in Tabelle 2 veranschaulicht wurde, außer dem Verwenden des Pulvers aus den hexagonalen plattenartigen Bariumferrit(BaFe)-Teilchen anstelle des Pulvers aus den Teilchen A1, ein Magnetband ähnlich dem Beispiel 1 erhalten.
  • [Vergleichsbeispiel 6]
  • Wie in Tabelle 2 veranschaulicht wurde, außer dem Verwenden des Pulvers aus nadelartigen Fe-Co-Legierung-Metallteilchen anstelle des Pulvers aus den Teilchen A1, ein Magnetband ähnlich dem Beispiel 1 erhalten.
  • [Auswertung der Magnetbänder]
  • Die Magnetbänder aus Beispielen 1 bis 12 und Vergleichsbeispielen 1 bis 8, die wie oben beschrieben erhalten wurden, wurden wie folgt ausgewertet.
  • (SNR in einer Umgebung von 25 °C)
  • Eine 1/2-Zoll-Band-Transportvorrichtung mit einem angebrachten Aufzeichnungs-/Wiedergabekopf und einem Aufzeichnungs-/Wiedergabe-Amp (MTS Transport, hergestellt von Mountain Engineering II, Inc.) wurde verwendet, um das SNR (elektromagnetische Umwandlungscharakteristiken) der Magnetbänder in einer Umgebung von 25 °C zu messen. Für den Aufzeichnungskopf wurde ein Ringkopf mit einer Spaltlänge von 0,2 µm verwendet und für den Wiedergabekopf wurde ein GMR-Kopf mit einem Abschirmungzu-Abschirmung-Abstand von 0,1 µm verwendet. Die relative Geschwindigkeit wurde auf 6 m/s und die Aufzeichnungstaktfrequenz auf 160 MHz eingestellt. Außerdem wurde das SNR basierend auf dem in der folgenden Literatur beschriebenen Verfahren berechnet. Infolgedessen ist das SNR aus Beispiel 4 in Tabelle 2 als ein Wert relativ zu 0 dB veranschaulicht.
  • Okazaki: „An Error Rate Emulation System.“, IEEE Trans. Man., 31, S. 3093-3095(1995)
  • (Menge der SNR-Verschlechterung)
  • Zuerst wurde eine 1/2-Zoll-Band-Transportvorrichtung mit einem angebrachten Aufzeichnungs-/Wiedergabekopf und einem Aufzeichnungs-/Wiedergabe-Amp (MTS Transport, hergestellt von Mountain Engineering II, Inc.) verwendet, um das SNR in Umgebungen von 25 °C und 50 °C zu messen. Es wird angemerkt, dass die Messbedingungen und das Verfahren zum Berechnen des SNR ähnlich jenen des Verfahrens zum Messen des „SNR in einer Umgebung von 25 °C“ oben waren. Als Nächstes wurde die Menge der SNR-Verschlechterung gemäß der Formel unten berechnet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 veranschaulicht. ( Menge der SNR − Verschlechterung )   [ dB ] = ( SNR ,  gemessen bei Umgebungstemperatur von  50   ° C ) − ( SNR ,  gemessen  bei Umgebungstemperatur von 25  ° C )
    Figure DE112018002308T5_0004
  • Tabelle 1 veranschaulicht die Konfigurationen der magnetischen Pulver, die beim Herstellen der Magnetbänder der Beispiele 1 bis 12 und Vergleichsbeispiele 1 bis 4, 7 und 8 verwendet wurden. [Tabelle 1]
    Teilchentyp Durchschnittliche Teilchengröße aller Teilchen (nm) Kernteil Erster Hüllenteil (weichmagnetische Schicht) Zweiter Hüllenteil (Oxidfilm)
    Material Material Reduktionsbehandlungsdauer (h) Dicke (nm) Material
    Teilchen A1 20 ε-Eisenoxid aFe 0,4 3 aFe2O3
    Teilchen A2 0,32 2
    Teilchen A3 0,12 0,7
    Teilchen A4 0,04 0,3
    Teilchen A5 0,45 3,5
    Teilchen B 20 ε-Eisenoxid aFe 0,32 2 Al2O3
    Teilchen C 20 ε-Eisenoxid Ni-Fe-Legierung Sputtern 2 Al2O3
    Teilchen D 20 ε-Eisenoxid keines - - keines
    Teilchen E 17 Mit Al dotiertes ε-Eisenoxid keines - - keines
    Teilchen F 17 Mit Ga dotiertes ε-Eisenoxid keines - - keines
  • Tabelle 2 veranschaulicht die Konfigurationen und Auswertungsergebnisse der Magnetbänder der Beispiele 1 bis 12 und der Vergleichsbeispiele 1 bis 8. [Tabelle 2]
    Magnetisches Pulver Hc (50) (kA/m) Hc (25) (kA/m) Hc (50)/Hc (25) X100 (%) S1 (%) S2 (%) S1/S2 Vact (nm3) Menge der SNR-Verschlechterung (dB) SNR in einer Umgebung von 25 °C (dB)
    Beispiel 1 Teilchen A1 200 210 95 25 25 1 4800 -1 0,2
    Beispiel 2 Teilchen A2 233 240 97 25 25 1 4800 -0,5 0,4
    Beispiel 3 Teilchen A3 294 300 98 25 25 1 4800 0 0,8
    Beispiel 4 Teilchen A2 228 240 95 30 30 1 4800 -0,5 0
    Beispiel 5 Teilchen A2 235 240 98 20 20 1 4800 0 0,6
    Beispiel 6 Teilchen A2 233 240 97 25 21 1,2 4800 0 0,6
    Beispiel 7 Teilchen A2 230 240 96 25 28 0,9 4800 -0,5 0,4
    Beispiel 8 Teilchen A2 228 240 95 25 25 1 2500 -0,5 0,9
    Beispiel 9 Teilchen A4 340 350 97 25 25 1 4800 0 -1,2
    Beispiel 10 Teilchen A2 233 240 97 25 25 1 10000 0 -1,9
    Beispiel 11 Teilchen B 230 240 96 25 25 1 4800 -0,5 0,4
    Beispiel 12 Teilchen C 230 240 96 25 25 1 4800 -0,5 0,4
    Vergleichsbeispiel 1 Teilchen A5 153 180 85 25 25 1 4800 -2 -0,5
    Vergleichsbeispiel 2 Teilchen A2 192 240 80 35 35 1 4800 -2,5 -0,6
    Vergleichsbeispiel 3 Teilchen A2 216 240 90 30 43 0,7 4800 -1,7 -1,7
    Vergleichsbeispiel 4 Teilchen D 1238 1250 99 35 35 1 4800 - -
    Vergleichsbeispiel 5 BaFe 175 190 92 25 25 1 4500 -1,6 -0,3
    Vergleichsbeispiel 6 Metall 171 190 90 60 60 1 5000 -1,8 -4,4
    Vergleichsbeispiel 7 Teilchen E 218 240 91 25 25 1 4800 -1,9 0,1
    Vergleichsbeispiel 8 Teilchen F 216 240 90 25 25 1 4800 -1,7 0,1
    • Hc (25): Koerzitivkraft, die in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des Magnetbandes bei einer Umgebungstemperatur von 25 °C gemessen wird
    • Hc (50): Koerzitivkraft, die in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des Magnetbandes bei einer Umgebungstemperatur von 50 °C gemessen wird
    • S1: Rechteckigkeitsverhältnis, das in der Längsrichtung des Magnetbandes bei einer Umgebungstemperatur von 25 °C gemessen wird
    • S2: Rechteckigkeitsverhältnis, das in der Breitenrichtung des Magnetbandes bei einer Umgebungstemperatur von 25 °C gemessen wird
    • Vact: Aktivierungsvolumen des magnetischen Pulvers
  • Aus den obigen Auswertungen wurde Folgendes gelernt.
  • Bei den Beispielen 1 bis 12 kann die Menge der SNR-Verschlechterung mit Bezug auf eine Temperaturänderung unterdrückt werden, weil (a) die Aufzeichnungsschicht ein Pulver aus ε-Eisenoxidteilchen enthält, (b) das Verhältnis R (= Hc(50)/Hc(25) × 100) der Koerzitivkraft Hc(50) und der Koerzitivkraft Hc(25) 95 % oder mehr beträgt, (c) die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr beträgt und (d) das Rechteckigkeitsverhältnis S1, das in der Transportrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt.
  • Bei den Vergleichsbeispielen 1 bis 8, 11 und 12 kann die Menge der SNR-Verschlechterung mit Bezug auf eine Temperaturänderung unterdrückt werden, während zusätzlich ein vorteilhaftes SNR bei einer Umgebungstemperatur von 25 °C erhalten werden kann, weil (a) die Aufzeichnungsschicht ein Pulver aus ε-Eisenoxidteilchen enthält, (b) das Verhältnis R der Koerzitivkraft Hc(50) und der Koerzitivkraft Hc(25) 95 % oder mehr beträgt, (c) die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr und 340 kA/m oder weniger beträgt, (d) das Rechteckigkeitsverhältnis S1, das in der Transportrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt und (e) das Aktivierungsvolumen Vact 5000 nm3 oder weniger beträgt.
  • Bei dem Vergleichsbeispiel 1 ist die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, beträgt das Verhältnis R der Koerzitivkraft Hc(50) und der Koerzitivkraft Hc(25) weniger als 95 % und nimmt die Menge einer SNR-Verschlechterung mit Bezug auf eine Temperaturänderung zu, weil die Koerzitivkraft Hc(25) weniger als 200 kA/m beträgt.
  • Bei dem Vergleichsbeispiel 2 ist die senkrechte Orientierung niedrig, beträgt das Verhältnis R der Koerzitivkraft Hc(50) und der Koerzitivkraft Hc(25) weniger als 95 % und nimmt die Menge einer SNR-Verschlechterung mit Bezug auf eine Temperaturänderung zu, weil die Rechteckigkeitsverhältnisse S1 und S2 in der Längs- und Breitenrichtung beide 30 % überschreiten.
  • Bei dem Vergleichsbeispiel 3 ist die senkrechte Orientierung niedrig, beträgt das Verhältnis R der Koerzitivkraft Hc(50) und der Koerzitivkraft Hc(25) weniger als 95 % und nimmt die Menge einer SNR-Verschlechterung mit Bezug auf eine Temperaturänderung zu, weil das Rechteckigkeitsverhältnis S2 in der Breitenrichtung 30 % überschreitet. Außerdem wird das SNR bei einer Umgebungstemperatur von 25 °C schlechter.
  • Bei Vergleichsbeispiel 4 ist, weil keine Hüllenschicht gebildet ist, die Koerzitivkraft Hc(25) zu hoch und ist eine Signalaufzeichnung schwierig.
  • Bei den Vergleichsbeispielen 5 und 6 beträgt die Koerzitivkraft Hc(25) weniger als 200 kA/m, weil ein Pulver aus Bariumferrit(BaFe)-Teilchen und ein Pulver aus Fe-Co-Legierung-Metallteilchen als das magnetische Pulver verwendet werden. Folglich ist die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, wird das Verhältnis R der Koerzitivkraft Hc(50) und der Koerzitivkraft Hc(25) geringer als 95 % und nimmt die Menge einer SNR-Verschlechterung mit Bezug auf eine Temperaturänderung zu. Außerdem überschreiten bei dem Vergleichsbeispiel 6 die Rechteckigkeitsverhältnisse S1 und S2 in der Längs- und Breitenrichtung beide 30 % weit, weil die Teilchen nadelartig sind. Folglich ist die senkrechte Orientierung extrem niedrig, und das SNR bei einer Umgebungstemperatur von 25 °C wird viel schlechter.
  • Bei den Vergleichsbeispielen 7 und 8 wird die Koerzitivkraft Hc durch Hinzufügen von Al und Ga angepasst, aber ist die Temperaturabhängigkeit der Koerzitivkraft Hc groß, beträgt das Verhältnis R der Koerzitivkraft Hc(50) und der Koerzitivkraft Hc(25) weniger als 95 % und nimmt die Menge einer SNR-Verschlechterung mit Bezug auf eine Temperaturänderung zu.
  • Das Vorhergehende beschreibt speziell eine Ausführungsform und Beispiele für die vorliegende Technologie, aber die vorliegende Technologie ist nicht auf die Ausführungsform und Beispiele, die oben beschrieben sind, beschränkt, und verschiedene Modifikationen basierend auf den technischen Ideen der vorliegenden Technologie sind möglich.
  • Zum Beispiel sind die Konfigurationen, Verfahren, Schritte, Formen, Materialien, numerischen Größen und dergleichen, die bei der Ausführungsform und den Beispielen gegeben sind, die oben beschrieben sind, lediglich Beispiele, und Konfigurationen, Verfahren, Schritte, Formen, Materialien, numerische Größen und dergleichen, die von den obigen verschieden sind, können nach Bedarf auch verwendet werden. Außerdem sind die chemischen Formeln von Verbindungen und dergleichen repräsentativ und, falls ein üblicher Name für dieselbe Verbindung existiert, ist die chemische Formel nicht auf die beschriebenen Wertigkeiten und dergleichen beschränkt.
  • Außerdem ist es auch möglich, die Konfigurationen, Verfahren, Schritte, Formen, Materialien, numerischen Größen und dergleichen der Ausführungsform und der Beispiele, die oben beschrieben sind, miteinander zu kombinieren, so lange die Kombination nicht von dem Wesen der vorliegenden Technologie abweicht.
  • Zusätzlich dazu kann die vorliegende Technologie auch wie unten beschrieben konfiguriert sein.
    1. (1) Ein magnetisches Aufzeichnungsmedium, das Folgendes beinhaltet:
      • eine Aufzeichnungsschicht, die ein Pulver aus Teilchen enthält, die ε-Eisenoxid enthalten, wobei
      • ein Verhältnis ((Hc(50)/Hc(25)) × 100) einer Koerzitivkraft Hc(50), die in einer Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 50 °C gemessen wird, und einer Koerzitivkraft Hc(25), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 25 °C gemessen wird, 95 % oder mehr beträgt,
      • die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr beträgt, und
      • ein Rechteckigkeitsverhältnis, das in einer Transportrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt.
    2. (2) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach (1), wobei die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr und 340 kA/m oder weniger beträgt.
    3. (3) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach (1) oder (2), wobei die Teilchen eine Kern-Hülle-Struktur aufweisen.
    4. (4) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach einem von (1) bis (3), wobei die Teilchen mit Folgendem versehen sind:
      • einem Kernteil, der ε-Eisenoxid enthält, und
      • einem Hüllenteil, der ein weichmagnetisches Material enthält.
    5. (5) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach (4), wobei der Hüllenteil mit Folgendem versehen ist:
      • einem ersten Hüllenteil, der auf dem Kernteil bereitgestellt ist, und
      • einem zweiten Hüllenteil, der auf dem ersten Hüllenteil bereitgestellt ist, und
      • wobei der erste Hüllenteil α-Fe, eine NiFe-Legierung oder eine FeSiAl-Legierung enthält, und
      • wobei der zweite Hüllenteil α-Eisenoxid, Aluminiumoxid oder Siliciumoxid enthält.
    6. (6) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach einem von (1) bis (5), wobei ein Aktivierungsvolumen 5000 nm3 oder weniger beträgt.
    7. (7) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach einem von (1) bis (6), wobei ein Rechteckigkeitsverhältnis, das in einer Breitenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt.
    8. (8) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach einem von (1) bis (7), wobei das magnetische Aufzeichnungsmedium in einer Bibliotheksvorrichtung verwendet wird.
    9. (9) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach einem von (1) bis (8), wobei das magnetische Aufzeichnungsmedium in einer Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung mit einer kürzesten Aufzeichnungswellenlänge von 75 nm oder weniger verwendet wird.
    10. (10) Das magnetische Aufzeichnungsmedium nach (9), wobei die Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung mit einem Ringkopf als ein Kopf zum Aufzeichnen versehen ist.
  • Bezugszeichenliste
    • 11
    Substrat
    12
    Basisschicht
    13
    Aufzeichnungsschicht
    14
    Rückbeschichtungsschicht
    15
    Verstärkungsschicht
    16
    Hohlkrümmungsunterdrückungsschicht
    17
    Erste Verstärkungsschicht
    18
    Zweite Verstärkungsschicht
    19
    Haftunterdrückungsschicht
    21
    Kernteil
    22, 23
    Hüllenteil
    22a
    Erster Hüllenteil
    22b
    Zweiter Hüllenteil
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • JP 4687136 [0002]
    • JP 5013505 [0002]

Claims (10)

  1. Magnetisches Aufzeichnungsmedium, das Folgendes umfasst: eine Aufzeichnungsschicht, die ein Pulver aus Teilchen enthält, die ε-Eisenoxid enthalten, wobei ein Verhältnis ((Hc(50)/Hc(25)) × 100) einer Koerzitivkraft Hc(50), die in einer Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 50 °C gemessen wird, und einer Koerzitivkraft Hc(25), die in der Dickenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums bei 25 °C gemessen wird, 95 % oder mehr beträgt, die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr beträgt, und ein Rechteckigkeitsverhältnis, das in einer Transportrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt.
  2. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Koerzitivkraft Hc(25) 200 kA/m oder mehr und 340 kA/m oder weniger beträgt.
  3. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Teilchen eine Kern-Hülle-Struktur aufweisen.
  4. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Teilchen mit Folgendem versehen sind: einem Kernteil, der ε-Eisenoxid enthält, und einem Hüllenteil, der ein weichmagnetisches Material enthält.
  5. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 4, wobei der Hüllenteil mit Folgendem versehen ist: einem ersten Hüllenteil, der auf dem Kernteil bereitgestellt ist, und einem zweiten Hüllenteil, der auf dem ersten Hüllenteil bereitgestellt ist, und wobei der erste Hüllenteil α-Fe, eine NiFe-Legierung oder eine FeSiAl-Legierung enthält, und wobei der zweite Hüllenteil α-Eisenoxid, Aluminiumoxid oder Siliciumoxid enthält.
  6. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei ein Aktivierungsvolumen 5000 nm3 oder weniger beträgt.
  7. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei ein Rechteckigkeitsverhältnis, das in einer Breitenrichtung des magnetischen Aufzeichnungsmediums gemessen wird, 30 % oder weniger beträgt.
  8. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei das magnetische Aufzeichnungsmedium in einer Bibliotheksvorrichtung verwendet wird.
  9. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei das magnetische Aufzeichnungsmedium in einer Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung mit einer kürzesten Aufzeichnungswellenlänge von 75 nm oder weniger verwendet wird.
  10. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 9, wobei die Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung mit einem Ringkopf als ein Kopf zum Aufzeichnen versehen ist.
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